TW201638545A - 處理熔爐的方法 - Google Patents

Abstract

處理熔爐的方法包括下述步驟：(I)利用支撐構件來支撐熔爐，支撐構件係配置成橫跨安裝區域的佔地面積並且超過佔地面積。佔地面積之外的支撐表面係配置來支撐支撐構件的至少一對相對端部，使得熔爐懸掛在安裝區域之上。該方法可進一步包括步驟(II)：使支撐表面之上的支撐構件的相對端部漂浮於流體的緩衝上；以及包括步驟(III)：相對於支撐表面一起移動熔爐與支撐構件，同時支撐構件的相對端部利用流體的緩衝而漂浮於支撐表面之上。

Description

處理熔爐的方法 【相關申請案】

本申請案在專利法之下主張美國申請案序號第14/621917號的優先權利益，其申請於2015年2月13日，本文仰賴其內容並且以引用之方式將其全部併入。

本揭示案一般係關於處理熔爐的方法，且更具體地，係關於包括下述步驟之處理熔爐的方法：相對於支撐表面一起移動熔爐與支撐構件。

已知提供一種熔爐，熔爐可包括熔化容器，熔化容器係配置來接收批次材料並且處理批次材料成為玻璃熔體。在一些範例中，玻璃熔體可進一步處理成為玻璃帶，用於隨後分成複數個玻璃片。

下面呈現本揭示案的簡化概要，以提供詳細說明中所述的一些範例態樣的基本理解。

根據一態樣，一種處理熔爐的方法包括步驟(I)：利用支撐構件來支撐熔爐，支撐構件係配置成橫跨安裝區域的佔地面積並且超過佔地面積。佔地面積之外的支撐表面係配置來支撐支撐構件的至少一對相對端 部，使得熔爐懸掛在安裝區域之上。該方法進一步包括步驟(II)：使支撐表面之上的支撐構件的相對端部漂浮於流體的緩衝上；以及包括步驟(III)：相對於支撐表面一起移動熔爐與支撐構件，同時支撐構件的相對端部利用流體的緩衝而漂浮於支撐表面之上。

在態樣的一範例中，在步驟(I)期間，熔爐定位在佔地面積內，使得熔爐懸掛在安裝區域之上。在一特定範例中，步驟(III)移動熔爐至佔地面積之外的位置。在另一特定範例中，在步驟(III)之後，該方法進一步包括下述步驟：移除支撐構件。例如，在一範例中，移除支撐構件的步驟包括下述步驟：升舉熔爐離開支撐構件。在另一特定範例中，在步驟(III)之後，該方法進一步包括下述步驟：檢修熔爐。

在態樣的另一範例中，步驟(III)包括下述步驟：從佔地面積之外的位置移動熔爐至佔地面積內的位置，使得熔爐懸掛在安裝區域之上。在一特定範例中，在步驟(III)之後，該方法進一步包括下述步驟：移除支撐構件，且然後放置熔爐於安裝區域內的支撐結構上。在另一範例中，熔爐包括玻璃熔化熔爐，且該方法進一步包括下述步驟：在放置熔爐於支撐結構上之後，可操作地連接玻璃熔化熔爐至下游玻璃製造設備。在又另一範例中，移除支撐構件的步驟包括下述步驟：升舉熔爐離開支撐構件。在又另一範例中，放置熔爐的步驟包括下述步驟：降低熔爐至支撐結構。在一特定範例中， 降低熔爐的步驟包括下述步驟：利用千斤頂來升舉熔爐、移除一組升高間隔物、且利用千斤頂來降低熔爐。在另一範例中，熔爐組裝在佔地面積之外的位置處。在又另一範例中，熔爐在佔地面積之外的位置處檢修。

在態樣的又另一範例中，步驟(III)藉由沿著預定的路徑導引熔爐來移動熔爐。在一特定範例中，步驟(III)包括下述步驟：利用導軌，沿著預定的路徑導引支撐構件。

在態樣的又另一範例中，流體的緩衝包括空氣的緩衝。

該態樣可單獨提供或者結合上面討論的態樣的範例的一或任何組合來提供。

101‧‧‧熔合下拉設備

103‧‧‧玻璃帶

104‧‧‧玻璃片

105‧‧‧玻璃熔化熔爐

106‧‧‧熔化容器

107‧‧‧批次材料

109‧‧‧儲存箱

111‧‧‧批次傳送裝置

113‧‧‧馬達

117‧‧‧箭頭

121‧‧‧玻璃熔體

127‧‧‧澄清容器

129‧‧‧第一連接導管

131‧‧‧玻璃熔體攪拌腔室

133‧‧‧傳送容器

135‧‧‧第二連接導管

137‧‧‧第三連接導管

139‧‧‧降液管

141‧‧‧入口

143‧‧‧成形容器

145‧‧‧根部

147‧‧‧成形楔形物

151‧‧‧上游玻璃製造設備

153‧‧‧下游玻璃製造設備

155‧‧‧箭頭

157‧‧‧手動地

159‧‧‧箭頭

201‧‧‧基座

203‧‧‧支撐結構

203a、203b‧‧‧支撐梁

205‧‧‧安裝區域

207‧‧‧腳部

209‧‧‧上部

211‧‧‧開孔

213‧‧‧上表面

215‧‧‧下表面

217‧‧‧佔地面積

219‧‧‧下表面

221‧‧‧支撐表面

223‧‧‧開孔

225‧‧‧氣動千斤頂

401‧‧‧空間

501、503‧‧‧第一升高間隔物

601‧‧‧複數個千斤頂間隔物

603‧‧‧單一千斤頂間隔物

701‧‧‧空間

703‧‧‧上表面

801、803‧‧‧第二升高間隔物

901‧‧‧複數個第二千斤頂間隔物

903‧‧‧單一千斤頂間隔物

905‧‧‧上表面

1001a、1001b、1001c、1001d‧‧‧支撐構件

1002‧‧‧上表面

1003‧‧‧空間

1005a、1005b、1007a、1007b、1009a、1009b、1011a、1011b‧‧‧流體支撐軸承

1201、1203‧‧‧相對端部

1205a‧‧‧第一線性對準軸

1205b‧‧‧第二線性對準軸

1207‧‧‧中心軸

1401‧‧‧加壓流體源

1403‧‧‧流體歧管

1405‧‧‧控制器

1501‧‧‧流體的緩衝

1503‧‧‧距離

1601‧‧‧方向

1603a、1603b‧‧‧外端

1605a、1605b‧‧‧安裝支架

1607a、1607b‧‧‧導軌

1609‧‧‧調整螺絲

1701‧‧‧空間

1801‧‧‧空間

2001‧‧‧流體的緩衝

2003‧‧‧方向

2101‧‧‧位置

2201‧‧‧技術人員

2203‧‧‧空間

A‧‧‧面積

D1‧‧‧距離

D2‧‧‧距離

G‧‧‧重力方向

H‧‧‧高度

L‧‧‧長度

Ls‧‧‧長度

P‧‧‧平面

W‧‧‧寬度

當參照所附圖式來閱讀下面的詳細說明時，可較佳地理解本揭示案的這些與其他特徵、態樣、與優點，其中：第1圖為熔合下拉設備的示意圖，熔合下拉設備係配置來拉製玻璃帶，包括移除熔爐與安裝熔爐的步驟；第2圖為用於第1圖的熔爐之安裝區域的示意部分橫剖面；第3圖例示安裝區域內的熔爐沿著第2圖的線3-3的示意剖面圖； 第4圖例示第3圖的熔爐，其中熔爐藉由千斤頂而升舉離開支撐結構，使得熔爐的基座的腳部分隔於支撐結構；第5圖例示第4圖的已升舉的熔爐，其中至少一第一升高間隔物定位於基座的腳部與支撐結構之間的空間內；第6圖例示第5圖的已升舉的熔爐由至少一第一升高間隔物支撐，其中至少一第一千斤頂間隔物定位於縮回的千斤頂之上；第7圖例示第6圖的熔爐藉由延伸千斤頂而進一步升舉，使得熔爐的基座的腳部間隔於下方的升高間隔物；第8圖例示第7圖的進一步升舉的熔爐，其中至少一第二升高間隔物定位於基座的腳部與第一升高間隔物之間的空間內；第9圖例示第8圖的進一步升舉的熔爐，其中至少一第二千斤頂間隔物定位於第一千斤頂間隔物之上的空間內；第10圖例示又進一步升舉熔爐，並且定位支撐構件於熔爐的基座的腳部之下；第11圖例示第10圖的熔爐降低至支撐構件上，其中千斤頂與千斤頂間隔物已移除；第12圖為正由支撐構件所支撐的熔爐沿著第11圖的線12-12之頂視圖； 第13圖為懸掛在安裝區域之上的熔爐沿著第12圖的線13-13之示意橫剖面；第14圖為在第13圖的視角14、15所取的放大視圖，例示安裝區域的佔地面積之外的支撐表面，支撐表面支撐支撐構件的端部；第15圖類似於第14圖，但是示意例示了使支撐表面之上的支撐構件的端部漂浮於流體的緩衝上；第16圖為示意頂視圖，例示沿著預定的路徑利用導軌導引支撐構件的步驟；第17圖為具有支撐構件的熔爐的示意側視圖；第18圖為具有第17圖的支撐構件之熔爐的示意側視圖，其中千斤頂升舉熔爐離開支撐構件；第19圖例示第18圖的側視圖，其中熔爐已經降低至流體支撐軸承上；第20圖例示第19圖的熔爐藉由流體的緩衝上的流體支撐軸承而漂浮於支撐表面之上，以移動至另一位置；第21圖例示在所欲的位置處升舉熔爐離開流體支撐軸承的步驟，使得流體支撐軸承可移除；及第22圖例示流體支撐軸承正在移除，且熔爐正在降低，並且熔爐之後在所欲的位置處放置在支撐表面上，以建構或檢修熔爐。

現在將參照所附圖式來在下面更完整地敘述設備與方法，在所附圖式中顯示了本揭示案的範例實施例。盡可能的，相同元件符號是在所有圖式中用以表示相同或相似的部件。但是，本揭示案可用許多不同形式來實施，且不應解釋為是限制本文所提出的實施例。

本揭示案的態樣包括處理熔爐的方法。本揭示案的熔爐可提供來用於廣範圍的應用，以加熱氣體、液體及/或固體。在僅一範例中，本揭示案的熔爐係參照玻璃熔化熔爐來敘述，玻璃熔化熔爐係配置來熔化批次材料成為玻璃熔體，但是在另外的範例中可提供其他類型的熔爐。此外，雖然例示的實施例提供的熔爐係配置來改變固體相(例如，批次材料)成為液體(例如，玻璃熔體)，本揭示案的其他熔爐可提供來僅加熱氣體、液體及/或固體而沒有相變，或者只有氣體、液體及/或固體之間的部分相變。在一些範例中，熔爐可配置來燒結生坯成為陶瓷，例如燒結蜂巢型生坯成為蜂巢型陶瓷基板。在另外的範例中，熔爐可設計來實行製品的熱處理。例如，製品可受到熱處理，以改變製品的微結構。

本揭示案的方法可用多種方式來處理熔爐。例如，可藉由相對於另一結構移動熔爐來處理熔爐(例如，放置熔爐於安裝區域內的支撐結構上，從安裝區域內的支撐結構移除熔爐，相對於支撐表面移動熔爐等)。在另外的範例中，熔爐可如此處理：藉由組裝熔爐(例如，最初的組裝等)，檢修熔爐(例如，修理熔爐、重 建熔爐、實行定期的維修等)，更換熔爐、操作熔爐(例如，使用熔爐來加熱氣體、液體及/或固體)，或其他的處理技術。

本揭示案的方法可處理具有加熱容器(例如，熔化容器)來加熱材料的熔爐。選擇性地，熔爐可包括一或更多個另外的元件，例如加熱元件、熱管理裝置、電子裝置、機電裝置、支撐結構、或其他元件，以促進特定熔爐的操作。

在一些範例中，熔爐可包括例示的玻璃熔化熔爐105，玻璃熔化熔爐105可包括熔化容器106。除了熔化容器106之外，玻璃熔化熔爐105可選擇性地包括一或更多個另外的元件，例如加熱元件(例如，燃燒器)，配置來加熱批次材料，以轉換固體批次材料成為玻璃熔體。在另外的範例中，玻璃熔化熔爐105可包括熱管理裝置(例如，隔熱元件)，配置來減少熱從熔化容器的附近流失。在又另外的範例中，玻璃熔化熔爐105可包括電子裝置及/或機電裝置，配置來促進熔化批次材料成為玻璃熔體。又另外，玻璃熔化熔爐105可包括支撐結構(例如，支撐底座、支撐構件等)或其他元件。

在一些範例中，玻璃熔化熔爐可併入作為配置來製造玻璃帶的玻璃製造設備的元件，但是在另外的範例中，玻璃熔化熔爐可併入於其他的玻璃製造設備中。在一些範例中，本揭示案的玻璃熔化熔爐可併入作為包括槽拉設備、浮浴設備、下拉設備、上拉設備、壓 軋設備或其他的玻璃帶製造設備之玻璃製造設備的元件。藉由範例之方式，第1圖示意例示玻璃熔化熔爐105，玻璃熔化熔爐105併入作為熔合下拉設備101的元件，熔合下拉設備101用於熔合拉製玻璃帶103，以後續處理成為玻璃片104。

玻璃製造設備(例如，熔合下拉設備101)可選擇性地包括上游玻璃製造設備151，上游玻璃製造設備151以虛線示意地表示，上游玻璃製造設備151相對於玻璃熔化熔爐105定位於上游。在一些範例中，部分或全部的上游玻璃製造設備151可併入作為玻璃熔化熔爐105的部分。

如同例示的範例中所示，上游玻璃製造設備151可包括儲存箱109、批次傳送裝置111、與馬達113。儲存箱109可配置來儲存可饋送至玻璃熔化熔爐105的熔化容器106中之批次材料107的數量，如同箭頭117所指示。在一些範例中，批次傳送裝置111可由馬達113供電，以配置來從儲存箱109傳送預定數量的批次材料107至熔化容器106。在另外的範例中，馬達113可供電給批次傳送裝置111，以用基於熔化容器106下游的玻璃熔體的感測位準之受控速率來引入批次材料107。熔化容器106內的批次材料107可之後受到加熱，以形成玻璃熔體121。

玻璃製造設備(例如，熔合下拉設備101)也可選擇性地包括下游玻璃製造設備153，下游玻璃製 造設備153以虛線示意地表示，下游玻璃製造設備153相對於玻璃熔化熔爐105定位於下游。在一些範例中，部分的下游玻璃製造設備153可併入作為玻璃熔化熔爐105的部分。例如，下面討論的第一連接導管129或下游玻璃製造設備153的其他部分可併入作為玻璃熔化熔爐105的部分。

下游玻璃製造設備153可包括第一調節站(例如，澄清容器127)，澄清容器127位於熔化容器106的下游並且藉由上述的第一連接導管129而耦接至熔化容器106。在一些範例中，玻璃熔體121可藉由第一連接導管129從熔化容器106利用重力饋送至澄清容器127。例如，重力可作用來驅動玻璃熔體121通過第一連接導管129的內部通路從熔化容器106至澄清容器127。在澄清容器127內，可藉由各種技術從玻璃熔體121移除氣泡。

下游玻璃製造設備153可另外包括第二調節站(例如，玻璃熔體攪拌腔室131)，玻璃熔體攪拌腔室131可定位在澄清容器127的下游。玻璃熔體攪拌腔室131可用於提供均質的玻璃熔體合成物，藉此減少或消除可能存在於離開澄清容器的已澄清玻璃熔體內的線狀物(cord)或不均質。如同所示，澄清容器127可藉由第二連接導管135而耦接至玻璃熔體攪拌腔室131。在一些範例中，玻璃熔體121可藉由第二連接導管135從澄清容器127利用重力饋送至玻璃熔體攪拌腔室 131。例如，重力可作用來驅動玻璃熔體121通過第二連接導管135的內部通路從澄清容器127至玻璃熔體攪拌腔室131。

下游玻璃製造設備153可另外包括另一調節站(例如，傳送容器133)，傳送容器133可位於玻璃熔體攪拌腔室131的下游。傳送容器133可調節要饋送至成形裝置中的玻璃熔體121。例如，傳送容器133可作用為積聚器及/或流量控制器，以調整與提供玻璃熔體121至成形容器143的一致流動。如同所示，玻璃熔體攪拌腔室131可藉由第三連接導管137而耦接至傳送容器133。在一些範例中，玻璃熔體121可藉由第三連接導管137利用重力從玻璃熔體攪拌腔室131饋送至傳送容器133。例如，重力可作用來驅動玻璃熔體121通過第三連接導管137的內部通路從玻璃熔體攪拌腔室131至傳送容器133。

下游玻璃製造設備153可另外包括降液管139與上述的成形容器143。降液管139可定位來從傳送容器133傳送玻璃熔體121至成形容器143的入口141。玻璃帶103可然後熔合拉製離開成形容器143的成形楔形物147的根部145，並且隨後藉由玻璃分離設備(未圖示)來分離成玻璃片104。

第1圖例示玻璃熔化熔爐105併入作為熔合下拉設備101的元件。玻璃熔化熔爐105可包括基座201，基座201配置來支撐熔化容器106。如同所示， 基座201可為分離的結構，安裝至熔化容器106，但是在另外的範例中，基座201可併入作為熔化容器106的整合元件。如同第2圖與第3圖所示，基座201可放置在安裝區域205內的支撐結構203上。基座201可支撐熔化容器106，使得熔化容器106內的熔融玻璃及/或批次材料的重量可由下方的支撐結構203利用基座201來支撐。

支撐結構203可包括一或更多個支撐元件，例如第3圖中所示的例示的支撐梁203a、203b。支撐結構203係配置來支撐玻璃熔化熔爐105的重量，同時玻璃熔化熔爐105的基座201放置(且甚至安裝)至支撐結構203。支撐結構203不僅可配置來支撐玻璃熔化熔爐105的重量，而且也可在操作期間支撐熔化容器106內的批次材料及/或玻璃熔體的重量。在一些範例中，支撐結構203可安裝至建築物的地基或者配置來支撐裝載的玻璃熔化熔爐105的重量之其他底座。支撐結構203可定位在安裝區域205內，並且如同所示，可選擇性地凹陷於相鄰的支撐表面221之下的一高度處。雖然未圖示，在另外的範例中，安裝區域205可位於支撐表面221處或升高在支撐表面221之上。例如，雖然第2圖與第3圖例示支撐結構203的上表面213定位在低於支撐表面221的高度之高度處，在另外的範例中，上表面213可齊平於支撐表面221或者甚至定位在高於支撐表面221的高度之高度處。

支撐表面221在一些範例中可包括相鄰於安裝區域205之地板(例如，清洗室)的表面。支撐表面221可配置來支撐未裝載有批次材料及/或玻璃熔體之玻璃熔化熔爐105的重量，而除了可容納在熔化容器106內的批次材料及/或玻璃熔體之外，安裝區域205內的支撐結構203可配置來在玻璃熔化熔爐105的操作期間支撐玻璃熔化熔爐105的重量。

基座201可包括廣範圍的配置。在一些範例中，基座201可包括框架或其他結構配置，設計來支撐裝載有批次材料及/或玻璃熔體的熔化容器106的重量。如同所示，基座201可包括複數個腳部207，設計來相對於支撐結構203間隔基座201的上部209。實際上，在一些範例中，上部209可由腳部207隔開，以界定支撐結構203的上表面213與上部209的下表面215之間的開孔211。

如同第11圖所示，安裝區域205可包括具有面積「A」的佔地面積217(由虛線表示)(參見第12圖)，佔地面積217沿著垂直於重力方向「G」的平面「P」延伸。面積「A」與佔地面積217係繪示於第16圖的上平面視圖中，且在第12圖的上平面視圖中也隱藏並且以虛線表示。如同第11圖的視線12-12所示，佔地面積217可在重力方向「G」中檢視，其中佔地面積217的面積「A」的平面視圖係繪示於第12圖與第16圖中。

佔地面積217的面積「A」可提供允許基座201到達支撐表面221之下所需的間隙，以放置在支撐結構203上。此外，如同第11圖所示，佔地面積217的面積「A」另外允許基座201垂直升舉離開支撐結構203，以定位腳部207的下表面219於高於支撐表面221的高度之高度處。佔地面積217可由支撐表面221中的開孔223的周邊來限制。如同所示，在一些範例中，佔地面積217可選擇性地包括矩形形狀，具有長度「L」(參見第2圖、第12圖與第16圖)與寬度「W」(參見第3圖、第12圖、第13圖與第16圖)，其中矩形佔地面積217的面積「A」可為長度「L」與寬度「W」的乘積(亦即，A=L×W)。雖然未圖示，佔地面積可包括其他形狀，例如具有三或更多個邊的多邊形形狀、圓形、橢圓形、及/或其他曲線形狀，取決於熔爐的應用及/或配置。

在一些範例中，可能想要藉由移動熔爐105至安裝區域205的佔地面積217之外的位置來處理熔爐105。移動熔爐105至安裝區域205的佔地面積217之外的位置係在第1圖中以箭頭155示意地表示。一旦移動，如同箭頭155所指示的，熔爐可檢修(例如，手動地(由元件符號157表示)、自動檢修、或其他)。檢修可實行來修理熔爐、重建熔爐、實行定期的維修或檢修熔爐。檢修在此方面可另外包括更換熔爐。移動熔爐105至安裝區域205的佔地面積217之外的位置可顯著降低檢修處理的複雜性，並且可藉此減少檢修熔爐105所需的時 間。因此，藉由移動熔爐105至安裝區域205的佔地面積217之外的位置來檢修熔爐，檢修熔爐105的處理所產生之人力成本及/或生產率的損失可顯著減少。

移動熔爐105的方法可藉由從熔化容器106移除顯著數量的玻璃熔體121開始。例如，如同第3圖所示，玻璃熔體121可實質上或完全從熔化容器106的內部淨空。因此，熔化容器106的內部可實質上沒有會增加顯著重量至熔爐105的固體及/或液體。在一些範例中，熔爐105也可從其他元件(例如，上游玻璃製造設備151及/或下游玻璃製造設備153)脫離。實際上，如同第2圖所示，批次傳送裝置111可斷連於熔爐105，以使上游玻璃製造設備151脫離熔爐105。如同進一步所示，第一連接導管129可斷連於熔爐105，以使下游玻璃製造設備153脫離熔爐105。

在一範例中，移動熔爐105的方法可包括升舉熔爐離開支撐結構203的步驟。升舉可用多種方式來達成。例如，升降絞車可包括附接至基座201的升舉孔眼之升舉構件(例如，升舉纜線)，以升舉熔爐105離開支撐結構203。在另外的範例中，升舉構件(例如，升舉叉)可插設於基座201之下，以升舉熔爐105離開支撐結構203。在另外的範例中，可利用千斤頂來實行升舉。在一些範例中，機械千斤頂可使用，其中機械連接構件可相對於彼此樞轉，以升舉熔爐105離開支撐結構203。在另外的範例中，可使用使用不可壓縮流體(例 如，重油)的液壓千斤頂，以升舉熔爐105離開支撐結構203。在例示的範例中，複數個氣動千斤頂225可定位在個別的開孔211內。在例示的範例中，可使用六個氣動千斤頂225，其中每一支撐梁203a、203b相關於三個千斤頂。在另外的範例中，在廣範圍的替代配置中，可使用任何數量的千斤頂。如同第4圖所示，升舉熔爐105離開支撐結構203的方法可包括使氣動千斤頂225充氣，其中基座201升高，使得空間401提供於腳部207的下表面219與支撐結構203的上表面213之間。

在一些範例中，千斤頂的單一升舉行程可足以充分地升舉熔爐105至所欲的高度。在另外的範例中，可能想要進一步升舉熔爐105至比氣動千斤頂225的單一行程所能達成的高度更高之高度。例如，可使用多個千斤頂配置，以進一步升舉熔爐。如同最初參見第5圖所討論的，相同組的千斤頂225可與千斤頂間隔物與升高間隔物一起使用，以進一步升舉熔爐105至比氣動千斤頂225的單一行程所能達成的高度更高之高度。

如同第5圖所示，第一複數個升高間隔物501可彼此堆疊，以形成個別的腳部207的下表面219與支撐結構203的上表面213之間的每一空間401內的第一升高間隔物堆疊。替代地，如同所示，單一第一升高間隔物503可提供來填充部分或實質上整個空間401。雖然提供單一間隔物可減少填充空間401的至少一部分所需的時間，但是複數個間隔物可允許有效間隔物高度的 更精準匹配於空間401的實際高度，藉此鎖定氣動千斤頂225的單一升舉行程所達成的最大高度。

如同第6圖所示，氣動千斤頂225可抽出空氣，使得熔爐105的重量由第一升高間隔物501、503支撐。第一組千斤頂間隔物(例如，複數個千斤頂間隔物601及/或單一千斤頂間隔物603)可然後定位在開孔211內已抽出空氣的氣動千斤頂225之上。如同第7圖所示，氣動千斤頂225可再次充氣，使得基座201藉由氣動千斤頂225的第二行程來升高。氣動千斤頂225的第二行程提供每一腳部207的下表面219與個別的第一升高間隔物501、503的上表面703之間的另一空間701。

在又另外的範例中，可能仍想要進一步升舉熔爐105至比千斤頂的兩個升舉行程所能提供的高度甚至再更高之高度。在一範例中，可提供至少一額外的升高間隔物，以促進熔爐105利用相同的千斤頂之甚至進一步的升舉。例如，如同第8圖所示，複數個第二升高間隔物801可彼此堆疊，以形成第二升高間隔物堆疊來填充腳部207的下表面219與第一升高間隔物501、503的上表面703之間的空間701。替代地，如同所示，單一第二升高間隔物803可提供來填充部分或實質上整個空間701。

如同第9圖所示，氣動千斤頂225可抽出空氣，使得熔爐105的重量由第一升高間隔物501、503與第二升高間隔物801、803來支撐。第二組千斤頂間 隔物(例如，複數個第二千斤頂間隔物901及/或單一千斤頂間隔物903)可然後定位在第一組千斤頂間隔物601、603的上表面905與上部209的下表面215之間的空間內。

如同第10圖所示，氣動千斤頂225可再次充氣，使得基座201藉由氣動千斤頂225的第三行程來升高。氣動千斤頂225的第三行程提供進一步的升高，使得腳部207的下表面219在支撐表面221的高度之上的距離D1處。如同第10圖進一步所示，第一升高間隔物501、503與第二升高間隔物801、803可移除，並且利用支撐構件來取代，例如複數個支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d。雖然例示四個分開的支撐構件，在另外的範例中，支撐構件可包括單一或任何數量的支撐構件。雖然支撐構件係例示為分開的支撐梁，支撐構件可包括彼此連接的一或更多個支撐構件(例如，整合地連接、可移除地連接)。在一範例中，支撐構件可包括支撐框架。每一例示的支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d可包括I形梁，亦即，包括「I」形狀的橫剖面之梁，如同第10圖至第11圖所示。雖然未圖示，支撐構件可包括管狀梁或其他的結構。支撐構件可包括鋼或其他材料，其中支撐構件的結構與材料可設計來承受與支撐熔爐相關的壓力。

不論支撐構件的結構為何，支撐構件係配置成橫跨安裝區域205的佔地面積217並且超過佔地面積 217。例如，支撐構件可包括大於佔地面積的尺寸之長度。藉由範例之方式，每一例示的支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d係配置成橫跨安裝區域205的佔地面積217並且超過佔地面積217。例如，如同第12圖與第13圖最佳繪示的，一範例可提供支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d具有長度「Ls」，長度「Ls」大於安裝區域205的佔地面積217的寬度「W」，使得每一支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d橫跨安裝區域205的佔地面積217並且超過佔地面積217。

因為每一支撐構件可橫跨佔地面積217並且超過佔地面積217，每一支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d的相對端部1201、1203可定位在支撐表面221之上。此外，流體支撐軸承(例如，空氣支撐軸承、液體支撐軸承、蒸汽支撐軸承等)可定位在每一支撐構件的每一相對端部1201、1203與佔地面積217之外的支撐表面221之間。例如，如同第10圖中以及第12圖的隱藏線所示，每一支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d的第一端部1201可設有個別的流體支撐軸承1005a、1007a、1009a、1011a，流體支撐軸承1005a、1007a、1009a、1011a係定位於個別的第一端部1201與佔地面積217之外的支撐表面221之間。同樣地，如同第12圖的隱藏線進一步所示，每一支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d的第二端部 1203可設有個別的流體支撐軸承1005b、1007b、1009b、1011b，流體支撐軸承1005b、1007b、1009b、1011b係定位於個別的第二端部1203與佔地面積217之外的支撐表面221之間。如同可由第10圖至第12圖理解到的，流體支撐軸承係配置來支撐支撐表面221上的支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d的重量。

如同第10圖所示，熔爐105可升舉至其中腳部207的下表面219定位在離支撐表面221有第一距離「D1」之高度。第一距離「D1」可大於支撐構件與流體支撐軸承的結合高度「H」，使得支撐構件可容易地相對於彼此及/或相對於熔爐105放置在正確的位置中。實際上，空間1003存在於支撐構件的上表面1002與下表面219之間，藉此，熔爐的重量105不由支撐構件支撐。

當在第10圖所示的位置中時，支撐構件可容易地相對於彼此且相對於熔爐移動，因為支撐構件並不支撐熔爐的重量。因此，支撐構件可相對於彼此定向在正確的位置中。在一些範例中，支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d可定位成實質上彼此平行，但是在另外的範例中，支撐構件可相對於彼此成角度。在另外的範例中，支撐構件可彼此間隔相同距離，但是基於熔爐的重量分佈，會希望替代的間距配置。此外，參見第12圖，支撐構件可配置成使得第一端部1201沿著 第一線性對準軸1205a彼此對準，而第二端部1203也沿著第二線性對準軸1205b彼此對準。沿著個別的線性對準軸1205a、1205b來對準端部可協助導引熔爐的預定運動，如同下面更完整討論的。

在另外的範例中，支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d可相對於熔爐105定向於所欲的預定位置處。例如，如同所示，支撐構件的長度「Ls」可沿著熔爐105的寬度「W」置中。實際上，在例示的範例中，熔爐105的中心軸1207可置中於線性對齊軸1205a、1205b之間，使得每一對準軸1205a、1205b間隔於中心軸1207相等的距離。將支撐構件置中可協助均勻分配每一支撐件的相對端部1201、1203之間的負載。在另外的範例中，沿著長度「Ls」之支撐構件(例如，一個、複數個、或所有的支撐構件)的細長軸可垂直於熔爐105的中心軸1207。雖然支撐構件可定位在替代的角度處，定位支撐構件使得支撐構件的細長軸垂直於中心軸1207可協助在熔爐的運動期間穩定支撐構件，藉此最小化支撐構件相對於彼此及/或相對於熔爐之不慎改變位置的機會。

一旦支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d相對於彼此及/或相對於熔爐105正確地定位，氣動千斤頂225可抽出空氣並且與千斤頂間隔物一起移除。一旦抽出空氣，熔爐105可放置在支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d上，使得支撐構件支撐熔爐105 的重量。實際上，如同第11圖所示，腳部207的下表面219可放置在支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d的上表面1002上，使得腳部207的下表面219至支撐表面221的距離「D2」等於支撐構件與流體支撐軸承的結合高度「H」。

如同第13圖最佳繪示的，一旦千斤頂225抽出空氣並且移除，支撐構件支撐熔爐105的重量，同時熔爐懸掛在安裝區域205之上。實際上，支撐構件的長度「Ls」的中央部分負載了熔爐105的重量，熔爐105由位於佔地面積217之外的支撐表面221上的個別的流體支撐軸承(例如，第13圖所示的1011a、1011b)支撐於相對端部1201、1203處。

因此，本揭示案的任何方法可包括處理熔爐105(例如，玻璃熔化熔爐等)的方法係包括下述步驟：利用支撐構件(例如，支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d)來支撐熔爐105，支撐構件係配置成橫跨安裝區域205的佔地面積217並且超過佔地面積217，其中佔地面積217之外的支撐表面221係配置來支撐支撐構件的至少一對相對端部1201、1203，使得熔爐105懸掛在安裝區域205之上。如同所示，熔爐定位在佔地面積217內，使得熔爐105懸掛在安裝區域205之上。實際上，至少一部分的熔爐105定位在佔地面積217的垂直投影內，且因此定位在垂直的佔地面積內。

可能想要在支撐表面221之上一起移動熔爐105與支撐構件。例如，在一範例中，參見第16圖，可能想要在沿著支撐表面221的方向1601中一起移動熔爐105與支撐結構。流體支撐軸承可例如為使用空氣作為工作流體的空氣軸承，流體支撐軸承可用來協助減少或消除與支撐表面221的滑動摩擦。實際上，流體支撐軸承1005a、1005b、1007a、1007b、1009a、1009b、與1011a、1011b可用於漂浮支撐表面221之上的支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d的相對端部1201、1203於流體的緩衝上，例如空氣。

第14圖與第15圖示意顯示可根據本揭示案的態樣來使用的範例性流體支撐軸承的特徵。範例性流體支撐軸承可為空氣軸承，但是可使用其他類型的流體軸承。藉由例示的方式，在下面討論流體支撐軸承1011a，可理解到，類似或相同的架構可用於任何或所有其他的流體支撐軸承。如同所示，流體歧管1403可選擇性地使加壓流體源1401流體連通於流體支撐軸承1011a。加壓流體源1401可包括泵、壓縮機汽缸，例如空氣壓縮機或其他的加壓流體源。控制器1405可用於操作加壓流體源1401及/或流體歧管1403，以提供流體支撐軸承1011a在所欲的時間有所欲的加壓流體位準。如同第15圖所示，一旦啟用，加壓流體流產生流體的緩衝1501來漂浮流體支撐軸承1011a的底表面與支撐構件1001d的對應端部1201離開支撐表面221一段距離 1503。距離1503的範圍可為大約1mm至大約4mm，例如大約1mm至大約3mm，例如大約2mm至大約3mm。

如同上面討論的，處理熔爐105的方法可包括下述步驟：使支撐表面之上的支撐構件的相對端部漂浮於流體的緩衝上。流體的緩衝減少或防止與支撐表面221的摩擦力，否則此摩擦力將抵抗熔爐與支撐構件一起相對於支撐表面221的運動。

在替代的實施例中，支撐構件的相對端部可藉由放置相對端部於有輪子的裝置或任何其他形式的滾筒(或多個滾筒)上而支撐於支撐表面之上。例如，在某些實施例中，支撐構件的相對端部可藉由放置相對端部於有輪子的臺車上而支撐於支撐表面之上，有輪子的臺車係配置來滾動於定位在支撐表面上的軌道之上。

如同第16圖所示，處理熔爐105的方法也可包括下述步驟：相對於支撐表面221一起移動熔爐105與支撐構件(例如，支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d)，同時支撐構件的相對端部1201、1203利用流體的緩衝1501而漂浮於支撐表面221之上。在一範例中，操作者可推動或拉動熔爐105或支撐構件於方向1601中，以促進熔爐在方向1601中的運動。例如，操作者可手動地推動或拉動熔爐，或者可使用材料搬運車輛或其他裝置來促進熔爐的運動。

如同第16圖進一步所示，該方法可移動熔爐105至佔地面積217之外的位置。實際上，熔爐從支撐 表面221中的開孔223移開。在一範例中，熔爐可沿著預定的路徑導引。例如，導引機構(例如，榫槽機構、導引通道或其他結構)可使用作為導引機構。在例示的範例中，導引機構包括導軌1607a、1607b，導軌1607a、1607b沿著預定的路徑延伸，預定的路徑沿著方向1601延伸。導軌可各自包括承載表面係配置成沿著個別的對準軸1205a、1205b(上面相關於第12圖所討論的)延伸，以協助沿著方向1601導引熔爐105的預定運動。實際上，導軌1607a、1607b的承載表面可抵接於支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d的相對端部1201、1203的外端1603a、1603b，以沿著方向1601中的路徑導引熔爐105，而不偏離導引路徑。在一些範例中，導軌1607a、1607b之間的距離可微調成近似於支撐構件的長度「Ls」，以提供足以用於熔爐105的更精準行進路徑。在一範例中，調整螺絲1609可調整地連接至安裝支架1605a、1605b，安裝支架1605a、1605b固定至支撐表面221。導軌1607a、1607b之間的相對距離可藉由調整螺絲來調整。

一旦熔爐105定位在佔地面積217之外，該方法可選擇性地藉由實行檢修熔爐的步驟來進一步處理熔爐。熔爐可如此檢修：藉由修理熔爐、更換熔爐、重建熔爐、實行定期的維修、或實行其他的檢修技術。

替代地，在檢修之前，該方法可包括選擇性的步驟：移除支撐構件。支撐構件可用各種方式移除。 例如，移除支撐構件的步驟可包括下述步驟：升舉熔爐離開支撐構件。上面相關於升舉熔爐離開支撐結構203所討論的升舉結構可併入，以促進升舉熔爐105來用於移除支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d的目的。如同第17圖所示，在一範例中，氣動千斤頂225可定位於空間1701內，且之後用於升舉熔爐離開支撐構件，單獨地(如同所示)或結合於千斤頂間隔物。實際上，如同第18圖所示，氣動千斤頂225可在空間1701內充氣，以提供空間1801於腳部207的下表面219與支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d的上表面1002之間。

在升舉熔爐105之後，如同第18圖所示，氣動千斤頂225與流體支撐軸承1005a、1005b、1007a、1007b、1009a、1009b、與1011a、1011b兩者可在氣動千斤頂225抽出空氣與移除之前移除，如同第22圖所示。選擇性地，熔爐可然後如此檢修：藉由修理熔爐、重建熔爐、更換熔爐、實行定期的維修、或實行其他的檢修技術。

替代地，若需要熔爐105的進一步運動，則在熔爐檢修之前，支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d可移除，且流體支撐軸承1005a、1005b、1007a、1007b、1009a、1009b、與1011a、1011b可重新定位直接在腳部207之下。氣動千斤頂225可然後抽出空氣與移除，如同第19圖所示，使得基座201的 腳部207直接由流體支撐軸承1005a、1005b、1007a、1007b、1009a、1009b、與1011a、1011b支撐。在進一步移動熔爐105之前移除支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d係在移動熔爐105時需要相關於障礙物來調動熔爐105的應用中為所欲的。例如，沒有支撐構件，熔爐105可容易地移動通過門口至另一房間中。

為了利用流體支撐軸承實行進一步的運動，如同第20圖所示，流體支撐軸承可再次啟用，以產生流體支撐軸承與支撐表面221之間的流體的緩衝2001，來減少或防止流體支撐軸承與支撐表面221之間的摩擦。如同上述，操作者可之後類似地施加力，以使熔爐105在方向2003中運動。

熔爐105可最終到達所欲的位置2101，例如檢修室、清洗室、或其他位置。選擇性地，如同第21圖所示，氣動千斤頂225可然後充氣，以允許流體支撐軸承1005a、1005b、1007a、1007b、1009a、1009b、與1011a、1011b的移除。如同第22圖所示，氣動千斤頂225可然後抽出空氣並且移除，使得基座201的腳部207直接接合於支撐表面221，以支撐熔爐105。作為一範例，該方法可藉由實行檢修熔爐的步驟來進一步處理熔爐，例如藉由檢修的技術人員2201。熔爐可如此檢修：藉由修理熔爐、重建熔爐、更換熔爐、實行定期的維修、或實行其他的檢修技術。

在另外的範例中，處理熔爐105的方法可包括下述步驟：在佔地面積217之外的位置處組裝熔爐之後，移動熔爐。例如，熔爐105最初可在佔地面積217之外的位置處(例如，位置2101)組裝為新的熔爐。替代地，該方法可包括下述步驟：在檢修已使用的熔爐之後，移動熔爐，例如，在佔地面積217之外的位置處(例如，位置2101)修理已使用的熔爐、重建已使用的熔爐、更換已使用的熔爐、在已使用的熔爐上實行定期的維修或實行其他的檢修技術。在此種範例中，在組裝新的熔爐或檢修已使用的熔爐之後，該方法可進一步包括下述步驟：藉由移動熔爐至最終放置在支撐結構(參見第2圖的203)上來處理熔爐，如同第1圖的箭頭159示意例示的。在一些範例中，安裝的方法可包括下述步驟：顛倒上面討論的至少一些或全部的步驟的順序。

在一範例中，最初參見第22圖，在檢修或組裝之後，該方法可包括下述步驟：放置上述的氣動千斤頂(第22圖中未圖示)於空間2203內。如同第21圖所示，氣動千斤頂225可充氣，以升舉熔爐105。流體支撐軸承1005a、1005b、1007a、1007b、1009a、1009b、與1011a、1011b可然後放置在基座201的個別的腳部207之下。

如同第20圖所示，當移動熔爐至佔地面積217之外的位置時(如同第19圖所示)，流體支撐軸承可然後啟用，以升舉熔爐105並且支撐熔爐於流體緩衝 2001上。如同第18圖進一步所示，該方法可進一步包括下述步驟：利用氣動千斤頂225來升舉熔爐105，以插入支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d於基座的個別的腳部207之下，其中流體支撐軸承1005a、1005b、1007a、1007b、1009a、1009b、與1011a、1011b在支撐構件的個別的第一與第二端部1201、1203之下。如同第17圖所示，氣動千斤頂225可抽出空氣，使得熔爐105的重量由支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d支撐。

在一範例中，處理熔爐的方法可因此至少包括下述步驟：利用支撐構件(例如，支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d)來支撐熔爐105(在第16圖與第17圖所示的佔地面積217之外的位置中)，支撐構件係配置成橫跨安裝區域205的佔地面積217並且超過佔地面積217。另外，在第16圖與第17圖所示的位置中，佔地面積217之外的支撐表面221係配置來支撐支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d的相對端部1201、1203，使得熔爐105可隨後懸掛在安裝區域205之上。

該方法可進一步包括下述步驟：使支撐表面221之上的支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d的相對端部1201、1203漂浮於流體的緩衝上(例如，空氣的緩衝1501)。該方法也可包括下述步驟：相對於支撐表面221一起移動熔爐105與支撐構件，同時支撐 構件的相對端部1201、1203利用流體的緩衝1501而漂浮於支撐表面221之上。移動的步驟包括下述步驟：從佔地面積之外的位置(例如，參見第16圖與第17圖)移動熔爐至佔地面積217內的位置(亦即，在佔地面積217的垂直投影內)，使得熔爐105懸掛在安裝區域205之上，如同第12圖與第13圖所示。

在一範例中，移動熔爐105至佔地面積內的位置之方法可包括下述步驟：藉由沿著預定的路徑導引熔爐來移動熔爐。例如，如同上面討論的，該方法可包括下述步驟：利用導軌1607a、1607b來導引支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d。沿著預定的路徑導引熔爐會是有益的，以協助對準基座201於安裝區域205的佔地面積217。

該方法可進一步包括下述步驟：移除支撐構件(例如，支撐構件1001a、1001b、1001c、1001d)，且然後放置熔爐105於安裝區域205內的支撐結構203上。在一範例中，移除支撐構件的步驟可包括下述步驟：升舉熔爐離開支撐構件。各種升舉技術都可使用。例如，上面所討論的用於升舉熔爐離開支撐結構203的任何升舉技術都可同樣用於升舉熔爐離開支撐構件。例如，升舉的步驟可包括下述步驟：利用千斤頂(例如，氣動千斤頂)及/或結合於間隔物的千斤頂來升舉熔爐105，如同第10圖所示。

在另外的範例中，放置熔爐於支撐結構203上可包括下述步驟：降低熔爐105至支撐結構。在一範例中，降低熔爐可包括下述步驟：利用千斤頂(例如，氣動千斤頂)來升舉熔爐、移除一組升高間隔物、且利用千斤頂(例如，氣動千斤頂)來降低熔爐，如同可理解的，例如，藉由以相反的順序實行第2圖至第10圖的方法步驟。

參見第2圖，熔爐可包括玻璃熔化熔爐，且該方法可包括另外的步驟：在放置熔爐於支撐結構上之後，可操作地連接玻璃熔化熔爐至下游玻璃製造設備153及/或可操作地連接玻璃熔化熔爐至上游玻璃製造設備151。實際上，如同第2圖所示，批次傳送裝置111可連接至熔爐105，以接合上游玻璃製造設備151於熔爐105。如同進一步所示，第一連接導管129可連接至熔爐105，以接合下游玻璃製造設備153於熔爐105。

上面討論的處理熔爐的各種方法也可包括下述步驟：操作熔爐(例如，使用熔爐來加熱氣體、液體及/或固體)，或其他處理技術。實際上，如同上面參照第1圖所敘述的，處理玻璃熔化熔爐的方法可包括下述步驟：使用熔爐來加熱批次材料，以產生玻璃熔體121，玻璃熔體121最終拉製成玻璃帶103並且分離成玻璃片104。

將是顯而易見的，本領域中熟習技藝者可對本揭示案做出各種修改與變化，而不偏離本發明的精神 與範圍。因此，打算的是，本發明涵蓋落入所附申請專利範圍與其均等物的範圍內之本揭示案的修改與變化。

101‧‧‧熔合下拉設備

103‧‧‧玻璃帶

104‧‧‧玻璃片

105‧‧‧玻璃熔化熔爐

106‧‧‧熔化容器

107‧‧‧批次材料

109‧‧‧儲存箱

111‧‧‧批次傳送裝置

113‧‧‧馬達

117‧‧‧箭頭

121‧‧‧玻璃熔體

127‧‧‧澄清容器

129‧‧‧第一連接導管

131‧‧‧玻璃熔體攪拌腔室

133‧‧‧傳送容器

135‧‧‧第二連接導管

137‧‧‧第三連接導管

139‧‧‧降液管

141‧‧‧入口

143‧‧‧成形容器

145‧‧‧根部

147‧‧‧成形楔形物

151‧‧‧上游玻璃製造設備

153‧‧‧下游玻璃製造設備

155‧‧‧箭頭

157‧‧‧手動地

159‧‧‧箭頭

201‧‧‧基座

Claims (10)

1. 一種處理一熔爐的方法，包括下述步驟：(I)利用一支撐構件來支撐該熔爐，該支撐構件橫跨一安裝區域的一佔地面積並且超過該佔地面積，其中該佔地面積之外的一支撐表面支撐該支撐構件的至少一對相對端部，使得該熔爐懸掛在該安裝區域之上；(II)支撐該支撐構件的該等相對端部於該支撐表面之上；及(III)相對於該支撐表面一起移動該熔爐與該支撐構件，同時該支撐構件的該等相對端部受到支撐。
2. 如請求項1所述之方法，其中步驟(II)包括下述步驟：使該支撐表面之上的該支撐構件的該等相對端部漂浮於一流體的緩衝上。
3. 如請求項2所述之方法，其中步驟(III)包括下述步驟：移動該熔爐，同時該支撐構件的該等相對端部利用該流體的緩衝而漂浮於該支撐表面之上。
4. 如請求項1所述之方法，其中在步驟(I)期間，該熔爐定位在該佔地面積內，使得該熔爐懸掛在該安裝區域之上。
5. 如請求項4所述之方法，其中步驟(III) 包括下述步驟：移動該熔爐至該佔地面積之外的一位置。
6. 如請求項4所述之方法，其中在步驟(III)之後，進一步包括下述步驟：檢修該熔爐。
7. 如請求項1所述之方法，其中步驟(III)包括下述步驟：從該佔地面積之外的一位置移動該熔爐至該佔地面積內的一位置，使得該熔爐懸掛在該安裝區域之上。
8. 如請求項7所述之方法，其中在步驟(III)之後，進一步包括下述步驟：移除該支撐構件，且然後放置該熔爐於該安裝區域內的一支撐結構上。
9. 如請求項7所述之方法，其中該熔爐係在該佔地面積之外的一位置處檢修。
10. 如請求項1至10的任一項所述之方法，其中步驟(III)包括下述步驟：沿著一預定的路徑導引該熔爐。