TW201636306A - 用於形成玻璃製品的系統 - Google Patents

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Abstract

一種系統，包括溢流分配器和支撐構件。溢流分配器包括第一側壁、相對第一側壁的第二側壁及在相對的第一和第二側壁之間延伸的底板。第一側壁、第二側壁和底板的內側表面共同地界定經配置以接收熔融玻璃的槽。第一側壁和第二側壁的外側表面經配置以引導溢流出槽的熔融玻璃。支撐構件被設置在溢流分配器之相對的第一和第二側壁之間並鄰接溢流分配器的底板的外側表面。

Description

用於形成玻璃製品的系統
本申請案請求於2015年2月4日提交的美國第62/111954號申請案之優先權的權益，該申請案的內容藉由引用其全文的方式而併入於此。
本揭露書關於用於形成玻璃製品的系統，且更具體地關於用於形成玻璃片(諸如層壓玻璃片)的熔合拉伸系統。
玻璃片可使用等靜壓管作為熔合拉伸製程的一部分而形成。熔融玻璃溢流出等靜壓管的相對堰，形成沿著等靜壓管的外表面向下流動並在等靜壓管的底部或根部重新結合的兩片熔融玻璃，於底部或根部兩片被熔合在一起以形成單個玻璃片。單個玻璃片被向下拉伸遠離等靜壓管。
多層的玻璃片可使用設置在不同高度的兩或更多個等靜壓管，使得來自上等靜壓管之多個熔融玻璃片接觸向下流至下等靜壓管之多個熔融玻璃片而形成。
在玻璃形成製程期間之等靜壓管的尺寸穩定性可影響使用等靜壓管而製造的玻璃片的品質。在與熔融玻璃相關的高溫時，等靜壓管可能受到其自身的重量 和容納於等靜壓管中之熔融玻璃的重量影響而傾向變形或下垂。
於此揭露者係用於形成玻璃製品的系統。
於此揭露者係一種示例性的系統，包含溢流分配器和支撐構件。溢流分配器包含第一側壁、相對第一側壁的第二側壁及在相對的第一和第二側壁之間延伸的底板。第一側壁、第二側壁和底板的內側表面共同地界定經配置以接收熔融玻璃的槽。第一側壁和第二側壁的外側表面經配置以引導溢流出槽的熔融玻璃。支撐構件被設置在溢流分配器之相對的第一和第二側壁之間並對接溢流分配器的底板的外側表面。
於此揭露者係一種系統，包含溢流分配器和支撐構件。溢流分配器包含第一側壁、相對第一側壁的第二側壁及設置在相對的第一和第二側壁之間延伸的底板。槽係設置在底板之上方和在相對的第一和第二側壁之間。槽在溢流分配器內在橫向方向上延伸。空腔係設置在底板之下。空腔在溢流分配器內在橫向方向上延伸。槽和空腔藉由底板而隔開。支撐構件被設置在空腔內。
與此揭露者係一種系統，包含上溢流分配器、下溢流分配器及支撐構件。上溢流分配器包含第一側壁、相對第一側壁的第二側壁及設置在相對的第一和第二側壁之間的底板。槽係設置在底板之上方和在相對 的第一和第二側壁之間，並在上溢流分配器內在橫向方向上延伸。空腔係設置在底板之下和在相對的第一和第二側壁之間並在上溢流分配器內在橫向方向上延伸。槽和空腔藉由上溢流分配器之底板而隔開。下溢流分配器被設置在上溢出分配器之下，並包含第一側壁，相對第一側壁的第二側壁。槽設置在相對的第一和第二側壁之間且在下溢流分配器內在橫向方向上延伸。下溢流分配器之相對的第一和第二側壁會合於設置在下溢流分配器的槽之下的拉伸線處。支撐構件係設置在上溢出分配器的空腔內。
應理解前面部分的一般說明和後面部分的詳細說明僅為示例性的，且意欲提供概要或框架，以理解申請專利範圍的本質和特徵。包括有附隨的圖式以提供進一步的理解，且被併入並構成本說明書的一部分。附隨的圖式顯示一或多個實施例，且與說明書一起用於解釋各個實施例的原理和操作。
100‧‧‧系統
110‧‧‧等靜壓管/第一溢流分配器
112‧‧‧第一側壁
112a‧‧‧上部
112b‧‧‧下部
114‧‧‧第二側壁
114a‧‧‧上部
114b‧‧‧下部
116‧‧‧底板
118‧‧‧槽
120‧‧‧第一端
122‧‧‧第二端
130‧‧‧等靜壓管/第二溢流分配器
132‧‧‧第一側壁
134‧‧‧第二冊壁
136‧‧‧底板
138‧‧‧槽
140‧‧‧入口端/第一端
142‧‧‧第二端/形成部
144‧‧‧第一形成表面
146‧‧‧第二形成表面
148‧‧‧拉伸線
150‧‧‧支撐構件
150a‧‧‧空心樑
150b‧‧‧實心樑
150c‧‧‧I形樑
150d‧‧‧穿孔I形樑
150e‧‧‧支撐構件
150f‧‧‧支撐構件/樑套筒
150i‧‧‧支撐構件
150j‧‧‧支撐構件
150k‧‧‧支撐構件
152‧‧‧突起
152e‧‧‧端樑段
152f‧‧‧端樑段
152g‧‧‧中間樑段
152h‧‧‧樑段
152i‧‧‧內樑層
152j‧‧‧支撐墊
154e‧‧‧中央樑段
154f‧‧‧端樑段
154i‧‧‧中間樑層
156e‧‧‧端樑段
156f‧‧‧中央樑套筒
156g‧‧‧多樑套筒
156h‧‧‧樑套筒
156i‧‧‧外樑層
158‧‧‧接頭
200‧‧‧玻璃製品
202‧‧‧核心層
204‧‧‧第一包覆層
206‧‧‧第二包覆層
302‧‧‧曲線
304‧‧‧曲線
402‧‧‧曲線
404‧‧‧曲線
F‧‧‧力
G‧‧‧重力
H樑‧‧‧高度
LDIST‧‧‧長度
M樑‧‧‧支撐構件的質量
M玻璃‧‧‧預測的玻璃質量
MISOP‧‧‧溢流分配器的質量
T壁‧‧‧厚度
W樑‧‧‧寬度
第1圖是用於形成玻璃製品的系統之一個示例性實施例的透視圖。
第2圖是第1圖中所示的系統的概要剖視圖。
第3圖是第1圖中所示的系統的部分透視圖。
第4圖是第1圖中所示的系統的部分前視圖。
第5圖是支撐構件的四個示例性實施例的透視圖。
第6圖是支撐構件的一個示例性實施例的透視圖。
第7圖顯示支撐構件的一個示例性實施例的透視和剖視圖。
第8圖顯示支撐構件的一個示例性實施例的透視和剖視圖。
第9圖顯示支撐構件的一個示例性實施例的透視和剖視圖。
第10圖顯示支撐構件的一個示例性實施例的透視和剖視圖。
第11圖是支撐構件的一個示例性實施例的透視圖。
第12圖顯示的支撐構件的兩個示例性實施例的透視圖。
第13圖表示支撐構件的一個示例性實施例的透視和剖視圖。
第14圖顯示支撐構件的一個示例性實施例的透視圖及接觸溢流分配器之支撐構件的概要圖。
第15圖顯示支撐構件的一個示例性實施例的透視和概要圖。
第16圖顯示支撐構件的六個示範性實施例的剖視圖。
第17圖是玻璃製品的一個示例性實施例的概要剖視圖。
第18圖是用於數值模擬的溢流分配器和支撐構件的一個示例性實施例的概要圖。
第19圖是顯示在第18圖中所示的溢流分配器和支撐構件以1221℃操作3年之後的偏斜作為橫向位置之函數的圖形說明。
第20圖是顯示具有壓縮系統之一個示例性的溢流分配器的下垂率作為壓縮力之函數的圖形說明。
第21圖是顯示具有壓縮系統之一個示例性的溢流分配器以1221℃操作3年之後的偏斜作為橫向位置之函數的圖形說明。
現在將詳細地提及顯示在附隨的圖式中之示例性實施例。只要有可能，相同的元件符號將被使用遍佈於圖式，以指代相同或相似的部分。圖式中的部件不必按比例繪製，重點反而放在說明示例性實施例的原理。
第1圖是用於形成玻璃製品的系統100之一個示例性實施例的透視圖，且第2圖是系統的概要剖視圖。在第1-2圖中所示的實施例中，系統100包括第一溢流分配器或等靜壓管110和第二溢流分配器或等靜壓管130。第一溢流分配器110包括第一側壁112、相對第一側壁的第二側壁114，與在相對的第一和第二側壁之間延伸的底板116。在一些實施例中，第一側壁112包括上部112a和從上部延伸的下部112b。類似地，第二側壁114包括上部114a和從上部延伸的下部114b。在 此實施例中，第一和第二側壁112和114的上部112a和114a被設置在底板116之上方或在底板116之上方延伸，且下部112b和114b被設置在底板之下方或在底板之下方延伸。在一些實施例中，第一側壁112的上部112a係實質地平行於第二側壁114的上部114a，及/或第一側壁的下部112b係實質地平行於第二側壁的下部114b。第一側壁112(如，上部112a)、第二側壁114(如，上部114a)和底板116的內側表面共同地界定在第一溢流分配器110內在橫向方向上延伸在第一端或入口端120和相對第一端的第二端122之間的槽118。在一些實施例中，第一溢流分配器110包括端壩(未顯示)在第一端120及/或第二端122處。因此，槽118可藉由相對的第一和第二側壁112和114、底板116和相對的端壩而被界定。槽118經配置以接收熔融玻璃以形成於此所述的玻璃製品。第一側壁112和第二側壁114的外側表面經配置以引導溢出如於此所述的槽118之熔融玻璃。
在第1-2圖中所示的實施例中，第二溢流分配器130包括第一側壁132、相對第一側壁的第二側壁134和在相對的第一和第二側壁之間延伸的底板136。在一些實施例中，第一和第二側壁132和134被設置在底板136之上方或在底板136之上方延伸。另外地，或替代地，第一側壁132係實質地平行於第二側壁134。第一側壁132、第二側壁134和底板136的內側表面共 同地界定在第二溢流分配器130內在橫向方向上延伸在第一端或入口端140和相對第一端的第二端142之間的槽138。在一些實施例中，第二溢流分配器130包括端壩(未顯示)在第一端140及/或第二端142處。因此，槽138可藉由相對的第一和第二側壁132和134、底板136和相對的端壩而被界定。槽138經配置以接收熔融玻璃以形成於此所述的玻璃製品。
在一些實施例中，第二溢流分配器130包含如第1-2圖中所示的設置在底板136之下的形成部142。形成部142包含第一形成表面144和第二形成表面146。第一形成表面144從第一側壁132的外側表面延伸或係與第一側壁132的外側表面鄰接。另外地，或者替代地，第二形成表面146從第二側壁134的外側表面延伸或係與第二側壁134的外側表面鄰接。第一和第二形成表面144和146會合於拉伸線148處。例如，形成部142包含楔，楔的上表面界定如第2圖中所示的底板136。第一側壁132和第二側壁134的外側表面經配置以引導溢出如於此所述的槽138之熔融玻璃。形成部142的第一形成表面144和第二形成表面146經配置以引導溢出如於此所述的槽138之熔融玻璃。
在各種實施例中，第一溢流分配器110包括耐火本體。另外地，或替代地，第二溢流分配器130包含耐火本體。例如，第一溢流分配器110及/或第二溢流分配器包含單一本體的耐火材料。此耐火本體可使用在 美國專利第7,259,119；7,958,748或8,033,137號中所述的材料而形成；這些專利的每一者係藉由引用其全文的方式而併入於此。例如，此耐火本體可以包含鋯(如，ZrO2、ZrO2及SiO2或ZrSiO4)。此耐火本體可在與形成玻璃製品相關的高溫時潛變。例如，熔融玻璃可具有1200℃或更高的溫度。在此溫度時，溢流分配器可能受到其自身的重量及/或包含在其中的玻璃的重量而傾向於下垂或彎曲。此下垂可導致在溢流分配器中之不可逆的形狀改變，此可改變玻璃的流動輪廓並使得溢流分配器不適合繼續使用。
在傳統的單層熔合拉伸裝置中，等靜壓管係使用壓縮系統而支撐，壓縮系統施加來自等靜壓管的相對端之向內力。此壓縮系統的例子係說明於在美國專利第7,958,748號中。然而，在於此所述的系統100中，在第一溢流分配器110和第二溢流分配器130之間可能沒有足夠的空間，以有效地使用傳統的壓縮系統以支撐第一溢流分配器。
第3圖是系統100的部分剖視圖，且第4圖是系統的部分前視圖。在一些實施例中，系統100包括設置在第一溢流分配器110的相對的第一和第二側壁112和114之間並對接第一溢流分配器的底板116的外側表面的支撐構件150。支撐構件150包含在橫向方向上延伸的細長結構。例如，支撐構件150被配置為如第3-4圖中所示的在橫向方向上延伸在第一溢流分配器110的 第一端120和第二端122之間的樑。支撐構件150可幫助提供結構支撐給第一溢流分配器110，以防止如於此所述的下垂。
第5圖是支撐構件150的四個示例性實施例的透視圖，每個被配置為不同類型的樑。例如，支撐構件150可被構造為空心樑150a、實心樑150B、I形樑150c、穿孔I形樑150d，或另一種合適類型的樑。在各種實施例中，支撐構件150包含諸如(例如)正方形、長方形、圓形、I形、T形、C形，或其它合適形狀的橫截面形狀。
在一些實施例中，支撐構件150的長度大於第一溢流分配器的寬度，使得支撐構件150的相對端部在橫向方向上延伸越過如第3-4圖中所示的第一溢流分配器。因此，支撐構件150的相對端部從在第一溢流分配器110中形成於相對的第一和第二側壁112和114(如，下部分112b和114b)之間的空腔突出。支撐構件150的相對端部可被安裝在支撐結構上，以支撐第一溢流分配器110的重量。在一些實施例中，支撐結構可被安裝在第二溢流分配器130或第二溢流分配器130的支撐結構上。此安裝可幫助維持在第一溢流分配器與第二溢流分配器之間的經確定的間隙。
雖然第3-4圖顯示設置在第一溢流分配器110的空腔內之支撐構件150，其它實施例被包括在本揭露書中。在一些實施例中，第二溢流分配器包含在橫 向方向上延伸的空腔，且支撐構件被設置在第二溢流分配器的空腔內，以提供支撐給第二溢流分配器。例如，該空腔在橫向方向上通過第二溢流分配器的形成部而延伸。
在一些實施例中，系統包括單一的溢流分配器(如，第一溢流分配器或第二溢流分配器)和支撐構件。因此，第一或第二溢流分配器之一者可被省略。例如，第一溢流分配器可被省略，使得系統包含第二溢流分配器和設置在如於此所述的第二溢流分配器之形成部分中的空腔內之支撐構件。在此些實施例中，溢流分配器可被用以形成單一層的玻璃片。
支撐構件可提供足夠的支撐，以減輕溢流分配器的變形或下垂。因此，在一些實施例中，系統無需壓縮系統。例如，無壓縮力以橫向方向被施加到溢流分配器的第一端部及/或第二端。壓縮力的缺少可減少或消除在溢流分配器上之負載彎曲力矩，此可進一步減輕溢流分配器的變形或下垂。替代地，在其他實施例中，支撐構件可結合壓縮系統而被使用，以共同地提供支撐給溢流分配器。
在一些實施例中，支撐構件150係由經配置以在與處理熔融玻璃相關聯的相對高的溫度時維持其形狀的材料所形成。例如，支撐構件150包含α-SiC。雖然α-SiC一般與玻璃不相容，在第一溢流分配器110之底板118之下的支撐構件150的位置可保護支撐構件不 與熔融玻璃接觸。因此，在一些實施例中，支撐構件150係無需用以保護支撐構件(如，α-SiC)不與熔融玻璃接觸之包覆層(例如，鉑包覆層)。
在一些實施例中，支撐構件150包含如第4圖中所示的一或多個突起152。.例如，突起152從支撐構件150的表面朝向底板118的外側表面延伸。此突起可使支撐構件150在橫向方向上之確定的點處接觸第一溢流分配器110。
相比於用以支撐等靜壓管之傳統壓縮系統，支撐構件150可能是有益的。例如，由於在熔合拉伸設備(如，由於摩擦及/或其它因素)內側之彈簧性質及/或力損失之樣本對樣本的差異，傳統的壓縮系統可能施加不確定的或不一致的力到等靜壓管。因為等靜壓管的下垂取決於所施加的力，此不確定性可能導致等靜壓管之未預期的變形。與之相比，支撐構件150可產生被施加到溢流分配器之固定支撐力。此外，傳統的壓縮系統可能需要定期調整彈簧長度以保持一致的壓縮力。與之相比，支撐構件150可產生被施加到溢流分配器之固定支撐力，無需定期調整。
在一些實施例中，支撐構件150包含連續樑。例如，支撐構件150包含無接頭的單一樑。然而，可能難以形成足夠長度以作為支撐構件的連續樑。
在一些實施例中，支撐構件包含彼此接合的多個樑段。例如，第6圖是包括三個樑段之支撐構件150e 的一個示例性實施例的透視圖。中央樑段154e是在接頭158處接合到兩個端樑段152e和156e之每一者。在此些實施例中，對中央樑段盡可能的長是有益的，以減少在接頭處的應力。相鄰的樑段可(例如)藉由水泥黏結、玻璃-陶瓷黏著、焊接、瞬時液相接合、反應接合、活性金屬硬焊、液相接合或燒結、直接固態擴散接合或燒結及使用金屬、陶瓷或有機金屬中間層的固態擴散接合，或另一合適的陶瓷接合製程而被接合。
在一些實施例中，支撐構件包含藉由樑套筒而彼此連接的多個樑段。例如，第7圖顯示包含藉由中央樑套筒156f而彼此連接的兩個端樑段152f和154f之支撐構件150f的一個示例性實施例的透視和剖視圖。樑套筒包含空心樑段，空心樑段具有比端樑段的外尺寸(如，外長度，寬度或直徑)大之內尺寸(如，內長度，寬度或直徑)。因此，端樑段可被至少部分地設置在樑套筒內，以將端樑段彼此連接。在一些實施例中，如第7圖中所示，端樑段的相鄰端部係在樑套筒內彼此間隔開。在其他實施例中，如第8圖中所示，端樑段152f和154f的相鄰端部係在樑套筒150f內彼此對接及/連接。在其他實施例中，如第9圖中所示，多個樑套筒156g可藉由中間樑段152g而被彼此連接。例如，相鄰的樑套筒被對接及/或連接在一起並藉由內樑段而支撐。在其他實施例中，如第10圖中所示，相鄰的樑段152h之間的接頭係藉由樑套筒156h而插入護套中。
在各種實施例中，相鄰的樑部(如，樑段、樑套筒、端樑段及/或中間樑段)可使用諸如(例如)第11圖中所示的燕尾接頭、T形槽接頭、L形槽接頭或其他合適的接頭之互鎖接頭而彼此連接。
在一些實施例中，支撐構件包含於此所述的突起。突起可被加工到支撐樑中、接合到支撐樑，或使用另一種合適的製程而形成。第12圖顯示包含突起152的支撐構件的兩個示例性實施例的透視圖，突起152係配置為加工到支撐構件的外表面上之支撐墊。支撐墊可減少與溢流分配器接觸的支撐構件的表面面積及/或降低被精密加工的支撐構件上之表面面積的量。例如，支撐墊的表面可被精密加工，以接觸溢流分配器，而支撐構件的表面面積的剩餘部分可被粗糙地加工。另外地，或替代地，支撐墊可位於遠離在支撐樑中之接頭，以避免在接頭處的集中應力。另外地，或替代地，在支撐樑包含套筒(如，如第7-8和10圖中所示)之實施例中，支撐墊可作為間隔件，使得所述支撐墊的上表面與套筒的上表面對準及/或實質地共面(如，以填充支撐構件之無套筒部和溢流分配器之間的間隙)。
第13圖顯示包含包括複數個樑層的支撐構件150i之示例性實施例的透視圖和剖視圖。例如，在第13圖中所示的實施例中，支撐構件包含內樑層152i、外樑層156i中，及設置在內樑層和外樑層之間的中間樑層154i。每個樑層包含如於此所述的複數個樑段或樑套 筒。一層的相鄰樑段或樑套筒之間的接頭158與另一層的相鄰樑段或樑套筒的接頭錯開。錯開在樑段或樑套筒之間的接合可幫助避免沿著支撐構件的長度之薄弱區域。
雖然在第13圖中所示的實施例包含三個樑層，其他實施例被包括在本揭露書中。在其它實施例中，支撐構件包含確定數目的樑層(如，兩個、四個或更多個)。
第14圖顯示包含支撐墊152j的支撐構件150j之示例性實施例的透視圖和接觸溢流分配器的支撐構件之概要圖。支撐墊可被加工，使得支撐墊的支撐表面之橫向輪廓在確定的變形度之後，適配溢流分配器的預測輪廓。例如，支撐墊的橫向輪廓可形成經配置以當溢流分配器開始下垂時支撐溢流分配器的弧形。
第15圖顯示包含拱起之支撐構件150k示例性實施例的透視圖和概要圖。例如，支撐構件係在橫向方向上彎曲。此彎曲的支撐構件可幫助提供均勻支撐給溢流分配器及/或在使用期間進一步減少支撐構件的下垂。
第16圖顯示包括I形、長方形、C形、L形、T形和圓形的六個示例性支撐構件之剖視圖。
在一些實施例中，支撐構件包含在支撐構件中延伸的管腔(如，空心樑)。在此些實施例的一些中，支撐構件包含在管腔內的填料。例如，填料包含結構化 的填料(如，蜂窩)或非結構化的填料(如，泡沫)。填料材料可包含與支撐構件之外表面相同的材料或不同的材料。例如，在一些實施例中，填料材料包含耐火材料。
將參照第1-2圖而描述用以使用層壓熔合拉伸製程而形成玻璃製品的示例性製程。第一玻璃成分被熔化，並以黏性狀態被饋送至第二溢流分配器130的槽138中。第一玻璃成分將形成如於此所述之玻璃製品的核心層。第二玻璃成份被熔化，並以黏性狀態被饋送至第一溢流分配器110的槽118中。第二玻璃成分將形成如於此所述之玻璃製品的第一和第二包覆層。
第一玻璃成分溢出槽138並沿相對的第一和第二側壁132和134之外側表面向下流動並沿第二溢流分配器130的第一和第二形成表面144和146向下流動。沿相應的第一和第二成形表面144和146向下流動的第一玻璃成分的個別流在他們被熔合在一起的拉伸線148處會合，以形成玻璃製品的核心層。
第二玻璃成分溢出槽118並沿第一溢流分配器110之相對的第一和第二側壁112和114的外側表面向下流動。第二玻璃成分接觸在第二溢流分配器130的第一和第二側壁132和134上流動的第一玻璃成分。第二玻璃成分的個別流被熔合到沿第二溢流分配器130之相應的第一和第二形成表面144和146向下流動的第一玻璃成分的相應的個別流。一旦在拉伸線148處會合第 一玻璃成分的流，第二玻璃成分形成玻璃製品的第一和第二包覆層。
第17圖是可使用於此所述之系統100而形成的玻璃製品200之一個示例性實施例的剖視圖。在一些實施例中，玻璃製品100包含層壓片，層壓片包含複數個玻璃層。層壓片可如第17圖中所示係實質平面的或非平面的。玻璃製品200包含設置在第一包覆層204和第二包覆層206之間的核心層202。在一些實施例中，第一包覆層204和第二包覆層206係如第17圖中所示的外側層。在其他實施例中，第一包覆層及/或第二包覆層是設置在核心層和外側層之間的中間層。
核心層202包含第一主表面和相對第一主表面的第二主表面。在一些實施例中，第一包覆層204被熔合到核心層202的第一主表面。另外地，或替代地，第二包覆層206被熔合到核心層202的第二主表面。在此些實施例中，在第一包覆層204和核心層202之間及/或第二包覆層206和核心層202之間的界面層係沒有任何接合材料(諸如(例如)，黏著劑、塗佈層或經添加或配置以將相應的包覆層黏著至核心層之任何非玻璃的材料)。因此，第一包覆層204及/或第二包覆層206被直接地熔合到核心層202或係直接地相鄰於核心層202。在一些實施例中，玻璃製品包含設置在核心層和第一包覆層之間及/或核心層和第二包覆層之間的一或多個中間層。例如，中間層包含在核心層與包覆層的界面處所 形成的中間玻璃層及/或擴散層。擴散層可包含混合區域，混合區域包含鄰近於擴散層的每一層的成分。在一些實施例中，玻璃製品200包含玻璃-玻璃層疊，其中在直接相鄰的玻璃層之間的界面是玻璃-玻璃界面。
在一些實施例中，核心層202包含第一玻璃成分，且第一及/或第二包覆層204和206包含與第一玻璃成分不同的第二玻璃成分。例如，在第17圖中所示的實施例中，核心層202包含第一玻璃成分中，且第一包覆層204和第二包覆層206的每一者包含第二玻璃成分。在其它實施例中，第一包覆層包含第二玻璃成分，且第二包覆層包含與第一玻璃成分及/或所述第二玻璃成分不同的第三玻璃成分。
例子
於此所述的實施例將藉由以下的例子而進一步地闡明。
例1
執行數值模擬以估計溢流分配器和α-SiC支撐構件的變形，溢流分配器係大體參照於此所述的第一溢流分配器110而配置，α-SiC支撐構件係大體參照於此所述的支撐構件150而配置。溢流分配器和支撐構件之配置和尺寸，和支撐構件的剖面及力圖插頁係顯示於第18圖中。作為模型的溢流分配器具有約2800lb的質量和在橫向方向上124in的長度Ldist。作為模型的支撐構件是空心樑，具有1in的壁厚度t壁和具有8in的 寬度W樑及12in的高度h樑之矩形剖面。在樑上的力F係使用支撐構件的質量m樑、溢流分配器的質量misop和溢流分配器之槽內所含玻璃的預測質量m玻璃，使用下列公式：F=(m樑+m玻璃+misop)．g而計算，其中g是重力。
第19圖是顯示溢流分配器和支撐構件以1221℃操作3年之後的偏斜作為橫向位置(如，在溢流分配器之相對的第一和第二端之間)之函數的圖形說明。曲線302表示支撐構件的偏斜。曲線304表示溢流分配器的偏斜。如第19圖中所示，溢流分配器的最大偏斜是0.043in，這表明溢流分配器被預期在3年的操作之後在靠近其中心處下垂0.043in。在支撐構件上的應力為約7.4Mpa，其對應大於100年的預期壽命。
比較例1
執行數值模擬以估計溢流分配器的變形，溢流分配器係大體參照於此所述的第一溢流分配器110和傳統的壓縮系統而配置。壓縮系統是位於在溢流分配器的下邊緣之上方約13in。
第20圖是顯示下垂率作為壓縮力之函數的圖形說明。如第20圖中所示，達到的最低下垂率在約16000lbf的壓縮力時是0.05in/yr。
第21圖是顯示溢流分配器以1221℃操作3年之後的偏斜作為橫向位置(如，在溢流分配器之相對的第一和第二端之間)之函數的圖形說明。曲線402表示溢流分配器的偏斜。曲線404表示與來自例1之支撐構件用 以比較的偏斜。如第21圖中所示，溢流分配器的最大偏斜是約0.15in，這比例1中所測定的最大偏斜大約30倍。因此，與傳統的壓縮系統相比，數值模擬表明於此所述的支撐構件能夠提供降低的下垂率。
對本領域技術人員而言，可作出各種修改和變化而不背離本發明的精神或範圍將是顯而易見的。故，本發明並不只由所附的申請專利範圍和他們的等效元件而限制。
110‧‧‧等靜壓管/第一溢流分配器
112‧‧‧第一側壁
114‧‧‧第二側壁
116‧‧‧底板
118‧‧‧槽
120‧‧‧第一端
122‧‧‧第二端
150‧‧‧支撐構件

Claims (20)

  1. 一種系統，包含：一溢流分配器，包含一第一側壁；相對該第一側壁的一第二側壁；及在相對的該第一和第二側壁之間延伸的一底板，該第一側壁、該第二側壁和該底板的多個內側表面共同地界定經配置以接收熔融玻璃的一槽，該第一側壁和該第二側壁的多個外側表面經配置以引導溢流出該槽的熔融玻璃；及一支撐構件，設置在該溢流分配器之相對的該第一和第二側壁之間並對接該溢流分配器的該底板的一外側表面。
  2. 如請求項1所述之系統，進一步包含一第二溢流分配器，設置在該溢流分配器之下。
  3. 如請求項1所述之系統，其中該支撐構件包含α-SiC。
  4. 如請求項3所述之系統，其中該支撐構件係無鉑包覆層。
  5. 如請求項1至4任一項所述之系統，其中該支撐構件包含複數個樑段。
  6. 如請求項5所述之系統，其中該支撐構件包含一樑套筒，且兩個相鄰的樑段之每一者係設置至少部份地在該樑套筒內。
  7. 如請求項6所述之系統，其中該兩個相鄰的樑段係在一接頭處結合，且該接頭係設置在該樑套筒內。
  8. 如請求項6所述之系統，其中該兩個相鄰的樑段係在該樑套筒內彼此分隔。
  9. 如請求項1至4任一項所述之系統，其中該支撐構件包含複數個樑層。
  10. 如請求項9所述之系統，其中兩個相鄰的樑層之每一者包含一接頭，且該相鄰的樑層之該等接頭係未彼此對準。
  11. 如請求項1至4任一項所述之系統，其中該支撐構件包含一空心樑，該空心樑包含從該空心樑中延伸的一管腔和設置在該管腔中之一填料材料。
  12. 如請求項1至4任一項所述之系統，其中該支撐構件的一長度係大於該溢流分配器的一寬度，使得該支撐構件之相對的端部在一橫向方向上延伸越過該溢流分配器。
  13. 如請求項1至4任一項所述之系統，其中該系統係無在一橫向方向上施加至該溢流分配器之相對的第一和第二端部之一壓縮力。
  14. 一種系統，包含：一溢流分配器，包含一第一側壁；相對該第一側壁 的一第二側壁；設置在相對的該第一和第二側壁之間延伸的一底板；一槽，設置在該底板之上方和在相對的該第一和第二側壁之間，並在該溢流分配器內在一橫向方向上延伸；及一空腔，設置在該底板之下，並在該溢流分配器內在該橫向方向上延伸，該槽和該空腔藉由該底板而隔開；及一支撐構件，設置在該空腔內。
  15. 如請求項14所述之系統，進一步包含一第二溢流分配器，設置在該溢流分配器之下。
  16. 如請求項14任一項所述之系統，其中相對的該第一和第二側壁之多個下部會合在一根部，該根部係在該空腔之下。
  17. 如請求項14至16任一項所述之系統，其中該支撐構件包含α-SiC。
  18. 如請求項14至16任一項所述之系統，其中該支撐構件係無一包覆層。
  19. 如請求項14至16任一項所述之系統，其中該支撐構件包含複數個樑段。
  20. 一種系統，包含：一上溢流分配器，包含一第一側壁；相對該第一側壁的一第二側壁；設置在相對的該第一和第二側壁之間的一底板；一槽，設置在該底板之上方和在相對的 該第一和第二側壁之間，並在該上溢流分配器內在一橫向方向上延伸；及一空腔，設置在該底板之下和在相對的該第一和第二側壁之間，並在該上溢流分配器內在該橫向方向上延伸，該槽和該空腔藉由該底板而隔開；一下溢流分配器，設置在該上溢出分配器之下，並包含一第一側壁；相對該第一側壁的一第二側壁；及一槽，設置在相對的該第一和第二側壁之間且在該下溢流分配器內在該橫向方向上延伸，相對的該第一和第二側壁會合於設置在該下溢流分配器的該槽之下的一拉伸線處；及一支撐構件，設置在該上溢出分配器的該空腔內。
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