TW201624603A - 矽片邊緣保護裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明公開了一種矽片邊緣保護裝置,包括水平運動組件、垂直運動組件、調速裝置、柔性防撞組件以及控制裝置。調速裝置與垂直運動組件訊號連接,用於調節垂直運動組件的運動速度;柔性防撞組件連接水平運動組件和垂直運動組件,以用於減小碰撞時矽片邊緣保護裝置的振動幅度;控制裝置與調速裝置訊號連接,以用於發出控制訊號至所述調速裝置,以控制所述垂直運動組件的運動。本發明提供的矽片邊緣保護裝置可以避免瞬間強烈衝擊工件台,避免壓碎矽片;當發生碰撞時,可以保護工件台和矽片,並且提高了生產效率。
Description
本發明涉及半導體製造領域,尤其涉及一種矽片邊緣保護裝置。
光刻裝置主要用於積體電路IC或其他微型器件的製造。藉由光刻裝置,可將掩膜圖形成像於塗覆有光刻膠的矽片上。光刻裝置藉由投影物鏡曝光,將設計的掩模圖形轉移到光刻膠上,而作為光刻裝置的核心元件,矽片邊緣保護裝置對實現負膠製程曝光過程矽片邊緣保護功能有重要的影響。
光刻膠,也稱光致抗蝕劑(簡稱抗蝕劑)或光敏膠,也有地區稱光阻或光阻劑,可分為正光刻膠(簡稱正膠)和負光刻膠(簡稱負膠)兩類。將光刻膠塗覆於矽片上,曝光後,曝光部分被顯影劑溶解的光刻膠稱為正光刻膠,非曝光部分被顯影液溶解的光刻膠稱為負光刻膠。矽片邊緣保護裝置就是為負膠光刻製程而產生的一種裝置。
習知技術中的矽片邊緣保護裝置是利用保護環遮擋矽片邊緣,保護矽片邊緣在曝光過程中不會被曝光,保護環是一種中央部分鏤空,邊緣為實體的遮光遮罩物件。這種矽片邊緣保護裝置包括保護環機械傳送元件和控制模組,當光刻設備的工件台攜帶矽片運動至矽片邊緣保護裝置正下方交接保護環位置時,控制模組控制保護環機械傳送元件將保護環傳送到工件台上或者從工件台上取回保護環。請參考圖3a和4a,習知技術中這種矽片邊緣保護裝置不設置調速裝置,控制裝置直接輸出開關訊號至氣源的開關閥,藉由開關閥調控氣體壓力,然後控制保護環機械傳送元件垂直方向氣缸運動,保護環機械傳送元件向下運動過程中,先加速運動至t1時刻,此時速度達到V1,t1時刻後一直以速度為V1做勻速運動,當保護環機械傳送元件與光刻設備中攜帶矽片的工件台碰撞時,矽片邊緣保護裝置的運動速度較大,二者之間的衝擊力較大,會破壞工件台和矽片。
因此,為了防止破壞工件台和矽片,在光刻裝置狹窄空間中,矽片邊緣保護裝置的安全性和可靠性要求很高,特別是在調試過程中,如果工件台和矽片邊緣保護裝置的相對位置不正確,矽片邊緣保護裝置與工件台相撞,矽片邊緣保護裝置瞬間強烈衝擊工件台,請參考圖6a,其中,縱座標A代表振幅,單位是赫茲(Hz),橫座標t代表時間,單位是秒(s)。碰撞產生強烈的振動訊號,瞬間強烈的衝擊會對工件台的結構和性能造成永久性破壞;並振動或者直接壓碎矽片。藉由減小矽片邊緣保護裝置垂直方向的速度可以減小矽片邊緣保護裝置對工件台和矽片的衝擊,但是會導致生產效率下降。
習知技術中還提供一種矽片邊緣保護裝置,藉由一個動力源來完成複數個徑向同步力,使一種直線位移轉化為複數個等分徑向位移,從而實現保護環的交換,需要動力源少,同步性高。但是這種矽片邊緣保護裝置在工作過程中,發生碰撞時,無法對工件台進行保護,存在安全隱患。
為了提高安全性能,保護工件台和矽片,本發明提供一種矽片邊緣保護裝置。
為了解決以上技術問題,本發明提供一種矽片邊緣保護裝置,其包括一水平運動組件、一垂直運動組件、一調速裝置、一柔性防撞組件以及一控制裝置。調速裝置與垂直運動組件訊號連接,以用於調節垂直運動組件的運動速度;柔性防撞組件連接水平運動組件和垂直運動組件,以用於減小碰撞時矽片邊緣保護裝置的振動幅度;控制裝置與調速裝置訊號連接,以用於發出控制訊號至所述調速裝置,以控制所述垂直運動組件的運動。
較佳地,矽片邊緣保護裝置還包括一碰撞訊號檢測及保護元件,用於檢測水平運動組件相對於垂直運動組件的振動訊號,並根據振動訊號發出報警訊號和保護訊號;碰撞訊號檢測及保護元件與控制裝置訊號連接,控制裝置接收報警訊號和保護訊號,根據報警訊號和保護訊號,發出控制訊號至調速裝置,控制垂直運動組件的運動。
較佳地,水平運動組件包括一固定盤、三偏心凸輪盤、一水平方向氣缸、至少一凸輪隨動器以及至少一保護爪。三偏心凸輪盤藉由一軸承固定在固定盤上方;三偏心凸輪盤上均勻設置有至少一偏心槽。水準方向氣缸具有第一端與固定盤連接,以及第二端與三偏心凸輪盤連接。至少一凸輪隨動器設置在三偏心凸輪盤的至少一偏心槽內。至少一保護爪嵌在固定盤中;至少一保護爪中的每一個的第一端與至少一凸輪隨動器中相對應的一個固定連接;至少一保護爪中的每一個的第二端用於抓取或釋放一保護環。
較佳地,水平方向氣缸的第一端藉由第一鉸軸與固定盤連接;水平方向氣缸的第二端藉由第二鉸軸與三偏心凸輪盤連接。
較佳地,垂直運動組件上端固定連接有垂直方向固定件;垂直運動組件下端藉由轉接板組件與柔性防撞組件連接。
較佳地,垂直運動組件是垂直方向氣缸。
較佳地,調速裝置是設置在氣源上的伺服閥。
較佳地,柔性防撞組件包括柔性片和用於對柔性片限位的限位元組件,柔性片與垂直運動組件連接;柔性片與水平運動組件固定連接。
較佳地,柔性片藉由轉接板組件與垂直運動組件連接。
較佳地,限位元組件包括至少二限位桿;至少二限位桿的底部均與水平運動組件固定連接;至少二限位桿從下至上依次貫穿柔性片和轉接板組件;至少二限位桿上端設有鎖緊螺母。
較佳地,至少二限位桿均勻設置在柔性片周圍。
較佳地,至少二限位桿上端套有限位墊圈。
較佳地,柔性片呈圓形;柔性片至少一表面設置有圍成一圈的複數個筋條;複數個筋條圍成的圈內側的柔性片與轉接板組件固定連接;複數個筋條圍成的圈外側的柔性片與水平運動組件固定連接。
較佳地,筋條圍成的圈外側設有複數個外孔;複數個筋條圍成的圈內側設有複數個內孔;柔性片的複數個外孔處藉由複數個第一螺釘與轉接板組件固定連接;柔性片的複數個內孔處藉由複數個第二螺釘與水平運動組件固定連接。
較佳地,複數個筋條的每一個呈扇形。
較佳地,訊號碰撞檢測及保護元件包括至少一碰撞檢測感測器;碰撞檢測感測器與水平運動組件以及垂直運動組件訊號連接。
較佳地,至少一碰撞檢測感測器藉由至少一感測器支架固定在矽片邊緣保護裝置上。
本發明所提供的矽片邊緣保護裝置,其藉由設置調速裝置控制垂直運動組件的速度;控制裝置藉由調速裝置控制垂直運動組件先加速運動;速度加速至一定程度時,保持勻速運動;當垂直運動組件帶動水平運動組件運動接近工件台時,減速運動,當水平運動組件運動至接近工件台上方,垂直運動組件運動速度已經大大減小,減小了水平運動組件與工件台發生碰撞的機率,並且減小水平運動組件與工件台相互碰撞時二者之間的衝擊力,避免水平運動組件瞬間強烈衝擊工件台,減小了矽片邊緣保護裝置的振動幅度,避免水平運動組件壓碎矽片。相比不設置調速裝置的情況,設置調速裝置後,垂直運動組件在勻速運動階段的運動速度大大提高,進而提高了生產效率。因此,設置調速裝置可以在保證生產效率的基礎上,保護工件台和矽片。
藉由設置柔性防撞組件減小碰撞時矽片邊緣保護裝置振動幅度;當矽片邊緣保護裝置與工件台碰撞時,減小矽片邊緣保護裝置與工件台碰撞時二者之間的衝擊力,避免矽片邊緣保護裝置瞬間強烈衝擊工件台,進而避免矽片邊緣保護裝置壓碎矽片。
藉由設置碰撞訊號檢測及保護元件,檢測水平運動組件相對於垂直運動組件的振動訊號;當振動訊號沒有超過閾值時,矽片邊緣保護裝置正常運動;當振動訊號超過閾值時,則判定為發生碰撞,碰撞訊號檢測及保護元件發出報警訊號和保護訊號。控制裝置接收報警訊號後報警;同時控制裝置接收保護訊號,並藉由調速裝置控制矽片邊緣保護裝置執行保護運動,及時結束碰撞動作,保護工件台,避免壓碎矽片。
下面結合圖式對本發明作詳細描述。
請參考圖1和圖2,矽片邊緣保護裝置包括水平運動組件、垂直運動組件1、調速裝置20、柔性防撞組件、碰撞檢測及保護元件以及控制裝置。調速裝置20用於調節垂直運動組件1的運動速度;柔性防撞組件連接水平運動組件和垂直運動組件1,以用於減小碰撞時矽片邊緣保護裝置的振動幅度;碰撞訊號檢測及保護元件用於檢測水平運動組件相對於垂直運動組件1的振動訊號,並根據振動訊號發出報警訊號和保護訊號;控制裝置(圖未示出)與調速裝置20訊號連接,以用於發出控制訊號至調速裝置20,而控制垂直運動組件1的運動。
具體地,碰撞訊號檢測及保護元件與控制裝置訊號連接。控制裝置接收報警訊號和保護訊號,根據報警訊號和保護訊號,發出控制訊號至調速裝置20,控制垂直運動組件1的運動;垂直運動組件1的運動帶動水平運動組件運動,防止水平運動組件與工件台發生強烈撞擊。
繼續參考圖1和圖2,水平運動組件包括固定盤7、三偏心凸輪盤16、水平方向氣缸13、凸輪隨動器17、至少一保護環4以及至少一保護爪5。三偏心凸輪盤16藉由軸承18固定在固定盤7上;三偏心凸輪盤16以軸承18的圓柱面為滑動軸作圓周運動;三偏心凸輪盤16上均勻設置有複數個偏心槽。水平方向氣缸13一端與固定盤7連接,另一端與三偏心凸輪盤16連接。凸輪隨動器17設置在三偏心凸輪盤16的偏心槽內。保護爪5嵌在固定盤7中,藉由直線導軌(圖未示出)與固定盤7連接;保護爪5可以沿著直線導軌相對於固定盤7做徑向往復運動;保護爪5一端與凸輪隨動器17固定連接,另一端與保護環4接觸連接。凸輪隨動器17帶動保護爪5在固定盤7內進行徑向往復運動,從而實現對保護環4的抓取與釋放。保護爪5還對保護環4的超載起到保護作用。
較佳的,水平方向氣缸13藉由第一鉸軸14與固定盤7連接,藉由第二鉸軸15與三偏心凸輪盤16連接。
具體地,水平方向氣缸13通氣後,水平方向氣缸13驅動三偏心凸輪盤16做圓周運動,三偏心凸輪盤16藉由偏心槽帶動凸輪隨動器17作徑向運動,凸輪隨動器17帶動保護爪5沿著直線導軌相對固定盤7做徑向運動,實現保護爪5對保護環4的夾緊和鬆開,從而實現保護環4的交換,將保護環4傳送到工件台上或者從工件台上取回保護環4。
請參考圖1和圖2,垂直運動組件1是垂直方向氣缸,垂直方向氣缸上端固定連接有垂直方向固定件2;垂直方向氣缸下端藉由轉接板組件9與柔性防撞組件連接。
請參考圖3b,結合圖1和圖2,本實施例中,調速裝置20是設置在氣源19上的伺服閥,伺服閥與控制裝置訊號連接。工作過程中,控制裝置向伺服閥輸出電壓控制訊號,伺服閥接收控制裝置發出的電壓控制訊號,相應輸出調製的流量和壓力,調節氣源19輸入垂直方向氣缸的氣體壓力或流量,從而控制垂直方向氣缸的運動速度,垂直方向氣缸帶動水平運動組件運動。
請參考圖4b,結合圖1和圖2,V2是本實施例中矽片邊緣保護裝置勻速運動階段的速度;V3是水平運動組件運動至接近工件台上方或處於交接保護環4狀態時矽片邊緣保護裝置的速度。控制裝置藉由調速裝置20控制垂直方向氣缸先加速運動;速度加速至V2時,保持勻速運動;當垂直方向氣缸帶動水平運動組件運動接近工件台時,減速運動;當水平運動組件運動至接近工件台上方,處於交接保護環4狀態時,垂直方向氣缸運動速度已經減小至V3(對應圖4b所示t2時刻),V3遠遠小於V1,因此減小了水平運動組件與工件台發生碰撞的機率,並且根據動能定理E=1/2mv2
(其中E代表動能,m代表質量,v代表速度),在水平運動組件質量不變的情況下,減小其運動速度可以減小水平運動組件與工件台相互碰撞時二者之間的衝擊力,避免水平運動組件瞬間強烈衝擊工件台,減小了矽片邊緣保護裝置的振動幅度,避免水平運動組件壓碎矽片。從圖4a和圖4b可以看出,相比習知技術中不設置調速裝置的情況,本發明設置調速裝置20後,垂直方向氣缸在勻速運動階段的運動速度大大提高(即V2>V1),進而提高了生產效率。因此,設置調速裝置20可以在保證生產效率的基礎上,保護工件台和矽片。
柔性防撞組件包括柔性片8和用於對柔性片8限位的限位元組件;柔性片8上方與垂直運動組件1連接;柔性片8下方與水平運動組件固定連接。較佳的,柔性片8上方藉由轉接板組件9與垂直運動組件1連接;柔性片8下方與水平運動組件的固定盤7固定連接。
較佳的,限位元組件包括至少二限位桿10;限位桿10底部與水平運動組件固定連接;限位桿10從下至上依次貫穿柔性片8和轉接板組件9;限位桿10上端設置有鎖緊螺母12。藉由鎖緊螺母12鎖緊限位桿10,防止水平運動組件和垂直運動組件1相互遠離,限制水平運動組件和垂直運動組件1相對位置。限位桿10均勻設置在柔性片8周圍,便於限位元組件對柔性片8均勻限位。限位桿10上端、鎖緊螺母12下方套有限位墊圈11;限位墊圈11用於緩衝鎖緊螺母12,防止鎖緊螺母12固定過緊而轉不開。
請參考圖5a,結合圖1和圖2,柔性片8是圓形,柔性片8至少一表面設有圍成一圈的複數個筋條8-2;筋條8-2圍成的圈內側的柔性片8與轉接板組件9固定連接,筋條8-2圍成的圈外側的柔性片8與水平運動組件的固定盤7固定連接。
較佳的,筋條8-2是扇形,也可為其他任何適合的形狀。筋條8-2圍成的圈外側設有一圈外孔8-1,筋條8-2圍成的圈內側設有內孔8-3;柔性片8的外孔8-1處藉由螺釘與轉接板組件9固定連接;柔性片8的內孔8-3處藉由螺釘與水平運動組件的固定盤7固定連接。
請參考圖5b,結合圖1和圖2,柔性片8穩定狀態下,柔性片8受到水平運動組件的拉力作用,柔性片8中間部分的筋條8-2發生彎曲變形,整個柔性片8呈圓形。如圖5b中的8a是設置限位元組件後柔性片8處於穩定狀態的情況。
如果不設置限位元組件,水平運動組件加速度向下或者受向上的碰撞力時,柔性片8的扇狀彎曲程度相比穩定狀態時減小,此時柔性片8形狀如圖5b中的8b,水平運動組件和垂直運動組件1相互靠近;水平運動組件加速向上運動時,柔性片8的扇狀彎曲程度相比穩定狀態時增大,此時柔性片8形狀如圖5b中的8c,水平運動組件和垂直運動組件1相互遠離。
藉由設置限位元組件,柔性片8的彎曲程度受到限制,避免水平運動組件和垂直運動組件1相互遠離。矽片邊緣保護裝置向下運動至和工件台處於交接保護環4狀態時,水平運動組件與工件台只有0.4mm高度的間隙。限位元組件限制柔性片8變形程度;當水平運動組件和垂直運動組件1有遠離趨勢時,限位元組件保證水平運動組件和垂直運動組件1二者之間的相對位置,防止水平運動組件和垂直運動組件1相互遠離,防止由於柔性片8變形導致水平運動組件向下運動,避免水平運動組件與工件台發生碰撞。確保交接保護環4過程中,柔性防撞組件與習知技術中剛性連接具有相同的效果。
柔性片8不但要在水平方向上具備足夠的剛度確保柔性片8不發生扭轉,而且在垂直方向上要提供水平運動組件的重力支撐及一定量的柔性變形;兩者之間需要達到合適的平衡點。藉由改變柔性片8厚度、筋條8-2的數量和筋條8-2的寬度可以調整柔性片8的剛度。較佳的,當柔性片8厚度1mm,筋條8-2是八條,筋條8-2寬7mm,剛度達到:當柔性片8負載100N的衝擊力時,穩定狀態下,柔性片8垂直方向位移為1mm,剛度為0.01mm/N,柔性片8水平方向未發生扭轉現象。
請參考圖6b,結合圖1和圖2,同樣地,縱座標A代表振幅,單位是Hz,橫座標t代表時間,單位是秒(s)。與習知技術中的剛性碰撞相比,採用柔性片8使水平運動組件與工件台之間的瞬間衝擊緩衝為較長時間的柔性碰撞過程,碰撞產生的振動幅度大大減小,為檢測碰撞訊號的檢測提供了充足的時間,便於訊號碰撞檢測及保護元件及時發出保護訊號,控制裝置及時控制垂直運動氣缸1做出相應的保護動作,避免矽片邊緣保護裝置瞬間強烈衝擊工件台,減小振動幅度,避免壓碎矽片。
請參考圖1和圖2,座標碰撞檢測及保護元件包括至少一碰撞檢測感測器3。碰撞檢測感測器3與水平運動組件以及垂直運動組件1座標連接;碰撞檢測感測器3藉由感測器支架6固定在矽片邊緣保護裝置上。較佳的,碰撞檢測感測器3藉由感測器支架6固定在轉接板組件9上。碰撞檢測感測器3能夠在矽片邊緣保護裝置工作過程中檢測水平運動組件相對於垂直運動組件1的振動座標。
具體地,碰撞檢測感測器3檢測水平運動組件相對於垂直運動組件1的振動訊號,當振動信號沒有超過閾值時,矽片邊緣保護裝置正常運動;當振動訊號超過閾值時,則判定為發生碰撞,碰撞檢測感測器3發出報警信號和保護訊號;控制裝置接收報警訊號後報警。
保護訊號分為上升訊號和停止訊號兩種。當矽片邊緣保護裝置垂直向下運動,並且保護環4夾持在水平運動組件上時,碰撞檢測感測器3發出上升訊號;控制裝置接收碰撞檢測感測器3發出的上升訊號,藉由調速裝置20控制矽片邊緣保護裝置向上運動,保護工件台,避免壓碎矽片。
當矽片邊緣保護裝置處於其他狀況時均發出停止訊號,控制裝置接收碰撞檢測感測器3發出的停止訊號,藉由調速裝置20控制矽片邊緣保護裝置停止運動,及時結束碰撞動作。
本領域的技術人員可以對發明進行各種改動和變型而不脫離本發明的精神和範圍。這樣,倘若本發明的這些修改和變型屬於本發明權利要求及其等同技術的範圍之內,則本發明也意圖包括這些改動和變型在內。
1‧‧‧垂直運動組件
2‧‧‧垂直方向固定件
3‧‧‧碰撞檢測感測器
4‧‧‧保護環
5‧‧‧保護爪
6‧‧‧感測器支架
7‧‧‧固定盤
8‧‧‧柔性片
8-1‧‧‧外孔
8-2‧‧‧筋條
8-3‧‧‧內孔
8a‧‧‧柔性片穩定狀態
8b‧‧‧柔性片加速度向下運動或者碰撞狀態
8c‧‧‧柔性片加速向上運動狀態
9‧‧‧轉接板組件
10‧‧‧限位桿
11‧‧‧限位墊圈
12‧‧‧鎖緊螺母
13‧‧‧水平方向氣缸
14‧‧‧第一鉸軸
15‧‧‧第二鉸軸
16‧‧‧三偏心凸輪盤
17‧‧‧凸輪隨動器
18‧‧‧軸承
19‧‧‧氣源
20‧‧‧調速裝置
2‧‧‧垂直方向固定件
3‧‧‧碰撞檢測感測器
4‧‧‧保護環
5‧‧‧保護爪
6‧‧‧感測器支架
7‧‧‧固定盤
8‧‧‧柔性片
8-1‧‧‧外孔
8-2‧‧‧筋條
8-3‧‧‧內孔
8a‧‧‧柔性片穩定狀態
8b‧‧‧柔性片加速度向下運動或者碰撞狀態
8c‧‧‧柔性片加速向上運動狀態
9‧‧‧轉接板組件
10‧‧‧限位桿
11‧‧‧限位墊圈
12‧‧‧鎖緊螺母
13‧‧‧水平方向氣缸
14‧‧‧第一鉸軸
15‧‧‧第二鉸軸
16‧‧‧三偏心凸輪盤
17‧‧‧凸輪隨動器
18‧‧‧軸承
19‧‧‧氣源
20‧‧‧調速裝置
圖1是本發明一實施例的矽片邊緣保護裝置的主視圖。
圖2是本發明一實施例的矽片邊緣保護裝置的立體圖。
圖3a是習知技術中未設置調速裝置的矽片邊緣保護裝置速度控制方法示意圖。
圖3b是本發明設置有調速裝置的矽片邊緣保護裝置速度控制方法示意圖。
圖4a是習知技術中未設置調速裝置的矽片邊緣保護裝置速度變化示意圖。
圖4b是本發明設置有調速裝置的矽片邊緣保護裝置速度變化示意圖。
圖5a是本發明一實施例的矽片邊緣保護裝置的柔性片的結構示意圖。
圖5b是本發明一實施例的矽片邊緣保護裝置的柔性片在不同運動狀態時的示意圖。
圖6a是習知技術中矽片邊緣保護裝置與工件台發生碰撞時的振動訊號示意圖。
圖6b是本發明一實施例中矽片邊緣保護裝置與工件台發生碰撞時水平運動組件相對於垂直運動組件的振動訊號示意圖。
1‧‧‧垂直運動組件
2‧‧‧垂直方向固定件
3‧‧‧碰撞檢測感測器
4‧‧‧保護環
5‧‧‧保護爪
6‧‧‧感測器支架
7‧‧‧固定盤
8‧‧‧柔性片
9‧‧‧轉接板組件
10‧‧‧限位桿
11‧‧‧限位墊圈
12‧‧‧鎖緊螺母
13‧‧‧水平方向氣缸
14‧‧‧第一鉸軸
15‧‧‧第二鉸軸
16‧‧‧三偏心凸輪盤
17‧‧‧凸輪隨動器
18‧‧‧軸承
19‧‧‧氣源
20‧‧‧調速裝置
Claims (17)
- 一種矽片邊緣保護裝置,包括: 一水平運動組件; 一垂直運動組件; 一調速裝置,與該垂直運動組件訊號連接,配置以調節該垂直運動組件的運動速度; 一柔性防撞組件,連接該水平運動組件和該垂直運動組件,配置以減小碰撞時矽片邊緣保護裝置的振動幅度;以及 一控制裝置,與該調速裝置訊號連接,配置以發出控制訊號至該調速裝置,以控制該垂直運動組件的運動。
- 如申請專利範圍第1項所述的矽片邊緣保護裝置,更包括一碰撞訊號檢測及保護元件,配置以檢測該水平運動組件相對於該垂直運動組件的振動訊號,並根據振動訊號發出報警訊號和保護訊號;該碰撞訊號檢測及保護元件與該控制裝置訊號連接,該控制裝置接收報警訊號和保護訊號,根據報警訊號和保護訊號,發出控制訊號至該調速裝置,控制該垂直運動組件的運動。
- 如申請專利範圍第1項所述的矽片邊緣保護裝置,其中該水平運動組件包括: 一固定盤; 三偏心凸輪盤,藉由一軸承固定在該固定盤上,該三偏心凸輪盤上均勻設置有至少一偏心槽; 一水平方向氣缸,該水平方向氣缸具有第一端與該固定盤連接,以及第二端與該三偏心凸輪盤連接; 至少一凸輪隨動器,設置在該三偏心凸輪盤的該至少一偏心槽內;以及 至少一保護爪,嵌在該固定盤中,該至少一保護爪中的每一個的第一端與該至少一凸輪隨動器中相對應的一個固定連接,該至少一保護爪中的每一個的第二端用於抓取或釋放一保護環。
- 如申請專利範圍第3項所述的矽片邊緣保護裝置,其中該水平方向氣缸的第一端藉由第一鉸軸與該固定盤連接,該水平方向氣缸的第二端藉由第二鉸軸與該三偏心凸輪盤連接。
- 如申請專利範圍第1項所述的矽片邊緣保護裝置,其中該垂直運動組件上端固定連接有垂直方向固定件,該垂直運動組件下端藉由轉接板組件與該柔性防撞組件連接。
- 如申請專利範圍第5項所述的矽片邊緣保護裝置,其中該垂直運動組件為垂直方向氣缸。
- 如申請專利範圍第1項所述的矽片邊緣保護裝置,其中該調速裝置為設置在氣源上的伺服閥。
- 如申請專利範圍第1項所述的矽片邊緣保護裝置,其中該柔性防撞組件包括一柔性片和配置以對該柔性片限位的一限位元組件,該柔性片與該垂直運動組件連接,該柔性片與該水平運動組件固定連接。
- 如申請專利範圍第8項所述的矽片邊緣保護裝置,其中該柔性片藉由轉接板組件與該垂直運動組件連接。
- 如申請專利範圍第8項所述的矽片邊緣保護裝置,其中該限位元組件包括至少二限位桿,該至少二限位桿的底部均與該水平運動組件固定連接,該至少二限位桿從下至上依次貫穿該柔性片和轉接板組件,該至少二限位桿上端設置有鎖緊螺母。
- 如申請專利範圍第10項所述的矽片邊緣保護裝置,其中該至少二限位桿均勻設置在該柔性片周圍。
- 如申請專利範圍第10項所述的矽片邊緣保護裝置,其中該至少二限位桿上端均套有限位墊圈。
- 如申請專利範圍第8至12項中任一項所述的矽片邊緣保護裝置,其中該柔性片呈圓形,該柔性片至少一表面設置有圍成一圈的複數個筋條;該複數個筋條圍成的圈內側的柔性片與轉接板組件固定連接,該複數個筋條圍成的圈外側的柔性片與該水平運動組件固定連接。
- 如申請專利範圍第13項所述的矽片邊緣保護裝置,其中該複數個筋條圍成的圈外側設有複數個外孔,該複數個筋條圍成的圈內側設有複數個內孔;該柔性片的複數個外孔處藉由複數個第一螺釘與轉接板組件固定連接;該柔性片的複數個內孔處藉由複數個第二螺釘與該水平運動組件固定連接。
- 如申請專利範圍第13項所述的矽片邊緣保護裝置,其中該複數個筋條的每一個呈扇形。
- 如申請專利範圍第2項所述的矽片邊緣保護裝置,其中該訊號碰撞檢測及保護元件包括至少一碰撞檢測感測器,與該水平運動組件以及該垂直運動組件訊號連接。
- 如申請專利範圍第16項所述的矽片邊緣保護裝置,其中該至少一碰撞檢測感測器藉由至少一感測器支架固定在該矽片邊緣保護裝置上。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410857409.5A CN105807575B (zh) | 2014-12-30 | 2014-12-30 | 一种硅片边缘保护装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201624603A true TW201624603A (zh) | 2016-07-01 |
TWI569358B TWI569358B (zh) | 2017-02-01 |
Family
ID=56284262
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW104144324A TWI569358B (zh) | 2014-12-30 | 2015-12-29 | Silicone edge protection device |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9964864B2 (zh) |
JP (1) | JP6371911B2 (zh) |
CN (1) | CN105807575B (zh) |
SG (1) | SG11201705286VA (zh) |
TW (1) | TWI569358B (zh) |
WO (1) | WO2016107507A1 (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107219728B (zh) * | 2017-07-31 | 2020-09-29 | 中国振华集团永光电子有限公司(国营第八七三厂) | 一种防止硅片翘片的光刻方法 |
CN110609448B (zh) * | 2018-06-14 | 2020-12-01 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种硅片边缘保护装置 |
DE102019213914A1 (de) * | 2019-09-12 | 2021-03-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung zur Reinigung einer Oberfläche im Inneren eines optischen Systems |
JP7045353B2 (ja) * | 2019-10-02 | 2022-03-31 | 株式会社アルバック | 基板搬送装置、および、基板搬送方法 |
CN112859531B (zh) * | 2019-11-28 | 2022-06-03 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 交接力测量装置及方法、光刻机 |
CN112530843B (zh) * | 2020-11-30 | 2022-11-04 | 四川立泰电子有限公司 | 大功率管三极管自动剪脚设备 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3554186B2 (ja) * | 1998-04-08 | 2004-08-18 | キヤノン株式会社 | 露光装置、デバイス製造方法および反力受け方法 |
TWI223734B (en) * | 1999-12-21 | 2004-11-11 | Asml Netherlands Bv | Crash prevention in positioning apparatus for use in lithographic projection apparatus |
US6440219B1 (en) * | 2000-06-07 | 2002-08-27 | Simplus Systems Corporation | Replaceable shielding apparatus |
JP2003109999A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-11 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
US6680774B1 (en) * | 2001-10-09 | 2004-01-20 | Ultratech Stepper, Inc. | Method and apparatus for mechanically masking a workpiece |
EP1477852A1 (en) * | 2003-05-16 | 2004-11-17 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US7310132B2 (en) * | 2006-03-17 | 2007-12-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2009239018A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Orc Mfg Co Ltd | 投影露光装置 |
CN101487990B (zh) * | 2009-02-27 | 2011-04-13 | 上海微电子装备有限公司 | 带边缘曝光保护的工件台 |
CN102012639B (zh) * | 2009-09-04 | 2013-09-11 | 上海微电子装备有限公司 | 一种硅片边缘保护方法与装置 |
CN102141735B (zh) * | 2010-01-28 | 2012-12-12 | 上海微电子装备有限公司 | 硅片边缘保护装置及其应用方法 |
TWI536112B (zh) * | 2010-09-13 | 2016-06-01 | Orc Mfg Co Ltd | Projection exposure device |
CN103293862B (zh) * | 2012-02-22 | 2015-04-15 | 上海微电子装备有限公司 | 硅片边缘保护装置 |
CN103901733B (zh) | 2012-12-28 | 2017-02-22 | 上海微电子装备有限公司 | 曝光装置 |
CN203774252U (zh) * | 2013-12-12 | 2014-08-13 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 应用于激光退火机器的边缘保护装置 |
-
2014
- 2014-12-30 CN CN201410857409.5A patent/CN105807575B/zh active Active
-
2015
- 2015-12-27 JP JP2017534779A patent/JP6371911B2/ja active Active
- 2015-12-27 US US15/541,331 patent/US9964864B2/en active Active
- 2015-12-27 WO PCT/CN2015/099084 patent/WO2016107507A1/zh active Application Filing
- 2015-12-27 SG SG11201705286VA patent/SG11201705286VA/en unknown
- 2015-12-29 TW TW104144324A patent/TWI569358B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20170357162A1 (en) | 2017-12-14 |
CN105807575B (zh) | 2017-08-25 |
WO2016107507A1 (zh) | 2016-07-07 |
JP2018501519A (ja) | 2018-01-18 |
TWI569358B (zh) | 2017-02-01 |
JP6371911B2 (ja) | 2018-08-08 |
CN105807575A (zh) | 2016-07-27 |
SG11201705286VA (en) | 2017-07-28 |
US9964864B2 (en) | 2018-05-08 |
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