TW201514528A - 用於透鏡組件之ｕｖ防護塗層 - Google Patents

用於透鏡組件之ｕｖ防護塗層 Download PDF

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Abstract

透鏡組件包含透鏡、光吸收體、透鏡座及黏著劑；光吸收體不穿透具有從大於或等於約250nm至小於或等於約400nm的波長的光；黏著劑經配置以將透鏡黏著至透鏡座。光吸收體經設置為使得具有從大於或等於約190nm至小於或等於約500nm的波長的光不入射至黏著劑。方法包含施加光吸收體至透鏡，光吸收體不穿透具有從大於或等於約190nm至小於或等於約500nm的波長的光；及配置光吸收體及黏著劑使得所吸收之光不入射至黏著劑。

Description

用於透鏡組件之UV防護塗層
本申請案依據專利法主張申請於2013年9月6日之美國申請案序號第14/020,102號之優先權之權益，依據該申請案之內容且該申請案之內容以全文引用之方式併入本文。
本說明書大致上關於用於透鏡的防護塗層，及用於將透鏡黏著至光學系統的方法。
透鏡系統用於各種終端使用者應用中，包含在微影技術及半導體檢測設備中。在這些應用中，來自光源的光被引入系統以實行操作。然而，在某些應用中，被引入透鏡元件的紫外(UV)光可能劣化將透鏡元件耦合至透鏡座而設置的黏著劑。黏著劑劣化可能導致透鏡元件不對準。
因此，可能需要用於光學系統的UV防護塗層。
根據一個實施例，描述一種光學組件，光學組件包含透鏡、光吸收體、透鏡座及黏著劑；光吸收體不穿透具有從大於或等於約250nm至小於或等於約400nm的波長的光；黏著劑經配置以將透鏡黏著至透鏡座。光吸收體經設置 為使得具有從大於或等於約190nm至小於或等於約500nm的波長的光不入射至黏著劑。
在另一個實施例中，描述一種光學組件，光學組件包含透鏡、光吸收體及防護層；光吸收體不穿透具有從大於或等於約190nm至小於或等於約500nm的波長的光；防護層設置於光吸收體上。
在又另一個實施例中，描述一種減低在光學組件中黏著劑劣化的方法，包含施加光吸收體至透鏡，其中光吸收體不穿透具有從大於或等於約190nm至小於或等於約500nm的波長的光；配置光吸收體及黏著劑使得具有從大於或等於約190nm至小於或等於約500nm的波長的光不入射至黏著劑。
額外的特徵及優點將記載於以下的實施方式，且從該實施方式或藉由實踐本文所述的實施例，包含以下的實施方式、申請專利範圍及附圖，而認知，對於本領域具有習知技藝者而言部分地將為顯而易見的。
應瞭解，前述一般性描述及以下實施方式兩者描述各種實施例且旨在提供用以瞭解本案申請標的之本質及特性之概要或架構。本文包含附圖，以提供進一步瞭解各種實施例，且附圖併入本說明書中且構成本說明書之一部分。圖式繪示本文所述的各種實施例，且圖式與說明一起用作為解釋本案申請標的之原理及操作。
80‧‧‧工作件
90‧‧‧光學系統
92‧‧‧光源
94‧‧‧光束成形元件
96‧‧‧零件搬運器
100‧‧‧透鏡組件
110‧‧‧透鏡座
112‧‧‧固定部分
114‧‧‧安裝元件
116‧‧‧鎖定元件
118‧‧‧透鏡支撐部分
120‧‧‧支撐墊
122‧‧‧釋放通道
124‧‧‧平面部分
126‧‧‧輪廓部分
130‧‧‧透鏡
132‧‧‧光軸
134‧‧‧附著部分
136‧‧‧圓周
140‧‧‧黏著劑
190‧‧‧光吸收體
200‧‧‧透鏡組件
210‧‧‧透鏡座
310‧‧‧透鏡座
900‧‧‧分層結構
910‧‧‧光源
1100‧‧‧黏著促進劑/抗反射層
1200‧‧‧防護層
圖式中記載的實施例在本質上為說明的且示例的， 且並非意圖限制由申請專利範圍所界定的標的。當結合以下圖式閱讀時可瞭解說明的實施例之以下詳細描述，其中以相同的元件符號來指示相同的結構，且其中：第1圖示意描繪根據本文所示或所述的一或更多個實施例光學系統之剖面前視圖，該光學系統具有透鏡，該透鏡耦合至透鏡座；第2圖示意描繪根據本文所示或所述的一或更多個實施例透鏡組件之頂視圖，該透鏡組件具有透鏡，該透鏡耦合至透鏡座；第3圖示意描繪根據本文所示或所述的一或更多個實施例沿著第2圖之線A-A所示具有耦合至透鏡座的透鏡之透鏡組件之部分前視圖；第4圖示意描繪根據本文所示或所述的一或更多個實施例於第3圖之視野J處所示具有耦合至透鏡座的透鏡之透鏡組件之詳細部分前視圖；第5圖示意描繪根據本文所示或所述的一或更多個實施例具有耦合至透鏡座的透鏡之透鏡組件之頂視圖；第6圖示意描繪根據本文所示或所述的一或更多個實施例沿著第5圖之線B-B所示具有耦合至透鏡座的透鏡之透鏡組件之部分前視圖；第7圖示意描繪根據本文所示或所述的一或更多個實施例用於將透鏡黏著至透鏡座的分層結構；第8圖示意描繪根據本文所示或所述的一或更多個實施例用於將透鏡黏著至透鏡座的分層結構，該分層結構包 含抗反射層及防護層；第9圖示意描繪根據本文所示或所述的一或更多個實施例用於將透鏡黏著至透鏡座的分層結構，該分層結構包含多個抗反射層及多個吸收體；及第10圖為圖示根據實施例透鏡組件之穿透率及反射率的圖形。
現將詳細參照具有透鏡及透鏡座的透鏡組件之實施例及用於將透鏡黏著至透鏡組件的方法之實施例。併入透鏡組件的光學系統之實施例可包括透鏡及透鏡座。透鏡可藉由黏著劑固定至透鏡座。黏著劑可以數種配置來安置於數個位置處，其中於該等處透鏡經配置以接觸透鏡座。在實施例中，透鏡組件包含透鏡且透鏡座可併入光學系統中，該光學系統包含光源以提供光至透鏡。光源可能具有當黏著劑暴露於光源時能夠劣化黏著劑的波長。因此，在實施例中，透鏡組件包括吸收體，該吸收體經設置以避免黏著劑暴露於劣化光。
參照第1圖，示意地描繪光學系統90之一部分而為了清楚起見某些部件被剖開。在描繪的實施例中，光學系統90包含光源92、至少一個光束成形元件94、透鏡組件100及零件搬運器(part carrier)96。透鏡組件100包含透鏡座110及透鏡130。由光源92所提供的光導向通過透鏡組件100之透鏡130，透鏡130穿透且折射光朝向支撐於零件搬運器96上的工作件80。光學系統90可用以實行於工作件80上的製造操作，舉例而言，例如在微影處理中檢測工作件80或修改 工作件80。
現參照第2圖，描繪透鏡組件100之一個實施例。在此實施例中，透鏡組件100包含透鏡座110及透鏡130。在第3圖中以橫截面圖示的透鏡座110包含固定部分112及透鏡支撐部分118。固定部分112包含複數個安裝元件114，安裝元件114提供固定(securement)位置以將透鏡座110耦合於光學系統中及/或將透鏡座110耦合至在光學系統內的其他透鏡座。在第2圖所示的實施例中，貫通孔通過固定部分112。固定部分112還可包含鎖定元件(clocking element)116，舉例而言，鍵(key)及/或鍵槽(keyway)。鎖定元件116可提供光學系統90之鄰近部件之間的定向參考，使得可維持光學系統90之部件之對準。
在描繪的實施例中，透鏡支撐部分118從固定部分112以徑向朝內定向而延伸。如第4圖中詳細描繪的，透鏡支撐部分118可包含平面部分124及輪廓(contoured)部分126。在此實施例中，輪廓部分126位於從平面部分124的徑向朝內位置處。輪廓部分126可被塑形為於透鏡130藉由黏著劑140耦合至透鏡支撐部分118的位置處符合透鏡130之大致形狀。
參照第4圖，透鏡130之附著部分134藉由黏著劑140耦合至透鏡支撐部分118。在某些實施例中，黏著劑140設置於以繞著透鏡130的圓周定向安置的複數個位置處。黏著劑140之區域於黏著劑140之區域之間的居中圓周位置處可彼此分隔，使得透鏡組件100於黏著劑140之區域之間的 圓周位置處沒有黏著劑140。
黏著劑140之適合的材料包含市售材料，包含接合劑(cements)及黏著劑，接合劑及黏著劑之實例在美國專利第7,232,595號及第7,256,221號中討論，該等專利以其全文引用之方式併入本文。當組裝透鏡組件100時，黏著劑140可設置於沿著透鏡座110之透鏡支撐部分118的所需位置上。透鏡130可相對於透鏡座110之基準特徵，包含鎖定元件116，而被插入且保持於適當位置上。透鏡130可保持於適當位置上直到黏著劑140有機會乾燥或固化，藉此維持透鏡130相對於透鏡座110之基準特徵的位置。此些黏著劑材料通常滿足彈性模數及熱膨脹係數之操作需求，且極為適用於本文所述的光學系統90。
然而，用作為黏著劑140的材料當被具有特定波長的光源照射時可能容易受劣化。當光源發射在短波長下的光時，舉例而言，在對應於深紫外波長及極紫外波長的波長下，劣化可能為特別劇烈。在短波長下，來自光源的能量具有分解黏著劑140之材料的傾向。劣化可能導致黏著劑140排氣，此舉可能導致光學系統90污染。黏著劑140劣化亦可能對黏著劑140之拉伸強度及/或彈力有負面影響，此舉可能減低黏著劑140維持透鏡130相對於透鏡座110之基準特徵之位置的能力。透鏡130與透鏡座110之基準特徵之間的不對準可能減低光學系統90之效能特徵。
在第2圖及第3圖中所描繪的實施例中，透鏡支撐部分118包含複數個支撐墊120，支撐墊120以繞著透鏡支撐 部分118的圓周定向處來安置。該複數個支撐墊120各者藉由釋放通道122來彼此分隔，釋放通道122與支撐墊120以對應於透鏡130之光軸132的方向而間隔開。支撐墊120及釋放通道122提供沿著透鏡支撐部分118的中斷的安裝平面，透鏡130耦合至透鏡支撐部分118。在此實施例中，黏著劑140沿著支撐墊120設置，以接觸透鏡130。黏著劑140通常不設置於最接近釋放通道122的位置處，使得透鏡130於最接近釋放通道122的位置處與透鏡座110分隔。透鏡130與透鏡座110之釋放通道122之間的間隔提供流體可行進通過的間隙。在光學系統90之某些實施例中，淨化氣體可被引入透鏡組件100中且流經釋放通道122與透鏡130之間所產生的間隙以刷洗任何污染物。
雖然第2圖及第3圖之實施例描繪併入三個支撐墊120的透鏡座110，且因此併入三個釋放通道122及三個黏著劑140之區域，應瞭解透鏡座110可包含由光學系統90之設計與要求所指定的任意數量的支撐墊120、釋放通道122及黏著劑140之區域。
現參照第5圖及第6圖，描繪併入透鏡座210及透鏡130的透鏡組件200之另一個實施例。在此實施例中，透鏡座210包含固定部分112及透鏡支撐部分118。固定部分112包含複數個安裝元件114，複數個安裝元件114在此經由孔而通過固定部分112，安裝元件114提供固定位置以將透鏡座210耦合於光學系統中。固定部分112還可包含鎖定元件116，舉例而言，鍵及/或鍵槽。鎖定元件116可提供光學系統 90之鄰近部件之間的定向參考，使得可維持光學系統90之部件之徑向對準。
在此實施例中，透鏡支撐部分118的形狀可為繞透鏡支撐部分118之圓周136呈連續的，使得透鏡支撐部分118在圓周定向中不被中斷。透鏡130藉由黏著劑140耦合至透鏡支撐部分118，黏著劑140設置於安置於最接近透鏡130之圓周136的位置處的離散區域中。黏著劑140可大致上僅設置於離散區域內，使得黏著劑140不位於鄰近區域之間的位置處。
因為黏著劑140設置於透鏡座110之透鏡支撐部分118與透鏡130之間的離散區域中，且因為黏著劑140可具有厚度，透鏡130可藉由黏著劑140而設置於透鏡支撐部分118上方。在這些實施例中，於黏著劑140之離散區域之間的位置處，透鏡支撐部分118與透鏡130之間的間隔可提供流體可行進通過的間隙。在光學系統90之某些實施例中，淨化氣體可被引入透鏡組件200中，且淨化氣體於從黏著劑140之離散區域分隔開的位置處流經透鏡支撐部分118與透鏡130之間所產生的間隙，以刷洗任何污染物。
雖然以上參照第2圖至第6圖所討論的實施例敘述黏著劑可位於離散區域中，在其他實施例中，黏著劑可以任何適合將透鏡黏著至透鏡座的配置來施加至透鏡。舉例而言，在某些實施例中，黏著劑可繞著透鏡之圓周連續地施加。
現參照第7圖中所描繪的實施例，透鏡組件可包含分層結構900，分層結構900包括光吸收體190，光吸收體190 設置於透鏡130與黏著劑140之間。光吸收體190經配置以吸收及/或反射從光源910發射而可能劣化黏著劑140且因此導致透鏡130之位置相對於透鏡座310偏移的光之波長。在實施例中，舉例而言，如第7圖所示，光吸收體190可設置於光源900與黏著劑140之間，藉此避免在所吸收之波長及/或反射之波長內的光入射至黏著劑140。雖然第7圖圖示分層結構900之水平定向，應瞭解分層結構之其他定向，例如垂直定向，為在本揭示案之範疇內。
光吸收體190可包括吸收UV光之廣頻譜的任何材料。在實施例中，光吸收體190包括吸收感光化(actinic)波長及主導(dominant)固化波長兩者的材料。在某些實施例中，光吸收體190吸收具有從大於或等於約190nm至小於或等於約500nm的波長的光，例如從大於或等於約220nm至小於或等於約480nm。在其他實施例中，光吸收體190吸收具有從大於或等於約230nm至小於或等於約460nm的波長的光，例如從大於或等於約240nm至小於或等於約440nm。在又其他實施例中，光吸收體190吸收具有從大於或等於約250nm至小於或等於約400nm的波長的光，例如從大於或等於約260nm至小於或等於約375nm。在又其他實施例中，光吸收體190吸收具有從大於或等於約265nm至小於或等於約365nm的波長的光。
如上所述，包括光吸收體190的材料能夠吸收及/或反射至少一部分的UV光。在某些實施例中，包括光吸收體190的材料可為能夠吸收及/或反射UV光的一或更多種金 屬。在其他實施例中，包括光吸收體190的材料可為一或更多種過渡金屬。在又其他實施例中，包括光吸收體190的材料可選自鉻、鈦、鋅、鎳、錳、鐵、鈮、銀、金、鉿、鋁、鉭及該等之混合物。在實施例中，該等金屬可存在作為實質上純金屬，或作為金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物或該等之混合物。可用作為光吸收體的各種材料允許以前並未使用的分層結構之不同配置。舉例而言，在某些實施例中，可選擇光吸收體材料使得光吸收體可施加至透鏡130之並不面對光源的表面。然而，在其他實施例中，可選擇光吸收體材料使得光吸收體可施加至透鏡130之面對光源的表面。
雖然第7圖圖示分層結構900之數層具有相同的近似厚度，在實施例中，分層結構900之各層可具有任何適合的厚度。光吸收體190可具有厚度使得於感光化波長下光之穿透率低於或等於約5%，或甚至低於或等於約4%。在某些實施例中，光吸收體之厚度為使得於感光化波長下光之穿透率低於或等於約3%，或甚至低於或等於約2%。此外，光吸收體並不穿透於會固化黏著劑的波長下的光。因此，在實施例中，光吸收體之厚度並不需要被調整以於固化波長下穿透光。因此，在某些實施例中可採用以前因為光吸收體之厚度並未經調諧以於固化波長下穿透光而不希望的光組件之配置。
在某些實施例中，分層結構900可經配置以提供其他性質予透鏡設備。在實施例中，分層結構900可經配置以減低來自光吸收體190、黏著劑140及/或透鏡座310的光反 射，免於散射進入光學設備之各種部件而可能導致光學設備不良操作。抗反射性質可藉由選擇幾乎不反射光或不反射光的光吸收體190來提供。然而，在某些實施例中，抗反射性質可藉由增加一層至分層結構900來提供。在某些實施例中，可增加數層至分層結構900，以促進將一層黏著至另一層及/或防護分層結構900之一層。
現參照第8圖中所描繪的實施例，分層結構900可包括除了透鏡130、光吸收體190、黏著劑140及透鏡座310以外的數層。在某些實施例中，分層結構900可包括黏著促進劑(adhesion promoter)/抗反射層1100及防護層1200中之一或更多者。黏著促進劑/抗反射層1100可設置於透鏡130與光吸收體190之間。黏著促進劑/抗反射層1100可包括促進光吸收體190黏著至透鏡130的材料且亦作為內部抗反射層。包括黏著促進劑/抗反射層1100的材料可為任何促進透鏡130黏著至光吸收體190及/或提供抗反射性質予分層結構900的材料。在某些實施例中，黏著促進劑/抗反射層1100可包括金屬氧化物、金屬碳化物、金屬氮化物或該等之混合物。在某些實施例中，黏著促進劑/抗反射層1100可包括鉻、鈦、鋅、鎳、錳、鐵、鈮、銀、金、鉿、鋁、鉭之氧化物及該等之混合物。在某些實施例中，黏著促進劑/抗反射層1100可包括金屬之氧化物，該金屬包括光吸收體190。舉例而言，若光吸收體190包括鉻，則黏著促進劑/抗反射層1100可包括鉻氧化物，例如三氧化二鉻(chromium(III)oxide)。然而，在其他實施例中，黏著促進劑/抗反射層1100可包括具有與光吸收體 190之金屬不同的金屬的金屬氧化物。在某些實施例中，具有黏著促進劑/抗反射層1100的分層結構可具有低於或等於約20%的反射率，例如低於或等於約18%，或甚至低於或等於約16%。
分層結構900還可包含防護層1200。在實施例中，防護層可施加於光吸收體190與黏著劑140之間。防護層1200避免光吸收體190於處理期間受損害。舉例而言，若光吸收體190被刮傷，則來自光源910的光可穿透通過光吸收體190中的刮痕至黏著劑140，此舉可導致黏著劑140劣化且允許透鏡130變得不對準。藉由提供防護層1200，光吸收體190例如藉由刮痕而會被損害的情況變得不太可能。防護層1200可包括任何能夠提供防護予光吸收體190且還與光吸收體190及黏著劑140相容的材料。在某些實施例中，防護層1200可包括金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物或該等之混合物。在某些實施例中，防護層1200可包括鉻、鈦、鋅、鎳、錳、鐵、鈮、銀、金、鉿、鋁、鉭及該等之混合物。在某些實施例中，防護層1200可包括金屬之氧化物，該金屬包括光吸收體190。舉例而言，若光吸收體190包括鉻，則防護層1200可包括鉻氧化物，例如三氧化二鉻。然而，在其他實施例中，防護層1200可包括具有與光吸收體190之金屬不同的金屬的金屬氧化物。
現參照第9圖，分層結構900可包括多個光吸收體190及多個黏著促進劑/抗反射層1100。光吸收體190及黏著促進劑/抗反射層1100之數目由光學設備之物理限制條件所 限制。在實施例中，各光吸收體190具有黏著促進劑/抗反射層1100設置於最靠近透鏡130的側上。在某些實施例中，可有兩個光吸收體190及兩個黏著促進劑/抗反射層1100，或甚至三個光吸收體190及三個黏著促進劑/抗反射層1100。在其他實施例中，可有四個光吸收體190及四個黏著促進劑/抗反射層1100，或甚至五個光吸收體190及五個黏著促進劑/抗反射層1100。
雖然第7圖至第9圖圖示分層結構之全部部件坐落於透鏡之一側上，在某些實施例中，黏著劑可設置於透鏡之與分層結構之其他部件相反的側上，只要分層結構之其他部件避免UV光入射至黏著劑。舉例而言，在實施例中，吸收體(及任選地抗反射/黏著促進層及防護層)可設置於透鏡之光源入射的一側上。黏著劑可設置於透鏡之相反、非入射側上，但若黏著劑經適當地配置則吸收體仍可避免UV光入射至黏著劑。
分層結構可藉由任何適合的方法來施加至透鏡。舉例而言，在某些實施例中，分層結構可藉由真空沉積、濺射、噴塗層、噴墨印刷等來施加。在分層結構藉由舉例而言真空沉積或濺射來施加的實施例中，遮罩可用以於施加期間防護透鏡之光學表面。遮罩經配置以直接接觸僅透鏡之圓周且不直接接觸透鏡之光學表面，以便不刮傷或者損害透鏡之光學表面，同時自沉積方法提供防護。遮罩不覆蓋企圖被黏著至透鏡座的透鏡之預定部分。一旦遮罩就位，分層結構可被施加至透鏡之預定部分。
亦揭示了用於防護光學設備中的黏著劑之方法。在實施例中，方法包括施加如本文所述的至少一個光吸收體至透鏡。光吸收體經配置使得當在光學設備中安裝透鏡時，光吸收體經設置以屏蔽黏著劑，使得UV光不入射至黏著劑。光吸收體不穿透來自光源的UV光，UV光可能劣化黏著劑。方法之實施例可進一步包含施加如本文所述的黏著促進劑/抗反射層至設置於透鏡與吸收體之間的透鏡。方法之某些實施例可包含施加如本文所述的防護層至吸收體之相反於透鏡的表面，以於處理期間防護透鏡，例如於安裝進入光學設備期間。分層結構之各層可藉由任何適合的沉積方法來施加，例如真空沉積、旋塗、溶膠凝膠沉積、噴墨沉積、化學汽相沉積、物理汽相沉積及電子束蒸鍍。在某些實施例中，分層結構之各層可藉由相同的沉積方法來施加。然而，在其他實施例中，分層結構之一或更多層可藉由與其他一或更多層不同的沉積方法來施加。某些實施例包括使用經配置以將透鏡黏著至透鏡座的黏著劑來接觸光吸收體或防護層中之一者。
實例
藉由以下實例將進一步闡明實施例。
實例1
已建構光學組件且藉由分層結構將透鏡黏著至透鏡座，分層結構包括設置於透鏡之一個表面上的30~60nm厚的Cr2O3黏著促進劑/抗反射層，設置於黏著促進劑/抗反射層上的100~300nm厚的Cr光吸收層，設置於光吸收層上的100~200nm的Cr2O3防護層，及防護層與透鏡座之間的黏著 劑，透鏡座夾持分層結構及夾持透鏡至透鏡座。上述層之各者藉由電子束蒸鍍方法來施加。分層結構被光照射，且測量具有波長從250nm至400nm的UV光之穿透率及反射率。如第10圖所示，具有波長從250nm至400nm的UV光通過分層結構之穿透率為0%(位於沿著x軸)。具有波長從190nm至500nm的UV光通過分層結構之反射率(具有AR的反射率)為低於15%。
實例2
以與實例1相同的方式來製備實例，除了分層結構並未包含Cr2O3黏著促進劑/抗反射層以及防護層為60~100nm厚以外。在此實例中的各層藉由電子束蒸鍍方法來施加。分層結構被光照射，且測量具有波長從250nm至400nm的UV光之穿透率及反射率。如第10圖所示，具有波長從250nm至400nm的UV光通過分層結構之穿透率為0%(位於沿著x軸)。具有波長從190nm至500nm的UV光通過分層結構之反射率(不具AR的反射率)為介於15%與40%之間。
現應瞭解，根據本揭示案透鏡組件及包含透鏡組件的光學系統包含透鏡座及透鏡。透鏡藉由黏著劑耦合至透鏡座，該黏著劑於最靠近透鏡之圓周的位置處被中斷。光學系統中的光以光學佔據面積(footprint)的方式提供，光學佔據面積具有沿著透鏡之圓周從複數個低強度區域分隔開的複數個高強度區域。透鏡組件設置於光學系統中，使得黏著劑與光學佔據面積之高強度區域分隔開。
應注意，本文可利用用語「實質上」以代表可能歸 因於任何定量比較、數值、測量或其他表示之不確定性之固有程度。本文亦利用此用語來代表在不造成爭論的標的之基本功能改變的情況下，定量表示可從說明的參考而變化之程度。
雖然本文已闡明及描述特定實施例，應瞭解可在不脫離本案申請標的之精神與範疇的情況下作其他改變及修改。再者，雖然本文已描述本案申請標的之各種態樣，該等態樣不需要以組合方式來採用。因此，吾人預期所附申請專利範圍覆蓋在申請標的之範疇內所有該等改變及修改。
100‧‧‧透鏡組件
112‧‧‧固定部分
118‧‧‧透鏡支撐部分
120‧‧‧支撐墊
124‧‧‧平面部分
126‧‧‧輪廓部分
130‧‧‧透鏡
134‧‧‧附著部分
136‧‧‧圓周
140‧‧‧黏著劑

Claims (10)

  1. 一種透鏡組件(100、200)，包括：一透鏡(130)；一光吸收體(190)，該光吸收體(190)不穿透具有從大於或等於約190nm至小於或等於約500nm的波長的光；一透鏡座(310)；及一黏著劑(140)，該黏著劑(140)經配置以將該透鏡(130)黏著至該透鏡座(310)，其中該光吸收體(190)經設置為使得具有從大於或等於約190nm至小於或等於約500nm的一波長的光不入射至該黏著劑(140)。
  2. 如請求項1所述之透鏡組件(100、200)，進一步包括一黏著促進劑/抗反射層(1100)，該黏著促進劑/抗反射層(1100)設置於該透鏡(130)與該光吸收體(190)之間。
  3. 如請求項2所述之透鏡組件(100、200)，其中該黏著促進劑/抗反射層(1100)包括由以下所組成的群組中所選出的一成員：金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物及該等之混合物；較佳地為包括鉻、鈦、鋅、鎳、錳、鐵、鈮、銀、金、鉿、鋁及鉭中之一或更多者的金屬、金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物及該等之混合物。
  4. 如請求項2所述之透鏡組件(100、200)，其中該黏著促進 劑/抗反射層(1100)針對從大於或等於約190nm至小於或等於約500nm的波長的光具有低於或等於約20%的一反射率。
  5. 如請求項2至請求項4中任一項所述之透鏡組件(100、200)，進一步包括一防護層(1200)，該防護層(1200)設置於該光吸收體(190)相反於該黏著促進劑/抗反射層(1100)的一表面上。
  6. 如請求項5所述之透鏡組件(100、200)，其中該防護層(1200)包括由以下所組成的群組中所選出的一成員：金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物及該等之混合物；較佳地為包括鉻、鈦、鋅、鎳、錳、鐵、鈮、銀、金、鉿、鋁及鉭中之一或更多者的金屬、金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物及該等之混合物。
  7. 如請求項1至請求項4中任一項所述之透鏡組件(100、200)，其中該光吸收體(190)包括一或更多金屬、金屬氧化物、金屬氮化物或該等之混合物；較佳地為包括鉻、鈦、鋅、鎳、錳、鐵、鈮、銀、金、鉿、鋁及鉭中之一或更多者的金屬、金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物及該等之混合物。
  8. 一種透鏡組件(100、200)，包括：一透鏡(130)；一光吸收體(190)，該光吸收體(190)不穿透具有從大於或 等於約190nm至小於或等於約500nm的波長的光；及一防護層(1200)，該防護層(1200)設置於該光吸收體(190)上。
  9. 如請求項8所述之透鏡組件(100、200)，進一步包括一黏著促進劑/抗反射層(1100)，該黏著促進劑/抗反射層(1100)設置於該透鏡(130)與該光吸收體(190)之間。
  10. 如請求項9所述之透鏡組件(100、200)，其中該黏著促進劑/抗反射層(1100)及該光吸收體(190)具有低於或等於約20%的一反射率。
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