TW201504169A - 玻璃物的製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明有關於一種製造玻璃物的方法，一種進行該方法的裝置，以及經由該方法而得到的一種玻璃物。此方法為一拉引方法，其中一預製件(preform)的一成形帶(forming zone)被加熱至可使玻璃拉引的一溫度。此方法的特徵在於，預製件的成形帶非常小。藉此，預製件的寬度下降至比其厚度為較小的程度。由此方法所得的玻璃物具有非常光滑的表面。

Description

玻璃物的製造方法

本發明有關於一種製造玻璃物的方法，進行此方法的一種再拉引裝置，以及一種玻璃物。

原則上，玻璃的再拉引(redrawing)是已知的，特別是關於坯料的再拉引和/或對於拉引玻璃纖維之具有圓形剖面的坯料的詳細習知技術是存在的。

在再拉引方法期間，玻璃件被部分加熱，且使用適當機械設備而沿著縱向被拉引。當玻璃件-坯料-以一固定速度被送入一加熱區中，且當被加熱的玻璃以一固定速度被拉引時，然後這導致坯料之剖面形狀的減少，其與速度的比例有關。因此，當例如使用管狀坯料時，則製得有較小直徑的管狀產品。產品的剖面形狀與坯料的剖面形狀類似，其中對於大部分，甚至期望藉由適合的方式而達到1：1減小尺寸的坯料複製(見EP 0 819 655 B1)。

在再拉引玻璃的步驟中，通常將一矩形坯料之一端固定在一支架中，另一端加熱，例如在一高溫窯(muffle kiln)中加熱。一旦玻璃變形，將固定在支架中的坯料的那端以拉引力進行拉引。當坯料被移入高溫窯中期間，則藉由適當選擇溫 度，會導致有較小剖面的產品，但有類似的形狀。例如，有圓形剖面的一坯料，被拉引成一玻璃纖維。對於例如一成份之產品的拉引速度的選擇，以及選擇性的向前移動坯料的速度的選擇，決定了剖面的減少因子。通常，坯料剖面的厚度對寬度的比例是維持固定的。在拉引玻璃纖維的情況下，這是所期望的，因為從圓形剖面之一坯料開始，而可拉引出也具有圓形剖面的一玻璃纖維。

已證明的是，再拉引平坦成份是困難的，亦即，剖面之寬度與厚度比例為例如80：1的成份。只有對於有非常高寬度的坯料，才有可能拉引也有一高寬度的成份。因此，例如，從具有剖面70mm寬度和10mm厚度(B/D=7)的一坯料，而可製造出具有剖面7mm寬度和1mm厚度(b/d=7)的一成份。

只有當使用剖面有一較高寬度或一較低厚度的一坯料時，才能得到剖面有一較高寬度和相同厚度的一成份。由於不可能的生產性，因此使用具有較高寬度的一坯料經常是失敗的，並且，使用具有較低厚度的一坯料是漸漸地無效率的，因為在再拉引期間，坯料必須經常交換。

在US 7,231,786 B2中，敘述如何藉由再拉引而製造出平玻璃片(plane glass panes)。為了達到有較高寬度的產品，在此情況下，在使用邊緣滾筒(edge rollers)將玻璃擴展成縱向之前，使用夾持器以將軟玻璃拉引成寬度方向。

在US 3,635,687中，敘述一種再拉引方法，其中將平坦坯料的邊緣區域冷卻，而達到寬度與厚度之比例(B/D)的改變。但是藉由此方法，可達到寬度對厚度之比例最大增加 10.7。

在EP 0 819 655 B1中，敘述一種形成玻璃的方法。在此情況下，在形成步驟中，也可使用再拉引。但其中沒有敘述如何調整寬度對厚度的比例(B/D)。在此，加熱後，玻璃被局部加熱或冷卻以操作形狀。

然而，在這些資料中所敘述的操作，與最終形狀和/或經拉引物之形狀相比，只導致坯料的形狀有較小的改變。再者，這些方法有關於相當高的努力。特別是在當必須使用夾持器或滾筒時，需要有一複雜的再拉引裝置，容易受到缺陷影響。

因此，本發明之目的為提供製造玻璃物的一有效方法。再者，應當提供的方法是，相較於玻璃物之寬度對厚度之比例(b/d)，有可能可增加坯料之寬度對厚度之比例(B/D)。特別是，應當提供製造平坦玻璃物的方法，經由此方法可製造出，由具有寬度B、厚度D的一坯料，可製造出寬度b、厚度d的一平坦玻璃，其中比例b/d比比例B/D高出許多。

本發明之目的，係藉由本專利申請專利範圍所述的實施例而解決。

依據本發明之再拉引玻璃的方法，係作為，例如平坦玻璃物的製造。其包括以下步驟：- 提供一玻璃坯料，其具有平均厚度D和平均寬度B；- 加熱該坯料之一變形帶(deformation zone)；以 及- 拉引該坯料至達到一平均厚度d和一平均寬度b，其中該變形帶係位於該坯料厚度為0.95*D和1.05*d之間的坯料部份，且其中該變形帶之高度為至多6*D。

本方法的特徵在於，與習知技術相比，變形帶(deformation zone)是非常小的。變形帶(=彎月形)的高度為至多6*D(特別是至多100mm)，較佳為至多5*D(特別是至多40mm)，特別較佳為至多4*D(特別是至多30mm)。

較佳者，變形帶延伸到坯料的整個寬度。變形帶的「高度」表示在坯料被拉引的方向上的範圍。變形帶(=彎月形)係為坯料的厚度為0.95*D和1.05*d之間的區域。因此，這是玻璃可被變形的區域。厚度小於原始厚度D，但是仍未達到最後厚度d。在變形帶，例如可能為溫度T2，在此溫度下坯料玻璃的黏度η₂是在10⁴dPas和10⁸dPas之間。

經拉引的玻璃物的寬度b，係隨著在變形帶之黏度的增加而減少。在軟化的情形下，例如拉引速度增加，對於玻璃物的厚度d以達到一目標值100μm，相較於坯料的寬度B，玻璃物的寬度b會相當程度地減少。因此，為了使得一平坦玻璃物達到一高比例b/d，最好是當在變形帶的坯料玻璃之黏度η₂為低於個別玻璃在軟化點(EW)的黏度。因此，在變形帶的坯料玻璃的黏度η₂較佳為至多<10^7.6dPas，更佳者為至多10^7.5dPas，更佳者為至多10^7.0Pas，特別更佳者為至多10^6.5Pas。再者，黏度η₂比在軟化點之個別玻璃之黏度為低者， 亦是有利的，因為拉引玻璃所需之拉引力，係隨著黏度增加而漸增。因此，較低黏度，亦與較低所需拉引力有關。

然而，在變形帶之坯料玻璃的黏度η₂應該也不能太低，因為否則玻璃的均勻拉引會變得更困難。較佳者，在變形帶之坯料玻璃的黏度η₂至少為10^4.0dPas，較佳者為至少10^4.5dPas，更佳者為至少10^5.0dPas，特別更佳者為至少10^5.8dPas。

在此敘述之本發明，可與US 3,635,687 A類似坯料之邊緣區域的冷卻組合，而達到一甚至更高寬度和/或一更好的厚度分佈。而且，可能有一更高的邊緣溫度，而達到一更好的厚度分佈。

變形帶是坯料厚度為0.95*D到1.05*d之間的部分。較佳者，在此方法進行中，此坯料部分在某一時間點有溫度T2。在此溫度下，坯料之玻璃黏度範圍為可使得玻璃變形的範圍。

坯料具有一上端和一下端。變形帶係位於上和下端之間。在變形帶之外，坯料的溫度較佳為低於T2。由於坯料的變形實質上只發生在變形帶。在此區以上和以下，厚度以及而且寬度較佳為維持固定。為了方便的原因，在本說明書中，當玻璃在本方法中加工時，使用名詞「坯料」，依據本發明只有在最後加工步驟的終點之後，此產物被稱作「玻璃物」。

較佳者，坯料之寬度對厚度之比例的增加，實質上是由測量所製得之玻璃物的厚度d實質上低於坯料的厚度D而達成的。較佳者，厚度d係至多D/10，更佳者為至多D/30， 特別更佳者為至多D/75。然後，玻璃物的厚度d較佳為低於10mm，更佳為低於1mm，更佳為低於100μm，又更佳為低於50μm，特別更佳為低於30μm。依據本發明，可能可製出具有高品質及相當大表面積的薄玻璃。

較佳者，製得之玻璃物的寬度b相對於坯料之寬度B是很難降低的。這表示比例B/b較佳為至多2，更佳為至多1.6，特別更佳為至多1.25。

此方法可在依據本發明之一再拉引裝置中進行。為了加熱的目的，坯料可插進再拉引裝置中。較佳者，再拉引裝置包括一支架，坯料的一端可固定於此。支架較佳為位於再拉引裝置的上部。然後，將坯料上端固定在支架中。

再拉引裝置包括至少一個加熱設備。加熱設備較佳為設置在拉引裝置的一中間區。加熱設備可較佳為電阻加熱器、燃燒配置、輻射加熱器、有或沒有雷射掃描器的雷射器、或其組合。加熱設備較佳的設置為使得其可加熱設置於一變形區域(deformation region)內的坯料，以此方式，依據本發明而設計的變形帶(deformation zone)被加熱到溫度T2。變形區域係較佳為位於拉引裝置內的一區域。加熱設備將變形區域和/或坯料之一部分的溫度升高，使得溫度高到設置於變形區域中的一坯料在其變形帶內被加熱到溫度T2。當所使用的加熱設備適合於對於只有一部分的坯料作目標加熱時，例如一雷射器，則在變形區域中的溫度很難增加。

變形區域的較佳高度為，導致變形帶的高度為至多6*D(特別是至多100mm)，較佳為至多5*D(特別是至多 40mm)，特別較佳為至多4*D(特別是至多30mm)。因此，依據加熱方式和坯料尺寸，可將變形區域設計為不同長度。

加熱設備使變形區域中的和/或坯料之一部分的溫度增加，較佳為只達到依據本發明在坯料中將變形帶設計為被加熱到溫度T2的程度。在變形帶之上和之下的坯料部分，較佳者其溫度為低於T2。依據本發明，係以一加熱設備而達到，此加熱設備包括一個或多個擋板(baffles)，可遮擋在變形區域以外的坯料部分。另一種方式或增加的方式為，使用可對於變形區域中之坯料進行焦點式加熱的一加熱設備，例如使用一雷射器或一雷射掃描器。另外其他的實施例，有關於只有低高度的一加熱設備，其設置於變形帶附近，使得實質上熱不會散佈入變形區域以外的區域。

加熱設備可為一輻射加熱器，其加熱效果可藉由適當的輻射導引和/或限制裝置而聚焦和/或限制在變形區域。例如，可使用一KIR(短波IR)加熱器，依據本發明藉由遮擋而建立出一非常小的變形區域。也可以使用冷卻的(以氣體、水、或空氣)擋板。另外可使用的加熱設備為一雷射器。對於雷射的輻射導引之情況下，可使用一雷射掃描器。

此裝置可包括一冷卻設備，較佳設置在再拉引設備的一下區域，特別是直接在加熱設備之下。藉由此設備，直接在變形步驟之後，玻璃的黏度較佳為改變至>10⁹dPas，使得不會再進行明顯的變形。冷卻較佳的進行為導致黏度變化為至少10⁶dPas/s。

依據坯料之玻璃，這對應於例如溫度T3，範圍為 400至1000℃。

依據本發明之方法，較佳為包括以下另外的步驟：在離開變形區之後，冷卻該坯料。

對於坯料的另外冷卻至黏度>10⁹dPas的步驟，可藉由在環境溫度(例如10至25℃)下冷卻而達到。但是坯料也可在一流體中的主動方式來冷卻，例如在一氣體流中。特別較佳的，當產物在一冷卻帶(在變形帶之後)中慢慢冷卻，殘留的張力至少使得後續的橫向切割以及片材邊緣(sheet edge)的除去不會有任何內向性的破裂。

較佳者，變形區域係設置為和/或加熱設備係設計為使得變形帶是在坯料內產生的。變形帶是在製程中坯料厚度為0.95*D至1.05*d的部分。藉由坯料之變形帶的加熱，在個別位置上的玻璃之黏度下降很多而使得坯料可被拉引。這表示坯料變得較長。藉由拉引步驟，坯料的厚度D變得較低。由於坯料較佳為以一支架的上端而固定，支架較佳係位於再拉引設備之上區域中，坯料的拉引可藉由受到重力而有效果。但是在較佳實施例中，再拉引設備包括一拉引設備，係較佳在變形區域之下的坯料的一部分上施加拉引力，特別是在坯料的下端。

拉引設備係較佳設置在再拉引設備的下區域中。在此情況下，拉引設備可設計為包括滾筒，對於坯料的相反側作用。坯料可為可拆卸地以一下端而架設在一第二支架上。特別是，第二支架為拉引設備的一組件。在第二支架上，例如可設置一重量，然後將坯料拉引成縱向。較佳者，所使用的拉引力為低於350N/400mm坯料寬度(B)，更佳者為低於300N/400 mm坯料寬度，更佳者為低於100N/400mm坯料寬度，特別更佳者為低於50N/400mm坯料寬度。較佳者，拉引力為高於1N/400mm坯料寬度，更佳者為高於5N/400mm坯料寬度，更佳者為高於10N/400mm坯料寬度，特別更佳者為高於20N/400mm坯料寬度。

在較佳實施例中，坯料係進料入變形帶的方向，使得方法可以連續方式進行。為此目的，再拉引裝置較佳包括一進料設備，係適合於將坯料移入變形區域。因此，再拉引裝置可使用於連續操作中。進料設備較佳將坯料移入變形區域的速度V_N為低於坯料被拉引的速度V_Z。因此，坯料係拉引入縱向。V_N對V_Z的比例特別是<1，較佳為至多0.8，更佳為至多0.4，特別較佳為至多0.1。這兩個速度的差異決定了坯料之寬度和厚度減少的程度。

在加熱之前，坯料較佳被預熱。為此目的，再拉引裝置較佳為包括一預熱帶，在此坯料可被加熱到溫度T1。預熱帶較佳為設置在再拉引裝置之一上區域。溫度T1對應於例如黏度η₁為10¹⁰至10¹⁴dPas。因此，在坯料進入變形區域之前，較佳為被預熱。於是通過變形區域可有較快的移動，因為達到溫度T2所需的時間較短。藉由預熱帶，亦可避免由於非常高的溫度梯度而造成有溫度膨脹係數的玻璃的破裂。

在較佳實施例中，變形帶係加熱至溫度T2，係與坯料之玻璃黏度10^5.8至10^7.6dPas對應，特別是10^5.8至<10^7.6dPas。玻璃黏度取決於溫度。在每個溫度之下，玻璃有一特定黏度。達到變形帶中所欲黏度η2所需的溫度T2取決於玻璃。 一玻璃的黏度將依照DIN ISO 7884-2,-3,-4,-5而測定。

坯料較佳包括的玻璃，係擇自由氟磷酸玻璃、磷酸玻璃、鈉鈣玻璃(soda-lime glasses)、鉛玻璃、矽酸鹽玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、和硼矽酸鹽玻璃所組成之族群中。所使用的玻璃可為一工業玻璃(technical glass)、特別是工業平坦玻璃、或一光學玻璃。

較佳的工業玻璃為鈉鈣玻璃和硼矽酸鹽玻璃。在較佳實施例中，玻璃為顯示玻璃或薄玻璃，用於塑膠積層板中的阻障層。

較佳的光學玻璃為磷酸玻璃和氟磷酸玻璃。磷酸玻璃為光學玻璃，含有P₂O₅作為玻璃形成劑。然後，P₂O₅是玻璃的主成分。當在一磷酸玻璃中的磷酸鹽的一部分被氟所取代，然後得到氟磷酸玻璃。對於氟磷酸玻璃的合成，係不使用氧化化合物(例如Na₂O)，而是使用對應的氟化物(例如NaF)加到玻璃混合物中。

依據本發明，較佳係使用一平坦坯料，其中依據本發明，一「平坦坯料」表示坯料的寬度B高於其厚度D。較佳者，坯料的寬度對於厚度的比例(B/D)為至少5，更佳為至少7。

較佳者，坯料的厚度D為至少0.05mm，更佳為至少1mm。厚度較佳為至多40mm，更佳為至多30mm。坯料的厚度B較佳為至少50mm，更佳為至少100mm，更佳為至少300mm。

坯料的長度L較佳為至少500mm，更佳為至少 1000mm。一般而言，事實上此方法可以更有效率的方式進行，當坯料為較長時。因此，也可考慮更長的坯料，而較有利。而且，也可考慮將坯料以一連續方式進料，或者坯料從一滾筒而展開。再者，較佳者以下為真實：L>B。

依據本發明，此方法可以捲在一第一滾筒上的一坯料而進行。在此情況下，坯料亦固定在再拉引裝置之一上區域，但是坯料可由滾筒而展開。然後，坯料的自由端係藉由拉引設備而拉引。然後，拉引設備較佳以連續及固定的方式，拉引坯料經過變形區域，於是依據本發明而在坯料中形成一變形帶。在通過再拉引裝置後，所製得之玻璃物較佳者為捲在一第二滾筒上。

坯料可包括或可不包括一片材邊緣(sheet edge)(一加厚的邊緣區域)。藉由將坯料在一滾筒上而提供和/或將平坦玻璃物捲在一滾筒上，整體而言此方法可更有效地進行，因為坯料不需要以勞力的方式單獨插入裝置中。

最後，例如藉由切割，所得之玻璃物可分離成單獨片。再者，玻璃物之選擇性加厚的邊緣區域(片狀邊緣)可被切掉。如有需要，亦可將玻璃物磨光和/或塗佈。藉由本發明之方法，可得到具有非常大可使用玻璃表面積的玻璃物。這表示，有所需品質的玻璃物之部分是非常大的。在本發明方法中，在使用前必須選擇性被除去的片材邊緣的表面積部分是小的。較佳者，玻璃物的厚度對於寬度的比例為1：2至1：20,000。

較佳者，坯料的條紋等級(streak class)為至多等級C。條紋等級是光學路徑差異的結果。對於條紋等級C或更佳 者，經過一平坦板的光學路徑差異必須<30nm。

依據本發明，亦提供依據本發明之方法而得到之一玻璃物。此玻璃物包括至少一個，特別是兩個火焰磨光(fire-polished)的表面。火焰磨光表面是非常平滑的，亦即，它們的粗糙度是非常低的。與機械磨光相反的，在火焰磨光的情況下，表面並不會被研磨，然而，欲被磨光的材料係被加熱至高溫，使其流動且於是變得光滑。因此，藉由火焰磨光而製造一光滑表面的費用，實質上是比製造高度光滑的機械磨光表面的費用來得低。

藉由本發明方法，可得到至少有一個火焰磨光表面的玻璃物。依據本發明之玻璃物，名詞「表面」表示上和/或下側，於是相較於殘留面，兩個面是最大的。

本發明之玻璃物的火焰磨光表面，較佳具有一均方根粗糙度(Rq或RMS)為至多5nm，更佳為至多3nm，特別更佳為至多1nm。薄玻璃之粗糙度Rt的深度為較佳至多6nm，更佳至多4nm，特別更佳為至多2nm。粗糙度的深度係依據DIN EN ISO 4287而測定。

在機械磨光表面的情況下，粗糙度值是較差的。再者，在機械磨光表面的情況下，藉由原子力顯微鏡(AFM；atomic force microscope)的幫助，可觀察到磨光的痕跡。此外，亦藉由AFM的幫助，可觀察到機械磨光劑的痕跡，例如鑽石粉、氧化鐵和/或CeO2。由於機械磨光表面在磨光後必須清洗，而在玻璃表面上會發生某些離子的瀝出(leaching)。藉由二次離子質譜儀(ToF-SIMS；secondary ion mass spectrometry)的幫 助，可偵測到某些離子的消耗。這些離子，例如為Ca,Zn,Ba,和鹼金屬。

以下，本發明將藉由以下圖式和實施例而作說明。

1‧‧‧坯料

2‧‧‧加熱設備

3‧‧‧擋板

4‧‧‧變形區域

5‧‧‧變形帶

6‧‧‧拉引設備

7‧‧‧進料設備

8‧‧‧預熱設備

9‧‧‧冷卻設備

L‧‧‧長度

D‧‧‧厚度

B‧‧‧寬度

第1圖顯示依據本發明一實施例之一再拉引裝置的側視示意圖。在此再拉引裝置中，一坯料1係在裝置中由上往下移動。再拉引裝置包括兩個加熱設備2，設置在裝置的一中間區。在此實施例中，加熱設備係被擋板3而遮擋，以此方式而形成一變形區域(deformation region)4。設置於變形區域4內之坯料1的部分被加熱，使其達到溫度T2。此部分是變形帶(deformation zone)5，高度H。由一拉引設備6的幫助而將坯料1拉下，拉引設備6在此是兩個驅動滾筒的型式。結果，進料設備7(在此亦設計為滾筒的型式)使坯料1進料的速度為低於拉引設備6的速度，坯料1在變形區域4中而被變形。因為坯料1變得較薄，在變形步驟之後的厚度d比在變形步驟之前的厚度D為小。在坯料1進入變形區域4之前，其由預熱設備8(在此為以燈焰表示)的幫助而預熱到溫度T1。在通過變形區域4之後，坯料1進入一冷卻設備9(在此以冰晶表示)。

第2圖顯示依據習知技術之方法的示意操作順序。與第1圖不同的是，在此情況下顯示出坯料之寬度B的改變。坯料1移入一變形區域4。以一加熱設備2(在此為一電阻加熱器)加熱變形區域4。坯料1被加熱，使得在玻璃中形成一變形帶4，在此玻璃有低黏度。但是此變形帶4比起依據本發明之變形帶 為大，由於缺乏任何限制以及加熱設備2的高度。因此，導致坯料1之寬度的特別顯著的減少。而且，顯示一拉引設備6，其將坯料1拉引成為縱向。

第3圖顯示一坯料1，有長度L，厚度D和寬度B。

第4圖顯示一選擇性的輻射加熱器6(可用作一加熱設備)的動作型式。依照其與坯料1的距離不同，變形區域2的高度為不同。在此圖中亦顯示，如何藉由陰影設備8，而將變形區域7限制為得到高度盡可能低的一變形區域2。因此，加熱設備的距離以及設計，可作為調整變形區域2的高度。

第5圖顯示在一再拉引過程中，一玻璃產物的寬度和變形帶之高度之間的關係。可看出有較低高度的一變形帶，導致坯料寬度減少的降低。

第6圖顯示實施例3之一平坦玻璃產物橫跨寬度b之厚度d的分佈。在此可看出，玻璃產物之邊緣的片材邊緣是相當小的。有均勻低厚度的部分，可用作玻璃產物的應用，但是片材邊緣必須被除去。本發明方法的使用，導致一特別高的產率。

第7圖顯示在一範例方法中，坯料的厚度為4mm，寬度為400mm，進料入高度40mm之一高溫爐(muffle)中，進料速度為5mm/min，經拉引之玻璃物的平均寬度b(總寬度)和拉引所需之拉引力，均與在變形帶中之坯料之玻璃黏度有關。玻璃係以200mm/min而拉引。可清楚看出，所需的拉引力隨著黏度的增加而漸漸增加。再者，可看出所得產物的平均寬度b，係隨著黏度的增加而漸漸下降。

第8圖顯示在一範例方法中，坯料的厚度為4mm，寬度 為400mm，進料入高度40mm之一高溫爐中，進料速度為5mm/min，經拉引之玻璃物的平均寬度b(總寬度)對平均厚度d(淨厚度)的比例，以及拉引所需之拉引力，均與在變形帶中之坯料之玻璃黏度有關。玻璃係以200mm/min而拉引。可看出，所得產物的比例b/d係隨著黏度的增加而漸漸下降。與第7圖中所示之隨著黏度增加而平均寬度b下降，隨著黏度增加，比例b/d的下降是一相當較高的程度。

實施例

實施例1：光學玻璃的拉引

在此，光學玻璃(氟磷酸玻璃)被鑄造成一棒狀，尺寸為例如B=120mm，D=14mm。然後，此棒被插入再拉引裝置中，在一預加熱區中加熱到對應於玻璃轉移點(約10¹³dPas)的溫度。藉由將坯料向下移到一變形區域，其高度為40mm，溫度為至少對應於黏度<10^7.6dPas及最大黏度約為10⁴dPas。離開的玻璃被引導通過一冷卻區，且固定在一拉引設備中，且拉引得比坯料進料的速度快。因此，這導致一玻璃緞帶(ribbon)，其寬度為100mm，平均厚度為0.3mm。

實施例2：平坦玻璃的拉引

提供的坯料為，一平坦玻璃(Borofloat)，寬度為300，厚度為10mm。在通過一預熱區(約Tg)之後，此坯料被移入變形帶。此帶係在整個寬度和高度20mm的範圍內，被加熱到對應於黏度為10⁴dPas到<10^7.6dPas的一最小溫度。在通過一冷卻區後，離開的玻璃被固定在一拉引設備中。藉由適當選擇坯料 的速度和產物的速度，而將平均厚度調整為至多100μm，且產品被捲到一圓筒上。因此，所得的產物為寬度至少250mm。

實施例3：平坦玻璃的拉引

提供的坯料為，平坦玻璃(Borofloat)，寬度為50mm，厚度為1.1mm。在通過一預熱區(約Tg)之後，此坯料被移入變形帶。在變形帶中，玻璃係在整個寬度和高度3mm的範圍內，被加熱到對應於黏度為約10⁷dPas。在通過一冷卻區後，在離開的玻璃上裝上一重物(拉引設備)。藉由適當選擇坯料的速度和重物的尺寸，而將平均厚度調整為約50μm。因此，所得之產物為寬度至少40mm。

1‧‧‧坯料

2‧‧‧加熱設備

3‧‧‧擋板

4‧‧‧變形區域

5‧‧‧變形帶

6‧‧‧拉引設備

7‧‧‧進料設備

8‧‧‧預熱設備

9‧‧‧冷卻設備

Claims (10)

1. 一種再拉引玻璃的方法，包括以下步驟：提供一玻璃坯料(1)，其具有平均厚度D和平均寬度B；加熱該坯料(1)之一變形帶(5)；以及拉引該坯料(1)至一平均厚度d和一平均寬度b，其特徵在於：該變形帶(5)係位於該坯料(1)厚度為0.95*D和1.05*d之間的坯料(1)部份，且其中該變形帶(5)之高度為至多6*D。
2. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該變形帶(5)之高度為至多100mm。
3. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中該溫度T2係選擇為使得玻璃黏度η2為至多<10^7.6dPas。
4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之方法，其中該玻璃為一工業玻璃或一光學玻璃。
5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之方法，其中該玻璃係於一再拉引裝置中加熱，該裝置至少包括一加熱設備(2)，該加熱設備係擇自由一電阻加熱器、一燃燒配置、一輻射加熱器、一雷射器、及其組合所組成之族群中。
6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述之方法，其中該坯料(1)係藉由一拉引設備(6)而在低於該變形帶(5)的一區域中拉引。
7. 如申請專利範圍第1至6項中任一項所述之方法，其中該坯料係由高於變形帶(5)的一區域進料而進入變形帶(5)的方向。
8. 一種再拉引裝置，用於進行如前述申請專利範圍之一者之方法，其包括一變形區域(4)和一加熱設備(2)以加熱一變形帶(5)，其中該加熱設備(2)和/或變形區域(4)係設計為使得至少部分設置於該變形區域(4)中的玻璃之一坯料(1)的該變形帶(5)可被加熱到溫度T2，在此溫度下該玻璃的黏度η2為至多<10^7.6dPas。
9. 如申請專利範圍第8項所述之再拉引裝置，其中該變形區域(4)的高度為至多250mm。
10. 一種經再拉引之玻璃物，可依據申請專利範圍第1至7項中任一項的一方法而製得，其厚度與寬度之比例為1：2至1：20,000，其具有粗糙度Ra至多20nm的一火焰磨光表面。