TW201525790A - 電容式觸控顯示面板、電容式觸控面板及其製造方法 - Google Patents

Abstract

一種電容式觸控顯示面板，包括一顯示面板與一電容式觸控元件。電容式觸控元件設置於顯示面板之一顯示面上。電容式觸控元件包括至少一不透明橋接線與至少一低反射圖案層。不透明橋接線具有一第一線寬，且不透明橋接線的兩側具有兩個第一主邊界。低反射圖案層設置於不透明橋接線上相對於顯示面板之另一側。低反射圖案層具有一第二線寬，且低反射圖案層的兩側具有兩個第二主邊界。低反射圖案層與不透明橋接線在一垂直投影方向上重疊，其中第一線寬約略等於第二線寬，且第一主邊界約略對準第二主邊界。另揭露一種電容式觸控面板及其製造方法。

Description

電容式觸控顯示面板、電容式觸控面板及其製造方 法

本發明是有關於一種觸控顯示面板、觸控面板及其製造方法，且特別是有關於一種電容式觸控顯示面板、電容式觸控面板及其製造方法。

觸控面板依照其感測方式的不同而大致上區分為電阻式觸控面板、電容式觸控面板、光學式觸控面板、聲波式觸控面板以及電磁式觸控面板。由於電容式觸控面板具有反應時間快、可靠度佳以及耐用度高等優點，因此已被廣泛地使用於電子產品中。

一般來說，電容式觸控面板包括多個沿第一方向延伸的第一感測串列以及多個沿第二方向延伸的第二感測串列。其中，每一第一感測串列是由多個第一感測墊與第一橋接線串接而成，而每一第二感測串列是由多個第二感測墊與第二橋接線串接而成。由於具有良好的導電性以及低阻抗等優點，金屬為橋接線的常用材料。然而金屬的反射率較大，容易反射外界的光線而產生 亮點或亮線，如此一來使用者極易看到橋接線處的亮點或亮線而影響提供給使用者的視覺體驗，降低使用者的使用意願。如何準確地降低橋接線處的亮點或亮線，且不會降低橋接線處周邊的顯示開口率是急需開發的課題。

本發明提供一種電容式觸控顯示面板，其改善習知的金屬橋接線容易被使用者看到的問題。

本發明提供一種電容式觸控面板，其改善習知的金屬橋接線容易被使用者看到的問題。

本發明提供一種電容式觸控面板的製造方法，所製造的電容式觸控面板可改善習知的金屬橋接線容易被使用者看到的問題。

本發明的一種電容式觸控顯示面板，包括一顯示面板以及一電容式觸控元件。顯示面板具有一顯示面。電容式觸控元件設置於顯示面板之顯示面上。電容式觸控元件包括至少一不透明橋接線、至少一低反射圖案層、複數個第一透明電極、複數個第二透明電極、至少一透明橋接線以及一絕緣圖案層。至少一不透明橋接線設置於顯示面板之顯示面上，不透明橋接線具有一第一線寬，且不透明橋接線的兩側具有兩個第一主邊界。至少一低反射圖案層設置於不透明橋接線上相對於顯示面板之另一側。低反射圖案層具有一第二線寬，且低反射圖案層的兩側具有兩個第二 主邊界，其中低反射圖案層與不透明橋接線在一垂直投影方向上重疊，且第一線寬約略等於第二線寬，第一主邊界約略對準第二主邊界。

複數個第一透明電極沿一第一方向設置於顯示面板之顯示面上，且不透明橋接線與相鄰之兩第一透明電極部分重疊使不透明橋接線與相鄰之兩第一透明電極電性連接。複數個第二透明電極沿一第二方向設置於顯示面板之顯示面上。至少一透明橋接線設置於顯示面板之顯示面上，並使相鄰之兩第二透明電極電性連接。絕緣圖案層設置於不透明橋接線與透明橋接線之間，用以電性隔離不透明橋接線與透明橋接線。

在本發明的一實施例中，上述的電容式觸控面板更包括一偏振片，配置於顯示面板的顯示面上而覆蓋電容式觸控元件。

在本發明的一實施例中，上述的電容式觸控面板更包括一光學膠層，配置於偏振片朝向顯示面的表面上。

在本發明的一實施例中，上述的電容式觸控面板更包括一保護蓋，配置於顯示面板的顯示面上而覆蓋電容式觸控元件。

在本發明的一實施例中，上述的電容式觸控顯示面板更包括一光學膠層，配置於保護蓋朝向顯示面的表面上。

在本發明的一實施例中，上述的不透明橋接線的材質為金屬。

在本發明的一實施例中，上述的低反射圖案層的材質為黑色樹脂、低反射金屬或低反射金屬氧化物。

在本發明的一實施例中，上述的第一線寬小於等於30微米。

在本發明的一實施例中，上述的不透明橋接線的兩端具有兩個第一次邊界，低反射圖案層的兩端具有兩個第二次邊界，第一次邊界約略對準第二次邊界。

在本發明的一實施例中，上述的不透明橋接線的兩端具有兩個第一次邊界，低反射圖案層暴露不透明橋接線的第一次邊界。

本發明的一種電容式觸控面板，包括一基板以及一電容式觸控元件。基板具有一外表面。電容式觸控元件設置於基板之外表面上。電容式觸控元件包括至少一不透明橋接線、至少一低反射圖案層、複數個第一透明電極、複數個第二透明電極、至少一透明橋接線以及一絕緣圖案層。至少一不透明橋接線設置於基板之外表面上。不透明橋接線具有一第一線寬，且不透明橋接線的兩側具有兩個第一主邊界。至少一低反射圖案層設置於不透明橋接線上相對於基板之另一側。低反射圖案層具有一第二線寬，且低反射圖案層的兩側具有兩個第二主邊界。其中低反射圖案層與不透明橋接線在一垂直投影方向上重疊，且第一線寬約略等於第二線寬，第一主邊界約略對準第二主邊界。

複數個第一透明電極沿一第一方向設置於基板之外表面上，且不透明橋接線與相鄰之兩第一透明電極部分重疊使不透明橋接線與相鄰之兩第一透明電極電性連接。複數個第二透明電極 沿一第二方向設置於基板之外表面上。至少一透明橋接線設置於基板之外表面上，並使相鄰之兩第二透明電極電性連接。絕緣圖案層設置於不透明橋接線與透明橋接線之間，用以電性隔離不透明橋接線與透明橋接線。

在本發明的一實施例中，上述的第一線寬小於等於30微米。

在本發明的一實施例中，上述的不透明橋接線的兩端具有兩個第一次邊界，低反射圖案層的兩端具有兩個第二次邊界，第一次邊界約略對準第二次邊界。

在本發明的一實施例中，上述的不透明橋接線的兩端具有兩個第一次邊界，低反射圖案層暴露不透明橋接線的第一次邊界。

本發明的一種電容式觸控面板的製造方法，包括下列步驟。在一基板的一外表面上形成一不透明橋接材料層。在不透明橋接材料層上形成一低反射材料層。圖案化低反射材料層與不透明橋接材料層以形成至少一低反射圖案層與至少一不透明橋接線，其中不透明橋接線與低反射圖案層約略具有相同圖案，且在一垂直投影方向上對準重疊。在基板上形成一絕緣圖案層而覆蓋低反射圖案層與不透明橋接線。移除低反射圖案層與絕緣圖案層位於不透明橋接線的兩端的至少一部分。

接著，在基板上形成一透明導電層而覆蓋低反射圖案層與不透明橋接線，並圖案化透明導電層以形成複數個第一透明電 極、複數個第二透明電極以及至少一透明橋接線，其中第一透明電極沿一第一方向設置，不透明橋接線與相鄰之兩第一透明電極部分重疊使不透明橋接線與相鄰之兩第一透明電極電性連接。第二透明電極沿一第二方向設置於基板之外表面上，透明橋接線使相鄰之兩第二透明電極電性連接。

在本發明的一實施例中，上述的不透明橋接線具有一第一線寬，且不透明橋接線的兩側具有兩個第一主邊界。低反射圖案層具有一第二線寬，且低反射圖案層的兩側具有兩個第二主邊界，其中低反射圖案層與不透明橋接線在垂直投影方向上重疊，第一線寬約略等於第二線寬，第一主邊界約略對準第二主邊界。

在本發明的一實施例中，上述的不透明橋接線的兩端具有兩個第一次邊界，且低反射圖案層的兩端具有兩個第二次邊界，其中第一次邊界約略對準第二次邊界。

在本發明的一實施例中，上述的不透明橋接線的兩端具有兩個第一次邊界，低反射圖案層暴露不透明橋接線的第一次邊界。

在本發明的一實施例中，在圖案化透明導電層之後，更包括在基板上形成一平坦層而覆蓋電容式觸控元件。

基於上述，本發明的電容式觸控顯示面板、電容式觸控面板及其製造方法中，低反射圖案層準確地對準配置在不透明橋接線上而覆蓋不透明橋接線。如此，光線會照射在低反射圖案層上而非不透明橋接線上，而且不會降低不透明橋接線周邊的顯示 開口率，進而提供使用者良好的視覺體驗。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

100、200、300、400、500、600、700‧‧‧電容式觸控顯示面板

110‧‧‧顯示面板

111‧‧‧畫素陣列基板

112‧‧‧彩色濾光基板

112a‧‧‧外表面

113‧‧‧顯示介質層

110a‧‧‧顯示面

120、720‧‧‧電容式觸控元件

121‧‧‧不透明橋接線

121a‧‧‧第一主邊界

121b‧‧‧第一次邊界

122、722‧‧‧低反射圖案層

122a‧‧‧第二主邊界

122b‧‧‧第二次邊界

123‧‧‧第一透明電極

124‧‧‧第二透明電極

125‧‧‧透明橋接線

126、726‧‧‧絕緣圖案層

127、227‧‧‧接觸窗

128‧‧‧平坦層

130‧‧‧偏振片

130a、450a、550a、650a‧‧‧表面

140、340、440、540、640‧‧‧光學膠層

450、550、650‧‧‧保護蓋

729‧‧‧連接線

w1‧‧‧第一線寬

w2‧‧‧第二線寬

g‧‧‧間隙

D1‧‧‧第一方向

D2‧‧‧第二方向

L1‧‧‧不透明橋接材料層

L2‧‧‧低反射材料層

L3‧‧‧透明導電層

圖1是依照本發明的一實施例的一種電容式觸控顯示面板的剖面示意圖。

圖2是圖1之電容式觸控元件的上視示意圖。

圖3是圖2中沿線AA’的剖面示意圖。

圖4是圖2之不透明橋接線以及低反射圖案層。

圖5是依照本發明的又一實施例的一種電容式觸控顯示面板的局部剖面示意圖。

圖6是圖5之不透明橋接線以及低反射圖案層。

圖7是依照本發明的又一實施例的一種電容式觸控顯示面板的剖面示意圖。

圖8是依照本發明的又一實施例的一種電容式觸控顯示面板的剖面示意圖。

圖9是依照本發明的又一實施例的一種電容式觸控顯示面板的剖面示意圖。

圖10是依照本發明的又一實施例的一種電容式觸控顯示面板的剖面示意圖。

圖11A至圖11F是圖1的電容式觸控顯示面板的製造流程圖。

圖12是依照本發明的又一實施例的一種電容式觸控顯示面板的上視示意圖。

圖13是圖12中沿線BB’以及線CC’的剖面示意圖。

圖1是依照本發明的一實施例的一種電容式觸控顯示面板的上視示意圖。請參考圖1，電容式觸控顯示面板100包括一顯示面板110以及一電容式觸控元件120。顯示面板110具有一顯示面110a，且電容式觸控元件120設置於顯示面板110之顯示面110a上。舉例而言，本實施例的顯示面板110包括一畫素陣列基板111、一彩色濾光基板112以及一顯示介質層113，其中顯示介質層113位在畫素陣列基板111以及彩色濾光基板112之間。電容式觸控元件120配置在彩色濾光基板112相對遠離顯示介質層113的一側。換言之，本實施例的電容式觸控顯示面板100為整合式(On-cell)的電容式觸控顯示面板。在此需說明的是，在本實施例的電容式觸控顯示面板100是整合顯示面板110以及電容式觸控元件120而兼具顯示以及觸控的功能。然而，在其它實施例裡，電容式觸控元件120可製作在任意的基板，例如玻璃基板、塑膠基板或可撓式基板等以整合為一電容式觸控面板。

圖2是圖1之電容式觸控元件的上視示意圖。圖3是圖2中沿線AA’的剖面示意圖。請同時參考圖2以及3，電容式觸控元 件120包括至少一不透明橋接線121、至少一低反射圖案層122、複數個第一透明電極123、複數個第二透明電極124、至少一透明橋接線125以及一絕緣圖案層126。至少一不透明橋接線121設置於顯示面板110之顯示面110a上，且至少一低反射圖案層122設置於不透明橋接線121上相對於顯示面板110之另一側。

複數個第一透明電極123沿一第一方向D1設置於顯示面板110之顯示面110a上，且不透明橋接線121與相鄰之兩第一透明電極123部分重疊使不透明橋接線121與相鄰之兩第一透明電極123電性連接。複數個第二透明電極124沿一第二方向D2設置於顯示面板110之顯示面110a上。至少一透明橋接線125設置於顯示面板110之顯示面110a上，並使相鄰之兩第二透明電極124電性連接。絕緣圖案層126設置於不透明橋接線121與透明橋接線125之間，用以電性隔離不透明橋接線121與透明橋接線125，絕緣圖案層126的材質，例如可為氮化矽(SiNx)、氧化矽(SiOx)、氮氧化矽(SiOxNy)、有機材料或其它絕緣材料，絕緣圖案層126亦可為一覆蓋層(over coat layer)。

圖4是圖2之不透明橋接線以及低反射圖案層。如圖4所繪示，不透明橋接線121具有一第一線寬w1，且不透明橋接線121的兩側具有兩個第一主邊界121a。低反射圖案層122具有一第二線寬w2，且低反射圖案層122的兩側具有兩個第二主邊界122a。低反射圖案層122與不透明橋接線121在一垂直投影方向(例如是圖1的顯示面110a的法線方向)上重疊，且第一線寬 w1約略等於第二線寬w2，第一主邊界121a約略對準第二主邊界122a。在圖4中，為了方便標示以及瞭解，第一主邊界121a與第二主邊界122a是稍微錯開的，但第一主邊界121a與第二主邊界122a也可以是完全對準的。

在本實施例中，各低反射圖案層122對應地配置在其中一個不透明橋接線121上而使得每一個不透明橋接線121都被對應的低反射圖案層122覆蓋，而不透明橋接線121的材質，例如可為鉬(Mo)、鋁(Al)、鉻(Cr)、釹(Nd)、鈦(Ti)、銅(Cu)、銀(Ag)、金(Au)、鋅(Zn)、銦(In)、鎵(Ga)、鈮(Nb))或上述的組合。如此，光線照射在電容式觸控顯示面板100時，會先照射在低反射圖案層122上以減少反射光的產生，進而提供電容式觸控顯示面板100的使用者良好的視覺體驗。由於低反射圖案層122完全對準地配置在不透明橋接線121上，因此可以避免低反射圖案層122面積過大或者是製程偏移造成遮蔽面積擴大，降低不透明橋接線121周邊的顯示開口率。

在本實施例中，第一透明電極123、第二透明電極124以及透明橋接線125的材質為透明導電材料，例如銦錫氧化物(ITO)、鋅銦錫氧化物(ZITO)、鎵銦錫氧化物(GITO)、銦鋅氧化物(IZO)、鎵鋅氧化物(GZO)、鎵銦鋅氧化物(GIZO)、鋁鋅氧化物(AZO)、鋅氧化物(ZnOx)、銦氧化物(InOx)或其它透明導電金屬氧化物。此外，不透明橋接線121的材質可為金屬，且低反射圖案層122的材質可為黑色樹脂、低反射金屬、低反射金屬氧化物或 其他低反射材料。低反射金屬例如是鉻金屬，低反射金屬氧化物例如是鉻金屬氧化物。光線照射在電容式觸控顯示面板100時，黑色樹脂層可吸收光線以避免反射光的產生。此外，本實施例的不透明橋接線121的第一線寬w1較佳是小於等於30微米。當第一線寬w1越小，不透明橋接線121的面積就越小，如此更能避免光線照射到不透明橋接線121而產生反射光。

請參考圖1，在本實施例中，電容式觸控顯示面板100更包括一偏振片130以及一光學膠層140。偏振片130配置於顯示面板110的顯示面110a上而覆蓋電容式觸控元件120，光學膠層140配置於偏振片130朝向顯示面100a的表面130a上，以將偏振片130貼附於電容式觸控元件120上。光學膠層140具有較佳的流動性，如此貼附偏振片130於電容式觸控元件120時較不易形成氣泡，相對地可改善電容式觸控顯示面板100的光學特性。

本實施例的不透明橋接線121可電性連接相鄰之兩第一透明電極123。請參考圖3以及圖4。詳細而言，各電容式觸控元件120包括至少兩個接觸窗127，且各接觸窗127位在不透明橋接線121的兩端。接觸窗127貫穿絕緣圖案層126以及低反射層圖案層122以暴露出一部分的不透明橋接線121。相鄰之兩第一透明電極123分別延伸至相應的接觸窗127中以接觸不透明橋接線121。如此，相鄰之兩第一透明電極123可藉由具有導電性的不透明橋接線121彼此電性連接。在本實施例中，不透明橋接線121的兩端具有兩個第一次邊界121b，且低反射圖案層122的兩端具 有兩個第二次邊界122b。兩接觸窗127分別位在第一次邊界121b旁，且位在低反射圖案層122的範圍內，其中第一次邊界121b會約略對準第二次邊界122b。

在此必須說明的是，下述實施例沿用前述實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，下述實施例不再重複贅述。

圖5是依照本發明的又一實施例的一種電容式觸控顯示面板的局部剖面示意圖。圖6是圖5之不透明橋接線以及低反射圖案層。圖5的實施例與圖1的實施例相似，兩者的差別主要在於接觸窗的形式。請同時參考圖5以及圖6，在本實施例中，低反射圖案層122與不透明橋接線121在一垂直投影方向(例如是圖5的顯示面110a的法線方向)上重疊。此外，低反射圖案層122面積小於不透明橋接線121的面積，且低反射圖案層122的外輪廓位在不透明橋接線121的外輪廓內。如此，低反射圖案層122暴露不透明橋接線121的第一次邊界121b，且第一次邊界121b會形成接觸窗227的一側壁。

圖7是依照本發明的又一實施例的一種電容式觸控顯示面板的剖面示意圖。在本實施例中，電容式觸控顯示面板400更包括一保護蓋450。保護蓋450配置於顯示面板110的顯示面110a上而覆蓋電容式觸控元件120。保護蓋450位在電容式觸控顯示面板400的最外側，可保護電容式觸控顯示面板400內部的構件。 此外，電容式觸控顯示面板400更包括一光學膠層440。光學膠層440配置於保護蓋450朝向顯示面110a的表面450a上，以將保護蓋450貼附於電容式觸控元件120上。

圖8是依照本發明的又一實施例的一種電容式觸控顯示面板的剖面示意圖。圖8的實施例與圖7的實施例相似，兩者的差別主要在於光學膠層的塗佈範圍。在圖7的實施例裡，光學膠層140是塗佈或貼附在整個保護蓋450的表面450a上，可稱之為全貼合(direct bonding or full lamination)。但在本實施例中，光學膠層340塗佈在表面450a的周圍。如圖8的剖面圖所繪示，如此在保護蓋450、光學膠層340與電容式觸控元件120之間具有一間隙g，可稱之為口字貼合(air bonding or edge lamination)。本實施例的光學膠層340的塗佈範圍較小，具有節省生產成本的優點。在此需說明的是，圖8的實施例是以光學膠層440塗佈在保護蓋450的表面450a的周圍為例做說明，但在其它實施例裡，光學膠層140也可以塗佈在偏振片130的表面130a的周圍，此部分的說明可以參考圖1的實施例，故在此不再贅述。

圖9是依照本發明的又一實施例的一種電容式觸控顯示面板的剖面示意圖。圖9的實施例與圖1的實施例相似，兩者的差別主要在於，圖9的實施例中，電容式觸控顯示面板500包括另一光學膠層540以及一保護蓋550。換言之，本實施例的電容式觸控顯示面板500同時包括了偏振片130以及保護蓋550。保護蓋550位在電容式觸控顯示面板500的最外側以保護內部的構件。在 本實施例中，光學膠層540配置於保護蓋550朝向顯示面110a的表面550a上，並塗佈於表面550a的周圍。圖10是依照本發明的又一實施例的一種電容式觸控顯示面板的剖面示意圖。圖10的實施例與圖9的實施例相似，兩者的差別主要在於，圖10的實施例中，光學膠層640是全面塗佈在整個保護蓋650朝向顯示面110a的表面650a。

將光學膠層塗佈在保護蓋或偏振片的周圍具有節省成本的優點。另一方面，將光學膠層全面塗佈在整個保護蓋或偏振片的表面則可使保護蓋或偏振片更穩固地貼附於電容式觸控元件。在實際應用時可根據電容式觸控顯示面板的設計來調整光學膠層的塗佈或貼附範圍，如此可使電容式觸控顯示面板更具良好的設計彈性。

以上已說明電容式觸控顯示面板的各構件以及實施例，以下將說明電容式觸控顯示面板的製造流程。圖11A至圖11F是圖1的電容式觸控顯示面板的製造流程圖。請先參考圖11A，在彩色濾光基板112的一外表面112a上形成一不透明橋接材料層L1，且在不透明橋接材料層L1上形成一低反射材料層L2。在本實施例中，外表面112a為圖1的顯示面110a。本實施例的彩色濾光基板112可替換為任意的基板，例如玻璃基板、塑膠基板或可撓式基板以製作一電容式觸控面板，此部分的說明可參考圖1的實施例，故在此不再贅述。

接著，如圖11B所繪示，圖案化低反射材料層L2與不透 明橋接材料層L1以形成至少一低反射圖案層122與至少一不透明橋接線121，其中不透明橋接線121與低反射圖案層122約略具有相同圖案，且在一垂直投影方向(例如是顯示面110a的法線方向)上對準重疊。由於不透明橋接線121與低反射圖案層122在同一步驟中被圖案化，因此兩者的圖案會相同使得圖4的第一主邊界121a約略對準第二主邊界122a。在此需說明的是，在圖11B的步驟中，可先圖案化低反射材料層L2，再以圖案化低反射材料層L2所形成的低反射圖案層122做為圖案化不透明橋接材料層L1的蝕刻罩幕。或者，先在低反射材料層L2與不透明橋接材料層L1上形成一圖案化光阻層(未繪示)，接著以圖案化光阻層為蝕刻罩幕，依序蝕刻低反射材料層L2與不透明橋接材料層L1形成所需的低反射圖案層122以及不透明橋接線121。

請參考圖11C，繼之，在彩色濾光基板112上形成一絕緣圖案層126而覆蓋低反射圖案層122與不透明橋接線121。絕緣圖案層126可將低反射圖案層122與不透明橋接線121電性隔離於其它導電層。然後，如圖11D所繪示，移除低反射圖案層122與絕緣圖案層126位於不透明橋接線121的兩端的至少一部分。在此步驟中，低反射圖案層122與絕緣圖案層126被移除的部分將形成至少兩接觸窗127。在此需說明的是，當移除的範圍較大而超出原本低反射圖案層122的外輪廓時，移除的部分便會形成如圖5所繪示的接觸窗227。

請參考圖11E，形成接觸窗127後，在彩色濾光基板112 上形成一透明導電層L3而覆蓋低反射圖案層122與不透明橋接線121。在此步驟中，一部分的透明導電層L3延伸至相應的接觸窗127中以接觸不透明橋接線121。接著請同時參考圖2以及圖11F，在圖11F的步驟中透明導電層L3被圖案化。圖案化之後的透明導電層L3會形成如圖2與圖11F所繪示的複數個第一透明電極123、複數個第二透明電極124以及至少一透明橋接線125。其中，第一透明電極123沿第一方向D1設置，且不透明橋接線121與相鄰之兩第一透明電極123部分重疊使不透明橋接線121與相鄰之兩第一透明電極123電性連接。第二透明電極124沿第二方向D2設置於彩色濾光基板112之外表面112a上，透明橋接線125使相鄰之兩第二透明電極124電性連接。

請參考圖3，在圖案化透明導電層L3之後，更可在彩色濾光基板112上形成一平坦層128而覆蓋電容式觸控元件120。平坦層128可阻絕水氣進入電容式觸控元件120，避免電容式觸控元件120受溼氣而損壞。經由圖11A至圖11F以及圖3的步驟後，便可製造圖1的電容式觸控顯示面板。

在此必須說明的是，下述實施例沿用前述實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，下述實施例不再重複贅述。

圖12是依照本發明的又一實施例的一種電容式觸控顯示面板的上視示意圖。圖13是圖12中沿線BB’以及線CC’的剖面示 意圖。請同時參考圖12以及圖13，圖12的實施例與圖5的實施例相似，兩者的差別主要在於絕緣圖案層的覆蓋範圍。詳細而言，圖5的實施例中，除了接觸窗227之外，絕緣圖案層126是完全覆蓋低反射圖案層122、不透明橋接線121以及彩色濾光基板112。在本實施例中，絕緣圖案層726僅覆蓋部分的不透明橋接線121以及部分的低反射圖案層722而暴露出不透明橋接線121的兩端，並且相鄰兩第一透明電極123覆蓋在不透明橋接線121被絕緣圖案層726暴露出的兩端以彼此電性連接。

此外，在本實施例中，電容式觸控顯示面板700更包括多條連接線729，用以傳輸電容式觸控元件720的訊號。連接線729的材質與不透明橋接線121的材質例如都是金屬。如圖13的剖面示意圖所繪示，本實施例的低反射圖案層722除了覆蓋不透明橋接線121之外，更覆蓋連接線729。如此，低反射圖案層722覆蓋了電容式觸控顯示面板700中容易反射環境光的構件，以提供電容式觸控顯示面板700的使用者良好的視覺體驗。

綜上所述，本發明的電容式觸控顯示面板、電容式觸控面板及其製造方法中，因為不透明橋接線可以準確地被低反射圖案層對準覆蓋，所以不會有低反射圖案層面積過大，或者是低反射圖案層相對製程偏移，造成不透明橋接線周邊顯示開口率降低的問題，且可以改善習知不透明橋接線反射環境光而容易被使用者看到的問題，進而提供電容式觸控顯示面板與電容式觸控面板的使用者良好的視覺體驗。

本發明雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

112‧‧‧彩色濾光基板

110a‧‧‧顯示面

121‧‧‧不透明橋接線

122‧‧‧低反射圖案層

123‧‧‧第一透明電極

125‧‧‧透明橋接線

126‧‧‧絕緣圖案層

127‧‧‧接觸窗

128‧‧‧平坦層

Claims (19)

1. 一種電容式觸控顯示面板，包括：一顯示面板，具有一顯示面；以及一電容式觸控元件，設置於該顯示面板之該顯示面上，該電容式觸控元件包括：至少一不透明橋接線，設置於該顯示面板之該顯示面上，該不透明橋接線具有一第一線寬，且該不透明橋接線的兩側具有兩個第一主邊界；至少一低反射圖案層，設置於該不透明橋接線上相對於該顯示面板之另一側，該低反射圖案層具有一第二線寬，且該低反射圖案層的兩側具有兩個第二主邊界，其中，該低反射圖案層與該不透明橋接線在一垂直投影方向上重疊，該第一線寬約略等於該第二線寬，該些第一主邊界約略對準該些第二主邊界；複數個第一透明電極，沿一第一方向設置於該顯示面板之該顯示面上，且該不透明橋接線與相鄰之該兩第一透明電極部分重疊使該不透明橋接線與相鄰之該兩第一透明電極電性連接；複數個第二透明電極，沿一第二方向設置於該顯示面板之該顯示面上；至少一透明橋接線，設置於該顯示面板之該顯示面上，並使相鄰之該兩第二透明電極電性連接；以及 一絕緣圖案層，設置於該不透明橋接線與該透明橋接線之間，用以電性隔離該不透明橋接線與該透明橋接線。
2. 如申請專利範圍第1項所述的電容式觸控顯示面板，更包括一偏振片，配置於該顯示面板的該顯示面上而覆蓋該電容式觸控元件。
3. 如申請專利範圍第2項所述的電容式觸控顯示面板，更包括一光學膠層，配置於該偏振片朝向該顯示面的表面上。
4. 如申請專利範圍第1項所述的電容式觸控顯示面板，更包括一保護蓋，配置於該顯示面板的該顯示面上而覆蓋該電容式觸控元件。
5. 如申請專利範圍第4項所述的電容式觸控顯示面板，更包括一光學膠層，配置於該保護蓋朝向該顯示面的表面上。
6. 如申請專利範圍第1項所述的電容式觸控顯示面板，其中該些不透明橋接線的材質為金屬。
7. 如申請專利範圍第1項所述的電容式觸控顯示面板，其中該低反射圖案層的材質為黑色樹脂、低反射金屬或低反射金屬氧化物。
8. 如申請專利範圍第1項所述的電容式觸控顯示面板，其中該第一線寬小於等於30微米。
9. 如申請專利範圍第1項所述的電容式觸控顯示面板，其中該不透明橋接線的兩端具有兩個第一次邊界，該低反射圖案層的兩端具有兩個第二次邊界，該些第一次邊界約略對準該些第二次 邊界。
10. 如申請專利範圍第1項所述的電容式觸控顯示面板，其中該不透明橋接線的兩端具有兩個第一次邊界，該低反射圖案層暴露該不透明橋接線的該些第一次邊界。
11. 一種電容式觸控面板，包括：一基板，具有一外表面；以及一電容式觸控元件，設置於該基板之該外表面上，該電容式觸控元件包括：至少一不透明橋接線，設置於該基板之該外表面上，該不透明橋接線具有一第一線寬，且該不透明橋接線的兩側具有兩個第一主邊界；至少一低反射圖案層，設置於該不透明橋接線上相對於該基板之另一側，該低反射圖案層具有一第二線寬，且該低反射圖案層的兩側具有兩個第二主邊界，其中，該低反射圖案層與該不透明橋接線在一垂直投影方向上重疊，該第一線寬約略等於該第二線寬，該些第一主邊界約略對準該些第二主邊界；複數個第一透明電極，沿一第一方向設置於該基板之該外表面上，且該不透明橋接線與相鄰之該兩第一透明電極部分重疊使該不透明橋接線與相鄰之該兩第一透明電極電性連接；複數個第二透明電極，沿一第二方向設置於該基板之該 外表面上；至少一透明橋接線，設置於該基板之該外表面上，並使相鄰之該兩第二透明電極電性連接；以及一絕緣圖案層，設置於該不透明橋接線與該透明橋接線之間，用以電性隔離該不透明橋接線與該透明橋接線。
12. 如申請專利範圍第11項所述的電容式觸控面板，其中該第一線寬小於等於30微米。
13. 如申請專利範圍第11項所述的電容式觸控面板，其中該不透明橋接線的兩端具有兩個第一次邊界，該低反射圖案層的兩端具有兩個第二次邊界，該些第一次邊界約略對準該些第二次邊界。
14. 如申請專利範圍第11項所述的電容式觸控面板，其中該不透明橋接線的兩端具有兩個第一次邊界，該低反射圖案層暴露該不透明橋接線的該些第一次邊界。
15. 一種電容式觸控面板的製造方法，包括：在一基板的一外表面上形成一不透明橋接材料層；在該不透明橋接材料層上形成一低反射材料層；圖案化該低反射材料層與該不透明橋接材料層以形成至少一低反射圖案層與至少一不透明橋接線，其中該不透明橋接線與該低反射圖案層約略具有相同圖案，且在一垂直投影方向上對準重疊；在該基板上形成一絕緣圖案層而覆蓋該低反射圖案層與該不 透明橋接線；移除該低反射圖案層與該絕緣圖案層位於該不透明橋接線的兩端的至少一部分；以及在該基板上形成一透明導電層而覆蓋該低反射圖案層與該不透明橋接線，並圖案化該透明導電層以形成複數個第一透明電極、複數個第二透明電極以及至少一透明橋接線，其中該些第一透明電極沿一第一方向設置，該不透明橋接線與相鄰之該兩第一透明電極部分重疊使該不透明橋接線與相鄰之該兩第一透明電極電性連接，該些第二透明電極沿一第二方向設置於該基板之該外表面上，該透明橋接線使相鄰之該兩第二透明電極電性連接。
16. 如申請專利範圍第15項所述的電容式觸控面板的製造方法，其中該不透明橋接線具有一第一線寬，且該不透明橋接線的兩側具有兩個第一主邊界，該低反射圖案層具有一第二線寬，且該低反射圖案層的兩側具有兩個第二主邊界，其中該低反射圖案層與該不透明橋接線在該垂直投影方向上重疊，該第一線寬約略等於該第二線寬，該些第一主邊界約略對準該些第二主邊界。
17. 如申請專利範圍第15項所述的電容式觸控面板的製造方法，其中該不透明橋接線的兩端具有兩個第一次邊界，該低反射圖案層的兩端具有兩個第二次邊界，該些第一次邊界約略對準該些第二次邊界。
18. 如申請專利範圍第15項所述的電容式觸控面板的製造方法，其中該不透明橋接線的兩端具有兩個第一次邊界，該低反射 圖案層暴露該不透明橋接線的該些第一次邊界。
19. 如申請專利範圍第15項所述的電容式觸控面板的製造方法，其中在圖案化該透明導電層之後，更包括在該基板上形成一平坦層而覆蓋該電容式觸控元件。