TW201636741A - 微影裝置與方法 - Google Patents

Abstract

在一掃描曝光期間，一支撐結構沿著一掃描路徑相對於由一照明器調節之一輻射光束可移動，且一基板台沿著一掃描路徑相對於該經圖案化輻射光束可移動。一影像變換光學件配置於該支撐結構與該基板台之間。該影像變換光學件可移動以便控制形成於基板上之影像之特性，使得可在一第一組態與一第二組態之間變換該影像，該第二組態在沿著該掃描路徑之一方向上相對於該第一組態反轉。

Description

微影裝置與方法

本發明係關於一種微影裝置及一種器件製造方法。詳言之，本發明係關於一種掃描微影裝置。

微影裝置為將所要圖案施加至基板之目標區域上的機器。微影裝置可用於(例如)積體電路(IC)製造中。在彼情況下，替代地被稱作光罩或比例光罩之圖案化器件可用以產生對應於IC之個別層的電路圖案，且此圖案可成像至具有輻射敏感材料(抗蝕劑)層之基板(例如，矽晶圓)上之目標區域(例如，包含晶粒之部分、一個晶粒或若干晶粒)上。一般而言，單一基板將含有經順次地曝光之鄰近目標區域之網路。已知的微影裝置包括：所謂的步進器，其中藉由一次性將整個圖案曝光至目標區域上來輻照每一目標區域；及所謂的掃描器，其中藉由在給定方向(「掃描」方向)上經由光束而掃描圖案同時平行或反平行於此方向而同步地掃描基板來輻照每一目標區域。

需要提供一種預防或減輕先前技術之問題(無論在本文中抑或在別處被識別)中之一或多者的微影裝置。

根據本發明之一第一態樣，提供一種微影裝置，其包含：一支撐結構，其用於支撐一圖案化器件；一照明系統，其用於調節一輻射光束且將該經調節輻射光束導向至該支撐結構，使得由該支撐結構支撐 之一圖案化器件在該輻射光束之橫截面中賦予一圖案，從而形成一經圖案化輻射光束；一基板台，其用於固持一基板；及一投影系統，其用於將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標區域上以便在該基板上形成一影像；其中在一掃描曝光期間，該支撐結構沿著一掃描路徑相對於由該照明器調節之該輻射光束可移動，且該基板台沿著該掃描路徑相對於該經圖案化輻射光束可移動；且其中該微影裝置進一步包含配置於該支撐結構與該基板台之間的一影像變換光學件，該影像變換光學件可移動以便控制形成於該基板上之該影像之特性，使得可至少在一第一組態與一第二組態之間變換該影像，該第二組態在沿著該掃描路徑之一方向上相對於該第一組態反轉。

有效地，該影像變換光學件可操作以變更安置於該支撐結構與該基板台之間的光學系統之影像反轉特性。此允許該微影裝置在以下兩種模式中在該基板上形成該圖案化器件之一影像：一第一掃描模式，其中該支撐結構之移動平行於該基板台之移動；及一第二掃描模式，其中該支撐結構之移動反平行於該基板台之移動(亦即，與該基板台之移動對準，但在相對方向上)。有利地，此配置允許以一特別高效的方式輻照一基板上之複數個目標區域。

該微影裝置可在至少包含以下各者之複數個掃描模式中可操作：一第一掃描模式，其中在沿著該掃描路徑之一第一方向上移動該支撐結構，在沿著該掃描路徑之該同一方向上同步地移動該基板台，且該影像係在該第一組態中；及一第二掃描模式，其中在沿著該掃描路徑之一第二方向上移動該支撐結構，在沿著該掃描路徑之相對方向上同步地移動該基板台，且該影像係在該第二組態中。

分別在該第一模式及該第二模式中在相對方向上移動該支撐結構會允許輻照兩個目標區域而不要求在該兩個目標區域之曝光之間移動該支撐結構，因此增加該微影裝置之產出率。另外，在兩次順次曝光 之間在掃描方向上反轉該影像會允許在兩次曝光期間在該同一方向上移動該基板台。此允許在兩個目標區域上形成該圖案化器件之一影像而不要求在該兩個目標區域之曝光之間更改該基板台之行進方向。此允許負責移動該基板台之致動器較小且較輕。另外，其縮減該基板台所經歷之加速度，此又引起該微影裝置之一較佳動態效能。

形成於該基板上之該影像之該第二組態可圍繞該微影裝置之一光軸相對於該影像之該第一組態旋轉達180°。

有利地，此有效地確保在該基板之每一目標區域上形成實質上同一影像，僅該影像之定向在該第一組態與該第二組態之間變化。替代地，形成於該基板上之該影像之該第二組態可為藉由通過垂直於該掃描方向延伸之一平面進行的該影像之該第一組態之一反射。

該影像變換光學件可包含一或多個影像反轉光學件，該或每一影像反轉光學件經配置以在一反轉方向上反轉該影像，該或每一影像反轉光學件可旋轉地安裝於該經圖案化輻射光束之該路徑中，使得其可至少在一第一位置與一第二位置之間圍繞一軸線旋轉。

可藉由使該或每一影像反轉光學件在該第一位置與該第二位置之間圍繞該軸線旋轉而達成該影像在該第一組態與該第二組態之間的變換。

該影像變換光學件可包含一單一影像反轉光學件。

在該第一組態中，該影像反轉光學件可經配置使得反轉方向與該掃描路徑對準。在該第二組態中，該影像反轉光學件可經配置使得該反轉方向垂直於該掃描路徑。

替代地，該影像變換光學件可包含複數個影像反轉光學件。

該影像變換光學件包含複數個影像反轉光學件之一配置的一優勢(相對於一個影像反轉光學件)為可縮減在第一組態與第二組態之間變換每一影像所需要的該影像之總角位移。

該影像變換光學件可包含n個影像反轉光學件。在該第一組態及該第二組態中之一者中，該等影像反轉光學件中之每一者可經配置使得其反轉方向與該掃描路徑成一角度而安置，該角度之一量值為90/n°。在該第一組態及該第二組態中之另一者中，該等影像反轉光學件中之每一者可經配置使得其反轉方向與該掃描路徑對準。可藉由使該n個影像反轉光學件中之每一者圍繞該微影裝置之一中心軸線旋轉達一量值為90/n°之一角度而達成該影像變換器件在該第一組態與該第二組態之間的變換。增加影像反轉光學件之數目n會因此縮減每一影像反轉光學件之總角位移之量值。此又縮減旋轉每一影像反轉光學件以便在該第一組態與該第二組態之間變換所需要的扭力及功率。

該影像變換光學件可包含偶數個影像反轉光學件。舉例而言，該影像變換光學件可包含兩個影像反轉光學件。

該影像變換光學件包含偶數個影像反轉光學件之一配置的一優勢為該影像變換光學件在掃描方向及非掃描方向兩者上皆反轉該圖案化器件之該影像。亦即，形成於該基板上之該影像等效於該圖案化器件上之該圖案，該等等效影像係藉由圍繞該微影裝置之一光軸之一旋轉而相關。此可為合乎需要的，此係因為其可簡化設計及製造用於該微影裝置之圖案化器件的程序。

該或每一影像反轉光學件可為一稜鏡。舉例而言，該稜鏡可為一多菲(Dove)稜鏡、一別漢(Pechan)稜鏡或一阿貝-柯尼(Abbe-Koenig)稜鏡。

該或每一影像反轉光學件可為一反射影像反轉光學件，其包含複數個鏡面。

該影像反轉光學件可包含在如下兩個配置之間可移動之一或多個光學元件：一第一配置，其中該一或多個光學元件致使該經圖案化輻射光束在被投影至該基板之該目標區域上之前會聚及交叉；及一第二 配置，其中該一或多個光學元件不會致使該經圖案化輻射光束在被投影至該基板之該目標區域上之前會聚及交叉。

舉例而言，該影像反轉光學件可包含具備一對對置凸形表面及一第二對對置表面之一光學元件，且其中當安置於該第一位置中時，該光學元件經配置使得該經圖案化輻射光束傳遞通過該對對置凸形表面，且其中當安置於該第二位置中時，該光學元件經配置使得該輻射光束傳遞通過該第二對對置表面。該第二對對置表面中之每一者可為凹形或扁平。

替代地，該影像反轉光學件可包含一或多個反射光學元件。

該影像變換光學件可包含可移進及可移出該經圖案化輻射光束之該路徑的一或多個光學件，該影像在該第一組態與該第二組態之間的轉變係藉由該一或多個光學件之移動而實現。該移動可為一平移、一旋轉或其一組合。

該影像變換光學件可包含兩項實質上相同影像反轉光學件，每一者可移進及可移出該經圖案化輻射光束之該路徑，該等影像反轉光學件中之一第一者經配置以在安置於該經圖案化輻射光束之該路徑中時在一第一反轉方向上反轉該影像，且該等影像反轉光學件中之一第二者經配置以在安置於該經圖案化輻射光束之該路徑中時在一第二反轉方向上反轉該影像，該第一反轉方向與該第二反轉方向實質上垂直。

兩項實質上相同稜鏡之使用會確保在該兩個不同組態中在該基板上形成等效影像，該等等效影像係藉由一旋轉(並非一反射)而相關。另外，其確保該輻射光束之光學路徑長度及衰減在兩個組態中皆相同。

該兩個影像反轉光學件可各自包含一多菲稜鏡或一別漢稜鏡。

該影像變換光學件可包含一單一稜鏡，該稜鏡可移進及可移出該經圖案化輻射光束之該路徑，且經配置以在安置於該經圖案化輻射光 束之該路徑中時完全地反轉該影像。

再次，執行一完全反轉之一單一光學件之使用會確保在該第一組態及該第二組態中形成之該等影像等效，該等影像係藉由一旋轉(並非一反射)而相關。

該影像變換光學件可包含一或多個感測器及一控制器，其中該一或多個感測器可操作以判定該影像變換光學件之位置及/或定向且將指示該位置及/或定向之一信號輸出至該控制器。

該影像變換光學件可包含一或多個致動器，且該控制器可回應於由該一或多個感測器輸出之該信號而可操作以使用該一或多個致動器來控制該影像變換光學件之該位置及/或定向。

該控制器可回應於由該一或多個感測器輸出之該信號而可操作以控制該支撐結構及/或該基板台之位置及/或定向。

根據本發明之一第二態樣，提供一種用於在一基板之複數個目標區域上形成一影像之方法，其包含：提供具有複數個目標區域之一基板；使用一照明系統來提供一輻射光束；提供用於在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案的一圖案化器件；提供用於將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標區域上以便在該基板上形成一影像的一投影系統；提供可操作以控制形成於該基板上之該影像之一組態的一影像旋轉器件；在該基板之一第一目標區域上形成一影像，此係藉由在沿著一掃描路徑之一第一方向上相對於該輻射光束來移動該支撐結構使得該輻射光束橫越該圖案化器件進行掃描，而同時在沿著該掃描路徑之該同一方向上移動該基板台使得該經圖案化輻射光束橫越該第一目標區域進行掃描，從而形成具有一第一組態之一影像；使用該影像旋轉器件以將形成於該基板上之該影像在沿著該掃描路徑之一方向上反轉至一第二組態；及在該基板之一第二目標區域上形成一影像，此係藉由在沿著一掃描路徑之一第二相對方向上相對於該輻射 光束來移動該支撐結構使得該輻射光束橫越該圖案化器件進行掃描，而同時在沿著該掃描路徑之該相對方向上移動該基板台使得該經圖案化輻射光束橫越該第一目標區域進行掃描，從而形成具有一第二組態之一影像。

該基板可包含複數行目標區域。每一行目標區域可在沿著該微影裝置之該掃描路徑之一方向上延伸。該基板台可相對於該經圖案化輻射光束移動，使得該經圖案化輻射光束之一曝光區域遵循依次沿著每一行目標區域延伸之一路徑，從而在方向上在每一對鄰近行之間交替。

隨著該曝光區域沿著該基板上之一行目標區域移動，n個目標區域中之一者被曝光。

可將上文或下文所闡明的本發明之各種態樣及特徵與本發明之各種其他態樣及特徵組合，此對於熟習此項技術者而言將易於顯而易見。

100‧‧‧影像變換光學件/影像旋轉光學件

102‧‧‧感測器

104‧‧‧致動器

105‧‧‧曝光區域

110‧‧‧路徑

112‧‧‧替代路徑

114‧‧‧路徑

121‧‧‧目標區域之第一行

122‧‧‧目標區域之第二行

123‧‧‧目標區域之行

124‧‧‧目標區域之行

125‧‧‧目標區域之行

126‧‧‧目標區域之行

127‧‧‧目標區域之行

130‧‧‧目標區域之列

200‧‧‧多菲稜鏡

202‧‧‧背面

204‧‧‧正面

206‧‧‧側面

208‧‧‧側面

210‧‧‧中心軸線

300‧‧‧系統

400‧‧‧光學元件

402‧‧‧大體上球形表面

404‧‧‧球形凹形表面/凹形凹部

406‧‧‧球形凹形表面/凹形凹部

410‧‧‧中心軸線

500‧‧‧影像變換光學件

502‧‧‧第一多菲稜鏡

504‧‧‧第二多菲稜鏡

506‧‧‧第三多菲稜鏡

510‧‧‧中心軸線

520a‧‧‧實例影像

520b‧‧‧實例影像

530a‧‧‧實例影像

530b‧‧‧實例影像

A‧‧‧點

a‧‧‧箭頭

A'‧‧‧共軛點

a'‧‧‧箭頭

A"‧‧‧共軛點

a"‧‧‧箭頭

AM‧‧‧調整構件

B‧‧‧點

B'‧‧‧共軛點

B"‧‧‧共軛點

BD‧‧‧光束遞送系統

B_in‧‧‧入射輻射光束/經圖案化輻射光束

B_out‧‧‧射出輻射光束

C‧‧‧目標區域

CN‧‧‧控制器

CO‧‧‧聚光器

IF‧‧‧位置感測器

IL‧‧‧照明系統/照明器

IN‧‧‧積光器

M₁‧‧‧鏡面

M1‧‧‧圖案化器件對準標記

M₂‧‧‧鏡面

M2‧‧‧圖案化器件對準標記

M₃‧‧‧鏡面

MA‧‧‧圖案化器件

MT‧‧‧支撐結構

O‧‧‧光軸

P'‧‧‧平面

P"‧‧‧平面

P1‧‧‧基板對準標記

P₁‧‧‧平面

P2‧‧‧基板對準標記

P₂‧‧‧平面

P₃‧‧‧平面

P₄‧‧‧平面

PB‧‧‧輻射光束

PL‧‧‧項目/投影系統/透鏡

PM‧‧‧第一定位器件

PW‧‧‧第二定位器件

R₁‧‧‧射線

R₂‧‧‧射線

R₃‧‧‧射線

SO‧‧‧輻射源

v_S‧‧‧基板台之速率/掃描速率

W‧‧‧基板

WT‧‧‧基板台

現在將參考隨附示意性圖式而僅作為實例來描述本發明之實施例，在該等圖式中，對應參考符號指示對應部件，且在該等圖式中：- 圖1描繪根據本發明之一實施例之微影裝置；- 圖2為多菲稜鏡之示意性橫截面圖，該多菲稜鏡可形成根據本發明之一實施例之影像變換光學件之部件；- 圖3為包括根據本發明之一實施例之影像變換光學件的微影裝置之部分的示意圖，其中該影像變換光學件安置於(a)第一組態及(b)第二組態中；- 圖4說明與根據本發明之一實施例之方法一致的在基板上方之可由微影裝置之曝光隙縫遵循之路徑；- 圖5說明與根據本發明之一實施例之方法一致的在基板上方之 可由微影裝置之曝光隙縫遵循之另一路徑；- 圖6說明在基板上方之可由微影裝置之曝光隙縫遵循之替代路徑；- 圖7為反射光學系統之示意圖，該反射光學系統可形成根據本發明之一實施例之影像變換光學件之部件；- 圖8為替代光學元件之示意圖，該替代光學元件可形成根據本發明之一實施例的安置於(a)第一組態及(b)第二組態中之影像變換光學件之部件；- 圖9為包括根據本發明之另一實施例之影像變換光學件的微影裝置之部分的示意圖，其中該影像變換光學件安置於(a)第一組態及(b)第二組態中；- 圖10為圖9之影像變換光學件之第一實施例的示意性橫截面圖，其中該影像變換光學件安置於(a)第一組態及(b)第二組態中；且- 圖11為圖9之影像變換光學件之第二實施例的示意性橫截面圖，其中該影像變換光學件安置於(a)第一組態及(b)第二組態中。

儘管可在本文中特定地參考微影裝置在IC製造中之使用，但應理解，本文中所描述之微影裝置可具有其他應用，諸如製造整合式光學系統、用於磁疇記憶體之導引及偵測圖案、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭等等。熟習此項技術者應瞭解，在此等替代應用之內容背景中，本文中對術語「晶圓」或「晶粒」之任何使用皆可被認為分別與更一般之術語「基板」或「目標區域」同義。可在曝光之前或曝光之後在(例如)塗佈顯影系統(通常將抗蝕劑層施加至基板且顯影經曝光抗蝕劑之工具)或度量衡工具或檢測工具中處理本文中所提及之基板。適用時，可將本文中之揭示內容應用於此等及其他基板處理工具。另外，可將基板處理一次以上，例如，以便產生多層IC，使得本文中所使用 之術語基板亦可指已經含有多個經處理層之基板。

本文中所使用之術語「輻射」及「光束」涵蓋所有類型之電磁輻射，包括紫外線(UV)輻射(例如，具有365奈米、248奈米、193奈米、157奈米或126奈米之波長)及極紫外線(EUV)輻射(例如，具有在5奈米至20奈米之範圍內的波長)，以及粒子束，諸如離子束或電子束。

本文中所使用之術語「圖案化器件」應被廣泛地解譯為係指可用以在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以便在基板之目標區域中產生圖案的器件。應注意，被賦予至輻射光束之圖案可不確切地對應於基板之目標區域中之所要圖案。通常，被賦予至輻射光束之圖案將對應於目標區域中產生之器件(諸如積體電路)中之特定功能層。

圖案化器件可為透射的或反射的。圖案化器件之實例包括光罩、可程式化鏡面陣列及可程式化LCD面板。光罩在微影中為吾人所熟知，且包括諸如二元、交替相移及衰減相移之光罩類型，以及各種混合式光罩類型。可程式化鏡面陣列之一實例使用小鏡面之矩陣配置，該等小鏡面中之每一者可個別地傾斜，以便在不同方向上反射入射輻射光束；以此方式，經反射光束被圖案化。

支撐結構固持圖案化器件。詳言之，支撐結構以取決於圖案化器件之定向、微影裝置之設計及其他條件(諸如圖案化器件是否被固持於真空環境中)的方式來固持圖案化器件。支撐件可使用機械夾持、真空或其他夾持技術，例如，在真空條件下之靜電夾持。支撐結構可為(例如)框架或台，其可根據需要而固定或可移動，且其可確保圖案化器件(例如)相對於投影系統處於所要位置。本文中對術語「比例光罩」或「光罩」之任何使用皆可被認為與更一般之術語「圖案化器件」同義。

本文中所使用之術語「投影系統」應被廣泛地解譯為涵蓋適於(例如)所使用之曝光輻射或諸如浸潤流體之使用或真空之使用的其他 因素的各種類型之投影系統，包括折射光學系統、反射光學系統及反射折射光學系統。本文中對術語「投影透鏡」之任何使用皆可被認為與更一般之術語「投影系統」同義。

照明系統亦可涵蓋用於導向、塑形或控制輻射光束的各種類型之光學組件，包括折射、反射及反射折射光學組件，且此等組件亦可在下文中被集體地或單獨地稱作「透鏡」。

微影裝置可屬於具有兩個(雙載物台)或兩個以上基板台(及/或兩個或兩個以上支撐結構)之類型。在此等「多載物台」機器中，可並行地使用額外台，或可對一或多個台進行預備步驟，同時將一或多個其他台用於曝光。

微影裝置亦可屬於如下類型：其中基板浸潤於具有相對高折射率之液體(例如，水)中，以便填充投影系統之最終元件與基板之間的空間。浸潤技術在此項技術中被熟知用於增加投影系統之數值孔徑。

圖1示意性地描繪根據本發明之一特定實施例之微影裝置。該裝置包含：- 照明系統(照明器)IL，其用以調節輻射光束PB(例如，UV輻射或EUV輻射)；- 支撐結構(例如，光罩台)MT，其用以支撐圖案化器件(例如，光罩)MA，且連接至用以相對於項目PL來準確地定位該圖案化器件之第一定位器件PM；- 基板台(例如，晶圓台)WT，其用於固持基板(例如，抗蝕劑塗佈晶圓)W，且連接至用於相對於項目PL來準確地定位該基板之第二定位器件PW；及- 投影系統(例如，折射投影透鏡)PL，其經組態以使由圖案化器件MA賦予至輻射光束PB之圖案成像至基板W之目標區域C(例如，包含一或多個晶粒)上。

如此處所描繪，裝置屬於透射類型(例如，使用透射光罩)。替代地，裝置可屬於反射類型，例如，使用上文所提及之類型之可程式化鏡面陣列，或反射光罩。

照明器IL自輻射源SO接收輻射光束。舉例而言，當源SO為準分子雷射時，該源及微影裝置可為分離實體。在此等狀況下，源不被認為形成微影裝置之部件，且輻射光束係憑藉包含(例如)合適導向鏡面及/或光束擴展器之光束遞送系統BD而自源SO傳遞至照明器IL。在其他狀況下，舉例而言，當源SO為水銀燈時，該源可為裝置之整體部件。源SO及照明器IL連同光束遞送系統BD(在需要時)可被稱作輻射系統。

照明器IL可包含用於調整光束之角強度分佈的調整構件AM。通常，可調整照明器之光瞳平面中之強度分佈的至少外部徑向範圍及/或內部徑向範圍(通常分別被稱作σ外部(σ-outer)及σ內部(σ-inner))。另外，照明器IL通常包含各種其他組件，諸如積光器IN及聚光器CO。照明器IL提供經調節輻射光束PB，在其橫截面中具有所要均一性及強度分佈。

輻射光束PB入射於被固持於支撐結構MT上之圖案化器件(例如，光罩)MA上。在已橫穿圖案化器件MA的情況下，光束PB傳遞通過透鏡PL，透鏡PL將該光束聚焦至基板W之目標區域C上。憑藉第二定位器件PW及位置感測器IF(例如，干涉量測器件)，可準確地移動基板台WT，例如，以便使不同目標區域C定位於光束PB之路徑中。相似地，第一定位器件PM及另一位置感測器(其未在圖1中被明確地描繪)可用以(例如)在自光罩庫之機械擷取之後或在掃描期間相對於光束PB之路徑來準確地定位圖案化器件MA。一般而言，將憑藉形成定位器件PM及PW之部件的長衝程模組(粗略定位)及短衝程模組(精細定位)來實現物件台MT及WT之移動。可使用圖案化器件對準標記M1、M2 及基板對準標記P1、P2來對準圖案化器件MA及基板W。

投影系統PL可將縮減因數應用於輻射光束PB，從而形成特徵小於圖案化器件MA上之對應特徵的影像。舉例而言，可應用為4之縮減因數。

所描繪裝置可用於掃描模式中，其中當將被賦予至光束PB之圖案投影至目標區域C上時，同步地掃描支撐結構MT及基板台WT(亦即，單次動態曝光)。

經調節輻射光束PB之形狀及強度分佈係由照明器IL之光學件界定。在掃描模式中，經調節輻射光束PB之橫截面可為大體上矩形，使得其在圖案化器件MA上形成輻射帶。輻射帶可被稱作曝光隙縫(或隙縫)。隙縫可具有較長尺寸(其可被稱作隙縫之長度)及較短尺寸(其可被稱作隙縫之寬度)。隙縫之寬度可對應於掃描方向且隙縫之長度可對應於非掃描方向。在掃描模式中，隙縫之長度限制可在單次動態曝光期間曝光之目標區域C之非掃描方向上的範圍。與此對比，可在單次動態曝光期間曝光之目標區域C之掃描方向上的範圍係由掃描運動之長度判定。

照明器IL可包含複數個可移動指形件。每一可移動指形件可至少在其未安置於輻射光束之路徑中所處的縮回位置與其部分地阻擋輻射光束所處的插入位置之間獨立地可移動。藉由移動指形件，可調整隙縫之形狀及/或強度分佈。指形件可不在場平面中，且場可在指形件之半影中，使得指形件不會清晰地截止輻射光束PB。指形件在其縮回位置與插入位置之間的移動可在垂直於隙縫之長度的方向上。指形件可成對地配置，每一對在隙縫之每一側上包含一個指形件。指形件對可沿著隙縫之長度配置。指形件對可用以沿著隙縫之長度施加輻射光束PB之不同衰減位準。

照明器IL可包含兩個葉片(圖中未繪示)。兩個葉片中之每一者可 大體上平行於隙縫之長度，兩個葉片安置於隙縫之相對側上。每一葉片可在其未安置於輻射光束之路徑中所處的縮回位置與其部分地阻擋輻射光束所處的插入位置之間獨立地可移動。藉由將葉片移動至輻射光束之路徑中，可截斷輻射光束PB之剖面，因此限制在掃描方向上的輻射光束PB之場之範圍。

在掃描模式中，第一定位器件PM可操作以沿著掃描路徑相對於已由照明器IL調節之輻射光束PB來移動支撐結構MT。在一實施例中，以恆定掃描速率v_M在掃描方向上線性地移動支撐結構MT。如上文所描述，隙縫經定向使得其寬度在掃描方向(其可(例如)與圖1之y方向重合)上延伸。在任何情況下，由隙縫照明的圖案化器件MA上之每一點將由投影系統PL成像至基板W之平面中之單一共軛點上。隨著支撐結構MT在掃描方向上移動，圖案化器件MA上之圖案以與支撐結構MT相同的速度橫越隙縫之寬度而移動。詳言之，圖案化器件MA上之每一點以速率v_M在掃描方向上橫越隙縫之寬度而移動。由於此支撐結構MT之運動，對應於圖案化器件MA上之每一點的基板W之平面中之共軛點將在基板台WT之平面中相對於隙縫移動。

為了在基板W上形成圖案化器件MA之影像，應移動基板台WT使得圖案化器件MA上之每一點的基板W之平面中之共軛點相對於基板W保持靜止。基板台WT相對於投影系統PL之速度(量值及方向兩者)係由投影系統PL之縮小率及影像反向特性(在掃描方向上)判定。詳言之，若投影系統PL之特性係使得形成於基板W之平面中的圖案化器件MA之影像在掃描方向上反轉，則應在與支撐結構MT相對之方向上移動基板台WT。亦即，基板台WT之運動應反平行於支撐結構MT之運動。另外，若投影系統PL將縮減因數F應用於輻射光束PB，則在給定時間段中由每一共軛點行進之距離將比由圖案化器件上之對應點行進之距離小一因數F。因此，基板台WT之速率v_S應為v_M/F。

照明器IL運用輻射光束PB來照明圖案化器件MA之曝光區域，且投影系統PL將輻射聚焦於基板W之平面中之曝光區域處。照明器IL之葉片可用以控制輻射光束PB之隙縫之寬度，此又分別限制圖案化器件MA及基板之平面中之曝光區域的範圍。在目標區域C之單次動態曝光開始時，隙縫之葉片中之第一者可安置於輻射光束之路徑中而充當遮光片，使得曝光區域中之任一者之部分皆不接收輻射。隨著正被曝光的基板W之目標區域C之前邊緣移動至曝光區域中，第一葉片移動使得僅安置於曝光區域中的目標區域C之部分接收輻射(亦即，該目標區域外部的基板之部分未被曝光)。中途經由目標區域C之曝光，葉片兩者皆可自輻射光束之路徑縮回，使得整個曝光區域接收輻射。隨著基板之目標區域C之前邊緣移出曝光區域，該等葉片中之第二者移動使得僅安置於曝光區域中的目標區域C之部分接收輻射。

當照明器之葉片未安置於輻射光束PB之路徑中時，圖案化器件MA之曝光區域及基板W之平面中之曝光區域可由輻射之隙縫界定。

在使用掃描模式的情況下，微影裝置可操作以將具有實質上固定面積的基板W之目標區域C曝光至輻射。舉例而言，目標區域C可包含晶粒之部分、一個晶粒或若干晶粒。單一晶圓可在複數個步驟中曝光至輻射，每一步驟涉及目標區域C之曝光，接著是基板W之移動。在第一目標區域C之曝光之後，微影裝置可操作以相對於投影系統PL來移動基板W，使得另一目標區域C可曝光至輻射。舉例而言，在基板W上之兩個不同目標區域C之曝光之間，基板台WT可操作以移動基板W以便定位下一目標區域，使得準備通過曝光區域予以掃描。此可(例如)藉由移動基板W使得下一目標區域經安置成鄰近於曝光區域而達成。

在掃描曝光期間：支撐結構MT沿著掃描路徑相對於由照明器IL調節之輻射光束PB可移動；且基板台WT沿著掃描路徑相對於經圖案 化輻射光束可移動。舉例而言，第一定位器件PM及第二位置感測器(圖中未繪示)可用以相對於經調節輻射光束PB之路徑來準確地定位支撐結構MT。舉例而言，第二定位器件PW及位置感測器IF可用以相對於由投影系統PL投影之輻射光束之路徑來準確地定位基板台WT。

微影裝置進一步包含配置於支撐結構MT與投影系統PL之間的影像變換光學件100。影像變換光學件100可操作以控制形成於基板W上之影像之特性。詳言之，影像變換光學件100允許至少在第一組態與第二組態之間變換形成於基板上之影像，其中第二組態在掃描方向上相對於第一組態反轉。舉例而言，相對於第一組態，第二組態可圍繞微影裝置之光軸(該軸線可大體上垂直於基板W之平面)旋轉達180°。

可控制(例如，移動)影像變換光學件100以便在掃描方向上控制形成於基板W上之影像之影像反向特性。

為了準確地控制影像變換光學件100，其可具備一或多個感測器102、一或多個致動器104及一控制器CN。一或多個感測器102可操作以判定影像變換光學件100之位置及/或定向且將指示該位置及/或定向之信號(圖1中由虛線箭頭所指示)輸出至控制器CN。控制器CN可回應於此等信號而可操作以使用一或多個致動器104來控制影像變換光學件100之位置及/或定向。為了達成此情形，控制器CN可操作以將控制信號(圖1中由虛線箭頭所指示)發送至一或多個致動器104。感測器102、控制器CN及致動器104因此形成允許準確地控制影像變換光學件100之位置及定向的回饋迴路。

為了確保在第一組態及第二組態中在基板W上形成等效影像(該等等效影像係藉由旋轉(並非反射)而相關)，可需要準確地控制影像變換光學件100相對於圖案化器件MA及晶圓W之位置及定向。微影裝置可操作以補償影像變換光學件100之製造公差、旋轉誤差及/或平移誤差。一種可供微影裝置達成此情形之機制係借助於由感測器102、控 制器CN及致動器104提供之回饋迴路。

另外或替代地，微影裝置可操作以藉由平移及/或旋轉支撐結構MT及/或基板台WT來補償影像變換光學件100相對於圖案化器件MA及/或晶圓W之位置之任何誤差。舉例而言，回應於由控制器CN自感測器102接收之信號，控制器CN可進一步可操作以將信號(圖1中由虛線箭頭所指示)輸出至第一定位器件PM及/或第二定位器件PW。

在一項實施例中，影像變換光學件100包含多菲稜鏡。如圖2所展示，在橫截面中，多菲稜鏡200為梯形形狀，且包含平行對置背面202及正面204以及兩個對置側面206、208。每一側面206、208經傾斜為與背面202及正面204中之每一者成45°之角度，使得多菲稜鏡200屬於截斷直角稜鏡之形式。多菲稜鏡200可經安置使得已由圖案化器件MA圖案化之輻射光束PB在背面202與正面204之間且平行於背面202及正面204而傳播通過多菲稜鏡200。

經圖案化輻射光束傳遞通過一個側面206且被折射朝向背面202。在背面202處，經圖案化輻射光束經歷全內反射且被導向朝向另一側面208，其中該經圖案化輻射光束經折射使得射出輻射光束B_out平行於入射輻射光束B_in而延伸。多菲稜鏡200具有中心軸線210。當輻射入射於多菲稜鏡200之第一側面206上時與中心軸線210對準的輻射射線R₁亦隨著射線R₁離開多菲稜鏡200而與中心軸線210對準。

當輻射入射於多菲稜鏡200上時較接近於多菲稜鏡200之正面204的輻射射線R₂隨著該輻射離開多菲稜鏡200而較接近於多菲稜鏡200之背面202。相似地，當輻射入射於多菲稜鏡200上時較接近於多菲稜鏡200之背面202的輻射射線R₃隨著該輻射離開多菲稜鏡200而較接近於多菲稜鏡200之正面204。亦即，經圖案化輻射光束在延伸於正面204與背面202之間的方向上反轉，該方向可被稱作多菲稜鏡200之反轉方向。經圖案化輻射光束在垂直方向上不反轉。因此，形成於多菲稜鏡 200之後的影像為被賦予至經圖案化輻射光束B_in之圖案之反射，該反射通過穿過圖2之中心軸線且垂直於圖2之平面的平面。

在一項實施例中，影像變換光學件100包含多菲稜鏡200，其安置於輻射光束PB之路徑中使得其可圍繞其中心軸線210旋轉，且經對準使得已由圖案化器件MA圖案化之輻射光束PB在背面202與正面204之間且平行於背面202及正面204而傳播通過多菲稜鏡200。

參看圖3，包含多菲稜鏡200之影像變換光學件100被展示於第一位置(參見圖3a)及第二位置(參見圖3b)中。多菲稜鏡200之中心軸線210與微影裝置之光軸O(其可隨著輻射光束傳播通過微影裝置而與表示輻射光束之中心的射線重合)對準。圖案化器件MA上之每一點A具有在影像變換光學件100與投影系統PL之間的平面P'中之共軛點A'及在基板W之平面P"中之共軛點A"。

在第一位置中，多菲稜鏡200經配置使得反轉方向(延伸於正面204與背面202之間)與掃描方向(y方向)對準。因而，在掃描方向上時，平面P'中之共軛點A'安置於微影裝置之光軸O之與點A相對的側上。另外，共軛點A'在與點A之移動方向相對的方向上移動，如由箭頭a及a'所指示。平面P'中的圖案化器件MA之影像在掃描方向上反轉且在非掃描方向上不反轉。亦即，其為光罩MA上之圖案之鏡像，該鏡像已反射通過延伸通過光軸O且平行於非掃描方向(亦即，x方向，在圖3之平面外)之平面。投影系統PL完全地反轉影像，亦即，在基板W之平面P"中，形成於平面P'中之影像圍繞光軸O旋轉達180°。因而，在掃描方向上，點A(在圖案化器件MA上)之共軛點A"(在基板W之平面中)安置於微影裝置之光軸O之與點A相同的側上。另外，該共軛點A"在與點A之移動方向相同的方向上移動，如由箭頭a及a"所指示。因此，當影像變換光學件100安置於其第一位置中時，應在與支撐結構MT之移動方向相同的方向上移動基板台WT。

在第二位置中，多菲稜鏡200經配置使得反轉方向(延伸於正面204與背面202之間)與非掃描方向(x方向)對準。因而，在掃描方向上，平面P'中之共軛點A'安置於微影裝置之光軸O之與點A相同的側上。另外，共軛點A'在與點A之移動方向相同的方向上移動，如由箭頭a及a'所指示。平面P'中的圖案化器件MA之影像在非掃描方向上反轉且在掃描方向上不反轉。亦即，其為光罩MA上之圖案之鏡像，該鏡像已反射通過延伸通過光軸O且平行於掃描方向(亦即，y方向，在圖3之平面中)之平面。投影系統PL完全地反轉影像，亦即，在基板W之平面P"中，形成於平面P'中之影像圍繞光軸O旋轉達180°。因而，在掃描方向上時，點A(在圖案化器件MA上)之共軛點A"(在基板W之平面中)安置於微影裝置之光軸O之與點A相對的側上。另外，該共軛點A"在與點A之移動方向相對的方向上移動，如由箭頭a及a"所指示。因此，當影像變換光學件100安置於其第二位置中時，應在與支撐結構MT相對的方向上移動基板台WT。

多菲稜鏡200在第一位置與第二位置之間的變換係藉由多菲稜鏡200圍繞其中心軸線210旋轉達90°之角度而達成。此有效地使形成於平面P'中之影像旋轉達180°之角度，從而在第一組態與第二組態之間變換該影像。

為了達成多菲稜鏡200圍繞其軸線210之旋轉，該多菲稜鏡可具備任何合適致動器且可由任何合適軸承支撐。舉例而言，軸承可包含主動磁性軸承，其可允許影像變換光學件100達成高解析度。多菲稜鏡200在第一位置與第二位置之間圍繞其中心軸線210之旋轉方向可與多菲稜鏡200在第二位置與第一位置之間圍繞其中心軸線210之旋轉方向相同。替代地，在一些實施例中，多菲稜鏡200在第一位置與第二位置之間的旋轉方向可與多菲稜鏡200在第二位置與第一位置之間的旋轉方向相對，使得該多菲稜鏡在第一位置與第二位置之間來回地旋 轉。

有效地，影像變換光學件100可操作以變更安置於支撐結構MT與基板台WT之間的光學系統之影像反轉特性。此允許微影裝置在以下兩種模式中在基板W上形成圖案化器件MA之影像：第一掃描模式，其中支撐結構MT之移動平行於基板台WT之移動；及第二掃描模式，其中支撐結構MT之移動反平行於基板台WT之移動。此配置允許以特別高效的方式輻照基板W上之複數個目標區域C，如現在所描述。

分別在第一模式及第二模式中在相對方向上移動支撐結構MT會允許輻照兩個目標區域C而不要求在該兩個目標區域之曝光之間移動支撐結構MT。另外，在兩次順次曝光之間在掃描方向上反轉影像(例如，藉由使影像旋轉達180°)會允許在兩次曝光期間在同一方向上移動基板台WT。此允許在兩個目標區域上形成圖案化器件MA之影像而不要求在該兩個目標區域之曝光之間更改基板台WT之行進方向。此允許負責移動基板台WT(例如，第二定位器件PW)之致動器較小且較輕。另外，其縮減基板台WT所經歷之加速度，此又引起微影裝置之較佳動態效能。亦即，其縮減振動，從而改良形成於基板W上之影像。

現在將參考圖4來描述根據本發明之一實施例而曝光基板W之目標區域C的序列。在目標區域C之曝光期間，投影系統PL可操作以將輻射帶(隙縫)投影至基板W之平面中之曝光區域105上。基板W安裝於微影裝置之基板台WT上，基板台WT相對於投影系統PL來移動基板W使得曝光區域105在基板W上方移動。詳言之，運動係使得曝光區域105遵循由虛線指示之路徑110。在圖4中，y方向對應於微影裝置之掃描方向，且x方向對應於非掃描方向。

基板W包含複數個大體上矩形目標區域C，其橫越基板W之表面形成二維陣列。目標區域C之二維陣列可被認為包含複數行121至127 之目標區域C，每一行121至127之目標區域C在微影裝置之掃描方向上延伸。目標區域C之二維陣列亦可被認為包含複數列目標區域C，每一列目標區域C在微影裝置之非掃描方向上延伸。路徑110依次沿著每一行121至127之目標區域C延伸，從而在方向上在每一對鄰近行121至127之間交替。亦即，路徑110在沿著掃描方向之第一方向(亦即，正y方向)上沿著第一行121之目標區域C延伸，接著在沿著掃描方向之相對方向(亦即，負y方向)上沿著第二行122之目標區域C延伸，等等。

隨著曝光區域105沿著基板W上之一行目標區域C移動，將彼列中之一或多個目標區域C曝光至輻射。在一些實施例中，依次曝光該行中之每一目標區域C。對於此等實施例，一旦曝光區域105已遍及整個路徑110進行掃描，基板上之所有目標區域C就將已被曝光。如上文所解釋，隨著曝光區域105遍及基板W進行掃描，可使用照明器IL中之葉片對來控制基板W至輻射之曝光。

在其他實施例中，隨著曝光區域105沿著基板W上之一行目標區域C移動，可曝光n個目標區域C中之一者。舉例而言，可曝光兩個目標區域C中之一者(藉由曝光每隔一個目標區域C)。此可允許足夠時間以供影像變換光學件100在第一組態與第二組態之間變換形成於基板上之影像。對於此等實施例，基板台WT可移動以便致使曝光區域105遵循路徑110或相似路徑達n次，使得一旦曝光區域105已遍及整個基板W進行掃描達n次，基板W上之所有目標區域C就已被曝光。

在一替代實施例中，如在圖5中，曝光區域105可遵循替代路徑112。路徑112依次越過每一行121至127之目標區域。路徑112首先在一個方向(例如，正y方向)上且接著在相對方向(例如，負y方向)上沿著每一行121至127之目標區域C延伸。舉例而言，此路徑112可用於以下實施例中：其中隨著曝光區域105沿著基板W上之一行目標區域C移 動，曝光兩個目標區域C中之一者。舉例而言，隨著曝光區域105在第一方向上越過每一行121至127之目標區域C，可曝光目標區域C中之第一半。接著，當曝光區域105在相對方向上越過每一行121至127之目標區域C，可曝光目標區域C中之第二半。

影像變換光學件100之提供會允許達成兩個連續目標區域C之曝光，其中支撐結構MT在相對方向上行進(此可改良產出率)且基板台WT在該同一方向上移動(此避免與在目標區域C之每一曝光之間改變方向相關聯的極高加速度)。在無影像變換光學件100的情況下，為了在兩個相對方向上移動支撐結構MT以用於兩個後續目標區域之曝光，將亦需要在相對方向上移動基板台WT以用於兩次曝光。對於此配置，同一圖案化器件MA用於兩次曝光，且因此，支撐結構MT可僅僅在掃描方向上來回地振盪。然而，除了在掃描方向上之來回掃描運動以外，亦需要移動基板台WT使得曝光不同目標區域C。

一種用以達成此情形之方式係執行曲折掃描，其中曝光區域105探索將參考圖6所描述之路徑的蹤跡。在曲折掃描期間，依次曝光每一列目標區域C(其在非掃描方向上延伸)。圖6說明曝光區域105在單一列130之目標區域之曝光期間遍及基板W之表面所遵循的路徑114。隨著曝光每一目標區域C，曝光區域105在掃描方向上移動。在每一對連續目標區域C中間，路徑沿著非掃描方向中步進(使得曝光區域鄰近於下一目標區域C)且在掃描方向上改變方向。曲折掃描可導致苛刻的加速度要求，且可(例如)要求基板台WT經歷大約數十公尺/平方秒或更高之加速度。另外，曲折掃描可需要可應對在該掃描期間產生之高力及高熱負荷的複雜基板台WT設計。

與此對比，影像變換光學件100之提供會允許上文所描述之掃描路徑(參考圖4及圖5)且避免曲折掃描之使用。此允許負責移動基板台WT之致動器較小且較輕。另外，其縮減基板台所經歷之加速度(對於 給定產出率)且引起較佳動態效能。亦即，其縮減歸因於來自基板台WT之殘餘力而由基板台WT之加速度引起的振動位準。此又可引起微影裝置之較佳印刷效能。舉例而言，形成於基板上之影像可較清晰，且微影裝置可具有較佳疊對控制(亦即，在基板W上之圖案之不同層之間的較佳對準)。

在上述實施例中，影像變換光學件100包含影像反轉光學件(多菲稜鏡200)，其可旋轉地安裝使得其可圍繞微影裝置之光軸O旋轉。影像變換光學件100之質量可顯著地小於基板台WT之質量，尤其是顯著地小於第二定位器件PW之短衝程模組(用於精細定位)之質量。因此，若等效控制器用於影像變換光學件100及第二定位器件PW之短衝程模組，則吾人將期望影像變換光學件100相較於第二定位器件PW之短衝程模組具有較高控制頻寬。此較高控制頻寬引起基板台WT可由第二定位器件PW定位之準確度增加(亦即，基板台WT之定位誤差縮減)。在一項實施例中，舉例而言，影像變換光學件100之總移動質量可為約10公斤。舉例而言，影像變換光學件100之質量可為大約5公斤。另外，影像變換光學件100可具備外殼及馬達，其可具有約5公斤之組合質量。如上文所解釋，為了在第一組態與第二組態之間轉變，影像反轉光學件(例如，多菲稜鏡200)應旋轉達90°之角度。

在一實施例中，使曝光區域105以大約1公尺/秒之速率v_S橫越每一行目標區域C連續地進行掃描，且在此掃描期間曝光每隔一個目標區域C(亦即，在該掃描期間曝光兩個目標區域C中之一者)。舉例而言，可使用照明器IL之葉片以在曝光區域105遍及未被曝光之目標區域C進行掃描時阻擋輻射來達成目標區域C之此選擇性曝光(例如，每隔一個目標區域C之曝光)。隨著曝光區域105遍及未被曝光之目標區域C進行掃描(在被曝光之兩個目標區域C中間)，影像變換光學件100應旋轉達90°之角度。此旋轉應在使曝光區域105遍及單一目標區域C 移動所花費之時間內完成。舉例而言，假定在掃描方向上的每一目標區域之長度為約33毫米，則影像變換光學件應在約33毫秒或更少之時間內旋轉達90°之角度。假定影像變換光學件經歷恆定角加速度(亦即，二階運動剖面)，則角加速度應為至少5800弧度/平方秒且最大角速度將為至少95弧度/秒。若總移動質量之慣性轉矩為約0.1kgm²，則需要580Nm或更大之扭力。

儘管在上述實施例中，將多菲稜鏡200用作影像反轉光學件，但在替代實施例中，可使用其他類型之影像反轉稜鏡。舉例而言，可使用別漢稜鏡或阿貝稜鏡來代替多菲稜鏡。

儘管在上述實施例中，將多菲稜鏡200用作影像反轉光學件，但在替代實施例中，可使用包含複數個鏡面之反射影像反轉光學件。舉例而言，如圖7所展示，三個鏡面M₁、M₂、M₃之系統300可用以達成與圖2之多菲稜鏡之影像反轉等效的影像反轉。此系統亦可以與上文所描述之多菲稜鏡200相似的方式安裝於可旋轉外殼上。使用反射光學件(亦即，鏡面)而非透射光學件(例如，稜鏡)之此配置可用於輻射光束包含極紫外線(EUV)輻射之實施例。

在上述實施例中，影像變換光學件100包含影像反轉光學件，其可旋轉地安裝使得其可圍繞微影裝置之光軸旋轉。在替代實施例中，影像變換光學件可包含可移進及移出經圖案化輻射光束之路徑(例如，藉由平移或旋轉)以實現第一組態與第二組態之間的改變的一或多個光學件。舉例而言，可提供兩個相同多菲稜鏡，每一者係藉由平移而可移進及可移出輻射光束之路徑。多菲稜鏡中之第一者可經定向以在其安置於輻射光束之路徑中時在掃描方向上反轉影像。多菲稜鏡中之第二者可經定向以在其安置於輻射光束之路徑中時在非掃描方向上反轉影像。兩個相同稜鏡之使用會確保在兩個不同組態中在基板W上形成等效影像，該等等效影像係藉由旋轉(並非反射)而相關。另 外，其確保輻射光束之光學路徑長度及衰減在兩個組態中皆相同。

替代地，可提供可操作以完全地反轉影像(在掃描方向及非掃描方向兩者上)之單一稜鏡，使得其可移進及移出輻射光束PB之路徑。再次，執行完全反轉之單一光學件之使用會確保在第一組態及第二組態中形成之影像等效，該等影像係藉由旋轉(並非反射)而相關。對於此等實施例，第一組態及第二組態可經受輻射光束之不同衰減位準。此可藉由調整在微影裝置中之別處的輻射光束之衰減予以校正。舉例而言，照明器IL中之可移動指形件可用以當影像變換光學件在第一組態與第二組態之間轉變時調整由照明器IL提供之衰減位準。

在一替代實施例中，影像變換光學件100可包含在如下兩個配置之間可移動之一或多個光學元件：第一配置，其中該一或多個光學元件致使經圖案化輻射光束PB在被投影至基板W之目標區域上之前會聚及交叉；及第二配置，其中該一或多個光學元件不會致使經圖案化輻射光束PB在被投影至基板W之目標區域上之前會聚及交叉。

舉例而言，影像變換光學件100可包含具備一對對置凸形表面及一對對置凹形或扁平表面之可旋轉光學元件。圖8中展示此影像變換光學件。光學元件400為大體上球形，其具有具備兩個對置球形凹形凹部404、406之大體上球形表面402。在一替代實施例中，大體上球形表面402可具備兩個對置扁平部分，或凹形凹部可為非球形。光學元件400經支撐以用於圍繞軸線410旋轉，軸線410垂直於微影裝置之光軸O且與非掃描方向(亦即，x方向，進入圖8之平面中)對準。

在圖8中，包含光學元件400之影像變換光學件100被展示於第一位置(參見圖8a)及第二位置(參見圖8b)中。圖案化器件MA上之每一點B具有在影像變換光學件100與投影系統PL之間的平面P'中之共軛點B'及在基板W之平面P"中之共軛點B"。

在第一位置中，光學元件400經配置使得輻射光束傳遞通過球形 表面402之對置(凸形)截面。因而，平面P'中之影像經反轉使得在掃描方向及非掃描方向兩者上，平面P'中之共軛點B'皆安置於微影裝置之光軸O之與點B相對的側上。另外，共軛點B'在與點B之移動方向相對的方向上移動。平面P'中的圖案化器件MA之影像經完全地反轉(在掃描方向及非掃描方向兩者上)使得在平面P'中，所形成之影像圍繞光軸O旋轉達180°。投影系統PL完全地反轉影像，亦即，在基板W之平面P"中，形成於平面P'中之影像圍繞光軸O旋轉達180°。亦即，平面P"中的圖案化器件MA之影像正立。因而，在掃描方向上，點B(在圖案化器件MA上)之共軛點B"(在基板W之平面中)安置於微影裝置之光軸O之與點B相同的側上。另外，該共軛點B"在與點B之移動方向相同的方向上移動。因此，當影像變換光學件100安置於其第一位置中時，應在與支撐結構MT之移動方向相同的方向上移動基板台WT。

在第二位置中，光學元件400經配置使得輻射光束傳遞通過對置凹形凹部404、406。因而，平面P'中的圖案化器件MA之影像正立，使得在掃描方向及非掃描方向兩者上，平面P'中之共軛點B'皆安置於微影裝置之光軸O之與點B相同的側上。另外，共軛點B'在與點B之移動方向相同的方向上移動。投影系統PL完全地反轉影像，亦即，在基板W之平面P"中，形成於平面P'中之影像圍繞光軸O旋轉達180°。因而，在掃描方向上，點B(在圖案化器件MA上)之共軛點B"(在基板W之平面中)安置於微影裝置之光軸O之與點B相對的側上。另外，該共軛點B"在與點B之移動方向相對的方向上移動。因此，當影像變換光學件100安置於其第二位置中時，應在與支撐結構MT之移動方向相對的方向上移動基板台WT。

在第一位置與第二位置之間的變換係藉由光學元件400圍繞其中心軸線410旋轉達90°之角度而達成。此有效地使形成於平面P'中之影像旋轉達180°之角度，從而在第一組態與第二組態之間變換影像。

就此實施例而言，當光學元件400安置於第一位置中時，其將致使輻射光束PB會聚，使得輻射光束PB之對置側上之光束將在進入投影系統PL之前交叉。應注意，在替代實施例中，此可藉由將致使輻射光束PB之對置側上之光束在進入投影系統PL之前交叉的任何兩個對置凸形表面而達成。詳言之，該兩個凸形表面可不相同。舉例而言，其可大體上具有不同曲率半徑。

當光學元件400安置於第二位置中時，其將致使輻射光束PB發散。該發散可使得整個輻射光束PB仍進入投影系統PL之孔徑。替代地，當光學元件400安置於第二位置中時，額外光學件(圖中未繪示)可用以確保整個輻射光束PB仍進入投影系統PL之孔徑。在此實施例之變化中，大體上球形表面402具備兩個對置扁平部分，而非兩個對置球形凹形凹部404、406。就此配置而言，當光學元件安置於第二組態中時，輻射光束PB將既不發散亦不會聚。應注意，在替代實施例中，對置球形凹形凹部404、406可由將致使輻射光束PB在進入投影系統PL之前保持平行或發散的任何兩個對置表面替換。詳言之，該兩個對置表面可不相同。如已經描述，兩個對置光學表面可皆為凹形或可皆為扁平。在替代實施例中，兩個對置光學表面包含凹形表面及扁平表面，或替代地，其可包含凹形表面及凸形表面。

在一替代實施例中，可將光學元件400提供於投影系統PL內。

儘管在上述實施例中，將透射光學元件400用作影像反轉光學件，但在替代實施例中，可使用包含複數個鏡面之反射影像反轉光學件。舉例而言，包含複數個可移動鏡面之系統可用以達成與圖8之光學元件400之影像反轉等效的影像反轉。

在上文參考圖3所描述之實施例中，影像變換光學件100包含安置於輻射光束PB之路徑中的影像反轉光學件(例如，多菲稜鏡200)。影像反轉光學件之中心軸線與微影裝置之光軸O對準，使得已由圖案化 器件MA圖案化之輻射光束PB傳播通過該反轉光學件。隨著經圖案化輻射光束PB傳播通過影像反轉光學件，經圖案化輻射光束在反轉方向(其大體上垂直於微影裝置之光軸O)上反轉。影像反轉光學件經配置使得其可圍繞其中心軸線旋轉。影像反轉光學件圍繞其中心軸線之旋轉會使該光學件之反轉方向旋轉，且因此使經圖案化輻射光束圍繞微影裝置之光軸O旋轉。如上文所解釋，為了使形成於基板W上之影像在第一組態與第二組態之間轉變，影像反轉光學件(多菲稜鏡200)旋轉達90°之角度。另外，在一些實施例中，此旋轉應在使曝光區域105遍及單一目標區域C移動(例如，若將在每一遍次中曝光每隔一個目標區域C)所花費之時間內完成。對於給定產出率(其判定曝光區域105遍及基板W之掃描速率v_S)，此產生所需角加速度及所需扭力。

在一替代實施例中，影像變換光學件100可包含複數個影像反轉光學件。舉例而言，複數個影像反轉光學件中之每一者可包含實質上如圖2所展示及如上文所描述之多菲稜鏡。現在參考圖9、圖10及圖11來描述此影像變換光學件500(其包含複數個影像反轉光學件)。

圖9所展示之影像變換光學件500可用作圖1之影像旋轉光學件100。因此，在使用中，影像變換光學件500安置於輻射光束PB之路徑中，使得輻射光束PB(其已由圖案化器件MA圖案化)傳播通過影像變換光學件500。形成影像變換光學件500之部件的複數個影像反轉光學件中之每一者可獨立地移動通過一系列位置，如下文將參考圖10及圖11進一步所描述。複數個影像反轉光學件中之每一者之一組位置可被稱作影像變換光學件500之一組態。

隨著經圖案化輻射光束PB傳播通過影像變換光學件500，經圖案化輻射光束PB在反轉方向上反轉。該反轉方向位於大體上垂直於微影裝置之光軸O的平面中(亦即，該反轉方向位於圖9之x-y平面中)。在影像變換光學件500之一些實施例中，經圖案化輻射光束PB亦在彼 平面內的垂直於反轉方向之方向上反轉。在影像變換光學件500之其他實施例中，經圖案化輻射光束PB在彼平面內的垂直於反轉方向之方向上不反轉。影像變換光學件500之反轉方向取決於影像變換光學件500之組態(亦即，複數個影像反轉光學件中之每一者之位置及/或定向)。

複數個影像反轉光學件中之每一者之定向的特徵可為自參考方向至彼影像反轉光學件之反轉方向所量測的帶正負號角度。舉例而言，該參考方向可為掃描方向(亦即，圖9、圖10及圖11中之y方向)。參考方向與反轉方向之間的角度之正負號可由自參考方向至反轉方向量測該角度所處的方向判定。舉例而言，一個正負號規約為：若在自參考方向至反轉方向之順時針方向上量測角度，則角度為負，且若在自參考方向至反轉方向之逆時針方向上量測角度，則角度為正。此正負號規約將用於以下內容中。一替代正負號規約可為：若在自參考方向至反轉方向之順時針方向上量測角度，則角度為正，且若在自參考方向至反轉方向之逆時針方向上量測角度，則角度為負。

在圖9中，影像變換光學件500被展示於第一組態(參見圖9a)及第二組態(參見圖9b)中。圖案化器件MA上之每一點A具有在影像變換光學件500與投影系統PL之間的平面P'中之共軛點A'及在基板W之平面P"中之共軛點A"。

在第一組態中，影像變換光學件500經配置使得其反轉方向與掃描方向(y方向)對準。因而，在掃描方向上時，平面P'中之共軛點A'安置於微影裝置之光軸O之與點A相對的側上。另外，共軛點A'在與點A之移動方向相對的方向上移動，如由箭頭a及a'所指示。如由兩項實例影像520a、520b所繪示，平面P'中的圖案化器件MA之影像可為以下兩種情形中之任一者：(a)在掃描方向上反轉且在非掃描方向上不反轉；或(b)在掃描方向及非掃描方向兩者上皆反轉。亦即，影像可 為以下兩種情形中之任一者：(a)光罩MA上之圖案之鏡像，如反射通過延伸通過光軸O且平行於非掃描方向之平面；或(b)光罩MA上之圖案圍繞光軸O旋轉達180°。

在第二組態中，影像變換光學件500經配置使得其反轉方向與非掃描方向(x方向)對準。因而，在掃描方向上，平面P'中之共軛點A'安置於微影裝置之光軸O之與點A相同的側上。另外，共軛點A'在與點A之移動方向相同的方向上移動，如由箭頭a及a'所指示。如由兩項實例影像530a、530b所繪示，平面P'中的圖案化器件MA之影像可為以下兩種情形中之任一者：(a)在非掃描方向上反轉且在掃描方向上不反轉；或(b)正立(亦即，在掃描方向或非掃描方向中之任一方向上皆不反轉)。亦即，影像可為以下兩種情形中之任一者：(a)光罩MA上之圖案之鏡像，如反射通過延伸通過光軸O且平行於掃描方向之平面；或(b)光罩MA上之圖案。

投影系統PL完全地反轉影像，亦即，在基板W之平面P"中，形成於平面P'中之影像圍繞光軸O旋轉達180°。

當影像變換光學件500安置於第一組態中時，在掃描方向上，點A(在圖案化器件MA上)之共軛點A"(在基板W之平面中)安置於微影裝置之光軸O之與點A相同的側上。另外，該共軛點A"在與點A之移動方向相同的方向上移動，如由箭頭a及a"所指示。因此，當影像變換光學件500安置於其第一組態中時，應在與支撐結構MT之移動方向相同的方向上移動基板台WT。

與此對比，當影像變換光學件500安置於第二組態中時，在掃描方向上，點A(在圖案化器件MA上)之共軛點A"(在基板W之平面中)安置於微影裝置之光軸O之與點A相對的側上。另外，該共軛點A"在與點A之移動方向相對的方向上移動，如由箭頭a及a"所指示。因此，當影像變換光學件100安置於其第二組態中時，應在與支撐結構MT之 移動方向相對的方向上移動基板台WT。

影像變換光學件500在第一組態與第二組態之間的變換係藉由個別影像反轉光學件之旋轉而達成，如現在所描述。

在第一實施例中，如圖10所展示，影像變換光學件500包含兩個多菲稜鏡502、504(被示意性地描繪為矩形)。兩個多菲稜鏡502、504之中心軸線對準，且界定影像變換光學件500之中心軸線510。在使用中，中心軸線510與微影裝置之光軸O對準，使得輻射光束PB(由圖案化器件MA圖案化)依次傳播通過多菲稜鏡502、504中之每一者。多菲稜鏡502、504中之每一者經配置使得其可圍繞中心軸線510旋轉。此允許每一多菲稜鏡502、504之反轉方向(其延伸於彼多菲稜鏡之正面204與背面202之間)變化。

參看圖10，影像變換光學件500被展示於第一組態(參見圖10a)及第二組態(參見圖10b)中。在圖10中，經圖案化輻射光束PB之定向被繪示於垂直於中心軸線510之三個平面P₁、P₂、P₃中。在使用中，平面P₁安置於圖案化器件MA與第一多菲稜鏡502之間；平面P₂安置於第一多菲稜鏡502與第二多菲稜鏡504之間；且平面P₃安置於第二多菲稜鏡504與投影系統PL之間(且可對應於圖9中之平面P')。

在第一組態(參見圖10a)中，第一多菲稜鏡502經定向使得其反轉方向與掃描方向(y方向)成+45°之角度而安置。第二多菲稜鏡504經定向使得其反轉方向垂直於第一多菲稜鏡502之反轉方向，亦即，第二多菲稜鏡504之反轉方向與掃描方向(y方向)成-45°之角度而安置。在一替代實施例中，第一多菲稜鏡502可經定向使得其反轉方向與掃描方向成-45°之角度而安置，且第二多菲稜鏡504可經定向使得其反轉方向與掃描方向成+45°之角度而安置。因此，對於包含兩個多菲稜鏡502、504之實施例，可運用個別多菲稜鏡之一組以上位置來達成第一組態。在第一組態中，在平面P₃中，影像在掃描方向上反轉。因為影 像變換光學件500之此實施例包含偶數(兩)個多菲稜鏡，所以在平面P₃中，圖案化器件MA之影像在掃描方向及非掃描方向兩者上皆反轉。亦即，影像變換光學件500使光罩MA上之圖案之影像圍繞光軸O旋轉達180°。

在第二組態(參見圖10b)中，第一多菲稜鏡502經配置使得其反轉方向與掃描方向(y方向)對準。第二多菲稜鏡504亦經配置使得其反轉方向與掃描方向(y方向)對準。因而，在平面P₃中，影像正立。亦即，在平面P₃中，影像與光罩MA上之圖案相同(亦即，其在掃描方向或非掃描方向上皆不反轉)。

影像變換器件500在第一組態與第二組態之間的變換係藉由多菲稜鏡502、504兩者圍繞中心軸線510旋轉達±45°之角度而達成。此有效地使形成於平面P₃中之影像旋轉達180°之角度，從而在第一組態與第二組態之間變換影像。

影像變換光學件500包含兩個多菲稜鏡502、504，兩個多菲稜鏡502、504中之每一者旋轉達45°之(絕對)角度以在第一組態與第二組態之間變換影像。此可與圖3所說明之影像變換光學件進行比較，該影像變換光學件包含旋轉達90°之角度以便在第一組態與第二組態之間變換影像的單一多菲稜鏡200。因此，藉由增加影像反轉光學件之數目，會減小每一影像反轉光學件應旋轉以便在第一組態與第二組態之間變換影像所達之角度的量值。若需要在給定切換時間內在第一組態與第二組態之間變換影像，則必須由使影像變換光學件500之兩個多菲稜鏡502、504旋轉之致動器供應的扭力顯著地小於必須由圖3所說明之影像變換光學件之單一多菲稜鏡200之致動器供應的扭力。

每一多菲稜鏡502、504之質量可顯著地小於基板台WT之質量，尤其是顯著地小於第二定位器件PW之短衝程模組(用於精細定位)之質量。因此，若等效控制器用於多菲稜鏡502、504及第二定位器件 PW之短衝程模組中之每一者，則吾人將期望多菲稜鏡502、504相較於第二定位器件PW之短衝程模組具有較高控制頻寬。在一項實施例中，舉例而言，與每一多菲稜鏡502、504相關聯之總移動質量可為約10公斤。舉例而言，每一多菲稜鏡502、504之質量可為大約5公斤。另外，每一多菲稜鏡502、504可具備外殼及馬達，其可具有約5公斤之組合質量。

在一實施例中，使曝光區域105以恆定速率v_S橫越每一行目標區域C連續地進行掃描，且在此掃描期間曝光每隔一個目標區域C。對於此等實施例，多菲稜鏡502、504中之每一者應在使曝光區域105遍及單一目標區域C移動所花費之時間內旋轉達量值為45°之角度。舉例而言，速率v_S可為大約1公尺/秒，且在掃描方向上的每一目標區域之長度可為約33毫米。因此，對於此實例，多菲稜鏡502、504中之每一者應在約33毫秒或更少之時間內旋轉達45°之角度。

每一多菲稜鏡502、504可經歷恆定角加速度(亦即，二階運動剖面)，其中每一多菲稜鏡502、504之角速度自零線性地增加直至最大角速度且接著線性地減小回至零。在假定此二階運動剖面的情況下，最大角速度ω_max係由2θ/t給出，其中θ為多菲稜鏡502、504之總角位移之量值(亦即，對於此實施例為45°)，且t為旋轉所花費之時間。角加速度之量值係由2ω_max/t或等效地由4θ/t²給出。所需扭力T係由角加速度與總移動質量之慣性轉矩I的乘積給出。另外，所需功率係由所需扭力與角速度之乘積給出。因此，所需要之最大功率係由8Iθ²/t³給出。

自以上論述，可看出，藉由將每一多菲稜鏡502、504之總角位移之量值縮減達原先的兩分之一(亦即，自90°縮減至45°)，將施加至每一多菲稜鏡502、504之所需扭力縮減達原先的兩分之一且將所需功率縮減達原先的四分之一。

在第二實施例中，如圖11所展示，影像變換光學件500包含三個多菲稜鏡502、504、506。三個多菲稜鏡502、504、506之中心軸線對準，且界定影像變換光學件500之中心軸線510。在使用中，中心軸線510與微影裝置之光軸O對準，使得輻射光束PB(由圖案化器件MA圖案化)依次傳播通過多菲稜鏡502、504、506中之每一者。多菲稜鏡502、504、506中之每一者經配置使得其可圍繞中心軸線510旋轉。此允許每一多菲稜鏡502、504、506之反轉方向(其延伸於彼多菲稜鏡之正面204與背面202之間)變化。

參看圖11，影像變換光學件500被展示於第一組態(參見圖11a)及第二組態(參見圖11b)中。在圖11中，經圖案化輻射光束PB之定向被繪示於垂直於中心軸線510之四個平面P₁、P₂、P₃、P₄中。在使用中，平面P₁安置於圖案化器件MA與第一多菲稜鏡502之間；平面P₂安置於第一多菲稜鏡502與第二多菲稜鏡504之間；平面P₃安置於第二多菲稜鏡504與第三多菲稜鏡506之間；且平面P₄安置於第三多菲稜鏡506與投影系統PL之間(且可對應於圖9中之平面P')。

在第一組態(參見圖11a)中，多菲稜鏡502、504、506經配置使得在平面P₃中，影像在掃描方向上反轉。因為影像變換光學件500之此實施例包含奇數(三)個多菲稜鏡，所以在平面P₃中，圖案化器件MA之影像在掃描方向上反轉且在非掃描方向上不反轉。亦即，影像為光罩MA上之圖案之鏡像，如反射通過延伸通過光軸O且平行於非掃描方向之平面。對於包含三個多菲稜鏡502、504、506之此實施例，可運用個別多菲稜鏡之一組以上位置來達成此第一組態。在圖11所展示之實例中，在第一組態中，多菲稜鏡502、504、506中之每一者經配置使得其反轉方向與掃描方向(y方向)對準。一般而言，在第一組態中，兩個多菲稜鏡502、504可經配置使得其反轉方向對準(且因此，其將不會對影像定位產生淨效應)，且第三多菲稜鏡506可經配置使得 其反轉方向與掃描方向(y方向)對準。

在第二組態(參見圖11b)中，多菲稜鏡502、504、506經配置使得在平面P₃中，影像在非掃描方向上反轉且在掃描方向上不反轉。亦即，影像為光罩MA上之圖案之鏡像，如反射通過延伸通過光軸O且平行於掃描方向之平面。再次，對於包含三個多菲稜鏡502、504、506之此實施例，可運用個別多菲稜鏡之一組以上位置來達成此第二組態。在圖11所展示之實例中，在第二組態(參見圖11b)中，第一多菲稜鏡502經定向使得其反轉方向與掃描方向(y方向)成-30°之角度而安置；第二多菲稜鏡504經定向使得其反轉方向與掃描方向成+30°之角度而安置；且第三多菲稜鏡506經定向使得其反轉方向與掃描方向成-30°之角度而安置。

影像變換器件500在第一組態與第二組態之間的變換係藉由多菲稜鏡502、504、506中之每一者圍繞中心軸線510旋轉達±30°之角度而達成。此有效地使形成於平面P₄中之影像旋轉達180°之角度，從而在第一組態與第二組態之間變換影像。因此，圖11之影像變換光學件500包含三個多菲稜鏡502、504、506，三個多菲稜鏡502、504、506中之每一者旋轉達30°之(絕對)角度以在第一組態與第二組態之間變換影像。

一般而言，圖9之影像變換器件500可包含n個影像反轉光學件(其中n2)。可藉由使n個影像反轉光學件中之每一者圍繞中心軸線510旋轉達量值為90/n°之角度而達成影像變換器件500在第一組態與第二組態之間的變換。增加影像反轉光學件之數目n會因此縮減每一影像反轉光學件之總角位移之量值。如上文所解釋，此又縮減旋轉每一影像反轉光學件以便在第一組態與第二組態之間變換所需的扭力及功率。

儘管在上述實施例中，影像變換光學件500包含複數個多菲稜鏡，但在替代實施例中，可使用其他類型之影像反轉稜鏡。舉例而 言，可使用別漢稜鏡或阿貝稜鏡來代替多菲稜鏡。

包含偶數個影像反轉光學件的影像變換光學件500之實施例在掃描方向及非掃描方向兩者上皆反轉圖案化器件MA之影像。亦即，形成於基板W上之影像等效於光罩MA上之圖案，該等等效影像係藉由圍繞光軸O之旋轉(且並非反射)而相關，此可為合乎需要的，此係因為其可簡化光罩MA設計及製造之程序。

一般而言，本發明之實施例可包含一影像變換光學件，該影像變換光學件包含至少一個影像反轉光學件(例如，多菲稜鏡)。圖3及圖9之實施例皆為此配置之實例，且圖3之實施例(包含僅一個影像反轉光學件)可被認為是此配置之最簡單實例。

儘管在上述實施例中，影像變換光學件100配置於支撐結構MT與投影系統PL之間，但在替代實施例中，影像變換光學件100可配置於支撐結構MT與基板台WT之間的別處。

雖然上文已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以與所描述之方式不同的其他方式來實踐本發明。該描述並不意欲限制本發明。

100‧‧‧影像變換光學件/影像旋轉光學件

A‧‧‧點

A'‧‧‧共軛點

A"‧‧‧共軛點

a‧‧‧箭頭

a'‧‧‧箭頭

a"‧‧‧箭頭

MA‧‧‧圖案化器件

P'‧‧‧平面

P"‧‧‧平面

PL‧‧‧項目/投影系統/透鏡

W‧‧‧基板

Claims (15)

1. 一種微影裝置，其包含：一支撐結構，其用於支撐一圖案化器件；一照明系統，其用於調節一輻射光束且將該經調節輻射光束導向至該支撐結構，使得由該支撐結構支撐之一圖案化器件在該輻射光束之橫截面中賦予一圖案，從而形成一經圖案化輻射光束；一基板台，其用於固持一基板；及一投影系統，其用於將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標區域上以便在該基板上形成一影像；其中在一掃描曝光期間，該支撐結構沿著一掃描路徑相對於由該照明器調節之該輻射光束可移動，且該基板台沿著該掃描路徑相對於該經圖案化輻射光束可移動；且其中該微影裝置進一步包含配置於該支撐結構與該基板台之間的一影像變換光學件，該影像變換光學件可移動以便控制形成於該基板上之該影像之特性，使得可至少在一第一組態與一第二組態之間變換該影像，該第二組態在沿著該掃描路徑之一方向上相對於該第一組態反轉。
2. 如請求項1之微影裝置，其中該微影裝置在至少包含以下各者之複數個掃描模式中可操作：一第一掃描模式，其中在沿著該掃描路徑之一第一方向上移動該支撐結構，在沿著該掃描路徑之該同一方向上同步地移動該基板台，且該影像係在該第一組態中；及一第二掃描模式，其中在沿著該掃描路徑之一第二方向上移動該支撐結構，在沿著該掃描路徑之相對方向上同步地移動該 基板台，且該影像係在該第二組態中。
3. 如請求項1或2之微影裝置，其中形成於該基板上之該影像之該第二組態圍繞該微影裝置之一光軸相對於該影像之該第一組態旋轉達180°。
4. 如請求項1或2之微影裝置，其中該影像變換光學件包含一或多個影像反轉光學件，該或每一影像反轉光學件經配置以在一反轉方向上反轉該影像，該或每一影像反轉光學件可旋轉地安裝於該經圖案化輻射光束之該路徑中，使得其可至少在一第一位置與一第二位置之間圍繞一軸線旋轉。
5. 如請求項4之微影裝置，其中該影像變換光學件包含一單一影像反轉光學件。
6. 如請求項5之微影裝置，其中在該第一組態中，該影像反轉光學件經配置使得反轉方向與該掃描路徑對準。
7. 如請求項5之微影裝置，其中在該第二組態中，該影像反轉光學件經配置使得該反轉方向垂直於該掃描路徑。
8. 如請求項4之微影裝置，其中該影像變換光學件包含複數個影像反轉光學件。
9. 如請求項8之微影裝置，其中該影像變換光學件包含n個影像反轉光學件，其中在該第一組態及該第二組態中之一者中，該等影像反轉光學件中之每一者經配置使得其反轉方向與該掃描路徑成一角度而安置，該角度之一量值為90/n°；且其中在該第一組態及該第二組態中之另一者中，該等影像反轉光學件中之每一者經配置使得其反轉方向與該掃描路徑對準。
10. 如請求項5之微影裝置，其中該影像反轉光學件包含在如下兩個 配置之間可移動之一或多個光學元件：一第一配置，其中該一或多個光學元件致使該經圖案化輻射光束在被投影至該基板之該目標區域上之前會聚及交叉；及一第二配置，其中該一或多個光學元件不會致使該經圖案化輻射光束在被投影至該基板之該目標區域上之前會聚及交叉。
11. 如請求項1或2之微影裝置，其中該影像變換光學件包含可移進及可移出該經圖案化輻射光束之該路徑的一或多個光學件，該影像在該第一組態與該第二組態之間的轉變係藉由該一或多個光學件之移動而實現。
12. 如請求項11之微影裝置，其中該影像變換光學件包含兩項實質上相同影像反轉光學件，每一者可移進及可移出該經圖案化輻射光束之該路徑，該等影像反轉光學件中之一第一者經配置以在安置於該經圖案化輻射光束之該路徑中時在一第一反轉方向上反轉該影像，且該等影像反轉光學件中之一第二者經配置以在安置於該經圖案化輻射光束之該路徑中時在一第二反轉方向上反轉該影像，該第一反轉方向與該第二反轉方向實質上垂直。
13. 如請求項1或2之微影裝置，其中該影像變換光學件包含一或多個感測器及一控制器，其中該一或多個感測器可操作以判定該影像變換光學件之位置及/或定向且將指示該位置及/或定向之一信號輸出至該控制器。
14. 如請求項13之微影裝置，其中該影像變換光學件包含一或多個致動器，且其中該控制器回應於由該一或多個感測器輸出之該信號而可操作以使用該一或多個致動器來控制該影像變換光學件之該位置及/或定向。
15. 一種用於在一基板之複數個目標區域上形成一影像之方法，其包含： 提供具有複數個目標區域之一基板；使用一照明系統來提供一輻射光束；提供用於在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案的一圖案化器件；提供用於將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標區域上以便在該基板上形成一影像的一投影系統；提供可操作以控制形成於該基板上之該影像之一組態的一影像旋轉器件；在該基板之一第一目標區域上形成一影像，此係藉由在沿著一掃描路徑之一第一方向上相對於該輻射光束來移動該支撐結構使得該輻射光束橫越該圖案化器件進行掃描，而同時在沿著該掃描路徑之該同一方向上移動該基板台使得該經圖案化輻射光束橫越該第一目標區域進行掃描，從而形成具有一第一組態之一影像；使用該影像旋轉器件以將形成於該基板上之該影像在沿著該掃描路徑之一方向上反轉至一第二組態；及在該基板之一第二目標區域上形成一影像，此係藉由在沿著一掃描路徑之一第二相對方向上相對於該輻射光束來移動該支撐結構使得該輻射光束橫越該圖案化器件進行掃描，而同時在沿著該掃描路徑之該相對方向上移動該基板台使得該經圖案化輻射光束橫越該第一目標區域進行掃描，從而形成具有一第二組態之一影像。