TW201609546A - 製備經表面改質材料的方法 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於一種製造經表面改質材料之方法，其中用包含酸之液體組成物處理在至少一側上包含具有可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之塗層的基板，以在該塗層上形成至少一個經表面改質之區。

Description

製備經表面改質材料的方法
本發明係關於經表面改質材料，其製備方法及其用途。
鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽，及尤其碳酸鈣，廣泛用於顏料塗佈調配物中，該等調配物用於紙或紙樣材料，以及用於諸如金屬、木材或混凝土之其他材料的顏料表面塗層或塗料。此類塗層可改良下伏基板之表面特性，可具有保護作用或可向基板添加額外功能。顏料塗佈之紙例如典型地比未經處理之紙光學及機械上更均勻，更光滑且更容易印刷。藉由針對紙塗層選擇適當礦物類型，可定製諸如亮度、混濁度、光澤、印刷光澤、印刷對比度、孔隙率或光滑度之紙特性。
碳酸鈣廣泛用作塗佈調配物中之顏料材料，因為其無毒且耐候，展示良好白度及低密度、與其他塗佈組分之低相互作用。當用作金屬基板之表面塗層時，由於其鹼性pH及其低磨損度可防止過度機械磨損，因此其可提供抗腐蝕作用。此外，碳酸鈣可以幾乎任何所要粒徑分佈及精細度獲得，其尤其適用於調整諸如分散性、光澤、保光性及遮蓋力之物理特性。然而，諸如碳酸鈣之鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽遭遇包含其之表面塗層通常顯示不良可濕性的問題。
EP 2 626 388 A1涉及包含有刺形狀粒子、至少一種黏合劑及 至少一種疏水劑及/或至少一種親水劑之組成物，其可用於控制基板組成物之可濕性。
近年來，使用紙作為現代晶片上實驗室產品之基底基板的概念越來越流行且已公佈許多用於在紙質基板上製造疏水性阻擋層及親水性管道之圖案化方法的研究。用於這一目的之多種技術方法涉及諸如噴墨印刷、絲網印刷或彈性凸版印刷之印刷技術，以及諸如光微影、電漿或激光處理之微加工技術。出於若干原因，宜使用顏料塗佈之紙作為用於此類微流體裝置之基底基板：塗層使紙基板之表面平滑且其自身在紙表面上形成新多孔性媒介。塗佈紙的增加之光學及印刷品質特徵亦可改良此類晶片上實驗室產品上所示之比色結果的偵測或閱讀。顏料塗層亦可提供生物活性分子或其他添加劑，其可尤其適用於生物分析中所用之微流體裝置。然而，迄今為止表面塗佈紙尚未成功用於製造基於紙的晶片上實驗室產品。
WO 2010/02234 A2揭示使用光微影術在親水性基板上圖案化疏水性材料之方法。基於紙之微流體裝置描述於Martinez等人，Angew.Chem.Int.Ed.2007,46,1318-1320、Martinez等人，Anal.Chem.2010,82,3-10及Martinez等人，Anal.Chem.2008,80,3699-3707中。
然而，所屬領域仍需要精確及局部地構造顏料塗佈基板之表面及調節顏料塗佈基板之表面特性。
因此，本發明之目標為提供一種用於以受控且容易之方式改良顏料塗佈基板之表面特性的方法。亦需要提供一種允許局部且以高分辨率及精確度改良表面特性之方法。亦將需要提供一種用於在顏料塗佈基板 上及/或內形成具有高分辨率之疏水性及親水性區之方法。本發明之目標亦為提供可用於多種應用中之經表面改質材料。
藉由如本文獨立申請專利範圍中所定義之標的物，實現前述及其他目標。
根據本發明之一個態樣，提供一種製造經表面改質材料之方法，其包含以下步驟：a)提供基板，其中該基板在至少一側上包含具有可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之塗層，及b)向該塗層之至少一個區上施加包含酸之液體處理組成物以在該塗層上及/或內形成至少一個經表面改質之區。
根據本發明之另一態樣，提供一種可藉由本發明之方法獲得之經表面改質材料。
根據本發明之另一態樣，提供本發明之經表面改質材料之用途，其用於印刷應用、分析應用、診斷應用、生物分析、化學應用、電應用、安全裝置、公開或隱秘安全元件、商標保護、微縮文字、微觀成像、裝飾、藝術或視覺應用，或包裝應用。
本發明之有利具體實例定義於對應的申請專利範圍子項中。
根據一個具體實例，步驟a)之基板藉由以下製備：(i)提供基板，(ii)在基板的至少一側上施加包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之塗佈組成物以形成塗層，及(iii)乾燥塗層。根據另一具體實例，基板選自包含以下之群：紙、卡紙板、硬紙板、塑膠、塞璐芬(cellophane)、紡織物、木材、金屬、玻璃、雲母板、硝化纖維素或混凝土，較佳為紙、卡紙板、硬紙板或塑膠。
根據一個具體實例，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物為鹼金屬或鹼土金屬氧化物、鹼金屬或鹼土金屬氫氧化物、鹼金屬或鹼土金屬醇鹽、鹼金屬或鹼土金屬甲基碳酸鹽、鹼金屬或鹼土金屬羥基碳酸鹽、鹼金屬或鹼土金屬碳酸氫鹽、鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽或其混合物，該可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物較佳為鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽，其較佳選自碳酸鋰、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸鎂、碳酸鈣鎂、碳酸鈣或其混合物，該可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物更佳為碳酸鈣，且該可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物最佳為經研磨碳酸鈣、沈澱碳酸鈣及/或經表面處理之碳酸鈣。根據另一具體實例，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物呈粒子形式，重量中值粒徑d50為15nm至200μm，較佳20nm至100μm，更佳50nm至50μm，且最佳100nm至2μm。根據另一具體實例，塗層另外包含較佳以可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之總重量計1至50wt%，較佳3至30wt%，且更佳5至15wt%之量的黏合劑。
根據一個具體實例，酸係選自由以下組成之群：鹽酸、硫酸、亞硫酸、磷酸、檸檬酸、乙二酸、乙酸、甲酸、胺基磺酸、酒石酸、植酸、硼酸、丁二酸、辛二酸、苯甲酸及其混合物，該酸較佳選自由以下組成之群：鹽酸、硫酸、亞硫酸、磷酸、乙二酸、硼酸、辛二酸、丁二酸、胺基磺酸、酒石酸或其混合物，該酸更佳選自由以下組成之群：硫酸、磷酸、硼酸、辛二酸、胺基磺酸、酒石酸或其混合物，且該酸最佳為磷酸。根據另一具體實例，該液體處理組成物另外包含印刷墨水、著色墨水、著色劑、染料、金屬離子、過渡金屬離子、界面活性劑、分散劑、殺生物劑、腐蝕抑制劑、藥劑、疏水劑、蠟、鹽、聚合物、熱熔膠及/或聚合組成物。
根據一個具體實例，該液體處理組成物包含以液體組成物之總重量計0.1至100wt%之量，較佳1至80wt%之量，更佳2至50wt%之量，且最佳5至30wt%之量的酸。根據另一具體實例，液體處理組成物藉由噴塗、噴墨印刷、平版印刷、柔性凸版印刷、絲網印刷、繪圖、接觸衝壓、輪轉凹版印刷、旋塗、逆相凹版塗佈、槽縫式塗佈、簾幕式塗佈、滑動托架塗佈、薄膜印刷、定量薄膜印刷、刮塗、刷塗及/或鉛筆施加，較佳藉由噴墨印刷或噴塗施加。
根據一個具體實例，液體處理組成物連續施加至整個塗層。根據一個具體實例，液體處理組成物以預先選擇之圖案的形式，較佳管道、阻擋層、陣列、一維條碼、二維條碼、三維條碼、安全標記、數字、字母、影像或設計形式施加至塗層。根據另一具體實例，該方法另外包含在至少一個經表面改質之區上施加保護層的步驟c)。根據另一具體實例，洗滌或沖洗步驟b)中獲得的至少一個經表面改質之區。
根據一個具體實例，經表面改質材料為生物分析工具、微流體裝置、晶片上實驗室裝置、基於紙之分析及/或診斷工具、分離平台、印刷媒介、包裝材料、牆漆、條碼或資料儲存器。
應理解，出於本發明之目的，以下術語具有以下含義。
出於本發明之目的，「酸」定義為布朗斯特-勞立酸(Brønsted-Lowry acid)，換言之，其為H3O+離子提供者。根據本發明，pKa為表示與既定酸中給定之可電離氫相關之酸解離常數的符號，且表明在既定溫度下於水中在平衡狀態下此氫自此酸自然解離的程度。此類pKa值可發現於諸如Harris,D.C.「Quantitative Chemical Analysis：第3版」,1991,W.H.Freeman & Co.(USA),ISBN 0-7167-2170-8之參考教材中。
根據DIN EN ISO 536：1996測定如本發明中所用之術語「基本重量」，且將其定義為以g/m2為單位之重量。
出於本發明之目的，術語「塗層」指由塗佈調配物形成、創造、製備等之層、覆蓋物、膜、表皮等，其主要保持於基板之一側。塗層可與基板表面直接接觸，或在基板包含一或多個預塗層及/或阻擋層的情況中，可分別與頂部預塗層或阻擋層直接接觸。
在本發明之含義中，「經研磨碳酸鈣(Ground calcium carbonate；GCC)」為獲自天然來源(諸如石灰石、大理石、白雲石或白堊)且藉由例如旋風器或分類器經由濕式及/或乾式處理方法(諸如研磨、篩分及/或部分分離)處理之碳酸鈣。
在本發明之含義中，「經改質碳酸鈣(Modified calcium carbonate；MCC)」可提供一種具有內部結構改質或表面反應產物(亦即「經 表面反應碳酸鈣」)之天然研磨或沈澱碳酸鈣。「經表面反應碳酸鈣」為在表面上包含碳酸鈣及不溶性，較佳至少部分結晶的酸之陰離子鈣鹽的材料。較佳地，不溶性鈣鹽延伸自至少一部分碳酸鈣之表面。形成該陰離子的該至少部分結晶鈣鹽之鈣離子主要來源於起始碳酸鈣材料。MCC描述於例如US 2012/0031576 A1、WO 2009/074492 A1、EP 2 264 109 A1、WO 00/39222 A1或EP 2 264 108 A1。
在本發明之含義中，「沈澱碳酸鈣」(PCC)為藉由二氧化碳及石灰在水性、半乾燥或潮濕環境中之反應之後的沈澱或藉由鈣及碳酸根離子源於水中之沈澱獲得之合成材料。PCC可呈六方方解石、方解石或文石晶體形式。
在本文獻全文中，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之「粒徑」藉由其粒徑分佈描述。值dx表示相對於其以重量計之x%粒子具有小於dx之直徑的直徑。此意謂d20值為所有粒子中的20wt%小於該值之粒徑，且d75值為所有粒子中的75wt%小於該值之粒徑。d50值因此為重量中值粒徑，亦即50wt.%所有晶粒大於或小於此粒徑。出於本發明之目的，除非另外指出，否則將粒徑規定為重量中值粒度d50。為測定重量中值粒徑d50值，可使用Sedigraph。
在本發明之含義中，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之「比表面積(SSA)」定義為化合物表面積除以其質量。如本文中所用，使用BET等溫線(ISO 9277：2010)藉由氮氣吸附量測比表面積且以m2/g為單位對其進行規定。
出於本發明之目的，「流變改質劑」為改變漿料或液體塗佈 組成物之流變性行為以匹配所用塗佈法之所需規格的添加劑。
在本發明之含義中，「可成鹽」化合物定義為能夠與酸反應形成之化合物。可成鹽化合物之實例為鹼金屬或鹼土金屬氧化物、氫氧化物、醇鹽、甲基碳酸鹽、羥基碳酸鹽、碳酸氫鹽或碳酸鹽。
在本發明之含義中，「經表面處理之碳酸鈣」為構成處理層或塗層(例如脂肪酸、界面活性劑、矽氧烷或聚合物層)之研磨、沈澱或改質碳酸鈣。
在本發明上下文中，術語「基板」應理解為表面適於印刷、塗佈或上漆的任何材料，諸如紙、卡紙板、硬紙板、塑膠、塞璐芬、紡織物、木材、金屬、玻璃、雲母板、硝化纖維素或混凝土。然而，提及之實例不具有限制性特徵。
出於本發明之目的，層之「厚度」及「層重量」分別指在乾燥所施加塗佈組成物之後的層厚度及層重量。
出於本發明之目的，術語「黏度」或「布氏黏度(Brookfield viscosity)」指布氏黏度。出於此目的，布氏黏度係藉由布氏(Typ RVT)黏度計在20℃±2℃下於100rpm下使用適當主軸量測且以mPa．s為單位進行規定。
在本發明之含義中，「懸浮液(suspension)」或「漿液(slurry)」包含不溶性固體及水，及視情況存在之其他添加劑，且通常含有大量固體，且因此更黏稠且可比由其形成之液體具有更高密度。
當在本說明書及申請專利範圍中使用術語「包含」時，不排除其他要素。出於本發明之目的，術語「由……組成(consisting of)」視為 術語「包含(comprising of)」之較佳具體實例。若在下文中將群組限定為包含至少某一數目之具體實例，則此亦理解為揭示較佳僅由此等具體實例組成之群組。
除非另外明確指出，否則當涉及單數名詞使用不定冠詞或定冠詞(例如「一(a)」、「一(an)」或「該(the)」)時，此包括該名詞之複數。
類似「可獲得(obtainable)」或「可定義(definable)」及「獲得(obtained)」或「定義(defined)」之術語可互換使用。除非上下文另外明確規定，否則此例如意謂術語「獲得」不打算指示例如具體實例必須藉由例如遵照術語「獲得」的步驟順序獲得，但術語「獲得」或「定義」始終包括之此類有限理解為較佳具體實例。
根據本發明，提供製造經表面改質材料之方法。該方法包含以下步驟：(a)提供基板，其中該基板在至少一側上包含具有可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之塗層，及(b)在塗層的至少一個區上施加包含酸之液體處理組成物，在該塗層之上及/或內形成至少一個經表面改質之區。
在下文中，將更詳細地闡明本發明方法之細節及較佳具體實例。應理解此等技術細節及具體實例亦適用於本發明之經表面改質材料以及其本發明用途。
方法步驟a)
根據本發明方法之步驟a)，提供基板。
基板充當塗層之支撐物且可不透明、半透明或透明。
根據一個具體實例，基板選自包含以下之群：紙、卡紙板、 硬紙板、塑膠、塞璐芬、紡織物、木材、金屬、玻璃、雲母板、硝化纖維素或混凝土。根據一較佳具體實例，基板選自包含以下之群：紙、卡紙板、硬紙板或塑膠。然而，表面適於印刷、塗佈或上漆的任何其他材料亦可用作基板。
根據本發明之一個具體實例，基板為紙、卡紙板或硬紙板。卡紙板可包含紙箱板或盒紙板、波紋卡紙板或非包裝卡紙板，諸如彩色紙板或繪圖卡紙板。硬紙板可包涵掛面紙板及/或瓦楞芯紙(corrugating medium)。掛面紙板與瓦楞芯紙用於製造瓦楞紙板。紙、卡紙板或硬紙板基板可具有10至1000g/m2、20至800g/m2、30至700g/m2或50至600g/m2之基本重量。
根據另一具體實例，基板為塑膠基板。適合塑膠材料為例如聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚酯、聚碳酸酯樹脂或含氟樹脂，較佳聚丙烯。適合聚酯的實例為聚(對苯二甲酸乙二酯)、聚(萘二甲酸乙二酯)或聚(酯二乙酸酯)。含氟樹脂之實例為聚(四氟乙烯)。可藉由礦物填料、有機顏料、無機顏料或其混合物填充塑膠基板。
基板可僅由一個上文所提及之材料的層組成或可包含具有相同材料或不同材料之若干個子層的層結構。根據一個具體實例，藉由一個層使基板結構化。根據另一具體實例，基板藉由至少兩個子層，較佳三個、五個或七個子層結構化，其中該等子層可具有平坦或不平坦結構，例如波紋結構。較佳地，基板之子層由紙、卡紙板、硬紙板及/或塑膠製成。
基板對溶劑、水或其混合物而言可滲透或不可滲透。根據一個具體實例，基板對水、溶劑或其混合物而言不可滲透。溶劑之實例為脂 族醇、具有4至14個碳原子之醚及二醚、二醇、烷氧基化二醇、二醇醚、烷氧基化芳族醇、芳族醇、其混合物，或其與水之混合物。
根據本發明，步驟a)中所提供之基板在至少一側上包含具有可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之塗層。塗層可與基板表面直接接觸。在基板已包含一或多個預塗層及/或阻擋層的情形(其將在下文進一步更詳細描述)中，塗層可分別與頂部預塗層及/或阻擋層直接接觸。
根據一個具體實例，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物為鹼金屬或鹼土金屬氧化物、鹼金屬或鹼土金屬氫氧化物、鹼金屬或鹼土金屬醇鹽、鹼金屬或鹼土金屬甲基碳酸鹽、鹼金屬或鹼土金屬羥基碳酸鹽、鹼金屬或鹼土金屬碳酸氫鹽、鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽或其混合物。較佳地，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物為鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽。
鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽可選自碳酸鋰、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸鎂、碳酸鈣鎂、碳酸鈣或其混合物。根據一較佳具體實例，鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽為碳酸鈣，且鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽更佳為經研磨碳酸鈣、沈澱碳酸鈣及/或經表面處理之碳酸鈣。
經研磨(或天然)碳酸鈣(GCC)理解為天然存在之碳酸鈣形式，其開採自諸如石灰石或白堊之沈積岩或變質大理岩。已知碳酸鈣以三種類型晶體多晶型物形式存在：方解石、文石及六方方解石。方解石為最常見的晶體多晶型物，其視為碳酸鈣之最穩定晶體形式。較少見的是文石，其具有分散或叢集針狀斜方晶晶體結構。六方方解石為最罕見碳酸鈣多晶型物且一般不穩定。天然碳酸鈣幾乎完全為方解石型多晶型物，其稱為三方菱面體且代表最穩定之碳酸鈣多晶型物。在本發明之含義中，術語 碳酸鈣之「來源(source)」指自其獲得碳酸鈣的天然存在之礦物材料。碳酸鈣之來源可包含其他天然存在之組分，諸如碳酸鎂、矽酸鋁等。
根據本發明之一個具體實例，經研磨碳酸鈣選自由大理石、白堊、白雲石、石灰石及其混合物組成之群。
根據本發明之一個具體實例，藉由乾式研磨獲得GCC。根據本法明之另一具體實例，藉由濕式研磨及視情況存在之後續乾燥獲得GCC。
一般而言，可用任何習知研磨裝置例如在使得粉碎主要由與第二物體之撞擊產生的條件下進行研磨步驟，亦即於以下中之一或多者中進行：球磨機、棒磨機、振動磨機、輥碎機、離心撞擊磨機、豎直砂磨機、磨粉機、針磨機、錘磨機、磨粉機、撕碎機、碎料機、刀切割機或熟練技術人員已知之其他此類設備。在含有碳酸鈣之礦物材料包含經濕式研磨的含有碳酸鈣之礦物材料的情況下，可在使得發生自體研磨之條件下及/或藉由水平球磨研磨及/或熟練技術人員已知之其他此類方法來進行研磨步驟。因此獲得的經濕式處理之含有經研磨碳酸鈣之礦物材料可藉由熟知方法洗滌及脫水，例如藉由在乾燥之前絮凝、離心、過濾或強制蒸發。乾燥之後續步驟可在單個步驟(諸如噴霧乾燥)或在至少兩個步驟中進行。亦常見此類礦物材料經受選礦步驟(諸如浮選、漂白或磁性分離步驟)以移除雜質。
在本發明之含義中，「沈澱碳酸鈣」(PCC)為合成材料，其一般藉由二氧化碳與石灰在水性環境中之反應之後沈澱或藉由鈣及碳酸根離子源在水中沈澱或藉由鈣及碳酸根離子(例如CaCl2及Na2CO3)自溶液沈 澱出來獲得。產生PCC之其他可能方式為石灰鹼法，或索耳未法(Solvay process)，其中PCC為氨製造之副產品。沈澱碳酸鈣以三種主要結晶形式存在：方解石、文石及六方方解石，且此等結晶形式各自存在許多不同多晶型物(晶體慣態)。方解石具有三方結構，其典型晶體慣態為諸如偏三角面體(S-PCC)、菱面體(R-PCC)、六方稜柱形、軸面、膠狀(C-PCC)、立方體及稜柱形(P-PCC)。文石為斜方晶結構，其典型晶體慣態為雙晶六方稜柱形晶體，以及不同類別之細長稜柱形、彎曲葉片狀、陡錐狀、鏨子狀晶體，分枝樹狀及珊瑚或蠕蟲樣形式。六方方解石屬於六方晶體系統。所獲得之PCC漿液可以機械方式脫水及乾燥。
根據本發明之一個具體實例，碳酸鈣包含一種沈澱碳酸鈣。根據本發明之另一具體實例，碳酸鈣包含選自沈澱碳酸鈣之不同結晶形式及不同多晶型物的兩種或兩種以上沈澱碳酸鈣之混合物。舉例而言，至少一種沈澱碳酸鈣可包含一種選自S-PCC之PCC及一種選自R-PCC之PCC。
可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物可為經表面處理之材料，例如經表面處理之碳酸鈣。
經表面處理之碳酸鈣可提供經研磨碳酸鈣、經改質碳酸鈣或表面上包含處理層或塗層之沈澱碳酸鈣。舉例而言，碳酸鈣可用諸如脂族羧酸、其鹽或酯、或矽氧烷之疏水劑處理或塗佈。適合脂族酸為例如C5至C28脂肪酸，諸如硬脂酸、棕櫚酸、肉豆蔻酸、月桂酸或其混合物。亦可用例如聚丙烯酸鹽或聚二烯丙基二甲基氯化銨(polydiallyldimethylammonium chloride；polyDADMAC)處理或塗佈碳酸鈣，使其變為陽離子或陰離子。經表面處理之碳酸鈣例如描述於EP 2 159 258 A1或WO 2005/121257 A1中。
根據一個具體實例，經表面處理之碳酸鈣包含用脂肪酸、其鹽、其酯或其組合處理獲得，較佳用脂族C5至C28脂肪酸、其鹽、其酯或其組合處理獲得，且更佳用硬脂酸銨、硬脂酸鈣、硬脂酸、棕櫚酸、肉豆蔻酸、十二酸或其混合物處理獲得之處理層或表面塗層。根據例示性具體實例，鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽為經表面處理之碳酸鈣，較佳包含用脂肪酸，較佳硬脂酸處理獲得之處理層或表面塗層的經研磨碳酸鈣。
在一個具體實例中，疏水劑為碳原子總量為C4至C24之脂族羧酸及/或其反應產物。因此，碳酸鈣粒子的至少一部分可達表面區域由包含碳原子總量為C4至C24之脂族羧酸及/或其反應產物的處理層覆蓋。術語材料之「可接入」表面積指與液相水溶液、懸浮液、分散液或反應分子(諸如疏水劑)接觸的材料表面之部分。
在本發明之含義中，術語脂族羧酸之「反應產物」指藉由使至少一種碳酸鈣與至少一種脂族羧酸接觸獲得之產物。該等反應產物在所施加的至少一種脂族羧酸的至少一部分與位於碳酸鈣粒子表面之反應分子之間形成。
在本發明之含義中，脂族羧酸可選自一或多個直鏈、分支鏈、飽和、不飽和及/或脂環族羧酸。較佳地，脂族羧酸為一元羧酸，亦即脂族羧酸特徵在於存在單個羧基。該羧基位於碳骨架之末端。
在本發明的一個具體實例中，脂族羧酸係選自飽和未分支羧酸，換言之，脂族羧酸較佳選自由以下組成之羧酸基團：戊酸、己酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、十一烷酸、月桂酸、十三烷酸、肉豆蔻酸、十五烷酸、棕櫚酸、十七烷酸、硬脂酸、十九烷酸、二十烷酸、二十一烷酸、 二十二烷酸、二十三烷酸、二十四烷酸及其混合物。
在本發明之另一具體實例中，脂族羧酸係選自由以下組成之群：辛酸、癸酸、月桂酸、肉豆蔻酸、棕櫚酸、硬脂酸、二十烷酸及其混合物。較佳地，脂族羧酸係選自由以下組成之群：肉豆蔻酸、棕櫚酸、硬脂酸及其混合物。舉例而言，脂族羧酸為硬脂酸。
另外或替代地，疏水劑可為至少一種單取代之丁二酸酐，其由經選自取代基中碳原子總量為C2至C30的直鏈、分支鏈、脂族及環基單取代之丁二酸酐組成。因此，碳酸鈣粒子之至少一部分可達表面區域經包含至少一個經單取代之丁二酸酐(由經選自取代基中碳原子總量為C2至C30的直鏈、分支鏈、脂族及環基單取代之丁二酸酐組成)及/或其反應產物的處理層覆蓋。
在本發明之含義中，術語經單取代之丁二酸酐的「反應產物」指藉由碳酸鈣與至少一種經單取代之丁二酸酐接觸獲得的產物。該等反應產物在所施加的至少一種經單取代之丁二酸酐的至少一部分與位於碳酸鈣粒子表面之反應分子之間形成。
舉例而言，至少一種經單取代之丁二酸酐由經一個基團單取代之丁二酸酐組成，該基團為取代基中碳原子總量為C2至C30，較佳C3至C20且最佳C4至C18之直鏈烷基或取代基中碳原子總量為C3至C30，較佳地C3至C20且最佳C4至C18之分支鏈烷基。
舉例而言，至少一個經單取代之丁二酸酐由經一個基團單取代之丁二酸酐組成，該基團為取代基中碳原子總量為C2至C30，較佳C3至C20且最佳C4至C18之直鏈烷基。另外或替代地，至少一個經單取代之 丁二酸酐由經一個基團單取代之丁二酸酐組成，該基團為取代基中碳原子總量為C3至C30，較佳C3至C20且最佳C4至C18之分支鏈烷基。
在本發明之含義中，術語「烷基」指由碳及氫構成的直鏈或分支鏈飽和有機化合物。換言之，「經烷基單取代之丁二酸酐」由含有側接丁二酸酐基團的直鏈或分支鏈飽和烴鏈構成。
在本發明之一個具體實例中，至少一種經單取代之丁二酸酐為至少一種經直鏈或分支鏈烷基單取代之丁二酸酐。舉例而言，至少一種經烷基單取代之丁二酸酐選自包含以下之群：乙基丁二酸酐、丙基丁二酸酐、丁基丁二酸酐、三異丁基丁二酸酐、戊基丁二酸酐、己基丁二酸酐、庚基丁二酸酐、辛基丁二酸酐、壬基丁二酸酐、癸基丁二酸酐、十二烷基丁二酸酐、十六烷基丁二酸酐、十八烷基丁二酸酐，及其混合物。
應瞭解，例如術語「丁基丁二酸酐」包含直鏈及分支鏈丁基丁二酸酐。直鏈丁基丁二酸酐之一個特定實例為正丁基丁二酸酐。分支鏈丁基丁二酸酐之特定實例為異丁基丁二酸酐、第二丁基丁二酸酐及/或第三丁基丁二酸酐。
此外，應瞭解，例如術語「十六烷基丁二酸酐」包含直鏈及分支鏈十六烷基丁二酸酐。直鏈十六烷基丁二酸酐之一個特定實例為正十六烷基丁二酸酐。分支鏈十六烷基丁二酸酐之特定實例為14-甲基十五烷基丁二酸酐、13-甲基十五烷基丁二酸酐、12-甲基十五烷基丁二酸酐、11-甲基十五烷基丁二酸酐、10-甲基十五烷基丁二酸酐、9-甲基十五烷基丁二酸酐、8-甲基十五烷基丁二酸酐、7-甲基十五烷基丁二酸酐、6-甲基十五烷基丁二酸酐、5-甲基十五烷基丁二酸酐、4-甲基十五烷基丁二酸酐、3-甲基十五烷 基丁二酸酐、2-甲基十五烷基丁二酸酐、1-甲基十五烷基丁二酸酐、13-乙基十四烷基丁二酸酐、12-乙基十四烷基丁二酸酐、11-乙基十四烷基丁二酸酐、10-乙基十四烷基丁二酸酐、9-乙基十四烷基丁二酸酐、8-乙基十四烷基丁二酸酐、7-乙基十四烷基丁二酸酐、6-乙基十四烷基丁二酸酐、5-乙基十四烷基丁二酸酐、4-乙基十四烷基丁二酸酐、3-乙基十四烷基丁二酸酐、2-乙基十四烷基丁二酸酐、1-乙基十四烷基丁二酸酐、2-丁基十二烷基丁二酸酐、1-己基癸基丁二酸酐、1-己基-2-癸基丁二酸酐、2-己基癸基丁二酸酐、6,12-二甲基十四烷基丁二酸酐、2,2-二乙基十二烷基丁二酸酐、4,8,12-三甲基十三烷基丁二酸酐、2,2,4,6,8-五甲基十一烷基丁二酸酐、2-乙基-4-甲基-2-(2-甲基戊基)-庚基丁二酸酐及/或2-乙基-4,6-二甲基-2-丙基壬基丁二酸酐。
此外，應瞭解，例如術語「十八烷基丁二酸酐」包含直鏈及分支鏈十八烷基丁二酸酐。直鏈十八烷基丁二酸酐之一個特定實例為正十八烷基丁二酸酐。分支鏈十六烷基丁二酸酐之特定實例為16-甲基十七烷基丁二酸酐、15-甲基十七烷基丁二酸酐、14-甲基十七烷基丁二酸酐、13-甲基十七烷基丁二酸酐、12-甲基十七烷基丁二酸酐、11-甲基十七烷基丁二酸酐、10-甲基十七烷基丁二酸酐、9-甲基十七烷基丁二酸酐、8-甲基十七烷基丁二酸酐、7-甲基十七烷基丁二酸酐、6-甲基十七烷基丁二酸酐、5-甲基十七烷基丁二酸酐、4-甲基十七烷基丁二酸酐、3-甲基十七烷基丁二酸酐、2-甲基十七烷基丁二酸酐、1-甲基十七烷基丁二酸酐、14-乙基十六烷基丁二酸酐、13-乙基十六烷基丁二酸酐、12-乙基十六烷基丁二酸酐、11-乙基十六烷基丁二酸酐、10-乙基十六烷基丁二酸酐、9-乙基十六烷基丁二酸酐、8-乙基十六烷基丁二酸酐、7-乙基十六烷基丁二酸酐、6-乙基十六烷基丁二酸 酐、5-乙基十六烷基丁二酸酐、4-乙基十六烷基丁二酸酐、3-乙基十六烷基丁二酸酐、2-乙基十六烷基丁二酸酐、1-乙基十六烷基丁二酸酐、2-己基十二烷基丁二酸酐、2-庚基十一烷基丁二酸酐、異十八烷基丁二酸酐及/或1-辛基-2-癸基丁二酸酐。
在本發明之一個具體實例中，至少一種經烷基單取代之丁二酸酐選自包含以下之群：丁基丁二酸酐、己基丁二酸酐、庚基丁二酸酐、辛基丁二酸酐、十六烷基丁二酸酐、十八烷基丁二酸酐及其混合物。
在本發明之一個具體實例中，至少一種經單取代之丁二酸酐為一種經烷基單取代之丁二酸酐。舉例而言，一種經烷基單取代之丁二酸酐為丁基丁二酸酐。或者，一種經烷基單取代之丁二酸酐為己基丁二酸酐。或者，一種經烷基單取代之丁二酸酐為庚基丁二酸酐或辛基丁二酸酐。或者，一種經烷基單取代之丁二酸酐為十六烷基丁二酸酐。舉例而言，一種經烷基單取代之丁二酸酐為直鏈十六烷基丁二酸酐，諸如正十六烷基丁二酸酐；或分支鏈十六烷基丁二酸酐，諸如1-己基-2-癸基丁二酸酐。或者，一種經烷基單取代之丁二酸酐為十八烷基丁二酸酐。舉例而言，一種經烷基單取代之丁二酸酐為直鏈十八烷基丁二酸酐，諸如正十八烷基丁二酸酐；或分支鏈十八烷基丁二酸酐，諸如異十八烷基丁二酸酐或1-辛基-2-癸基丁二酸酐。
在本發明之一個具體實例中，一種經烷基單取代之丁二酸酐為丁基丁二酸酐，諸如正丁基丁二酸酐。
在本發明之一個具體實例中，至少一種經單取代之丁二酸酐為兩種或兩種以上經烷基單取代之丁二酸酐之混合物。舉例而言，至少一 種經單取代之丁二酸酐為兩種或三種經烷基單取代之丁二酸酐的混合物。
在本發明之一個具體實例中，至少一種經單取代之丁二酸酐由經一個基團單取代之丁二酸酐組成，該基團為取代基中碳原子總量為C2至C30，較佳C3至C20且最佳C4至C18之直鏈烯基或取代基中碳原子總量為C3至C30，較佳C4至C20且最佳C4至C18之分支鏈烯基。
在本發明之含義中，術語「烯基(alkenyl)」指由碳及氫構成的直鏈或分支鏈不飽和有機化合物。該有機化合物另外在取代基中含有至少一個雙鍵，較佳一個雙鍵。換言之，「經烯基單取代之丁二酸酐」由含有側接丁二酸酐基團的直鏈或分支鏈不飽和烴鏈構成。應瞭解，在本發明之含義中，術語「烯基」包括順式異構體及反式異構體。
在本發明之一個具體實例中，至少一種經單取代之丁二酸酐為至少一種經直鏈或分支鏈烯基單取代之丁二酸酐。舉例而言，至少一種經烯基單取代之丁二酸酐選自包含以下之群：乙烯基丁二酸酐、丙烯基丁二酸酐、丁烯基丁二酸酐、三異丁烯基丁二酸酐、戊烯基丁二酸酐、己烯基丁二酸酐、庚烯基丁二酸酐、辛烯基丁二酸酐、壬烯基丁二酸酐、癸烯基丁二酸酐、十二烯基丁二酸酐、十六烯基丁二酸酐、十八烯基丁二酸酐及其混合物。
因此，應瞭解，例如術語「十六烯基丁二酸酐」包含直鏈及分支鏈十六烯基丁二酸酐。直鏈十六烯基丁二酸酐之一個特定實例為正十六烯基丁二酸酐，諸如14-十六烯基丁二酸酐、13-十六烯基丁二酸酐、12-十六烯基丁二酸酐、11-十六烯基丁二酸酐、10-十六烯基丁二酸酐、9-十六烯基丁二酸酐、8-十六烯基丁二酸酐、7-十六烯基丁二酸酐、6-十六烯基丁 二酸酐、5-十六烯基丁二酸酐、4-十六烯基丁二酸酐、3-十六烯基丁二酸酐及/或2-十六烯基丁二酸酐。分支鏈十六烯基丁二酸酐之特定實例為14-甲基-9-十五烯基丁二酸酐、14-甲基-2-十五烯基丁二酸酐、1-己基-2-癸烯基丁二酸酐及/或異十六烯基丁二酸酐。
此外，應瞭解，例如術語「十八烯基丁二酸酐(octadecenyl succinic anhydride)」包含直鏈及分支鏈十八烯基丁二酸酐。直鏈十八烯基丁二酸酐之一個特定實例為正十八烯基丁二酸酐，諸如16-十八烯基丁二酸酐、15-十八烯基丁二酸酐、14-十八烯基丁二酸酐、13-十八烯基丁二酸酐、12-十八烯基丁二酸酐、11-十八烯基丁二酸酐、10-十八烯基丁二酸酐、9-十八烯基丁二酸酐、8-十八烯基丁二酸酐、7-十八烯基丁二酸酐、6-十八烯基丁二酸酐、5-十八烯基丁二酸酐、4-十八烯基丁二酸酐、3-十八烯基丁二酸酐及/或2-十八烯基丁二酸酐。分支鏈十八烯基丁二酸酐之特定實例為16-甲基-9-十七烯基丁二酸酐、16-甲基-7-十七烯基丁二酸酐、1-辛基-2-癸烯基丁二酸酐及/或異十八烯基丁二酸酐。
在本發明之一個具體實例中，至少一種經烯基單取代之丁二酸酐選自包含以下之群：己烯基丁二酸酐、辛烯基丁二酸酐、十六烯基丁二酸酐、十八烯基丁二酸酐及其混合物。
在本發明之一個具體實例中，至少一種經單取代之丁二酸酐為一種經烯基單取代之丁二酸酐。舉例而言，一種經烯基單取代之丁二酸酐為己烯基丁二酸酐。或者，一種經烯基單取代之丁二酸酐為辛烯基丁二酸酐。或者，一種經烯基單取代之丁二酸酐為十六烯基丁二酸酐。舉例而言，一種經烯基單取代之丁二酸酐為直鏈十六烯基丁二酸酐，諸如正十六 烯基丁二酸酐；或分支鏈十六烯基丁二酸酐，諸如1-己基-2-癸烯基丁二酸酐。或者，一種經烯基單取代之丁二酸酐為十八烯基丁二酸酐。舉例而言，一種經烷基單取代之丁二酸酐為直鏈十八烯基丁二酸酐，諸如正十八烯基丁二酸酐；或分支鏈十八烯基丁二酸酐，諸如異十八烯基丁二酸酐，或1-辛基-2-癸烯基丁二酸酐。
在本發明之一個具體實例中，一種經烯基單取代之丁二酸酐為直鏈十八烯基丁二酸酐，諸如正十八烯基丁二酸酐。在本發明之另一具體實例中，一種經烯基單取代之丁二酸酐為直鏈辛烯基丁二酸酐，諸如正辛烯基丁二酸酐。
若至少一種經單取代之丁二酸酐為一種經烯基單取代之丁二酸酐，則應瞭解，該一種經烯基單取代之丁二酸酐存在的量以至少一種經單取代之丁二酸酐之總重量計為95wt%且較佳為96.5wt%。
在本發明之一個具體實例中，至少一種經單取代之丁二酸酐為兩種或兩種以上經烯基單取代之丁二酸酐的混合物。舉例而言，至少一種經單取代之丁二酸酐為兩種或三種經烯基單取代之丁二酸酐之混合物。
在本發明之一個具體實例中，至少一種經單取代之丁二酸酐為兩種或兩種以上經烯基單取代之丁二酸酐之混合物，包含直鏈十六烯基丁二酸酐及直鏈十八烯基丁二酸酐。或者，至少一種經單取代之丁二酸酐為兩種或兩種以上經烯基單取代之丁二酸酐之混合物，包含分支鏈十六烯基丁二酸酐及分支鏈十八烯基丁二酸酐。舉例而言，一或多種十六烯基丁二酸酐為直鏈十六烯基丁二酸酐，如正十六烯基丁二酸酐；及/或分支鏈十六烯基丁二酸酐，如1-己基-2-癸烯基丁二酸酐。另外或替代地，一或多種 十八烯基丁二酸酐為直鏈十八烯基丁二酸酐，如正十八烯基丁二酸酐；及/或分支鏈十八烯基丁二酸酐，如異十八烯基丁二酸酐及/或1-辛基-2-癸烯基丁二酸酐。
亦應瞭解，至少一種經單取代之丁二酸酐可為至少一種經烷基單取代之丁二酸酐與至少一種經烯基單取代之丁二酸酐之混合物。
若至少一種經單取代之丁二酸酐為至少一種經烷基單取代之丁二酸酐與至少一種經烯基單取代之丁二酸酐的混合物，則應瞭解，至少一種經烷基單取代之丁二酸酐中的烷基取代基及至少一種經烯基單取代之丁二酸酐中的烯基取代基較佳相同。舉例而言，至少一種經單取代之丁二酸酐為乙基丁二酸酐與乙烯基丁二酸酐之混合物。或者，至少一種經單取代之丁二酸酐為丙基丁二酸酐與丙烯基丁二酸酐之混合物。或者，至少一種經單取代之丁二酸酐為丁基丁二酸酐與丁烯基丁二酸酐之混合物。或者，至少一種經單取代之丁二酸酐為三異丁基丁二酸酐與三異丁烯基丁二酸酐之混合物。或者，至少一種經單取代之丁二酸酐為戊基丁二酸酐與戊烯基丁二酸酐之混合物。或者，至少一種經單取代之丁二酸酐為己基丁二酸酐與己烯基丁二酸酐之混合物。或者，至少一種經單取代之丁二酸酐為庚基丁二酸酐與庚烯基丁二酸酐之混合物。或者，至少一種經單取代之丁二酸酐為辛基丁二酸酐與辛烯基丁二酸酐之混合物。或者，至少一種經單取代之丁二酸酐為壬基丁二酸酐與壬烯基丁二酸酐之混合物。或者，至少一種經單取代之丁二酸酐為癸基丁二酸酐與癸烯基丁二酸酐之混合物。或者，至少一種經單取代之丁二酸酐為十二烷基丁二酸酐與十二烯基丁二酸酐之混合物。或者，至少一種經單取代之丁二酸酐為十六烷基丁二酸酐與 十六烯基丁二酸酐之混合物。舉例而言，至少一種經單取代之丁二酸酐為直鏈十六烷基丁二酸酐與直鏈十六烯基丁二酸酐之混合物，或分支鏈十六烷基丁二酸酐與分支鏈十六烯基丁二酸酐之混合物。或者，至少一種經單取代之丁二酸酐為十八烷基丁二酸酐與十八烯基丁二酸酐之混合物。舉例而言，至少一種經單取代之丁二酸酐為直鏈十八烷基丁二酸酐與直鏈十八烯基丁二酸酐之混合物，或分支鏈十八烷基丁二酸酐與分支鏈十八烯基丁二酸酐之混合物。
在本發明之一個具體實例中，至少一種經單取代之丁二酸酐為壬基丁二酸酐與壬烯基丁二酸酐之混合物。
若至少一種經單取代之丁二酸酐為至少一種經烷基單取代之丁二酸酐與至少一種經烯基單取代之丁二酸酐的混合物，則至少一種經烷基單取代之丁二酸酐與至少一種經烯基單取代之丁二酸酐之間的重量比為90：10至10：90(wt.%/wt.%)。舉例而言，至少一種經烷基單取代之丁二酸酐比至少一種經烯基單取代之丁二酸酐之間的重量比為70：30至30：70(wt.%/wt.%)或60：40至40：60。
另外或替代地，疏水劑可為磷酸酯摻合物。因此，碳酸鈣粒子之至少一部分可達表面區域經包含一或多種磷酸單酯及/或其反應產物與一或多種磷酸二酯及/或其反應產物之磷酸酯摻合物的處理層覆蓋。
在本發明之含義中，術語磷酸單酯及一或多種磷酸二酯之「反應產物」指藉由碳酸鈣與至少一種磷酸酯摻合物接觸獲得的產物。所施加磷酸酯摻合物的至少一部分與位於碳酸鈣粒子表面之反應分子之間形成該反應產物。
在本發明之含義中，術語「磷酸單酯」指用一個選自以下之醇分子單酯化之O-磷酸分子：醇取代基中之碳原子總量為C6至C30，較佳C8至C22，更佳C8至C20且最佳C8至C18的不飽和或飽和分支鏈或直鏈脂族或芳族醇。
在本發明之含義中，術語「磷酸二酯」指用兩個選自以下之醇分子二酯化之O-磷酸分子：醇取代基中之碳原子總量為C6至C30，較佳C8至C22，更佳C8至C20且最佳C8至C18的相同或不同之不飽和或飽和分支鏈或直鏈脂族或芳族醇。
應瞭解，表述「一或多種」磷酸單酯意謂磷酸酯摻合物中可能存在的一或多種磷酸單酯。
因此，應注意，一或多種磷酸單酯可為一種磷酸單酯。或者，一或多種磷酸單酯可為兩種或兩種以上磷酸單酯之混合物。舉例而言，一或多種磷酸單酯可為兩種或三種磷酸單酯，如兩種磷酸單酯之混合物。
在本發明之一個具體實例中，一或多種磷酸單酯由經一個選自以下之醇酯化的O-磷酸分子組成：醇取代基中碳原子總量為C6至C30之不飽和或飽和分支鏈或直鏈脂族或芳族醇。舉例而言，一或多種磷酸單酯由用一個選自以下之醇酯化之O-磷酸分子組成：醇取代基中碳原子總量為C8至C22，更佳地C8至C20且最佳C8至C18之不飽和或飽和分支鏈或直鏈脂族或芳族醇。
在本發明之一個具體實例中，一或多種磷酸單酯選自包含以下之群：己基磷酸單酯、庚基磷酸單酯、辛基磷酸單酯、2-乙基己基磷酸單酯、壬基磷酸單酯、癸基磷酸單酯、十一烷基磷酸單酯、十二烷基磷酸單 酯、十四基磷酸單酯、十六烷基磷酸單酯、庚基壬基磷酸單酯、十八烷基磷酸單酯、2-辛基-1-癸基磷酸單酯、2-辛基-1-十二烷基磷酸單酯及其混合物。
舉例而言，一或多種磷酸單酯選自包含以下之群：2-乙基己基磷酸單酯、十六烷基磷酸單酯、庚基壬基磷酸單酯、十八烷基磷酸單酯、2-辛基-1-癸基磷酸單酯、2-辛基-1-十二烷基磷酸單酯及其混合物。在本發明之一個具體實例中，一或多種磷酸單酯為2-辛基-1-十二烷基磷酸單酯。
應瞭解，表述「一或多種」磷酸二酯意謂碳酸鈣及/或磷酸酯摻合物之塗層中可存在一或多種磷酸二酯。
因此，應注意，一或多種磷酸二酯可為一種磷酸二酯。或者，一或多種磷酸二酯可為兩種或兩種以上磷酸二酯之混合物。舉例而言，一或多種磷酸二酯可為兩種或三種磷酸二酯，如兩種磷酸二酯之混合物。
在本發明之一個具體實例中，一或多種磷酸二酯由經兩個選自以下之醇酯化的O-磷酸分子組成：醇取代基中碳原子總量為C6至C30之不飽和或飽和分支鏈或直鏈脂族或芳族醇。舉例而言，一或多種磷酸二酯由用兩個選自以下之脂肪醇酯化的O-磷酸分子組成：醇取代基中碳原子總量為C8至C22，更佳C8至C20且最佳C8至C18的不飽和或飽和分支鏈或直鏈脂族或芳族醇。
應瞭解，用於酯化磷酸之兩種醇可獨立地選自醇取代基中碳原子總量為C6至C30的相同或不同不飽和或飽和分支鏈或直鏈脂族或芳族醇。換言之，一或多種磷酸二酯可包含自相同醇衍生之兩個取代基或磷酸二酯分子可包含衍生自不同醇之兩個取代基。
在本發明之一個具體實例中，一或多種磷酸二酯由用選自以 下之兩種醇酯化的O-磷酸分子組成：醇取代基中碳原子總量為C6至C30，較佳C8至C22，更佳C8至C20且最佳C8至C18的相同或不同飽和及直鏈及脂族醇。或者，一或多種磷酸二酯由用選自以下之兩種醇酯化的O-磷酸分子組成：醇取代基中碳原子總量為C6至C30，較佳C8至C22，更佳C8至C20且最佳C8至C18之相同或不同飽和及分支鏈及脂族醇。
在本發明之一個具體實例中，一或多種磷酸二酯選自包含以下之群：己基磷酸二酯、庚基磷酸二酯、辛基磷酸二酯、2-乙基己基磷酸二酯、壬基磷酸二酯、癸基磷酸二酯、十一烷基磷酸二酯、十二烷基磷酸二酯、十四基磷酸二酯、十六烷基磷酸二酯、庚基壬基磷酸二酯、十八烷基磷酸二酯、2-辛基-1-癸基磷酸二酯、2-辛基-1-十二烷基磷酸二酯及其混合物。
舉例而言，一或多種磷酸二酯選自包含以下之群：2-乙基己基磷酸二酯、十六烷基磷酸二酯、庚基壬基磷酸二酯、十八烷基磷酸二酯、2-辛基-1-癸基磷酸二酯、2-辛基-1-十二烷基磷酸二酯及其混合物。在本發明之一個具體實例中，一或多種磷酸二酯為2-辛基-1-十二烷基磷酸二酯。
在本發明之一個具體實例中，一或多種磷酸單酯選自包含以下之群：2-乙基己基磷酸、十六烷基磷酸單酯、庚基壬基磷酸單酯、十八烷基磷酸單酯、2-辛基-1-癸基磷酸單酯、2-辛基-1-十二烷基磷酸單酯及其混合物，且一或多種磷酸二酯選自包含以下之群：2-乙基己基磷酸二酯、十六烷基磷酸二酯、庚基壬基磷酸二酯、十八烷基磷酸二酯、2-辛基-1-癸基磷酸二酯、2-辛基-1-十二烷基磷酸二酯及其混合物。
舉例而言，碳酸鈣的至少一部分可達表面區域包含一種磷酸單酯及/或其反應產物與一種磷酸二酯及/或其反應產物的磷酸酯摻合物。在 此情形下，一種磷酸單酯選自包含以下之群：2-乙基己基磷酸單酯、十六烷基磷酸單酯、庚基壬基磷酸單酯、十八烷基磷酸單酯、2-辛基-1-癸基磷酸單酯及2-辛基-1-十二烷基磷酸單酯，一種磷酸二酯選自包含以下之群：2-乙基己基磷酸二酯、十六烷基磷酸二酯、庚基壬基磷酸二酯、十八烷基磷酸二酯、2-辛基-1-癸基磷酸二酯及2-辛基-1-十二烷基磷酸二酯。
磷酸酯摻合物包含特定莫耳比之一或多種磷酸單酯及/或其反應產物與一或多種磷酸二酯及/或其反應產物。詳言之，處理層及/或磷酸酯摻合物中的一或多種磷酸單酯及/或其反應產物與一或多種磷酸二酯及/或其反應產物之莫耳比為1：1至1：100，較佳1：1.1至1：60，更佳1：1.1至1：40，甚至更佳1：1.1至1：20且最佳1：1.1至1：10。
在本發明之含義中，措辭「一或多種磷酸單酯及其反應產物與一或多種磷酸二酯及其反應產物之莫耳比」指磷酸單酯分子的分子量總和及/或其反應產物中之磷酸單酯分子之分子量總和比磷酸二酯分子之分子量總和及/或其反應產物中之磷酸二酯分子的分子量總和。
在本發明之一個具體實例中，塗佈於碳酸鈣表面的至少一部分的磷酸酯摻合物可進一步包含一或多種磷酸三酯及/或磷酸及/或其反應產物。
在本發明之含義中，術語「磷酸三酯」指用三種選自以下之醇分子三酯化的O-磷酸分子：醇取代基中碳原子總量為C6至C30，較佳C8至C22，更佳C8至C20且最佳C8至C18的相同或不同不飽和或飽和分支鏈或直鏈脂族或芳族醇。
應瞭解，表述「一或多種」磷酸三酯意謂碳酸鈣的至少一部 分可達表面區域上可存在一或多種磷酸三酯。
因此，應注意，一或多種磷酸三酯可為一種磷酸三酯。或者，一或多種磷酸三酯可為兩種或兩種以上磷酸三酯之混合物。舉例而言，一或多種磷酸三酯可為兩種或三種磷酸三酯，如兩種磷酸三酯之混合物。
根據本發明之一較佳具體實例，在方法步驟a)中提供基板，其中基板的至少一側上包含具有碳酸鈣，較佳經研磨碳酸鈣、沈澱碳酸鈣及/或經表面處理之碳酸鈣的塗層。
根據一個具體實例，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物呈粒子形式，重量中值粒徑d50為15nm至200μm，較佳20nm至100μm，更佳50nm至50μm，且最佳100nm至2μm。
根據一個具體實例，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之比表面積為4至120cm2/g，較佳8至50cm2/g。
塗層中可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之量可在以塗層之總重量計40至99wt%，較佳45至98wt%，且更佳60至97wt%範圍內。
根據一個具體實例，塗層另外包含較佳以可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之總重量計1至50wt%，較佳3至30wt%，且更佳5至15wt%之量的黏合劑。
在本發明之液體塗佈組成物中可使用任何適合聚合黏合劑。舉例而言，聚合黏合劑可為親水性聚合物，諸如聚乙烯醇、聚乙烯吡咯啶酮、明膠、纖維素醚、聚噁唑啉、聚乙烯基乙醯胺、部分水解之聚乙酸乙烯酯/乙烯醇、聚丙烯酸、聚丙烯醯胺、聚烷醚、磺化或磷酸化聚酯及聚苯乙烯、酪蛋白、玉米蛋白、白蛋白、幾丁質、聚葡萄胺糖、聚葡萄糖、 果膠、膠原蛋白衍生物、火棉膠、瓊脂-瓊脂、竹芋粉、瓜爾豆、角叉菜膠、澱粉、黃蓍、三仙膠或鼠李聚糖(rhamsan)及其混合物。亦可使用其他黏合劑，諸如疏水性材料，例如聚(苯乙烯-共-丁二烯)、聚胺基甲酸酯乳膠、聚酯乳膠、聚(丙烯酸正丁酯)、聚(甲基丙烯酸正丁酯)、聚(丙烯酸2-乙基己酯)、正丙烯酸丁酯及丙烯酸乙酯之共聚物、乙酸乙烯酯及丙烯酸正丁酯之共聚物及其類似物及其混合物。適合黏合劑之其他實例為丙烯酸及/或甲基丙烯酸之均聚物或共聚物；伊康酸；及酸酯，諸如丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯；苯乙烯；未經取代或經取代之氯乙烯；乙酸乙烯酯；乙烯；丁二烯；丙烯醯胺及丙烯腈；聚矽氧樹脂；水可稀釋的醇酸樹脂；丙烯酸/醇酸樹脂組合；天然油，諸如亞麻籽油；及其混合物。
根據一個具體實例，黏合劑係選自澱粉、聚乙烯醇、苯乙烯-丁二烯乳膠、苯乙烯-丙烯酸酯、聚乙酸乙烯酯乳膠、聚烯烴、丙烯酸乙烯酯、微纖維化纖維素、微晶纖維素、奈米纖維素、纖維素、羧基甲基纖維素、生物類乳膠或其混合物。
根據另一具體實例，塗層不包含黏合劑。
塗層中可存在之其他任選添加劑為例如分散劑、研磨助劑、界面活性劑、流變改質劑、潤滑劑、消泡劑、光學增亮劑、染料、防腐劑或pH值控制劑。根據一個具體實例，塗層進一步包含流變改質劑。流變改質劑較佳以填充劑之總重量計小於1wt%之量存在。
根據例示性具體實例，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物用分散劑分散。分散劑可以可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之總重量計0.01至10wt%，0.05至8wt%，0.5至5wt%，0.8至3wt%或1.0至1.5wt%之量使用。 在一較佳具體實例中，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物用以可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之總重量計0.05至5wt%之量，且較佳0.5至5wt%之量的分散劑分散。適合分散劑較佳選自包含以下之群：基於例如丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸或伊康酸及丙烯醯胺或其混合物之聚羧酸鹽之均聚物或共聚物。丙烯酸之均聚物或共聚物尤其較佳。此類產物之分子量Mw較佳在2000g/mol至15000g/mol範圍內，其中3000g/mol至7000g/mol之分子量尤其較佳。此類產物之分子量Mw亦較佳在2000至150000g/mol範圍內，且15000至50000g/mol之Mw尤其較佳，例如35000至45000g/mol。根據例示性具體實例，分散劑為聚丙烯酸酯。
塗層亦可包含活性劑(例如生物活性分子)作為添加劑，例如酶類、對pH或溫度改變敏感之色度指示劑、螢光物質。
根據一個具體實例，塗層之塗料重量為0.5至100g/m2，較佳1至75g/m2，更佳2至50g/m2，且最佳4至25g/m2。
塗層可具有至少1μm，例如至少5μm、10μm、15μm或20μm之厚度。塗層較佳具有1μm至150μm範圍內的厚度。
根據一個具體實例，基板包含第一側及相對側，且基板在第一側及相對側上包含具有可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之塗層。根據一較佳具體實例，基板包含第一側及相對側，且基板在第一側及相對側上包含具有鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽，較佳碳酸鈣之塗層。
根據一個具體實例，塗層與基板表面直接接觸。
根據另一具體實例，基板在基板與包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物的塗層之間包含一或多個額外預塗層。此類額外預塗層可包含 高嶺土、二氧化矽、滑石、塑膠、沈澱碳酸鈣、改質碳酸鈣、經研磨碳酸鈣或其混合物。在此情形下，塗層可與預塗層直接接觸，或若存在一個以上層，則塗層可與頂部預塗層直接接觸。
根據本發明之另一具體實例，基板在基板與包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物的塗層之間包含一或多個阻擋層。在此情形下，塗層可與阻擋層直接接觸，或若存在一個以上阻擋層，則塗層可與頂部阻擋層直接接觸。阻擋層可包含聚合物，例如聚乙烯醇、聚乙烯吡咯啶酮、明膠、纖維素醚、聚噁唑啉、聚乙烯基乙醯胺、部分水解之聚乙酸乙烯酯/乙烯醇、聚丙烯酸、聚丙烯醯胺、聚烷醚、磺化或磷酸化聚酯及聚苯乙烯、酪蛋白、玉米蛋白、白蛋白、幾丁質、聚葡萄胺糖、聚葡萄糖、果膠、膠原蛋白衍生物、火棉膠、瓊脂-瓊脂、竹芋粉、瓜爾豆、角叉菜膠、澱粉、黃蓍、三仙膠、鼠李聚糖、聚(苯乙烯-共-丁二烯)、聚胺基甲酸酯乳膠、聚酯乳膠、聚(丙烯酸正丁酯)、聚(甲基丙烯酸正丁酯)、聚(丙烯酸2-乙基己酯)、丙烯酸正丁酯與丙烯酸乙酯之共聚物、乙酸乙烯酯與丙烯酸正丁酯之共聚物及其類似物及其混合物。適合阻擋層之其他實例為丙烯酸及/或甲基丙烯酸之均聚物或共聚物；伊康酸；及酸酯，諸如丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯；苯乙烯；未經取代或經取代之氯乙烯；乙酸乙烯酯；乙烯；丁二烯；丙烯醯胺及丙烯腈；聚矽氧樹脂；水可稀釋的醇酸樹脂；丙烯酸/醇酸樹脂組合；天然油，諸如亞麻籽油；及其混合物。根據一個具體實例，阻擋層包含乳膠、聚烯烴、聚乙烯醇、高嶺土、滑石、用於產生曲折結構(堆疊結構)之雲母及其混合物。
根據本發明之另一具體實例，基板在基板與包含可成鹽鹼金 屬或鹼土金屬化合物之塗層之間包含一或多個預塗層及阻擋層。在此情形下，塗層可分別與頂部預塗層或阻擋層直接接觸。
根據本發明之一個具體實例，步驟a)之基板藉由以下製備i)提供基板，ii)在基板之至少一側上施加包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之塗佈組成物以形成塗層，及iii)視情況乾燥塗層。
塗佈組成物可呈液體或乾燥形式。根據一個具體實例，塗佈組成物為乾燥塗佈組成物。根據另一具體實例，塗佈組成物為液體塗佈組成物。在此情形下，塗層可經乾燥。
根據本發明之一個具體實例，塗佈組成物為含水組成物，亦即含有水作為僅有溶劑之組成物。根據另一具體實例，塗佈組成物為非水性組成物。適合溶劑為熟練技術人員已知，且為例如脂族醇、具有4至14個碳原子之醚及二醚、二醇、烷氧基化二醇、二醇醚、烷氧基化芳族醇、芳族醇、其混合物或其與水之混合物。
根據本發明之一個具體實例，塗佈組成物之固體含量在以組成物之總重量計5wt%至75wt%，較佳20至67wt%，更佳30至65wt%，且最佳50至62wt%範圍內。根據一較佳具體實例，塗佈組成物為固體含量在以組成物之總重量計5wt%至75wt%，較佳20至67wt%，更佳30至65wt%，且最佳50至62wt%範圍內之水性組成物。
根據本發明之一個具體實例，塗佈組成物之布氏黏度為20℃下10至4000mPa．s，較佳20℃下100至3500mPa．s，更佳20℃下200至 3000mPa．s，且最佳20℃下250至2000mPa．s。
根據一個具體實例，亦在基板之相對側上進行方法步驟ii)及iii)以製造在第一側及相對側上塗佈之基板。可對於各側分別進行或可在第一側及相對側上同時進行此等步驟。
根據本發明之一個具體實例，可使用不同或相同塗佈組成物進行方法步驟ii)及iii)兩次或兩次以上。
根據本發明之一個具體實例，在方法步驟ii)之前在基板的至少一側上施加一或多種額外塗佈組成物。額外塗佈組成物可為預塗組成物及/或阻擋層組成物。
可藉由通常用於此技術中之習知塗佈方法將塗佈組成物施加至基板上。適合塗佈方法為例如氣刀塗佈、靜電塗佈、計量施膠壓製、薄膜塗佈、噴塗、繞線棒塗佈、狹縫塗佈、滑鬥塗佈、凹版印刷、簾幕式塗佈、高速塗佈及其類似方法。此等方法中之一些允許同時塗佈兩個或兩個以上層，其自製造經濟視角為較佳的。然而，亦可使用將適於在基板上形成塗層之任何其他塗佈方法。根據一例示性具體實例，藉由高速塗佈、計量施膠壓製、簾幕式塗佈、噴塗、柔版及凹版印刷或刮塗，較佳簾幕式塗佈施加塗佈組成物。
根據步驟iii)，將基板上形成之塗層乾燥。可藉由此項技術中已知之任何方法進行乾燥，且熟練技術人員將根據其方法設備調適諸如溫度之乾燥條件。舉例而言，可藉由紅外乾燥及/或對流乾燥乾燥塗層。可在室溫(亦即20℃±2℃之溫度)下或在其他溫度下進行乾燥步驟。根據一個具體實例，在25至150℃，較佳50至140℃，且更佳75至130℃之基板 表面溫度下進行方法步驟iii)。可以相同方式乾燥視情況施加之預塗層及/或阻擋層。
塗佈後，塗佈之基板可進行壓延或超壓延以提高表面光滑度。舉例而言，可在20℃至200℃，較佳60℃至100℃溫度下使用例如具有2至12個夾之壓延機進行壓延。該等夾可為硬的或軟的，硬夾例如可由陶瓷材料製成。根據一個例示性具體實例，在300kN/m下對塗佈之基板進行壓延以獲得光滑塗層。根據另一例示性具體實例，在120kN/m下對塗佈之基板進行壓延以獲得無光澤塗層。
方法步驟b)
根據本發明方法之步驟b)，將包含酸之液體處理組成物施加至塗層的至少一個區，在塗層上及/或內形成至少一個經表面改質之區。
液體處理組成物可包含任何無機酸或有機酸，該酸在與可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物反應時形成CO2。根據一個具體實例，酸為有機酸，較佳一元羧酸、二羧基或三羧酸。
根據一個具體實例，該至少一種酸為在20℃下具有0或0以下之pKa之強酸。根據另一具體實例，至少一種酸為在20℃下具有0至2.5之pKa值的中等強酸。若20℃下之pKa為0或0以下，則該酸較佳選自硫酸、鹽酸或其混合物。若20℃下之pKa為0至2.5，則該酸較佳選自H2SO3、H3PO4、乙二酸或其混合物。然而，亦可使用pKa超過2.5之酸，例如辛二酸、丁二酸、乙酸、檸檬酸、甲酸、胺基磺酸、酒石酸、苯甲酸或植酸。
根據本發明之一個具體實例，酸係選自由以下組成之群：鹽酸、硫酸、亞硫酸、磷酸、檸檬酸、乙二酸、乙酸、甲酸、胺基磺酸、酒 石酸、植酸、硼酸、丁二酸、辛二酸、苯甲酸或其混合物。根據一較佳具體實例，酸選自由以下組成之群：鹽酸、硫酸、亞硫酸、磷酸、乙二酸、硼酸、辛二酸、丁二酸、胺基磺酸、酒石酸或其混合物，酸更佳選自由以下組成之群：硫酸、磷酸、硼酸、辛二酸、胺基磺酸、酒石酸、或其混合物，且酸最佳為磷酸。
酸可由金一種類型之酸組成。或者，可由兩種或兩種以上類型之酸組成。
酸可以濃縮形式或稀釋形式施加。根據本發明之一個具體實例，液體處理組成物包含酸及水。根據本發明之另一具體實例，液體處理組成物包含酸及溶劑。根據本發明之另一具體實例，液體處理組成物包含酸、水及溶劑。適合溶劑為此項技術中已知，且為例如脂族醇、具有4至14個碳原子之醚及二醚、二醇、烷氧基化二醇、二醇醚、烷氧基化芳族醇、芳族醇、其混合物或其與水之混合物。根據一個例示性具體實例，液體塗佈組成物包含磷酸、水及乙醇，較佳為1：1：1之重量比。
根據一個具體實例，液體處理組成物包含以液體組成物之總重量計0.1至100wt%之量，較佳1至80wt%之量，更佳地2至50wt%之量，且最佳5至30wt%之量的酸。
除酸之外，液體處理組成物可進一步包含印刷墨水、著色墨水、著色劑、染料、金屬離子、過渡金屬離子、界面活性劑、分散劑、殺生物劑、腐蝕抑制劑、藥劑、疏水劑、蠟、鹽、聚合物、熱熔膠及/或聚合組成物。根據本發明之一個具體實例，液體處理組成物包含酸及疏水劑。在經表面處理之碳酸鈣的情形中，疏水劑可選自上述疏水劑。
液體處理組成物可藉由此項技術中已知的任何適合方法施加至塗層的至少一個區。
根據一個具體實例，液體處理組成物藉由噴塗、噴墨印刷、平版印刷、柔性凸版印刷、絲網印刷、繪圖、接觸衝壓、輪轉凹版印刷、旋塗、逆相凹版塗佈、槽縫式塗佈、簾幕式塗佈、滑動托架塗佈、薄膜印刷、定量薄膜印刷、刮塗、刷塗及/或鉛筆施加。較佳地，液體處理組成物藉由噴墨印刷(例如連續噴墨印刷或按需滴墨噴墨印刷)施加。
噴墨印刷技術可提供在塗層上放置極小液體之可能性，此允許在塗層上及/或內形成高分辨率圖案。根據一個具體實例，液體處理組成物以液滴形式施加至塗層。視噴墨印刷機而定，液滴可具有10μl至0.5pl範圍內之體積。根據一個具體實例，液滴具有小於或等於10μl，較佳小於或等於100nl，更佳小於或等於1nl，甚至更佳小於或等於10pl，且最佳小於或等於0.5pl之體積。舉例而言，液滴可具有10μl至1μl，1μl至100nl，100nl至10nl，10nl至1nl，1nl至100pl，100pl至10pl，10pl至1pl，或約0.5pl之體積。
根據另一具體實例，液體處理組成物以液滴形式施加至塗層，在塗層上及/或內形成經表面改質之像素。像素可具有小於5mm，較佳小於1000μm，更佳小於200μm，且最佳小於100μm，或甚至小於10μm之直徑。
可藉由將處理組成物沈積至塗層頂部來將液體處理組成物施加至塗層上。替代或另外地，在基板對液體而言可滲透的情形中，可藉由將處理組成物沈積至基板的相對側上將液體處理組成物施加至塗層。對 液體而言可滲透之基板為例如多孔性基板，諸如紙或紡織物、編織或非編織織品或抓毛布。
可在基板表面溫度(其為室溫，亦即20±2℃之溫度，或高溫，例如約70℃)下將液體處理組成物施加至塗層上。在高溫下進行方法步驟b)可提高液體處理組成物之乾燥，且因此可減少製造時間。根據一個具體實例，方法步驟b)在超過5℃，較佳地超過10℃，更佳超過15℃且最佳超過20℃之基板表面溫度下進行。根據一個具體實例，方法步驟b)在基板表面溫度下進行，基板表面溫度在5至120℃範圍內，更佳10至100℃範圍內，更佳15至90℃範圍內，且最佳20至80℃範圍內。
根據本發明之一個具體實例，液體處理組成物連續施加至整個塗層。由此，在塗層上形成經連續表面改質之區或層。
根據本發明之另一具體實例，液體處理組成物以預先選擇之圖案的形式，較佳管道、阻擋層、陣列、一維條碼、二維條碼、三維條碼、安全標記、數字、字母、影像或設計形式施加至塗層上。圖案可具有超過10dpi，較佳超過50dpi，更佳超過100dpi，甚至更佳超過1000dpi，且最佳超過10000dpi之分辨率。
不受任何理論束縛，咸信藉由將液體處理組成物施加至塗層，塗層之可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物與處理組成物中包括之酸反應。藉此，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物至少部分轉化成酸鹽，其可具有與初始材料不同之特性。在可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物為鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽之情形中，化合物將例如藉由酸處理轉化成非碳酸鹽鹼金屬或鹼土金屬鹽。舉例而言，藉由將液體處理組成物施加至塗層的至少一 個區上，形成至少一個經表面改質之區，其可具有增加之比表面積、增加之孔隙率、增加之親水性、降低之光澤或增加之粗糙度。形成之經表面改質之區亦可呈現不同吸附或吸收特性或改變之螢光特性，例如由於礦物結構或經表面改質之區的改變或液體處理組成物中存在金屬或過渡金屬或其兩者。
藉由根據方法步驟b)施加液體處理組成物，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物可轉化成水不溶性或水溶性鹽。
根據一個具體實例，經表面改質之區包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之酸鹽。根據另一具體實例，經表面改質之區包含非碳酸鹽鹼金屬或鹼土金屬鹽，較佳不溶性非碳酸鹽鹼金屬或鹼土金屬鹽。根據一較佳具體實例，經表面改質之區包含非碳酸鹽鈣鹽，較佳不溶性非碳酸鹽鈣鹽。在本發明之含義中，「水不溶性」材料定義為在20℃下與去離子水混合且在具有0.2μm孔徑之過濾器上過濾以回收液體濾液時，在95℃至100℃下蒸發100g該液體濾液之後提供少於或等於0.1g回收固體材料的材料。「水溶性」材料定義為使得100g該液體濾液在95至100℃下蒸發之後回收大於0.1g回收固體材料之材料。
根據一個具體實例，經表面改質之區相較於塗層的未經表面改質之區具有提高之親水性及/或相較於塗層的未經表面改質之區具有提高之孔隙率及/或相較於塗層的未經表面改質之區具有提高之比表面積及/或相較於塗層的未經表面改質之區具有提高之粗糙度及/或相較於塗層的未經表面改質之區具有降低之光澤。
塗層的經表面改質之區及未經改質之區的親水性或疏水性 可藉由在各別區上施加一滴水且量測固體表面與水滴之邊緣表面之間的接觸角θ來定量。當θ<90°時，固體表面為親水性的且水據稱會潤濕表面，其中在θ=1的情形下，水完全潤濕表面。當θ>90°時，固體表面為疏水性的且除非施加外力，否則不會發生潤濕。
根據本發明之一個具體實例，至少一個經表面改質之區的接觸角為0°至110°，較佳5°至90°，且更佳10°至80°。
額外處理步驟
根據本發明之一個具體實例，該方法另外包含在至少一個經表面改質之區上施加保護層的步驟c)。
保護層可由任何材料製備，該材料適於保護下伏經表面改質之區免於非所需環境影響或機械磨損。適合材料之實例為樹脂、清漆、矽、聚合物、金屬箔或基於纖維素之材料。
可藉由此項技術中已知且適於保護層材料之任何方法在至少一個經表面改質之區上施加保護層。適合方法為例如氣刀塗佈、靜電塗佈、計量施膠壓製、薄膜塗佈、噴塗、擠壓塗佈、繞線棒塗佈、狹縫塗佈、滑鬥塗佈、凹版印刷、簾幕式塗佈、高速塗佈、層壓、印刷、黏著性接合及其類似方法。
根據本發明之一個具體實例，在至少一個經表面改質之區及未經改質之塗層上施加保護層。
根據一個具體實例，保護層為可移動保護層。
根據本發明之另一具體實例，步驟a)中提供之基板在第一側及相對側上包含具有可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之塗層，且在步驟 b)中，在第一側及相對側上的塗層的至少一個區上施加包含酸的液體處理組成物，在第一側及相對側上的塗層上形成至少一個經表面改質之區。可對於各側分別進行或可在第一側及相對側上同時進行步驟b)。
根據本發明之一個具體實例，使用不同或相同液體處理組成物進行方法步驟b)兩次或兩次以上。由此，可形成具有不同特性的不同圖案化經表面改質之區。圖13顯示具有五個不同經表面改質之區的分離及分析平台之實例，該等區藉由使用五種不同液體處理組成物形成。
根據一個具體實例，該方法另外包含在步驟b)之前、期間或之後，在塗層上施加疏水性塗層之步驟。舉例而言，可施加諸如聚苯乙烯之聚合物、諸如SU-8之樹脂、清漆、諸如聚二甲矽氧烷(PDMS)之矽、基於纖維素之材料、烷基乙烯酮二聚物(AKD)及/或蠟。
根據本發明之一個具體實例，洗滌或沖洗步驟b)中獲得的至少一個經表面改質之區。可用水及/或適合溶劑洗滌或沖洗至少一個經表面改質之區。適合溶劑為此項技術中已知，且為例如脂族醇、具有4至14個碳原子之醚及二醚、二醇、烷氧基化二醇、二醇醚、烷氧基化芳族醇、芳族醇、其混合物或其與水之混合物。
根據本發明之一個具體實例，提供一種製造經表面改質材料之方法，其包含以下步驟：a)提供基板，其中該基板在至少一側上包含具有可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之塗層，及b)在塗層的至少一個區上施加包含酸之液體處理組成物，在塗層上及/或內形成至少一個經表面改質之區， 其中至少一個經表面改質之區包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物的水溶性鹽，及其中洗滌或沖洗步驟b)中獲得的該至少一個經表面改質之區以溶解及自塗層移除可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物的水溶性鹽。
藉由實施上述本發明之具體實例，可獲得經表面改質材料，其包含經蝕刻之預選圖案。
經表面改質材料
根據本發明之一個態樣，提供一種可藉由本發明方法獲得之經表面改質材料。
根據一個具體實例，提供包含基板之經表面改質材料，其中基板的至少一側上包含具有可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之塗層，且其中塗層包含至少一個經表面改質之區，其中該經表面改質之區包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物的酸鹽。較佳地，可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物為鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽，較佳碳酸鈣，且經表面改質之區包含非碳酸鹽鹼金屬或鹼土金屬鹽，較佳非碳酸鹽鈣鹽。
根據本發明之經表面改質材料適於大範圍之應用。技術人員將適當選擇用於所要應用的表面改質之類型及表面改質之圖案。
根據一個具體實例，根據本發明之經表面改質材料可為用於生物分析之工具、微流體裝置、晶片上實驗室裝置、基於紙之分析及/或診斷工具、分離平台、印刷媒介、包裝材料、牆漆、條碼或資料儲存器。生物分析或生物學分析為用於估計調配產物或塊狀材料中醫藥活性物質之濃度的生物測試程序。
根據另一態樣，提供根據本發明之經表面改質材料之用途，其用於印刷應用、分析應用、診斷應用、生物分析、化學應用、電應用、安全裝置、公開或隱秘安全元件、商標保護、微縮文字、微觀成像、裝飾、藝術或視覺應用，或包裝應用。
舉例而言，藉由使用本發明方法，可在光滑印刷紙上形成無光澤或螢光圖案或個性化符號。此類圖案或符號可用作公開或隱秘防偽或安全標記、條碼或二維碼。舉例而言，藉由本發明方法可形成條碼、2D碼、標誌等，其可為人眼不可見，但由於光澤或螢光特性之差異，可由例如相機之電子裝置檢測。為了保護，此類圖案可覆蓋有透明保護層。
亦可藉由用包含印刷墨水的本發明之液體處理組成物置換習知印刷墨水來改良用可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物塗佈之紙上的習知印刷應用的品質。
此外，可藉由在經塗佈基板上直接印刷所要親水性管道及儲集器在用可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物塗佈的紙上製造基於紙之微流體裝置。藉由向液體處理組成物中添加印刷墨水，可以一個步驟向微流體裝置添加諸如標記或標度或金屬離子或過渡金屬離子之其他特徵，此可改良此類裝置提供之結果的偵測或閱讀。亦可藉由向液體處理組成物添加諸如界面活性劑、分散劑、殺生物劑、藥劑、聚合物、熱熔融劑或聚合組成物之其他添加劑，與表面處理步驟一起向此類基於紙之微流體裝置提供其他功能。
圖13顯示具有四個不同偵測區的分離及分析平台之實例。在起始區(1)上施加一滴待分析之樣品流體，流體可自其流至四個不同偵 測區(2、3、4、5)。如偵測區(2、3、4、5)之掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片所示，每一偵測區具有不同表面結構，且因此可與施加的樣品流體發生不同反應。
基於以下圖式及實施例將更好地理解本發明之範疇及利益，該等圖式及實施例意欲說明本發明之某些具體實例且為非限制性的。
實施例
1.量測方法
在下文中，描述在實施例中實施之量測方法。
布氏黏度
在製造1小時之後及在在20℃±2℃下藉由使用裝備有適當盤式軸(例如軸2至5)之RVT型布氏黏度計以100rpm攪拌1分鐘之後，量測液體塗佈組成物之布氏黏度。
粒徑分佈
使用來自Micromeritics,USA公司之Sedigraph 5100量測可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物粒子之粒徑分佈。方法及儀器為熟習此項技術者已知的且常用於測定填料及顏料之粒徑。在包含0.1wt.%之Na4P2O7水溶液中進行量測。使用高速攪拌器及超音波分散樣品。對於經分散樣品之量測，不進一步添加分散劑。
水性懸浮液之固體含量
使用來自Mettler-Toledo公司，Switzerland之水分分析儀MJ33(其具有以下設置：160℃之乾燥溫度；若質量經30秒之時段的變化不超過1mg，則自動斷開；標準乾燥5g至20g懸浮液)測定懸浮液固體含量(亦 稱為「乾重(dry weight)」)。
掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片
藉由δ VP場發射掃描電子顯微鏡(Carl Zeiss AG,Germany)及具有約50Pa之室壓之變壓第二電子偵測器(VPSE)檢驗所製備之經表面改質樣品。
接觸角量測
為了量測接觸角，在樣品材料上施加各自為4μl之四水滴，且在施加後120s拍攝照片。藉助於第8版圖像存取資料庫之量測模組基於由液滴製成之照片目測測定接觸角。
相機：Canon EOS 5D Mark II
物鏡：Canon EF 100mm f/2 8L Macro IS USMDDDD
調差：0.3m
定距環：Kenko定距環12+24+36mm
三腳架及照明 Kaiser微動三腳架+2×Repro照明設備RB5055 HF
釋放裝置：Canon遠程控制/Timer TC-80N3
量度平衡：自動
透鏡孔：透鏡孔調整32
照明時間：自動
釋放延遲：液滴施加後120s
液滴尺寸：4μl.
X射線繞射(XRD)分析
使用Bruker D8 Advance粉末繞射儀遵守布拉格定律(Bragg's law)分析樣品。此繞射儀由2.2kW X射線管、樣品固持器、□-□測角計及VÅNTEC-1偵測器組成。所有實驗均採用鎳過濾Cu K α輻射。概況為在2□(XRD GV_7600)中使用每分鐘0.7°之掃描速度自動記錄之表。所得粉末繞射圖使用DIFFRACsuite軟體套裝EVA及SEARCH，基於ICDD PDF 2資料庫(XRD LTM_7603)之參考圖案，藉由礦物含量分級。
2.材料
CC1：經研磨碳酸鈣(d50：0.7μm，d98：4μm)，固體含量為76.5%之預分散漿液，可購自Omya AG,Switzerland。
CC2：超疏水經研磨碳酸鈣，用硬脂酸表面處理(d50：1.7μm，d98：6.5μm)，可購自Omya AG,Switzerland。
黏合劑B1：苯乙烯-丙烯酸酯乳膠(Acronal S728)，可購自BASF SE,Germany。
黏合劑B2：微纖維化纖維素(MFC)，機械研磨且未經改質，源自漂白的桉木游離漿。用於製造MFC之標準方法描述於例如「Nanocellulose」,Wikipedia,The Free Encyclopedia中。
基板：基於聚丙烯之合成紙(Synteape)，可購自Arjo Wiggins,Belgium。。
3.實施例
實施例1
製備經表面改質材料
藉由如下表1中所指示混合碳酸鈣與水及黏合劑B1或乙醇來製備兩種不同塗佈調配物A及B。製備塗佈調配物使得固體含量以塗佈 調配物之總重量計為64.6wt%，且實現約400mPa．s之布氏黏度。
藉由使用棒塗佈機用棒3(K303控制塗佈機(Control Coater)，625型，來自Erichsen股份兩合公司(Erichsen GmbH & Co KG),Hemer,Germany)將所製備之塗佈調配物施加至基板上來製備經塗佈之基板樣品，其中塗料用10至22g/m2範圍內之層重量施加。所施加之塗層用熱空氣乾燥。
藉由如下表2中所指示，混合酸、水及乙醇製備液體處理組成物。藉由將處理組成物以距塗佈樣品約15cm之距離使用連接至內部壓力線之空氣刷持續噴灑至塗層上，將液體處理組成物施加至經塗佈之基板樣品上。在下表3中指示之基板表面溫度下進行處理。施加之液體處理組成物的量為約10ml/m2。製備之經表面改質樣品編製於下表3中。
結果
圖1至8顯示塗層已施加酸性處理組成物至前及之後，樣品的掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片。該等影像確認塗層之表面結構藉由本發明方法改質：圖1顯示用液體處理組成物處理之前的塗佈有CC1之基板樣品(樣品1)。表面具有顆粒樣結構。
如自圖2至圖7可搜集，用含有不同酸之液體處理組成物處理導致形成表面結構不同的經表面改質之區。舉例而言，用含有磷酸之處理組成物處理導致形成玫瑰樣結構(樣品2)，用軟木酸或丁二酸處理產生方塊樣結構(樣品5及6)，或用硫酸處理產生針樣結構(樣品7)。
圖8顯示樣品10之掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片。該顯微照片清楚地揭示具有玫瑰樣結構之親水性表面改質區與具有顆粒樣結構之未經處理塗層的超疏水區之表面結構的差異。
圖9顯示對樣品1、2及4至10進行的接觸角量測。可自該曲線搜集到酸處理使經表面改質之區的表面相較於未經表面改質之區更親水。圖10中顯示用莧菜紅著色的2μl水滴之攝影影像，莧菜紅已施加於樣品1、2及4至8。儘管施加於比較樣品1之液滴顯示最低之擴散，但施加於樣品7之液滴顯示指示最親水經表面改質材料的最大擴散。
在不同基板表面溫度下處理的樣品2及3的掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片之比較揭示表面結構未受高溫顯著影響。在高溫下進行處理步驟是有益的，因為其提高液體處理組成物之乾燥。
使用可旋轉PMMA標本固持環對樣品1、2、4、5、6、7及8進行X射線繞射(XRD)量測。量測之資料集與ICDD參考圖案之比較揭示全部樣品均由方解石、白雲石及聚合物組成。下表4中概述藉由施加液體處理組成物形成的額外偵測階段。
實施例2
如實施例1中所述用實施例1之塗佈調配物B塗佈基板。實施例1之液體處理組成物在25℃之基板表面溫度下，距離塗佈樣品約15cm之距離，使用連接於內部壓力線之空氣刷，以網格形式噴灑至塗層上。施加之液體處理組成物的量為約10ml/m2。
製備之經表面改質樣品之掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片顯示於圖11中。可清楚地區別親水性表面改質區(深灰色)與疏水性區(淺灰色)。此確認可藉由進行本發明方法以控制方式形成圖案化表面。圖12中顯示親水性管道中之一者的橫截面。自該圖像搜集到在塗層上形成經界定之通道，而塗層之經表面改質之區的下部仍存在初始塗層。
實施例3
如實施例1中所述製備含有碳酸鈣CC1及以碳酸鈣之總重量計20pph黏合劑B2之具有塗層的基板。
藉由在基板之塗層上形成疏水性阻擋層及親水性孔來製造96孔反應板。藉由噴墨印刷施加包括溶解於對二甲苯溶劑(VWR,Switzerland,產品碼28984.292)中以疏水性溶液之總重量計5.0wt%疏水劑(35kDa分子量聚苯乙烯，可購自Sigma-Aldrich,Switzerland，產品碼331651)及以疏水性溶液之總重量計0.1% wt%蘇丹紅G著色劑(Sudan Red G colorant)(Sigma-Aldrich,Switzerland，產品碼17373)的疏水性溶液在經塗佈基板上形成疏水性阻擋層。隨後，藉由噴墨印刷施加液體處理組成物TC1(10pl液滴尺寸)在基板上形成孔區域，製備吸收多孔性及親水性結構。使用具有10pl標稱液滴體積的DMC-11610墨水筒的DMP-2831噴墨印刷機(Fujifilm Dimatix)進行噴墨印刷。
所製造96孔反應板的一個診斷孔之掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片顯示於圖14及15中。圖14之放大部分顯示塗層及經表面改質之區(孔區域)的橫截面，且圖15之放大部分顯示界面區塗層/疏水性區域(苯乙烯層)及疏水性區域(苯乙烯層)/經表面改質之區(孔區域)。表面結構中之差異自該等放大部分清楚可見。
圖1顯示包含塗層(比較樣品)之基板的掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片。
圖2顯示已用包含磷酸之液體處理組成物處理的經塗佈基板之掃描電 子顯微鏡(SEM)顯微照片。
圖3顯示已用包含硼酸之液體處理組成物處理的經塗佈基板之掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片。
圖4顯示已用包含辛二酸之液體處理組成物處理的經塗佈基板之掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片。
圖5顯示已用包含丁二酸之液體處理組成物處理的經塗佈基板之掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片。
圖6顯示已用包含硫酸之液體處理組成物處理的經塗佈基板之掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片。
圖7顯示已用包含酒石酸之液體處理組成物處理的經塗佈基板之掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片。
圖8顯示已用包含磷酸之液體處理組成物處理的經塗佈基板之經改質及未經改質之區的掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片。
圖9為顯示經塗佈基板在施加液體處理組成物之前及之後的接觸角量測值的曲線。
圖10顯示水滴之攝影圖片，該等水滴施加至不同經表面改質材料。
圖11顯示包含親水性互連管道形式的預選圖案之經表面改質材料。
圖12顯示根據本發明之經表面改質材料之通道的橫截面。
圖13顯示具有五個不同經表面改質之區的分離及分析平台之實例，該等區藉由使用五種不同液體處理組成物形成。
圖14顯示包含診斷孔形式之預選圖案的經表面改質材料之掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片。
圖15顯示包含診斷孔形式之預選圖案的經表面改質材料之掃描電子顯微鏡(SEM)顯微照片。

Claims (17)

  1. 一種製造經表面改質材料之方法，其包含以下步驟：a)提供基板，其中該基板的至少一側上包含具有可成鹽之鹼金屬或鹼土金屬化合物的塗層，及b)在該塗層的至少一個區上施加包含酸之液體處理組成物，以在該塗層上及/或內形成至少一個經表面改質之區。
  2. 如申請專利範圍第1項之方法，其中步驟a)之該基板藉由以下製備i)提供基板，ii)在該基板的至少一側上施加包含可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之塗佈組成物以形成塗層，及iii)乾燥該塗層。
  3. 如前述申請專利範圍中任一項之方法，其中該基板選自包含以下之群：紙、卡紙板、硬紙板、塑膠、塞璐芬(cellophane)、紡織物、木材、金屬、玻璃、雲母板、硝化纖維素或混凝土，較佳為紙、卡紙板、硬紙板或塑膠。
  4. 如前述申請專利範圍中任一項之方法，其中該可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物為鹼金屬或鹼土金屬氧化物、鹼金屬或鹼土金屬氫氧化物、鹼金屬或鹼土金屬醇鹽、鹼金屬或鹼土金屬甲基碳酸鹽、鹼金屬或鹼土金屬羥基碳酸鹽、鹼金屬或鹼土金屬碳酸氫鹽、鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽或其混合物，該可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物較佳為鹼金屬或鹼土金屬碳酸鹽，其較佳選自碳酸鋰、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸鎂、碳酸鈣鎂、碳酸鈣或其混合物，該可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物更 佳為碳酸鈣，且該可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物最佳為經研磨碳酸鈣、沈澱碳酸鈣及/或經表面處理之碳酸鈣。
  5. 如前述申請專利範圍中任一項之方法，其中該可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物呈粒子形式，其重量中值粒徑d 50為15nm至200μm，較佳20nm至100μm，更佳50nm至50μm，且最佳100nm至2μm。
  6. 如前述申請專利範圍中任一項之方法，其中該塗層另外包含較佳以該可成鹽鹼金屬或鹼土金屬化合物之總重量計1至50wt%，較佳3至30wt%，且更佳5至15wt%之量的黏合劑。
  7. 如前述申請專利範圍中任一項之方法，其中該酸選自由以下組成之群：鹽酸、硫酸、亞硫酸、磷酸、檸檬酸、乙二酸、乙酸、甲酸、胺基磺酸、酒石酸、植酸、硼酸、丁二酸、辛二酸、苯甲酸及其混合物，該酸較佳選自由以下組成之群：鹽酸、硫酸、亞硫酸、磷酸、乙二酸、硼酸、辛二酸、丁二酸、胺基磺酸、酒石酸或其混合物，該酸更佳選自由以下組成之群：硫酸、磷酸、硼酸、辛二酸、胺基磺酸、酒石酸或其混合物，且該酸最佳為磷酸。
  8. 如前述申請專利範圍中任一項之方法，其中該液體處理組成物另外包含印刷墨水、著色墨水、著色劑、染料、金屬離子、過渡金屬離子、界面活性劑、分散劑、殺生物劑、腐蝕抑制劑、藥劑、疏水劑、蠟、鹽、聚合物、熱熔膠及/或聚合組成物。
  9. 如前述申請專利範圍中任一項之方法，其中該液體處理組成物包含以該液體組成物之總重量計0.1至100wt%之量，較佳1至80wt%之量，更佳2至50wt%之量，且最佳5至30wt%之量的酸。
  10. 如前述申請專利範圍中任一項之方法，其中該液體處理組成物藉由噴塗、噴墨印刷、平版印刷、柔性凸版印刷、絲網印刷、繪圖、接觸衝壓、輪轉凹版印刷、旋塗、逆相凹版塗佈、槽縫式塗佈、簾幕式塗佈、滑動托架塗佈、薄膜印刷、定量薄膜印刷、刮塗、刷塗及/或鉛筆施加，較佳藉由噴墨印刷或噴塗施加。
  11. 如前述申請專利範圍中任一項之方法，其中該液體處理組成物連續施加至該整個塗層。
  12. 如申請專利範圍第1項至第10項中任一項之方法，其中該液體處理組成物以預先選擇之圖案的形式，較佳管道、阻擋層、陣列、一維條碼、二維條碼、三維條碼、安全標記、數字、字母、影像或設計形式施加至該塗層。
  13. 如前述申請專利範圍中任一項之方法，其中該方法另外包含在該至少一個經表面改質之區上施加保護層的步驟c)。
  14. 如前述申請專利範圍中任一項之方法，其中洗滌或沖洗步驟b)中獲得的該至少一個經表面改質之區。
  15. 一種經表面改質材料，其可藉由如申請專利範圍第1項至第14項中任一項之方法獲得。
  16. 如申請專利範圍第15項之經表面改質材料，其中該經表面改質材料為生物分析工具、微流體裝置、晶片上實驗室裝置、基於紙之分析及/或診斷工具、分離平台、印刷媒介、包裝材料、牆漆、條碼或資料儲存器。
  17. 一種如申請專利範圍第15項或第16項之經表面改質材料之用途，其用 於印刷應用、分析應用、診斷應用、生物分析、化學應用、電應用、安全裝置、公開或隱秘安全元件、商標保護、微縮文字、微觀成像、裝飾、藝術或視覺應用，或包裝應用。
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