TW201514557A

TW201514557A - 偏光器製造方法

Info

Publication number: TW201514557A
Application number: TW103131731A
Authority: TW
Inventors: Cheon-Hee Jo; Hye-Rim Kwon; Geon-Hee Lee
Original assignee: Dongwoo Fine Chem Co Ltd
Priority date: 2013-10-07
Filing date: 2014-09-15
Publication date: 2015-04-16
Also published as: JP2015075762A; KR101400132B1

Abstract

本發明是關於一種偏光器製造方法，可改善偏光器的色相耐久性。本發明是在偏光器製造工序中，染色階段的染色液及交聯階段的交聯液包含硼酸化合物，由於前述染色液中的硼酸化合物濃度維持在比前述交聯液中的硼酸化合物濃度更高，使得用於形成偏光器的薄膜中的二色性物質的錯合物形成率增加，可使色相耐久性提升。

Description

偏光器製造方法

本發明是關於一種偏光器製造方法。

使用於如液晶顯示裝置（LCD）、電場發光（EL）顯示裝置、電漿顯示裝置（PDP）、電場發射顯示裝置（FED）、OLED等各種圖像顯示裝置的偏光板，一般來說，在聚乙烯醇類（PVA；polyvinyl alcohol）薄膜包含吸附定向有碘類化合物或二色性偏光物質的偏光器，在偏光器的一面，依序積層偏光器保護薄膜，在偏光器的另一面，具備依序積層有偏光器保護薄膜、與液晶胞接合的黏著劑層以及變形薄膜的多層構造。

構成偏光板的偏光器，為了提供具適用於圖像顯示裝置的優越色相再現性的圖像，需求同時具備高透光率及偏光度者。為了具體化此偏光器，將聚乙烯醇類薄膜本身變性，或使用非昇華性二色性染料的方法來替代以具有昇華性的碘系偏光元件，來製造偏光器。但是，在將聚乙烯醇類薄膜本身變性的情況下，碘或二色性染料不能充分吸附於聚合物基質（polymer matrix），會產生偏光度降低，或因基質變性導致透光度降低的問題之虞，在使用非昇華性染料的情況下，會有延伸聚乙烯醇類薄膜時的定向調節困難，無法獲得足夠偏光度的問題。

在韓國公開專利第2009-70085號公報，記載了偏光器製造方法，但對於前述問題點並沒有提出替代方案。【先前技術文獻】【專利文獻】

【專利文獻1】韓國公開專利第2009-70085號公報

【發明所欲解決的問題】

本發明的目的為提供一種偏光器製造方法，來改善偏光器的色相耐久性。【用來解決課題的手段】

1.偏光器製造方法具備將用於形成偏光器的薄膜膨脹、染色、交聯以及延伸的階段，前述染色階段的染色液及前述交聯階段的交聯液包含硼酸化合物，前述染色液中的硼酸化合物濃度比前述交聯液中的硼酸化合物濃度更高。

2.在前述項目1的偏光器製造方法，其中前述染色液及交聯液中的硼酸化合物濃度滿足1＜（染色液中的硼酸化合物濃度/交聯液中的硼酸化合物濃度）≦4。

3.在前述項目1的偏光器製造方法，其中前述染色液中的硼酸化合物濃度滿足3～6重量％。

4.在前述項目1的偏光器製造方法，其中前述交聯液中的硼酸化合物濃度滿足1.5～3重量％。

5.在前述項目1的偏光器製造方法，其中前述交聯液更包含金屬鹽。

6.在前述項目5的偏光器製造方法，其中（染色液中的硼酸化合物濃度/交聯液中的硼酸化合物濃度）＊（交聯液中的金屬鹽濃度）的值為2～20重量％。

7.在前述項目5的偏光器製造方法，其中前述金屬鹽包含自硝酸鋅、硝酸鋁、硝酸銀、硝酸銅、氯化鋅、碘化鋅、醋酸鋅、醋酸銅以及硫酸鋅所成群組中選擇至少一種。【發明效果】

本發明的偏光器製造方法是藉由在染色階段提高二色性物質的錯合物形成率，可製造改善色相耐久性的偏光器。

本發明的偏光器製造方法是藉由在交聯階段使交聯效率提升，抑制二色性物質的泌出等問題，可製造色相耐久性優越且偏光特性優越的偏光器。

本發明是關於一種偏光器製造方法，在偏光器製造工序中，染色階段的染色液及交聯階段的交聯液包含硼酸化合物，由於前述染色液中的硼酸化合物濃度維持在比交聯液中的硼酸化合物濃度更高，使得用於形成偏光器的薄膜中的二色性物質的錯合物形成率增加，可使色相耐久性提升。

以下詳細地說明本發明。

本發明的偏光器製造方法具備膨脹、染色、交聯以及延伸的階段。

在本發明中，在偏光器製造工序中在染色階段及交聯階段所分別使用的染色液及交聯液，為了使偏光器的色相耐久性提升包含硼酸化合物。

本發明因在交聯階段前的染色階段的染色液包含硼酸化合物，所以使在交聯反應進行前的硼酸化合物的滯留時間提升，可使用於形成偏光器的薄膜中的二色性物質的錯合物形成率增加。

又，由於將染色液中的硼酸化合物濃度維持在比交聯液中的硼酸化合物濃度更高，所以可使二色性物質可吸附於用於形成偏光器的薄膜的自由空間增加，藉由因二色性物質的錯合物形成率增加，可提升偏光器的色相耐久性。

若是染色液中的硼酸化合物濃度在比交聯液中的硼酸化合物濃度更高的數值範圍內，染色液及交聯液中的硼酸化合物濃度並沒有特別限定，例如也可以滿足［1＜（染色液中的硼酸化合物濃度/交聯液中的硼酸化合物濃度）≦4］的數值範圍，較佳為［1.2＜（染色液中的硼酸化合物濃度/交聯液中的硼酸化合物濃度）≦3.8］。

在滿足前述數值範圍的情況下，可製造用於形成偏光器的薄膜以及二色性物質的錯合物形成率提升，且色相耐久性提升的偏光器。又，前述值未滿1的情況下，在信賴性上可能產生偏光度及/或色相耐久性降低的問題，超過4的情況下，製造工序中會發生切斷。

以下，更詳細地說明本發明的偏光器製造方法的一具體例。

本發明的偏光器的各製造階段的重複次數及工序條件等，在不脫離本發明目的的情況下並沒有特別限定，延伸階段是以獨立階段來進行，或者是可與膨脹、染色以及交聯階段的任一階段同時進行。

形成偏光器的薄膜若為二色性物質，即可以碘等染色的薄膜，則其種類沒有特別限定，可舉出例如聚乙烯醇類薄膜、部分皂化的聚乙烯醇類薄膜；聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物薄膜、乙烯/乙烯醇共聚物薄膜、纖維素薄膜、上述這些部分地皂化的薄膜等親水性高分子薄膜；或是脫水處理後的聚乙烯醇類薄膜、去鹽酸處理後的聚乙烯醇類薄膜等多烯定向膜等。在這些之中，由於不僅在面內使偏光度的均勻性提升的效果優越，且對於碘的染色親和性也優越，所以聚乙烯醇類薄膜為較佳。

＜膨脹階段＞膨脹階段是在將未延伸的用於形成偏光器的薄膜染色前，浸漬於以用於膨脹的水溶液所充滿的膨脹槽，除去在用於形成偏光器的薄膜表面上所堆積的塵埃或抗結塊劑之類的不純物，又，藉由膨脹用於形成偏光器的薄膜，使延伸效率提升，防止染色不均勻性，使偏光器的物性提升的階段。

通常可單獨使用水（純水、去離子水）作為用於膨脹的水溶液，由於使高分子薄膜的加工性提升，所以也可以添加少量的甘油或碘化鉀。

在包含甘油及碘化鉀的情況下，其含量並沒有特別限定，例如相對於用於膨脹的水溶液的總重量，也可以分別為5及10重量％以下。

膨脹槽的溫度並沒有特別限定，也可以為例如20～45℃，較佳為20～40℃。膨脹槽的溫度若在前述數值範圍內的情況下，則以後的延伸及染色效率優良，可防止過渡膨脹所導致的薄膜膨脹。

膨脹階段的進行時間（膨脹槽浸漬時間）並沒有特別限定，也可以為例如180秒以下，較佳為90秒以下。膨脹槽浸漬時間若在前述數值範圍內，可抑制膨脹過渡所成飽和狀態者，所以藉由防止用於形成偏光器的薄膜軟化所導致的破損斷裂，將在染色階段的碘吸附均勻，可使偏光度提升。

膨脹階段及延伸階段可一起進行，在此情況下，延伸比也可以為大約1.1～3.5倍，較佳為1.5～3.0倍。前述延伸比未滿1.1倍的情況下，有產生皺紋之虞，超過3.5倍的情況下，初始的光特性會降低。

＜染色階段＞染色階段是將用於形成偏光器的薄膜浸漬於二色性物質（例如包含碘的染色液）所充滿的染色槽，使碘吸附於用於形成偏光器的薄膜的階段。

在本發明的染色階段所用的染色液包含硼酸化合物。由於前述染色液包含硼酸化合物，所以使用於形成偏光器的薄膜以及二色性物質的錯合物形成率提升，可使偏光器的色相耐久性提升。

前述染色液中的硼酸化合物，被包含成具有比在以後進行的交聯階段的交聯液所添加的硼酸化合物更高的濃度。

前述染色液中的硼酸化合物濃度並沒有特別限定，例如也可以相對於染色液的總重量為3～6重量％，較佳為3.5～5重量％。在染色液中的硼酸化合物濃度未滿3重量％的情況下，增加形成碘錯合物的效果會降低，超過6重量％的情況下，因應力上升有產生切斷之虞。

前述硼酸化合物的種類並沒有特別限定，前述硼酸化合物可列舉例如硼酸、硼酸鈉、硼酸鉀以及硼酸鋰等。這些可單獨使用或混合兩種以上使用。

染色液除了前述硼酸化合物以外，也可以更包含：水、水溶性有機溶劑或這些的混合溶劑以及碘。碘的濃度在染色液中也可以是0.4～400 mmol/L，較佳為0.8～275 mmol/L，更佳為1～200 mmol/L。

染色液也可以更包含碘化物來作為用來改善染色效率的溶解助劑。

碘化物的種類並沒有特別限定，可列舉例如碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫以及碘化鈦等，由於對水溶解度大，所以碘化鉀為較佳。這些可單獨使用或混合兩種以上使用。

前述碘化物的含量並沒有特別限定，例如也可以相對於染色液的總重量為0.01～10重量％，較佳為0.1～5重量％。

染色槽的溫度並沒有特別限定，也可以為例如5～42℃，較佳為10～35℃。

將用於形成偏光器的薄膜浸漬於染色槽的時間並沒有特別限定，也可以為例如1～20分，較佳為2～10分。

可以與染色階段一起進行延伸階段，在此情況下，延伸比也可以是1.01～2.0倍，較佳為1.1～1.8倍。

又，膨脹及延伸階段為止的偏光器累積延伸比，較佳為1.2～4.0倍。前述累積延伸比未滿1.2倍的情況下，薄膜有產生皺紋之虞，超過4.0倍的情況下，初始的光學特性會低落。

＜交聯階段＞交聯階段是為了以物理吸附的碘分子獲得的染色性不因外部環境而降低，使已染色的用於形成偏光器的薄膜浸漬於交聯液，固定已吸附的碘分子的階段。

在本發明的交聯階段所使用的交聯液包含硼酸化合物。由於前述交聯液包含硼酸化合物，所以使交聯效率提升，抑制在工序中的薄膜皺紋產生，形成二色性物質的定向並可提升光學特性。

前述交聯液中的硼酸化合物，被包含成具有比在染色階段的染色液中的硼酸化合物更低的濃度。

雖然二色性染料在耐濕環境泌出的情況並不多，但碘在交聯反應不穩定的情況下，對應環境碘分子會溶解或昇華的情況多，需要進行充分的交聯反應。

以本發明進行的交聯反應，可在第一交聯階段及第二交聯階段進行，在前述交聯階段中的一個以上的階段所使用的交聯液，可包含硼酸化合物。

雖然前述交聯液中的硼酸化合物濃度並沒有特別限定，但也可以例如相對於交聯液的總重量為1.5～3重量％，較佳為1.7～2.5重量％。交聯液中的硼酸化合物濃度未滿1.5重量％的情況下，交聯效果會減少，薄膜的強直性降低，超過3重量％的情況下，會因過度的交聯結合，有產生切斷之虞。

硼酸化合物可使用與染色階段所使用者相同者。

本發明的交聯液也可以更包含金屬鹽。

前述金屬鹽由於形成用於形成偏光器的薄膜與螯合物構造，所以可使交聯效率提升。由於交聯效率提升，可防止乾燥後的惡化現象（紅變現象），在信賴性條件藉由抑制交聯結構的變化，防止碘錯合物的漏出，可製造色相耐久性優越的偏光器。

雖然前述金屬鹽濃度並沒有特別限定，但可以包含成與染色液及交聯液中的硼酸化合物具有固定濃度比，例如｛（染色液中的硼酸化合物濃度/交聯液中的硼酸化合物濃度）｝＊（交聯液中的金屬鹽濃度）的值可包含在滿足2～20重量％的數值範圍，較佳為5～15重量％。

包含在前述數值範圍內的情況下，偏光器的色相耐久性提升，表示優越的光學特性。在前述值未滿2重量％的情況下，有產生偏光度及/或色相耐久性降低的問題之虞，超過20重量％的情況下，在製造工序中有產生切斷之虞。

前述金屬鹽濃度並沒有特別限定，例如也可以相對於交聯液的總重量為2～5重量％，較佳為2.5～4重量％。在前述金屬鹽濃度未滿2重量％的情況下，會有交聯度提升效果不充分的可能性，偏光特性也會降低。在超過5重量％的情況下，由於與用於形成偏光器的薄膜的過度化學結合，有產生切斷問題之虞，生產效率性會降低。

本發明的交聯階段在第一交聯階段及第二交聯階段進行的情況下，在前述交聯階段中的一個以上的階段所使用的交聯液可包含金屬鹽。

前述金屬鹽的種類並沒有特別限定，可列舉例如硝酸鋅、硝酸鋁、硝酸銀、硝酸銅、氯化鋅、碘化鋅、醋酸鋅、醋酸銅以及硫酸鋅等，較佳為硝酸鋅、硝酸鋁、硝酸銀以及硝酸銅。這些可單獨使用或混合兩種以上使用。

又，在第一及第二交聯階段的任一者包含金屬鹽的情況下，金屬鹽濃度相對於第一交聯階段的交聯液可包含2～5重量％的量，相對於第二交聯階段的交聯液可包含2～5重量％的量，但並不受限於此。

本發明的交聯液除了前述化合物以外，也可以包含作為溶劑使用的水以及可相容於水的有機溶劑，為了在偏光器面內的偏光度均勻性及防止染附的碘脫附，也可以更包含少量的碘化物。

前述碘化物可使用在染色階段所使用者相同者，又，前述碘化物濃度並沒有特別限定，例如可相對於交聯液的總重量為0.05～15重量％，較佳為0.5～11重量％。在交聯槽的碘化物濃度滿足前述數值範圍的情況下，可防止染色階段所吸附的碘離子從薄膜脫落，或包含於交聯液的碘離子浸透薄膜，可抑制透光率變化。

雖然交聯槽的溫度並沒有特別限定，但也可以為例如20～70℃，較佳為40～60℃。

將用於形成偏光器的薄膜浸漬於交聯槽的時間並沒有特別限定，也可以為例如1秒～15分，較佳為5秒～10分。

可以與交聯階段一起進行延伸階段，在此情況下，第一交聯階段的延伸比也可以為1.4～3.0倍，較佳為1.5～2.5倍。又，第二交聯階段的延伸比也可以為1.01～2.0倍，較佳為1.2～1.8倍。

前述第一交聯階段及第二交聯階段的累積延伸比，也可以為1.5～5.0倍，較佳為1.7～4.5倍。在前述累積延伸比未滿1.5倍的情況下，有交聯效率上升效果不充分的可能性，在超過5.0倍的情況下，會有因過度的延伸產生薄膜破損斷裂之虞，生產效率性會降低。

＜延伸階段＞延伸階段如前述，可以與膨脹階段、染色階段以及交聯階段中的至少一階段一起進行，或是可在前述階段後移送薄膜，並在空氣或惰性氣體中進行，作為使用以延伸液充滿的其他用途的延伸槽的獨立延伸階段來進行。或者是，在膨脹階段前，在空氣或惰性氣體中延伸未延伸的聚乙烯醇類薄膜後，也可以將該薄膜進行膨脹、染色、交聯、洗淨以及乾燥階段。

雖然延伸也可以在一階段實施，或者是也可以在兩個以上的階段實施，但在兩個以上的階段實施者為較佳。延伸可以用在壓料輥的圓周速率設有差異等方法來實施。又，與膨脹階段相同，可以在槽中及/或槽出入口設置擴張輥（expander roll）、螺旋輥（spiral roll）、冠輥（crown roll）、交叉導器（cross guider）、彎曲桿（bend bar）等。

本發明的總累積延伸比，較佳為4.0～7.0倍。又，在本說明書中「累積延伸比」是指各階段的延伸比相乘的值。

＜洗淨階段＞本發明的偏光器製造方法，可對應需要在交聯及延伸結束後，再具備洗淨階段。

洗淨階段是使交聯及延伸結束後的用於形成偏光器的薄膜，浸漬於以洗淨液充滿的洗淨槽，除去不要的殘留物的階段，該不要的殘留物係在以前的階段附著於用於形成偏光器的薄膜。

洗淨用水溶液也可以是水（去離子水），也可以進一步添加碘化物。作為碘化物，可以使用與在染色階段所使用者相同者，在這些之中，較佳為使用碘化鈉或碘化鉀。碘化物的含量並沒有特別限定，例如也可以相對於洗淨用水溶液的總重量為0.1～10重量份，較佳為3～8重量份。

洗淨槽的溫度並沒有特別限定，也可以為例如10～60℃，較佳為15～40℃。

洗淨階段也可以省略，也可以在如染色階段、交聯階段或延伸階段的前階段結束後再度進行。又，也可以重複一次以上，其重複次數並沒有特別限制。

＜乾燥階段＞乾燥階段是將已洗淨的用於形成偏光器的薄膜乾燥，使得以乾燥導致縮頸（neck-in）所染附的碘分子的定向更加提升，獲得光學特性優越的偏光器的階段。

可以使用自然乾燥、空氣乾燥、加熱乾燥、微波乾燥、熱風乾燥等方法作為乾燥方法，最近，新使用僅使薄膜中的水活性化並乾燥的微波處理，一般來說主要使用熱風處理及遠紅外線處理。

雖然熱風乾燥時的溫度並沒有特別限定，但為了防止偏光器惡化，以相對低溫進行者為較佳，例如也可以為20～90℃，較佳為80℃以下，更佳為60℃以下。

前述熱風乾燥的進行時間並沒有特別限定，例如可在1～10分鐘間進行。

又，本發明的偏光器可使用於為了製造在至少一面積層保護薄膜的偏光板。

前述保護薄膜的種類，若為透明性、機械強度、熱穩定性、水分遮蔽性、等向性等優越的薄膜，則沒有特別限定，作為具體例，可列舉如聚對苯二甲酸乙二酯、聚間苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯類樹脂；聚碳酸酯類樹脂；聚（甲基）丙烯酸甲酯、聚（甲基）丙烯酸乙酯等聚丙烯酸酯類樹脂；聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯類樹脂；聚乙烯、聚丙烯、具有環類或降冰片烯構造的聚烯烴、乙烯丙烯共聚物等聚烯烴類樹脂；尼龍、芳香族聚醯胺等聚醯胺類樹脂；醯亞胺類樹脂；聚醚碸類樹脂；碸類樹脂；聚醚酮類樹脂；聚苯硫類樹脂；乙烯醇類樹脂；氯化亞乙烯類樹脂；乙烯丁醛類樹脂；芳基類樹脂；聚甲醛類樹脂；環氧類樹脂等的熱可塑性樹脂所構成的薄膜，也可以使用以前述熱可塑性樹脂的摻合物所構成的薄膜。又，也可以使用（甲基）丙烯酸類、胺甲酸乙酯類、環氧類、矽氧樹脂類等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂所組成的薄膜。若在這些之中，考慮偏光特性或耐久性，特別是具有以鹼等來皂化的表面的纖維素類薄膜為較佳。又，保護薄膜也可以是兼具下述光學層的功能者。

前述偏光板的構造並沒有特別限制，也可以是能滿足需要的光學特性的多種類的光學層被積層於偏光器上者。例如，也可以是具有在偏光器的至少一面積層有保護偏光器的保護薄膜的構造；在偏光器的至少一面或保護薄膜上積層有硬塗層、防反射層、防黏著層、防炫光層等表面處理層的構造；在偏光器的至少一面或保護薄膜上積層有補償視野角的定向液晶層或是其他功能性膜的結構者。又，也可以是為了各種圖像顯示裝置所使用的如偏光變換裝置的光學膜、反射器、半透光板、如1/2波長板或1/4波長板的包含波長板（包含λ板）的相位差板、視野角補償膜、增亮膜的任一者以上作為光學層來積層的結構。更詳細來說，在偏光器的一面積層有保護薄膜結構的偏光板，較佳為在已積層的保護薄膜上積層有反射器半透光反射器的反射型偏光板或半透光型偏光板；積層有相位差板的橢圓形或圓形偏光板；積層有視野角補償層或視野角補償膜的寬廣視野角偏光板；或者是積層有增亮膜的偏光板等。

如此類偏光板，除了一般的液晶顯示裝置之外，可適用於電場發光顯示裝置、電漿顯示裝置、電場發射顯示裝置等各種圖像顯示裝置。

以下，雖然為了容易理解本發明，表示了較佳實施例，但這些實施例只不過是本發明的例示，並非用來限制所附的申請專利範圍，在本發明的範疇及技術思想範圍內，對於實施例進行各種變更且可修正，對於所屬領域中具有通常知識者來說是明確清楚者，如此類變更及修正屬於附加的申請專利範圍也是理所當然者。

實施例1 將皂化度99.9％以上的透明未延伸聚乙烯醇類薄膜（PS-7500，KURARAY公司）浸漬於30℃的水（去離子水）2分鐘並使其膨脹後，以4分鐘浸漬於包含碘3.5 mmol/L、碘化鉀2重量％以及硼酸3.5重量％的30℃的染色液來染色。此時，在膨脹及染色階段分別以1.3倍、1.4倍的延伸比來延伸，進行延伸成到染色槽為止的累積延伸比成為1.8倍。接著，以30秒浸漬（第一交聯階段）於包含碘化鉀10重量％、硼酸1.7重量％、以及硝酸鋅2.5重量％的50℃的交聯液並使其交聯，並以2倍延伸比進行延伸。以後，以20秒浸漬（第二交聯階段）於包含碘化鉀10重量％以及硼酸1.7重量％的50℃的交聯液並使其交聯，並以1.5倍的延伸比進行延伸（第一及第二交聯階段的累積延伸比為3倍）。

此時，使膨脹、染色以及交聯階段的累積延伸比成為5.46倍。交聯結束後，以70℃的烘箱進行4分鐘乾燥聚乙烯醇類薄膜，來製造偏光器。

藉由在製造完的偏光器的兩面積層三醋酸纖維素（TAC）薄膜來製造偏光板。

實施例2～11及比較例1～4 除了用下述表1所記載的成分及含量以外，以與實施例1相同的方法來製造偏光器及偏光板。

表1

實驗例以下述方法測量在前述實施例及比較例所製造的偏光器的物性，其結果如下表2所示。

1.光學特性（偏光度、透光率）將製造完的偏光器以4cm × 4cm的大小切斷後，用紫外線可見光線分光計（V-7100，JASCO公司製造）來測量透光率（平行透光率、垂直透光率以及單體透光率）。

偏光度是以下面數學式1所定義的測量值，透光率是單體透光率值的意思。［數學式1］偏光度（P）＝［（T₁ －T₂ ）/（T₁ ＋T₂ ）］^1/2 〔式中、T₁ 是在吸收軸平行的狀態下配置一組偏光器時所獲得的平行透光率，T₂ 是在吸收軸垂直的狀態下配置一組偏光器時所獲得的垂直透光率。〕

接下來，將前述偏光器在105℃的乾燥空氣下放置30分鐘後（耐久性實驗），以再度測量光學特性來確認變化量。

2.色相耐久性評價（ΔA700、Δ垂直b）用分光光度計（日本分光股份公司的V7100）來測量偏光器的分光透光率τ（λ）。從測量到的分光透光率τ（λ）求得垂直分光透光光譜，從分光透光光譜用垂直色相b以及下列數學式2求得A700。

接下來，在105℃的乾燥空氣下將前述偏光器放置30分鐘後（耐久性實驗），再度測量分光透光率τ（λ），從測量到的分光透光率τ（λ）求得垂直分光透光光譜，從分光透光光譜用垂直色相b及下列數學式2求得A700，將垂直色相b的耐久性實驗前後的差作為Δ垂直b，將A700耐久性實驗前後的差作為ΔA700。此時，Δ垂直b及ΔA700的值越大，判定乾熱下的變色程度越大者。［數學式2］ A700＝－Log₁₀ ｛（T_{MD, 700} ×T_{TD, 700} ）/10000｝〔式中，T_{MD, 700} 是在吸收軸平行狀態下配置一組偏光板時所獲得的700nm波長的平行透光率，T_{TD, 700} 是在吸收軸垂直狀態下配置一組偏光板時所獲得的700nm波長的垂直透光率。〕

前述ΔA700未滿1.3，Δ垂直b未滿0.3的程度，視為變色程度小。

在前述105℃的乾燥空氣下放置30分鐘後，以目視觀察確認偏光器有無產生紅變。

從前述表2可知，以關於本發明的製造方法所製造的偏光器，透光率及偏光度高，光學特性優越，且不會產生紅變現象，所以確認色相耐久性優越。

在染色液及交聯液的硼酸化合物濃度比（A/B）稍微脫離本發明的數值範圍的實施例4的情況下，染色液中的硼酸化合物濃度高，所以透光率比其他實施例高，但是偏光度略降低，ΔA700及Δ垂直b的值略高，所以確認色相耐久性略低。

在染色液及交聯液的硼酸化合物，以及對於交聯液的金屬鹽濃度的參數在稍微脫離本發明範圍的實施例6的情況下，確認了ΔA700及Δ垂直b的值表示比其他實施例更高，雖然比比較例的色相耐久性優越，但比其他實施例略低。

在染色液不包含硼酸化合物的比較例1以及染色液不包含硼酸化合物且交聯液不包含金屬鹽的比較例2的情況下，確認了用於形成偏光器的薄膜中的二色性物質的錯合物形成率減少，色相耐久性顯著降低，並產生紅變。

染色液及交聯液的任一者不包含硼酸化合物的比較例3，確認了偏光特性顯著降低，ΔA700及Δ垂直b的值非常高，並產生紅變。

雖然在交聯液的硼酸化合物濃度比染色液的硼酸化合物濃度更高的比較例4的情況下，並沒有產生紅變，但是確認了ΔA700及Δ垂直b的值比實施例更大，色相耐久性降低。

Claims

一種偏光器製造方法，具備將用於形成偏光器的薄膜膨脹、染色、交聯以及延伸的階段，其中前述染色階段的染色液及前述交聯階段的交聯液包含硼酸化合物，前述染色液中的硼酸化合物濃度比前述交聯液中的硼酸化合物濃度更高。
如申請專利範圍第1項所述的偏光器製造方法，其中前述染色液及交聯液中的硼酸化合物濃度滿足1＜（染色液中的硼酸化合物濃度/交聯液中的硼酸化合物濃度）≦4。
如申請專利範圍第1項所述的偏光器製造方法，其中前述染色液中的硼酸化合物濃度滿足3～6重量％。
如申請專利範圍第1項所述的偏光器製造方法，其中前述交聯液中的硼酸化合物濃度滿足1.5～3重量％。
如申請專利範圍第1項所述的偏光器製造方法，其中前述交聯液更包含金屬鹽。
如申請專利範圍第5項所述的偏光器製造方法，其中（染色液中的硼酸化合物濃度/交聯液中的硼酸化合物濃度）＊（交聯液中的金屬鹽濃度）的值為2～20重量％。
如申請專利範圍第5項所述的偏光器製造方法，其中前述金屬鹽包含自硝酸鋅、硝酸鋁、硝酸銀、硝酸銅、氯化鋅、碘化鋅、醋酸鋅、醋酸銅以及硫酸鋅所成群組中選擇至少一種。