TW201534450A - 流延裝置、溶液製膜設備及方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種能夠抑制高速製造薄型薄膜時的台階形不均故障的產生及空氣捲入之流延裝置、溶液製膜設備及方法。從模具向行走之傳送帶流延濃液，從而該模具與傳送帶之間形成液珠。液珠在傳送帶上流延而成為流延膜。以往，液珠與傳送帶相接之流延線之液珠的寬度方向的中央部彎曲成凸狀，在該彎曲之頂部附近發生空氣的捲入。相對於模具，在傳送帶行走方向的上游側，與液珠的兩端部相對配置吸引箱，並從吸引口吸引空氣。藉由液珠的兩端部被吸引，流延線僅在流延膜的兩端部附近彎曲，且中央部呈直線狀。由於中央部呈直線狀，因此可抑制空氣向液珠的捲入。

Description

流延裝置、溶液製膜設備及方法

本發明係有關一種流延裝置、溶液製膜設備及方法。

具有透光性之聚合物薄膜(以下，稱為薄膜)廣泛用作偏光板的保護膜、相位差膜、防反射膜、透明導電性薄膜等光學薄膜。對於薄膜要求厚度的均勻性和光學特性。以往，主要使用厚度為80μm以上的較厚的薄膜，但近年來，薄膜的薄膜化需求增強，要求厚度為40μm以下的薄膜。

作為薄膜的製造方法有溶液製膜方法。溶液製膜方法為例如藉由如下來獲得薄膜之方法，係藉由流延模具(以下，稱為模具)在金屬製滾筒或傳送帶等流延支撐體(以下，稱為支撐體)上流延將聚合物溶解於溶劑之溶液(以下，稱為濃液(dope))來形成流延膜，使其乾燥並剝取。

為了提高溶液製膜的生產率，由濃液形成流延膜之流延製程的高速化成為課題。為了高速進行流延製程，例如若提高支撐體的行走速度，則在行走之支撐體的表面附近產生隨著支撐體的行走而與支撐體一同向行走方向流動之風(以下，稱為攜帶風)。若該攜帶風吹到從模具至支撐體的濃液亦即液珠上，則液珠振動。該液珠的振動導致在所製造之薄膜的流延方向(支撐體的行走方向)上產生厚度不均。因此，例如在日本專利公開2004-114328號公報中，相對於液珠在支撐體行走方向的上游側靠近液珠而配置擋風物，從而防止攜帶風進入液珠。

並且，在日本專利公開2010-158834號公報中，相對於液珠 在支撐體行走方向的上游側靠近液珠而配置減壓腔室，藉由負壓吸引攜帶風，從而抑制由攜帶風引起之液珠的振動。同樣地，在日本專利公開2000-79621號公報中，設置有用於吸引液珠之吸引箱。該吸引箱劃分為第1負壓區域~第3負壓區域而分別進行減壓。在第1負壓區域中遍及液珠的整個寬度方向而吸引液珠的周邊，在第2負壓區域中吸引液珠的寬度方向兩側部的周邊，在第3負壓區域中從液珠的兩側方向吸引。藉由該吸引，抑制空氣捲入到流延膜與支撐體之間(以下，有時稱為空氣捲入)，且使液珠與支撐體相接之流延線穩定化。

若使用吸引箱等吸引裝置，則從液珠的寬度方向端部的側面發生空氣的捲入，若提高流延速度(支撐體的行走速度)，則被捲入之空氣變成氣泡而出現在流延膜上，由於該氣泡，在延伸時會產生破裂等，生產率下降。因此，在日本專利公開平10-264185號公報中，相對於液珠在支撐體行走方向的下游側配置噴吹噴嘴或加壓箱，從而抑制空氣的捲入。

但是，隨著近年來的平板顯示器的大型化和輕量化，亦增進了所製造之薄膜的薄型化。為了更高效地製造薄型薄膜，除了在製膜後的延伸製程中藉由延伸來形成為較薄之外，在液珠階段就將厚度設為較薄為佳，還對液珠的薄型化的改良進行了研究。

為了使液珠變薄，例如不改變模具吐出口的液珠厚度，而是提高支撐體的行走速度來使液珠將要與支撐體相接之前的厚度變薄，並且，將模具的吐出口的液珠厚度設為比以往者。但是，若較薄地流延液珠，則即使在至今為止的液珠厚度上沒有問題，液珠亦容易受到與液珠變薄之量相應程度的攜帶風的影響。

例如，藉由日本專利公開2004-114328號公報中記載的擋風物截斷伴隨支撐體的移動之攜帶風時，若將液珠設為較薄，則在寬度方向上出現較長的厚度不均。該厚度不均在支撐體行走方向上發生變化，因此變成在行走方向上變化成波形之台階形不均故障而出現，要求改善。另外，台階形不均是指在流延方向上產生之液珠的振動引起之週期性厚度不均，若惡化，則變得可以藉由之後說明之評價方法來目視確認。

日本專利公開2010-158834號公報中記載的減壓腔室中，隨著液珠的薄型化，液珠因藉由負壓產生之氣壓振動而變得易振動，出現同樣的面狀故障。並且，由於液珠的振動，易發生空氣的捲入。若在支撐體與液珠之間殘留有空氣，則空氣變成氣泡而進入在支撐體上流延濃液而形成之流延膜與支撐體之間。該空氣的捲入有時會在流延膜乾燥之後從支撐體剝下時發展成流延膜的破裂。此時變成流延停止，在開始流延之前需要大量的時間和勞力。因此，要求抑制空氣的捲入。

藉由日本專利公開2000-79621號公報中記載的吸引箱，將內部劃分為3個負壓區域來吸引液珠的周邊時，由於分為3個負壓區域來進行吸引，因此吸引箱本身變成複雜的結構，此外還需要細微地調節各負壓區域的壓力設定。並且，由於具有3個負壓區域，因此需要3個鼓風機，導致設備成本增加。而且，若變成支撐體的行走速度為50m/min(m/分鐘)以上的高速流延，則隨著液珠的薄型化，由於由3個負壓區域進行之吸引，很難穩定地維持流延線，導致發生空氣捲入。

日本專利公開平10-264185號公報中記載的噴吹噴嘴或加壓箱中，相對於液珠配置於支撐體行走方向的下游側，能夠將液珠壓回上游側亦即模具側，與此相應地，液珠與支撐體相接之線路亦即流延線得以穩定。但是，為了將液珠壓回上游側，需要提高噴吹噴嘴或加壓箱的風壓，隨著液珠的薄型化，液珠變得易振動。由於該振動，在寬度方向上出現較長的厚度不均，這在支撐體行走方向上發生變化，因此成為在行走方向上變化成波形之台階形不均故障。

本發明的目的為提供一種能夠在溶液製造薄型薄膜時藉由實現高速流延來提高生產率，而且能夠抑制發生由台階形不均故障和空氣捲入引起之流延停止等的流延裝置、溶液製膜設備及方法。

本發明的流延裝置具備行走之支撐體、模具、吸引箱及吸引口。模具從吐出口朝向支撐體吐出濃液。模具與支撐體之間形成液珠並且在支撐體的表面形成流延膜。吸引箱吸引液珠的寬度方向兩端部與支撐 體之間的空氣。吸引箱在比液珠更靠支撐體行走方向的上游側與液珠的寬度方向兩端部相對向設置。吸引口形成於吸引箱的與液珠相對向的面。吸引口為沿液珠的寬度方向較長的狹縫狀。

液珠的寬度方向上之吸引口的長度係變更自如為較佳。

從液珠的端部至吸引口的偏移長度係變更自如為較佳。

還具備隔板及吸引管為較佳。隔板在吸引箱內配置成沿液珠的寬度方向移動自如。吸引管從被隔板隔開之吸引箱內的吸引室吸引空氣。

具有複數個隔板，並且至少一個隔板具有吸引管，藉由吸引管從被複數個隔板隔開之吸引室吸引空氣為較佳。

具備前述隔板及前述吸引管，藉由隔板的移動來改變吸引口在液珠的寬度方向上之長度為較佳。

具備前述隔板及前述吸引管，藉由隔板的移動來改變偏移長度為較佳。

具有遮擋行走之支撐體的攜帶風的擋風構件，且擋風構件在吸引箱之間靠近支撐體而配置為較佳。

擋風構件在與支撐體相對向的面具有遮擋由支撐體的行走引起之攜帶風之迷宮式密封件為較佳。

吸引箱在與支撐體相對向的面具有遮擋由支撐體的行走引起之攜帶風之迷宮式密封件為較佳。

本發明的溶液製膜設備具備行走之支撐體、模具、吸引箱、吸引口及乾燥裝置。模具從吐出口朝向支撐體吐出濃液。模具與支撐體之間形成液珠並且在支撐體的表面形成流延膜。吸引箱吸引液珠的寬度方向兩端部與支撐體之間的空氣。吸引箱在比液珠更靠支撐體行走方向的上游側與液珠寬度方向的兩端部相對向設置。吸引口形成於吸引箱的與液珠相對向的面。吸引口為沿液珠的寬度方向較長的狹縫狀。乾燥裝置從支撐體剝下流延膜並進行乾燥。

本發明的溶液製膜方法具備流延膜形成步驟(A步驟)及 乾燥步驟(B步驟)。A步驟中，利用流延裝置形成流延膜。流延裝置具有支撐體、模具、吸引箱及吸引口。模具從吐出口朝向行走之支撐體吐出濃液。模具與支撐體之間形成液珠並且在支撐體的表面形成流延膜。吸引箱吸引液珠的寬度方向兩端部與支撐體之間的空氣。吸引箱在比液珠更靠支撐體行走方向的上游側與液珠寬度方向的兩端部相對向設置。吸引口形成於吸引箱的與液珠相對向的面。吸引口為沿液珠的寬度方向較長的狹縫狀。B步驟中，從支撐體剝下流延膜並進行乾燥。

A步驟中在液珠與支撐體之間形成潤濕擴展提高層為較佳。

潤濕擴展提高層藉由共流延，相對於主流層至少形成於支撐體側為較佳。

潤濕擴展提高層的黏度低於主流層為較佳。

潤濕擴展提高層預先塗佈於流延前的支撐體為較佳。

依本發明，能夠抑制台階形不均故障的產生並且高效地製造薄型薄膜。

10‧‧‧溶液製膜設備

11‧‧‧流延裝置

12‧‧‧拉幅機

13‧‧‧乾燥裝置

14、15‧‧‧分切機

16‧‧‧捲取裝置

21‧‧‧第1滾筒

22‧‧‧第2滾筒

23‧‧‧傳送帶

24‧‧‧導引輥

25、110‧‧‧模具

25A‧‧‧吐出口

26A、26B、89‧‧‧吸引箱

27、70‧‧‧擋風塊

27A‧‧‧擋風塊27的傳送帶對向面

28A、28B、28C、36‧‧‧導管(膜乾燥機)

29‧‧‧剝離輥

30‧‧‧濃液

31、105、111‧‧‧液珠

32、106‧‧‧流延膜

32A‧‧‧氣泡

33‧‧‧薄膜

33A‧‧‧卷狀薄膜

34‧‧‧夾子

35‧‧‧減壓腔室

38‧‧‧輥

40、41‧‧‧支架

43‧‧‧三角筒體

43A‧‧‧水平板

43B‧‧‧垂直板

43C‧‧‧傾斜板

44A、44B‧‧‧側板

45‧‧‧吸引口

46‧‧‧第1隔板

47‧‧‧第2隔板

48‧‧‧吸引室

50‧‧‧軸承

51‧‧‧導引環

51A‧‧‧導孔

52、92、93‧‧‧內螺紋環

52A、92A、93A‧‧‧內螺紋部

53‧‧‧第1轉動軸

54‧‧‧第2轉動軸

53A、54A、90A、90B‧‧‧外螺紋部

53B、54B‧‧‧導引部

55、95‧‧‧吸引管

55A‧‧‧凸緣部

56‧‧‧貫穿環

57‧‧‧抽吸泵

58‧‧‧攜帶風

59、69、74‧‧‧迷宮式密封件

61、71、81‧‧‧第1密封部

62、72、82‧‧‧第2密封部

63、73、83‧‧‧第3密封部

65、66、67、75、76、77‧‧‧密封單元

65A、66A、67A、75A、76A、77A‧‧‧齒

65B、66B、67B、75B、76B、77B‧‧‧槽

90‧‧‧轉動軸

91‧‧‧導引軸

94‧‧‧固定環

96‧‧‧擋風板

96A‧‧‧擋風板96的傳送帶對向面

111a‧‧‧主流層

111b、124‧‧‧潤濕擴展提高層

111c‧‧‧第2表層

113‧‧‧進料頭

115‧‧‧第1濃液

116‧‧‧第2濃液

120‧‧‧塗佈裝置

123‧‧‧濕潤擴展提高液

BCA‧‧‧液珠中央部區

BSA‧‧‧液珠兩端部區

BLN、BLO‧‧‧流延線

BTA‧‧‧頂點部區

G‧‧‧間隙

H1‧‧‧齒高、槽深

L1‧‧‧吸引口長度

L2‧‧‧齒寬

L31、L32、L33‧‧‧槽寬

OS‧‧‧偏移長度

T1‧‧‧頂點

X‧‧‧方向

Y‧‧‧傳送帶的行走方向

圖1係表示本發明的溶液製膜設備的概要之側視圖。

圖2係表示流延裝置的模具周圍的概要之立體圖。

圖3係表示第1實施形態中之模具、液珠、吸引箱之間的關係之縱剖面圖。

圖4係將吸引箱的傾斜板的一部份切開表示之立體圖。

圖5係將吸引箱的傾斜板的一部份切開表示之平面圖。

圖6係表示吸引箱相對於液珠的配置之前視圖。

圖7係表示藉由吸引箱吸引液珠的兩端部的狀態下的液珠的流延線和流延膜之平面圖。

圖8係表示沒有吸引液珠的兩端部之以往類型的液珠的流延線和流延膜之平面圖。

圖9係表示擋風塊的迷宮式密封件之側視圖。

圖10係表示擋風塊的迷宮式密封件的另一實施形態之剖面圖。

圖11係表示擋風塊的迷宮式密封件的另一實施形態之剖面圖。

圖12係切開傾斜板的一部份來表示用一個轉動軸移動複數個隔板之另一實施形態的吸引箱之平面圖。

圖13係表示具有擋風板及吸引箱之擋風板一體型吸引箱之仰視圖。

圖14係表示藉由共流延形成潤濕擴展提高層之另一實施形態之概要之側視圖。

圖15係表示藉由塗佈裝置在支撐體上形成潤濕擴展膜之另一實施形態之概要之側視圖。

如圖1所示，溶液製膜設備10從上游側依次具備流延裝置11、拉幅機12、分切機14、乾燥裝置13、分切機15及捲取裝置16，且該些構件串聯連接。

流延裝置11具備環狀傳送帶(支撐體)23、導向輥24、模具25、吸引箱(吸引構件)26A、26B、擋風塊(擋風構件)27、導管(膜乾燥機)28A、28B、28C及剝離輥29。傳送帶23形成為環狀，並作為金屬製流延支撐體發揮功能。該傳送帶23繞掛在第1滾筒21和第2滾筒22的周面。第1滾筒21藉由馬達(省略圖示)旋轉驅動，傳送帶23沿傳送帶行走方向Y行走。另外，以下說明中，有時將傳送帶行走方向Y稱為Y方向。導向輥24從裏面側支撐上側的傳送帶23。

如圖2所示，在第1滾筒21的上方配置有模具25。模具25相對於行走中之傳送帶23的表面，將濃液30作為液珠31連續從吐出口25A(參閱圖3)流出。藉此，在傳送帶23上形成流延膜32。濃液30在未圖示的濃液製造生產線上，例如將纖維素醯化物溶解於溶劑來製造，並供給至模具25。

相對於來自模具25的液珠31，在傳送帶23的行走方向(支撐體行走方向)Y上之上游配置有一對吸引箱26A、26B。

如圖1所示，為了提高製造速度，朝向剝離輥29之流延膜 32藉由第2滾筒22及傳送帶23被加熱。並且，在流延位置中，傳送帶23藉由第1滾筒21被冷卻，從而抑制過度的升溫。為此，第1滾筒21、第2滾筒22具有未圖示的溫度調節裝置。

導管28A、28B、28C沿著傳送帶23的行走路線排列配置，並吹出乾燥風。溫風控制器(未圖示)獨立控制乾燥風的溫度、濕度及流量。藉由乾燥風的溫度及流量的控制、及基於第1滾筒21、第2滾筒22本身的溫度調節裝置之溫度控制，調節流延膜32的溫度，溶劑從流延膜32蒸發，進行流延膜32的乾燥。並且，流延膜32固化至能夠以拉幅機12傳送的程度(流延膜形成製程)。

相對於模具25，在傳送帶行走方向Y的上游側，在第1滾筒21的周面附近配置有剝離輥29。剝離輥29在從傳送帶23剝下包含溶劑之狀態的已進行乾燥之流延膜32時，支撐流延膜32。剝取之流延膜32作為薄膜33被導引至拉幅機12。

拉幅機12中，藉由夾子34把持薄膜33的兩側部，並從導管36送出乾燥風，藉此傳送薄膜33並且賦予薄膜寬度方向X的張力，從而擴大薄膜33的寬度。另外，使薄膜33、流延膜32、液珠31的各寬度方向相互一致，因此均以符號X表示它們的寬度方向，在本說明書中有時稱為X方向。

分切機14切除包括由拉幅機12的夾子34引起之保持痕跡在內之兩側部。被切除兩側部之薄膜33被送至乾燥裝置13。

乾燥裝置13中，薄膜33捲繞在複數個輥38上而被傳送。乾燥裝置13內部氣氛的溫度或濕度等藉由未圖示的溫度調節機調節，在薄膜33被傳送期間，溶劑從薄膜33蒸發。薄膜33通過拉幅機12及乾燥裝置13，藉此溶劑從薄膜33蒸發，從而被乾燥(乾燥製程)。

經過乾燥裝置13之薄膜藉由分切機15被切除兩側部以例如成為目標產品寬度等。被切除兩側部之薄膜33藉由捲取裝置16捲取成卷狀。藉由本發明獲得之卷狀薄膜33A尤其能夠用作相位差膜或偏光板保護膜。

另外，可在乾燥裝置13的薄膜行走下游側設置第2拉幅機(未圖示)。第2拉幅機為與拉幅機12相同的構造，具有夾子及導管，藉由夾子保持薄膜33而向寬度方向延伸。延伸時，藉由控制延伸倍率和溫度條件等，可獲得具有所希望的光學特性之薄膜33。設置第2拉幅機時，將分切機15配置於第2拉幅機的下游來切除包括由第2拉幅機的夾子產生之保持痕跡在內之兩側部為較佳。

如圖2所示，吸引箱26A、26B靠近液珠31而配置於流延膜32的寬度方向(液珠31的寬度方向)X的兩端部。吸引箱26A、26B經由支架40安裝於模具25。吸引箱26A、26B的傳送帶對向面形成為相對於傳送帶的周面保持平行之平滑面。

如圖4所示，配置於液珠31的寬度方向X的一端部之吸引箱26A中藉由側板44A、44B堵住由水平板43A、垂直板43B及傾斜板43C構成之三角筒體43的兩端，從而形成為三角柱狀。水平板43A配置成與傳送帶23大致平行。並且，傾斜板43C配置成與模具25的前端面平行。

如圖3所示，在水平板43A與傾斜板43C之間設有狹縫狀間隙。藉由該間隙形成有吸引箱26A的吸引口45。

如圖4所示，在吸引箱26A內，第1隔板46、第2隔板47安裝成相對於液珠31的寬度方向X移動自如。第1隔板46及第2隔板47形成為與側板44A、44B相同的形狀且稍小於側板44A、44B，且能夠在吸引箱內滑動。第1隔板46及第2隔板47上利用導向環51、內螺紋環52安裝有第1轉動軸53及第2轉動軸54。被該些第1隔板46與第2隔板47所夾之吸引箱空間成為吸引室48。第1轉動軸53、第2轉動軸54藉由軸承50以旋轉自如的方式安裝於側板44A、44B。

圖5中，第1轉動軸53中僅在其右半部份形成有外螺紋部53A，而左半部份成為導向部53B。外螺紋部53A上螺合有內螺紋環52的內螺紋部52A，導向部53B上嵌合有導向環51的導向孔51A。藉此，如圖4所示，若向順時針方向轉動第1轉動軸53，則第1隔板46在X方向上向右移動，若向逆時針方向轉動第1轉動軸，則第1隔板46向左側移動。同 樣地，如圖5所示，從背面(垂直板43B)側觀察時，第2轉動軸54中僅在左半部份形成有外螺紋部54A，而右半部份成為導向部54B。並且，外螺紋部54A上螺合有內螺紋環52的內螺紋部52A，導向部54B上嵌合有導向環51的導向孔51A，因此藉由第2轉動軸54的轉動，第2隔板47在X方向上向右或向左移動。

如圖6所示，藉由第1隔板46及第2隔板47的X方向的移動，能夠改變吸引口45的X方向上之長度(吸引口在液珠31的寬度方向X上之長度(以下，簡稱為吸引口長度))L1及從液珠31的端部至吸引口45為止的X方向上之偏移量(以下，稱為偏移長度)OS。吸引口長度L1例如為10mm以上50mm以下。並且，偏移長度OS例如為5mm以上30mm以下。藉此，吸引箱26A、26B能夠從液珠的兩端朝向中央部吸引例如10mm以上50mm以下的範圍。另外，根據濃液30的種類或黏度、液珠31的厚度、寬度或長度等來適當變更偏移長度OS為較佳。並且，藉由變更吸引口長度L1，能夠調節吸引風量，因此例如如日本專利公開2000-79621號公報所示，相對於第1~第3負壓區域產生不同之負壓，因此無需設置3個鼓風機，能夠抑制設備成本。

如圖5所示，第2隔板47上藉由凸緣部55A安裝有吸引管55。吸引管55貫穿位於外側之側板44B的貫穿環56，連結於外部的吸引源，例如連結於圖4所示之抽吸泵57。

配置於液珠31的寬度方向X的另一端部之吸引箱26B亦構成為與吸引箱26A相同。但是，設置於吸引箱26B之第1轉動軸53、第2轉動軸54和吸引管55在液珠31的寬度方向X的中央部，朝向吸引箱26A的第1轉動軸53、第2轉動軸54及吸引管55的突出側的相反側的外側突出。

本實施形態中，如圖7所示，相對於液珠31，在傳送帶行走方向Y的上游側，靠近液珠31的兩端部而配置有吸引箱26A、26B。藉由該些吸引箱26A、26B，在液珠兩端部區BSA，液珠31的兩端部被吸引。因此，液珠31與傳送帶23所接觸之流延線BLN與沿傳送帶行走方向Y以 凸狀彎曲之以往類型的流延線BLO(圖中以二點虛線表示)相比，流延線BLN如虛線所示，在超過液珠兩端部區BSA之液珠中央部區BCA中成為直線狀。因此，不會如圖8所示之以往類型的流延線BLO那樣，空氣從彎曲成凸狀之頂點部區BTA進入且空氣在流延膜32與傳送帶23之間成為氣泡32A，空氣捲入的發生得到抑制。

圖8表示從平面觀察之以往的流延線BLO。流延線BLO中，液珠105的寬度方向X的中央成為頂點T1，藉由高速製膜成為沿傳送帶行走方向Y變長之大致圓弧形。因此，空氣從彎曲成凸狀之頂點部區BTA進入，在傳送帶23與流延膜106之間沿傳送帶行走方向Y產生氣泡32A。相對於此，本實施形態中，如圖7所示，藉由液珠兩端部區BSA被吸引，流延線BLN如實線所示，在超過液珠兩端部區BSA之液珠中央部區BCA成為直線狀。因此，不會如圖8所示之以往類型，空氣從彎曲成凸狀之頂點部區BTA進入且在傳送帶23與流延膜106之間成為氣泡32A，空氣捲入的發生得到抑制。因此，流延膜32不會因氣泡32A而殘留在剝離輥29(參閱圖1)上，不會產生殘留引起之流延停止等。

但是，依薄膜33的薄膜化的要求，需要使傳送帶23例如在50m/min以下的範圍內以高速行走。藉由該傳送帶23的高速行走，傳送帶23會攜帶空氣，在傳送帶23的表面產生攜帶風58。為了排除該攜帶風58的影響，本實施形態中，如圖2所示，在一對吸引箱26A、26B之間配置有擋風塊27。擋風塊27在液珠31的上游側遮擋攜帶風58，因此攜帶風58不會吹到液珠31。擋風塊27經由支架41安裝於模具25。

在傳送帶23與擋風塊27之間設有間隙G(參閱圖9)，擋風塊27不會與行走之傳送帶23接觸。因此，未被完全遮擋之攜帶風58的下層部份通過傳送帶23與擋風塊27之間的間隙G。

在傳送帶23的行走速度為30m/min左右的以往的情況下，如圖8所示，伴隨傳送帶23的行走之攜帶風對液珠105帶來之影響較少，很少會發展成流延膜106的台階形不均等面狀故障。另一方面，隨著薄膜化的要求，若將傳送帶23的行走速度設為50m/min以上的高速，則隨著該 高速化，液珠105亦變薄，變得易受攜帶風的影響。以往，藉由日本專利公開2004-114328號公報中記載的擋風塊遮擋攜帶風，但是通過擋風塊與傳送帶23之間的間隙之攜帶風的下層部份在通過擋風塊之後會產生漩渦。藉由本發明人的實驗確認到該漩渦的產生及由漩渦引起之對液珠105賦予之振動等。

因此，如圖9所示，在擋風塊27的傳送帶對向面27A上形成有迷宮式密封件59。迷宮式密封件59具有第1密封部61、第2密封部62及第3密封部63。第1密封部61在Y方向上具有3個密封單元65，前述密封單元具有與X方向平行的齒(板狀突起)65A及在Y方向上與該齒65A相鄰且與X方向平行的槽65B。齒65A的高度H1與槽65B的深度相同，1mm以上20mm以下為較佳，3mm以上15mm以下更為佳。

齒65A的Y方向長度(寬度)L2為1mm以上10mm以下為較佳，1mm上5mm以下更為佳。並且，槽65B的Y方向長度(寬度)L31為3mm以上30mm以下為較佳，3mm以上20mm以下更為佳。

將第1密封部61中之各密封單元65的排列個數設為3個，但是只要是3個以上即可。另外，密封單元65的排列個數並未特別限定上限，但若從設備效率的觀點出發，10個以下為較佳，5個以下更為佳。

第2密封部62、第3密封部63亦與第1密封部61相同地具有3個密封單元66、67。密封單元66、67具有齒66A、67A及槽66B、67B。各密封單元66、67中，槽66B、67B的寬度L32、L33與第1密封部61的槽寬L31相比，在Y方向上隨著朝向液珠31而逐漸變寬，除這一點不同之外係相同構成。

藉由將各密封單元65~67的槽65B~67B的寬度及深度、槽65B~67B與齒65A~67A或者齒65A~67A與槽65B~67B的反覆次數設為一定範圍，能夠抑制由從擋風塊27的傳送帶對向面27A與傳送帶23之間的間隙G進入之攜帶風58引起之特定頻帶的氣壓振動。該見解藉由改變迷宮式密封件59的齒65A~67A及槽65B~67B的尺寸和它們在Y方向上之反覆次數(排列個數)的各種實驗獲得。亦即，進行各種實驗獲得如下 見解：將槽65B~67B的寬度L31~L33及深度H1、槽65B~67B與齒65A~67A或齒65A~67A與槽65B~67B的反覆次數設為一定範圍，藉此可有效抑制特定頻帶的氣壓振動。藉此，能夠藉由迷宮式密封件59抑制或截斷攜帶風58的特定頻帶的氣壓振動。

間隙G為1mm以上3mm以下為較佳。藉由設為1mm以上，與小於1mm時相比，擋風塊27的傳送帶對向面27A不會與傳送帶23接觸。該接觸由於傳送帶23的厚度誤差或第1滾筒21的周面誤差等而產生。並且，藉由設為3mm以下，與超過3mm時相比，攜帶風58一定會藉由間隙G，能夠降低氣壓振動。

槽65B、66B、67B的深度H1(齒65A、66A、67A的高度H1)為1mm以上20mm以下為較佳，3mm以上15mm以下更為佳。藉由設為1mm以上，與小於1mm時相比，能夠在槽65B~67B內產生風紊流，壓力損失上升，擋風效果得到提高。藉由設為20mm以下，與超過20mm時相比，氣壓振動的降低效果不會飽和。若使槽65B~67B的深度超過20mm，則與加工負載的增大相比無法獲得更好的效果。

槽65B、66B、67B的寬度L31、L32、L33為3mm以上30mm以下為較佳，3mm以上20mm更為佳。藉由設為3mm以上，與小於3mm時相比，能夠在槽65B、66B、67B內產生風紊流，壓力損失上升，氣壓振動的降低效果得到提高。藉由設為30mm以下，與超過30mm時相比，氣壓振動的降低效果不會飽和。若槽65B~67B的長度超過30mm，則與加工負載的增大相比無法獲得更好的效果。

槽65B、66B、67B的寬度L31、L32、L33結合由攜帶風58引起之氣壓振動中之欲截斷之頻帶而決定為較佳。例如，藉由將槽寬L31、L32、L33設為3mm，能夠截斷氣壓振動中的頻帶為100Hz以上且小於150Hz的氣壓振動。並且，藉由將槽寬L31、L32、L33設為10mm，能夠截斷氣壓振動中的頻帶為50Hz以上且小於100Hz的氣壓振動。而且，藉由將槽寬L31、L32、L33設為20mm，能夠截斷小於50Hz的氣壓振動。另外，欲截斷之氣壓振動中的頻帶與槽寬L31、L32、L33並不限定於上述關係。能 夠藉由改變槽寬L31、L32、L33來改變欲截斷之氣壓振動中的頻帶。該些關係能夠藉由形成改變了槽寬以及槽深H1等之齒及槽來進行實驗，以此特定具有截斷效果之頻帶。

齒65A、66A、67A的寬度L2為1mm以上20mm以下為較佳。藉由設為1mm以上，與小於1mm時相比，不會變得強度不足，耐久性得到提高。藉由設為20mm以下，與超過20mm時相比，能夠抑制迷宮式密封件59的Y方向長度變得過長，能夠有效地降低氣壓振動。

另外，迷宮式密封件59的各槽65B~67B的兩端部可以開放亦可以封閉。但是，若使其開放，則進入各槽65B~67B之風更易從兩端部逃出，因此相對於液珠31之擋風效果變高。

進行表示齒65A、66A、67A的高度(槽深)H1；齒65A、66A、67A的寬度L2；槽65B、66B、67B的寬度L31~L33；間隙(clearance)G；及能夠截斷的氣壓振動之間的關係之實驗。表1係表示實驗結果之一覽表。實驗1係將槽深H1設為3mm，將齒寬L2設為1mm，將槽寬L31設為3mm，將槽寬L32設為10mm，將槽寬L33設為20mm，將單元個數設為3個時，針對0Hz以上且小於50Hz、50Hz以上且小於100Hz及100Hz以上且小於150Hz的氣壓振動的頻帶求出所截斷之頻率峰值者。所截斷之頻率峰值以與不具備迷宮式密封件的實驗5中截斷之頻率峰值0.8Pa的比較來表示，實驗1中所截斷之頻率峰值為0.4Pa。實驗2與實驗1相比改變了槽深H1，藉此測定槽深H1對截斷效果帶來之影響。實驗3、4與實驗1相比改變了單元個數，藉此測定單元個數較少時(實驗3)及單元個數較多時(實驗4)對截斷效果帶來之影響。另外，藉由如下來獲得能夠截斷的頻帶及頻率峰值，亦即，藉由將氣壓振動撿拾器及放大器連接於FFT分析器(Rion公司製SA-01)者，不在模具附近的流延寬度左右及中央部共3處流延之狀態下以脫機運行狀態進行實測。另外，表1的“槽”的“寬度L3”欄中，密封部編號“1”欄表示槽寬L31，密封部編號“2”欄表示槽寬L32，密封部編號“3”欄表示槽寬L33。

表1的實驗1中，所截斷之頻率峰值為0.4Pa，可知具有攜帶風58的截斷效果。相對於此，在從實驗1的3mm的槽深H1成為10mm的槽深H1之實驗2中，所截斷之頻率峰值為0.1Pa，可知截斷效果最高。並且，將單元個數從實驗1的“3”變更為“2”之實驗3中，所截斷之頻率峰值為0.6Pa，截斷效果低於實驗1。而且，將單元個數設為“5”之實驗4中，所截斷之頻率峰值為0.4，與單元個數為3個時相同。因此，可知單元個數為3個以上5個以下為較佳。並且，在沒有迷宮式密封件的實驗5中，所截斷之頻率峰值為0.8Pa，可知沒有截斷效果。

圖10表示具有向Y方向調換密封單元65~67的齒65A~67A及槽65B~67B之第1密封部71~第3密封部73之第2實施形態的迷宮式密封件69。如此，即使向Y方向調換齒65A~67A及槽65B~67B，亦能夠截斷特定頻帶的振動。另外，對於與上述實施形態相同的構成構件標註 相同元件符號並省略重複說明。可適當改變第1密封部61、71、第2密封部62、72、第3密封部63、73的在傳送帶行走方向Y上之排列順序。各槽65B~67B沿與傳送帶行走方向Y正交之X方向形成，但槽65B~67B的形成方向只要與傳送帶行走方向Y交叉即可，交叉角度並不限定於直角。圖10中，對設置有迷宮式密封件69之擋風塊標註符號70。

圖11表示比第1實施形態的迷宮式密封件59中之槽更淺地形成迷宮式密封件74的各槽75B~77B之另一實施形態的擋風塊78的第1密封部81~第3密封部83。第1密封部81~第3密封部83具有在Y方向上連續形成之3個密封單元75~77。圖11中，對密封單元75、76、77的各齒標註符號75A、76A、77A。即使各槽75B~77B的深度H1比第1實施形態淺，亦能夠截斷特定頻帶的振動。

上述各實施形態中，基於吸引箱26A、26B之吸引壓力BP為-3000Pa以上-150Pa以下，-1000Pa以上-500Pa以下為較佳。流延裝置11具備收容模具25、第1滾筒21、第2滾筒22、傳送帶23等之腔室(未圖示)。基於吸引箱26A、26B之吸引壓力BP為在該腔室內將吸引箱26A、26B的上方附近的壓力作為基準之值，但亦可以是將模具25的上方附近的壓力作為基準之值。若超過-150Pa，則無法充分進行攜帶風58的導引。並且，若小於-3000Pa，則液珠本身亦藉由負壓而變形，導致面狀惡化。

上述各實施形態中，相對於模具25在傳送帶行走方向Y的上游側設置有擋風塊27、70、78，但是還可以進一步在擋風塊27、70、78的上游側設置減壓腔室。減壓腔室吸引擋風塊27、70、78的上游側區的空氣來對該區內進行減壓，抑制攜帶風58進入液珠31。基於該減壓腔室之吸引壓力係小於吸引箱26A、26B的吸引壓力為較佳。亦即，減壓腔室內的壓力大於吸引箱26A、26B的各個內部之壓力為較佳。並且，可使用減壓腔室來代替擋風塊27、70、78。

上述實施形態的吸引箱26A、26B利用第1轉動軸53、第2轉動軸54這兩個轉動軸分別移動第1隔板46、第2隔板47。但是，如圖12所示，亦可以設為利用一個轉動軸90及一個導向軸91移動第1隔板46、 第2隔板47的吸引箱89來代替上述方式。轉動軸90經由軸承50以轉動自如的方式安裝於吸引箱89的兩側板44A、44B。導向軸91藉由固定環94固定於兩側板44A、44B。另外，對於與上述實施形態相同的構成構件標註相同元件符號並省略重複說明。

轉動軸90經由內螺紋環92、93貫穿一對隔板亦即第1隔板46、第2隔板47而被安裝。轉動軸90從中央朝向兩端部具有相互反方向之外螺紋部90A、90B。其中一個內螺紋環92具有與外螺紋部90A螺合之內螺紋部92A，另一個內螺紋環93具有與外螺紋部90B螺合之內螺紋部93A。導向軸91經由導向環51貫穿一對隔板亦即第1隔板46、第2隔板47而被安裝。導向環51具有滑動自如地保持導向軸91之導向孔51A。

藉由使轉動軸90向一側旋轉，一對隔板亦即第1隔板46、第2隔板47經由內螺紋環92、93而靠近，藉由向另一側旋轉，第1隔板46、第2隔板47分離。能夠藉此改變吸引室48的寬度。因此，濃液30的黏度和液珠31的厚度發生變化時，能夠藉由轉動轉動軸90來將吸引箱89的吸引口45的寬度設為最佳。藉由改變吸引口45的寬度，不改變鼓風機的負壓就能夠調節吸引風量。另外，使第1隔板46、第2隔板47平行移動之機構不限於上述者，可以使用各種機構。並且，隔板不限於一對，亦可以設置3個以上。此時，將各隔板分別設置成沿液珠的寬度方向X移動自如，並將在吸引箱內被各隔板隔開之吸引室設為兩個以上，藉此能夠更仔細地設定吸引風量和吸引區。

上述實施形態中，將吸引管55設置於第2隔板47，但如圖12所示，亦可以將吸引管95設置於構成吸引箱89之垂直板43B來代替上述方式。並且，雖省略了圖示，但可將吸引管95設置於構成吸引箱89之傾斜板43C。

另外，雖省略圖示，但可使用位移機構將吸引箱26A、26B、89安裝成沿液珠31的寬度方向移動自如。此時，能夠按照濃液30的黏度等對液珠31的兩端部的吸引區進行微調。並且，當液珠31的寬度發生變化時亦能夠輕鬆應對。

上述實施形態中，將擋風塊27配置於吸引箱26A、26B之間，但如圖13所示，可代替上述方式將擋風板96設為比流延膜32(參閱圖2)長，例如設為與模具25的X方向長度相同。在該擋風板96的傳送帶對向面96A的例如整個面上沿X方向較長地形成有迷宮式密封件59。並且，在擋風板96的上表面的X方向的兩端部配置吸引箱26A、26B。此時，能夠藉由迷宮式密封件59減少來自吸引箱26A、26B與傳送帶23之間的間隙之攜帶風的氣壓振動。並且，可在第1實施形態的吸引箱26A、26B的傳送帶對向面形成與擋風塊27相同的迷宮式密封件59，以代替擋風板96與吸引箱26A、26B的一體類型。

上述例子中，攜帶風是伴隨行走之傳送帶23的流延有濃液30之一側的表面(傳送帶面)者，但並不限於此。亦即，攜帶風只要是伴隨行走之行走體的表面者即可。因此，上述迷宮式密封件59、69、74可設置於靠近與傳送帶23不同之行走體的表面而配置之擋風構件。作為行走體，有代替傳送帶23用作支撐體且向周方向旋轉之滾筒。並且，作為行走體的另一例，有在藉由塗佈製造複數層構造的薄膜時在表面塗佈塗佈液來形成塗膜的長條物(網)。

隨著薄膜化和高速流延的要求，將傳送帶23的行走速度設為100m/min以上，例如設為150m/min的更高速時，因基於吸引箱26A、26B之液珠31的端部吸引及基於擋風塊27之擋風，有時亦會產生空氣捲入。因此，進行進一步分析的結果發現，在超過100m/min之高速製膜中，若組合考慮到液珠31向傳送帶23潤濕擴展之速度之空氣攜帶抑制方法，則可獲得良好的結果。具體而言，藉由提高液珠31在傳送帶23上潤濕擴展之速度(潤濕擴展速度)，在超過100m/min例如150m/min左右的高速製膜中，空氣捲入得到抑制。

如圖14所示，作為提高液珠111在傳送帶23上的潤濕擴展速度之方法的一例，利用模具110，藉由共流延形成由複數個層111a~111c(圖14中，對主流層標註符號111a，對潤濕擴展提高層標註符號111b，對第2表層標註符號111c)構成之液珠111，使液珠111與傳送帶23接觸 之一側的第1表層(支撐體側表層)的黏度低於主流層111a，從而形成潤濕擴展提高層111b。在此，主流層111a是指單位體積中之固形物的質量最多的層。固形物是指聚合物和添加劑等構成薄膜33之成分。從提高潤濕擴展速度之角度出發，僅降低第1表層亦即潤濕擴展提高層111b的黏度即可。但是，若僅在主流層111a的單側設置低黏度的潤濕擴展提高層111b，則導致僅在其中一側形成低黏度的表層，厚度方向的整個層構成變得不均衡，對液珠111和流延膜32作用有不均勻的力。因此，在主流層111a的與支撐體側相反的一側設置與潤濕擴展提高層111b相同組成且相同厚度的第2表層111c為較佳。另外，潤濕擴展提高層111b及第2表層111c並不一定要相同，亦可以改變組成或厚度。

進行共流延時，可使用安裝有進料頭113之模具110，亦可使用省略圖示之多歧管式模具。使用進料頭113時，向進料頭113供給主流層111a用的第1濃液115及潤濕擴展提高層111b和第2表層111c用的第2濃液116。作為第2濃液116可使用與第1濃液115相同的溶劑且稀釋第1濃液115而降低黏度者。另外，亦可以僅藉由溶劑構成第2濃液116來代替稀釋濃液。

關於共流延時的潤濕擴展提高層111b和第2表層111c相對於主流層111a的厚度，例如總厚度為25μm時，主流層為19μm，潤濕擴展提高層111b和第2表層111c為3μm。並且，將主流層111a的黏度設為Vm，並將潤濕擴展提高層111b的黏度設為Vs時，0.01×VmVs0.1×Vm為較佳。作為黏度的調整方法，改變作為濃液中的固形物之例如纖維素醯化物的濃度、纖維素醯化物的分子量或者分子量分佈，或者改變所使用之溶劑的種類、混合溶劑時的比例。另外，黏度(Pa‧s)例如藉由流變儀測定。

如圖15所示，除了共流延之外，作為提高液珠31的潤濕擴展速度之方法，可在流延之前，藉由塗佈裝置120在傳送帶23上塗佈濕潤擴展提高液123，從而在傳送帶23與液珠31之間形成潤濕擴展提高層124。作為潤濕擴展提高液123，可使用稀釋濃液或用於濃液之溶劑等，塗佈厚度例如為20μm以上200μm以下(乾燥之前的濕潤厚度(WET厚度))。 作為塗佈方法，能夠以均勻的厚度塗佈於傳送帶23的表面者即可，可採用淋塗方式、噴墨方式或其他各種塗佈方法。

並且，雖省略圖示，但作為提高液珠的潤濕擴展速度之方法，可以加熱安裝於模具前端之模具唇的支撐體側表層所通過之一側的唇部，從而降低液珠在支撐體側表層部份的黏度。另外，除了分別使用該些提高液珠的潤濕擴展速度之方法之外，還可適當組合該些方法來提高潤濕擴展速度。

本發明的溶液製膜設備中，作為產品的薄膜33的寬度為600mm以上為較佳，1400mm以上2500mm以下更為佳。另外，薄膜33的寬度大於2500mm時亦有效。並且，薄膜33的膜厚為10μm以上80μm以下為較佳，10μm以上40μm以下更為佳。成為薄膜33的原料之聚合物並沒有特別限定，例如有纖維素醯化物或環狀聚烯烴等。

藉由本發明製造之薄膜中之樹脂為透明的熱可塑性樹脂(聚合物)。本實施形態中，作為熱可塑性樹脂使用纖維素醯化物。

在纖維素醯化物中，使用醯基對纖維素的羥基的取代度滿足下述公式(1)~(3)的TAC(三醋酸纖維素)為較佳。公式(1)~(3)中，A及B表示醯基對纖維素的羥基中的氫原子的取代度，A表示乙醯基的取代度，B表示碳原子數為3~22的醯基的取代度。另外，纖維素醯化物的總醯基取代度Z為藉由A+B求出之值。

並且，代替TAC或除了TAC之外還使用醯基對纖維素的羥基的取代度滿足下述公式(4)的DAC(二醋酸纖維素)亦較佳。

從延遲的波長分散性觀點出發，滿足公式(4)並且DAC的乙醯基的取代度A及碳數為3以上22以下的醯基的取代度的總計B滿足下述公式(5)及(6)為較佳。

(5)1.0<A<2.7

構成纖維素之β-1,4進行鍵合之葡萄糖單元在2位、3位及6位具有游離的羥基(氫氧基)。纖維素醯化物為藉由碳數為2以上的醯基對該些羥基的一部份或全部進行酯化之聚合體(聚合物)。醯基取代度表示纖維素的羥基分別針對2位、3位及6位進行酯化之比例(將100%酯化的情況設為取代度1)。

另外，對於纖維素醯化物的詳細內容，記載於日本專利公開2005-104148號的[0140]段落至[0195]段落。該些記載亦能夠適用於本發明中。並且，對於溶劑及可塑劑、劣化防止劑、紫外線吸收劑(UV劑)、光學各向異性控制劑、延遲控制劑、染料、消光劑、剝離劑、剝離促進劑等添加劑，亦同樣詳細記載於日本專利公開2005-104148號的[0196]段落至[0516]段落。

[實施例]

為了確認基於本發明的吸引箱26A、26B之效果而進行了實驗。將該結果示於表2。

實施例1~4中，如圖2~圖4所示，使用吸引箱26A、26B，在傳送帶行走方向Y的上游側吸引液珠31的兩端部，如圖7所示，實現流延線BLN的直線化。並且，使用擋風塊27排除由攜帶風58引起之液珠31的振動的影響。藉由圖1所示之溶液製膜設備10，在傳送帶23上形成流延膜32之後，剝下該流延膜32作為薄膜33，經由拉幅機12、乾燥裝置13製造薄膜33，並將薄膜33捲取成卷狀。薄膜33由TAC構成，實施例1中將寬度設為200mm，實施例2中設為400mm，實施例3中設為800mm，各實施例1~3中將厚度設為10μm、30μm、60μm。實施例1~3中，將傳送帶23的行走速度設為50m/min。實施例4中相對於實施例1，將傳送帶23的行走速度設為100m/min，除此以外，均設為與實施例1相同。

比較例1中，去掉了實施例1的吸引箱26A、26B及擋風塊27，除此以外，以與實施例1相同的條件製造了薄膜33。

比較例2中，設置了圖1中以二點虛線表示之減壓腔室35來代替實施例1的吸引箱26A、26B及擋風塊27，除此以外，以與實施例1相同的條件製造了薄膜33。

從表2明確可知，實施例1~3中，將傳送帶23的行走速度設為50m/min時，未發生空氣捲入，亦未產生台階形不均。並且，實施例4中，將傳送帶23的行走速度設為100m/min時，未發生空氣捲入，亦未產生台階形不均。相對於此，比較例1中雖未產生台階形不均，但發生了空氣捲入。並且比較例2中雖未發生空氣捲入，但產生了台階形不均。

另外，表2中，未發生空氣捲入時，將空氣捲入的發生評 價為“A”，當發生空氣捲入時，評價為“B”。並且，未產生台階形不均時，將台階形不均的產生評價為“A”，當產生台階形不均時，評價為“B”。

關於空氣捲入，藉由高速攝像機拍攝包含流延線之流延膜32，將該拍攝之圖像放大至5~15倍並顯示於顯示器。即使捲入有很少的空氣，亦判定為B，未捲入有空氣時視作具有氣泡抑制效果，判定為A。另外，空氣捲入藉由對顯示器的目視確認來進行。但是，還能夠對顯示於顯示器之圖像進行圖像處理並藉由圖案識別等來自動識別空氣的捲入，從而進行判定。

藉由如下來評價台階形不均，亦即，以既定尺寸對所獲得之薄膜進行採樣，將所採樣之薄膜載置於透明的薄膜放置台，利用距離薄膜上方1500mm~2000mm之點光源(USHIO製氙氣燈)對薄膜進行照明，將透過薄膜及薄膜放置台之光投影到觀察台上，確認從觀察台的透射光能否目視觀察到台階形不均。藉由目視評價確認到台階形不均時判定為B，未確認到台階形不均時判定為A。另外，以相對於觀察台在45°以上60°以下的範圍內傾斜薄膜放置台之狀態下進行了評價。

由以上結果可知，能夠獲得台階形不均的改善效果及氣泡的抑制效果。並且，由該些結果可推測，在實際製造條件下，亦即，將寬度例如設為1400mm以上2500mm以下或超過該范圍，將厚度設為10μm以上60μm以下時，亦能夠獲得相同效果。

為了確認基於本發明的吸引箱26A、26B之效果以及基於設置在液珠111與傳送帶23之間之潤濕擴展提高層111b之效果而進行了實驗。將該結果示於表3。

實施例5~7中，相對於實施例1~3，將圖1所示之溶液製膜設備10的模具25替代為圖14所示之模具110，藉由共流延在傳送帶23上形成流延膜32，且將傳送帶23的行走速度設為150m/min，除此以外，設為與實施例1~3相同。亦即，實施例5相對於實施例1，設置潤濕擴展提高層111b，將傳送帶23的行走速度設為150m/min，除此以外，均與實施例1相同，實施例6同樣相對於實施例2，除了潤濕擴展提高層111b及將傳送帶23的行走速度變更為150m/min以外，均與實施例2相同，實施例7同樣相對於實施例3，與實施例6同樣地進行了變更，除此以外，均與實施例3相同。如圖14所示，共流延使用具有進料頭113之模具110，在主流層111a的兩側形成由稀釋濃液構成之潤濕擴展提高層111b及第2表層111c。薄膜33由TAC構成，實施例5中將寬度設為200mm，實施例6中設為400mm，實施例7中設為800mm，在各實施例5~7中，將厚度設為10μm、30μm、60μm。主流層111a的黏度為20Pa‧s，潤濕擴展提高層111b與第2 表層111c的黏度為0.5Pa。

比較例3中，去掉了實施例5的吸引箱26A、26B及擋風塊27，除此以外，以與實施例5相同的條件製造了薄膜33。

比較例4中，設置了圖1中以二點虛線表示之減壓腔室35來代替實施例5的吸引箱26A、26B及擋風塊27，除此以外，以與實施例5相同的條件製造了薄膜33。

從表3明確可知，實施例5~7中，即使在將傳送帶23的行走速度設為150m/min時，既未發生空氣捲入，亦未產生台階形不均。相對於此，比較例3及比較例4中發生了空氣捲入。

另外，表3中之各評價與表2中之評價相同。由以上結果可知，即使傳送帶的行走速度超過100m/min，為150m/min時，藉由共流延在液珠111形成潤濕擴展提高層111b，藉此能夠獲得台階形不均的改善效果及氣泡的抑制效果。並且，由該些結果可推測，即使在實際製造條件下，亦即，將寬度例如設為1400mm以上2500mm以下或超過該范圍，且將厚度設為10μm以上60μm以下時，亦能夠獲得相同效果者。並且，雖然並未確認基於共流延之潤濕擴展提高層111b以外的、基於如圖15所示之塗佈裝置120之潤濕擴展提高層124或藉由對傳送帶側液珠所接觸之模具唇進行加熱而低黏度化之潤濕擴展提高層的效果，但是可推測，與基於共流延之潤濕擴展提高層的低黏度化同樣地表層被低黏度化，且在100m/min以上150m/min以下時，亦能夠獲得相同效果者。並且可推測，即使在超過150m/min之傳送帶23的行走速度下，藉由在液珠31與傳送帶23之間形成潤濕擴展提高層111b、124，只要液珠31的潤濕擴展速度比傳送帶23的行走速度快，就同樣能夠獲得台階形不均的改善效果及氣泡的抑制效果者。

23‧‧‧傳送帶

25‧‧‧模具

26A、26B‧‧‧吸引箱

31‧‧‧液珠

32‧‧‧流延膜

45‧‧‧吸引口

BSA‧‧‧液珠兩端部區域

BCA‧‧‧液珠中央部區域

BLO、BLN‧‧‧流延線

X‧‧‧方向

Y‧‧‧傳送帶的行走方向

Claims (20)

1. 一種流延裝置，其具備：行走之支撐體；模具，係從吐出口朝向前述支撐體吐出濃液，前述模具與前述支撐體之間形成液珠並且在前述支撐體的表面形成流延膜；吸引箱，係吸引前述液珠的寬度方向兩端部與前述支撐體之間的空氣，前述吸引箱在比前述液珠更靠前述支撐體行走方向的上游側與前述液珠寬度方向的兩端部相對向設置；及吸引口，係形成於前述吸引箱的與前述液珠相對向的面，前述吸引口為沿前述液珠的寬度方向較長的狹縫狀。
2. 如申請專利範圍第1項之流延裝置，其中，前述液珠的寬度方向上之前述吸引口的長度係變更自如。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項之流延裝置，其中，從前述液珠的端部至前述吸引口的偏移長度係變更自如。
4. 如申請專利範圍第1項或第2項之流延裝置，其中，前述流延裝置還具備：隔板，係在前述吸引箱內配置成沿前述液珠的寬度方向移動自如；及吸引管，係從被前述隔板隔開之前述吸引箱內的吸引室吸引空氣。
5. 如申請專利範圍第3項之流延裝置，其中，前述流延裝置還具備：隔板，係在前述吸引箱內配置成沿前述液珠的寬度方向移動自如；及吸引管，係從被前述隔板隔開之前述吸引箱內的吸引室吸引空氣。
6. 如申請專利範圍第4項之流延裝置，其中，前述流延裝置具有複數個前述隔板，至少一個前述隔板具有前述吸引管，藉由前述吸引管從被複數個前述隔板隔開之前述吸引室吸引前述空氣。
7. 如申請專利範圍第5項之流延裝置，其中，前述流延裝置具有複數個前述隔板，至少一個前述隔板具有前述吸引管，藉由前述吸引管從被複數個前述隔板隔開之前述吸引室吸引前述空氣。
8. 如申請專利範圍第2項之流延裝置，其中， 前述流延裝置還具備：隔板，係在前述吸引箱內配置成沿前述液珠的寬度方向移動自如，藉由前述隔板的移動，改變前述吸引口在前述液珠的寬度方向上的長度；及吸引管，係從被前述隔板隔開之前述吸引箱內的吸引室吸引空氣。
9. 如申請專利範圍第3項之流延裝置，其中，前述流延裝置還具備：隔板，係在前述吸引箱內配置成沿前述液珠的寬度方向移動自如，藉由前述隔板的移動，改變前述偏移長度；及吸引管，係從被前述隔板隔開之前述吸引箱內的吸引室吸引空氣。
10. 如申請專利範圍第1項或第2項之流延裝置，其中，前述流延裝置具有遮擋行走之前述支撐體的攜帶風之擋風構件，前述擋風構件在前述吸引箱之間靠近前述支撐體而配置。
11. 如申請專利範圍第3項之流延裝置，其中，前述流延裝置具有遮擋行走之前述支撐體的攜帶風之擋風構件，前述擋風構件在前述吸引箱之間靠近前述支撐體而配置。
12. 如申請專利範圍第10項之流延裝置，其中，前述擋風構件的與前述支撐體相對向的面具有遮擋由前述支撐體的行走引起之攜帶風之迷宮式密封件。
13. 如申請專利範圍第11項之流延裝置，其中，前述擋風構件的與前述支撐體相對向的面具有遮擋由前述支撐體的行走引起之攜帶風之迷宮式密封件。
14. 如申請專利範圍第1項或第2項之流延裝置，其中，前述吸引箱的與前述支撐體相對向的面具有遮擋由前述支撐體的行走引起之攜帶風之迷宮式密封件。
15. 一種溶液製膜設備，其具備：行走之支撐體；模具，係從吐出口朝向前述支撐體吐出濃液，前述模具與前述支撐體之間形成液珠並且在前述支撐體的表面形成流延膜；吸引箱，係吸引前述液珠的寬度方向兩端部與前述支撐體之間的空氣，前述吸引箱在比前述液珠更靠前述支撐體行走方向的上游側與前述液珠寬 度方向的兩端部相對向設置；吸引口，係形成於前述吸引箱的與前述液珠相對向的面，前述吸引口為沿前述液珠的寬度方向較長的狹縫狀；及乾燥裝置，係從前述支撐體剝下前述流延膜並進行乾燥。
16. 一種溶液製膜方法，其具備以下步驟：(A)係使用流延裝置形成流延膜者，前述流延裝置具有支撐體、模具、吸引箱及吸引口，前述模具從吐出口向行走之前述支撐體吐出濃液，前述模具與前述支撐體之間形成液珠並且在前述支撐體的表面形成前述流延膜，前述吸引箱吸引前述液珠的寬度方向兩端部與前述支撐體之間的空氣，前述吸引箱在比前述液珠更靠前述支撐體行走方向的上游側與前述液珠寬度方向的兩端部相對向設置，前述吸引口形成於前述吸引箱的與前述液珠相對向的面，前述吸引口為沿前述液珠的寬度方向較長的狹縫狀；及(B)係從前述支撐體剝下前述流延膜並進行乾燥者。
17. 如申請專利範圍第16項之溶液製膜方法，其中，前述A步驟中，在前述液珠與前述支撐體之間形成潤濕擴展提高層。
18. 如申請專利範圍第17項之溶液製膜方法，其中，前述潤濕擴展提高層藉由共流延，相對於主流層至少形成於前述支撐體側。
19. 如申請專利範圍第18項之溶液製膜方法，其中，前述潤濕擴展提高層的黏度低於前述主流層。
20. 如申請專利範圍第17項之溶液製膜方法，其中，前述潤濕擴展提高層預先塗佈於流延前的前述支撐體。