TW201426184A - 感光樹脂組合物及以此組合物製備之絕緣層 - Google Patents

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Abstract

揭露了一種感光樹脂組合物以及使用該感光樹脂組合物製備的絕緣層。該感光樹脂組合物包括藉由包含以分子式1表示的單體而聚合的黏結劑樹脂,因此具有極佳的敏感度以及降解能力、改進的流動性,其隨之能夠輕易地處理,並能夠控制所形成圖案的角度。

Description

感光樹脂組合物及以此組合物製備之絕緣層
本發明有關一種具有極佳的敏感度與降解能力,且能夠控制所形成圖案角度的感光樹脂組合物,以及使用該感光樹脂組合物製備的絕緣層。
關於顯示裝置,例如薄膜電晶體(TFT)液晶顯示裝置,無機保護層(例如氮化矽)已在傳統上用以作為用於保護以及絕緣TFT電路的保護膜,然而,由於其高介電常數,這已牽涉到開口率改進的困難。為了克服上述問題,有趨勢朝向增加具有低介電常數的有機絕緣薄膜的需求。 關於上述這種有機絕緣薄膜,一般使用由聚合化合物形成的感光樹脂,該聚合化合物利用曝露至光或電子束進行化學反應,以對於特定的溶劑具有不同的溶解度。此外,電路圖案的精細處理是藉由極性的改變(「極性反轉」)以及交聯反應來進行,其已藉由有機絕緣薄膜的光反應來發生。特別是,關於用於前述有機絕緣薄膜的材料,可使用關於溶劑,例如鹼性溶液,在曝光之後的溶解度變化。 取決於感光部分顯影的溶解度,上述的有機絕緣薄膜一般分類為正以及負型薄膜。正型光阻具有將曝光部分溶解於顯影劑中的過程,而負型光阻具有溶解未曝光部分、同時曝光部分不溶解於顯影劑中的過程,以形成圖案。 在這些之中,正型有機絕緣薄膜使用鹼性溶液,並排除典型用於負型有機絕緣薄膜的有機顯影劑的使用,因此具有在工作環境方面的優勢,且理論上,預防了未曝露至UV的部分變得膨脹,以因此改進降解能力。此外,在形成有機薄膜之後,可使用剝離劑來輕易地移除該薄膜,且具有當在處理期間產生缺陷面板時從該面板移除該有機薄膜的優勢,藉此顯著地改進基板的回復性以及可再用性。 具體而言,關於使用上述這種有機絕緣薄膜來形成液晶顯示裝置或諸如此類的絕緣層,前述有機絕緣層必定不只具有極佳的絕緣,也具有相對低的熱膨脹,以當它被塗佈來塗層基板時在界面降低應力。此外,需要強的物理特性。 此外,絕緣層或保護層在其與金屬或矽化合物之間必定形成界面,且在此例中,考慮裝置的可靠性,極佳的介面附著力是非常重要的因素。將該絕緣層進行微圖案的形成,以提供電路之間的互連路徑,而且,如果該絕緣層被賦予感光性,可忽略將替代光阻塗佈至該絕緣層以形成圖案的傳統過程,因此輕易地形成了微圖案。 為了此原因,關於前述正型有機絕緣薄膜組合物,對於加有感光化合物(PAC)的組合物已有密集且活躍的研究,該感光化合物提供了包括丙烯醯基感光樹脂、具有感光性的黏結劑樹脂,該丙烯醯基感光樹脂由該黏結劑樹脂、酚醛樹脂、聚醯亞胺、矽氧烷或諸如此類為代表。此外,近來達到了如上所述的這種絕緣薄膜已為商業可得的一個階段,且此已導致各種使用該絕緣薄膜的裝置的發表。 前述有機絕緣薄膜所需的一個重要特徵是敏感度。敏感度的改進使得在顯示裝置工業製程中生產時間的大量減少。事實上,在目前對於液晶顯示裝置的需求大量增加的情況下,敏感度被視為是如上所述的這種有機絕緣薄膜的一個最重要的特徵。 然而,使用丙烯醯基感光樹脂以及PAC製備的傳統有機絕緣薄膜組合物大部分缺乏敏感度,且特別是,由於在UV照射部分以及無UV照射部分之間的溶解度的小差異,而常具有不足的降解能力。 例如,美國專利編號4,139,391揭露了一種感光樹脂為基礎的有機絕緣薄膜組合物,該有機絕緣薄膜組合物藉由使用丙烯醯基化合物以及丙烯酸酯化合物的共聚物作為黏結劑樹脂,以及使用替代的丙烯酸酯化合物作為多功能性單體而製備。然而,由於在曝光部分以及非曝光部分之間的溶解度差異不夠大,顯影特性相對較差。此外,該黏結劑樹脂在顯影期間不會留下,而是部分地溶解在顯影劑中,因此導致難以獲得具有15μm或更少的大小的微圖案的問題。 因此,傳統的有機絕緣薄膜不足以解決關於敏感度的問題。雖然敏感度可能藉由增加在該有機絕緣薄膜中使用的聚合物中鹼性顯影劑的溶解度,或延長顯影時間來改進,此方法具有限制,且可能導致非曝光部分與曝光部分一起溶解,造成整體薄膜殘餘率的減少。此結果已造成在大規模顯示器的基板中薄膜塗佈以及圖案損害的問題。 此外,有機絕緣薄膜組合物需要各種特性,例如極佳的處理抗性,例如熱抗性、溶劑抗性、抵抗延長熱燒的抗性,等等;附著至支持層的適合附著性;根據其使用目的在不同的處理條件下可形成圖案的廣泛製程範圍;以及此外,高敏感度、高浸透性、在顯影之後減少的薄膜擴展以及由顯影劑造成的損失,或諸如此類。
因此,本發明的一個目的是提供一種具有極佳敏感度與降解能力,且能夠控制所形成圖案角度(也就是,斜率)的感光樹脂。 本發明的另一個目的是提供一種具有後處理所需的適當化學抗性以及熱抗性的樹脂組合物。 本發明的另一個目的是提供一種使用前述感光樹脂組合物來製備的絕緣層。 為了達成上述目的,本發明提供了下述。      (1)一種感光樹脂組合物,包含藉由包含以分子式1表示的單體而聚合的黏結劑樹脂:
(其中R1是氫原子或甲基;R2是具有1至6個碳原子的亞烴基;R3以及R4每個獨立地是氫原子或具有1至6個碳原子的烷基,或可耦合以形成具有3至8個碳原子的環;以及m是範圍為1至6的整數)。 (2)根據上述第(1)項所述的組合物,其中該黏結劑樹脂是藉由進一步包含以分子式2至5表示的單體之中至少其中之一而聚合:
(其中R是具有1至6個碳原子的烷基,該1至6個碳原子由具有1至6個碳原子的烷基取代或未取代;四氫吡喃基;或,具有1至6個碳原子的烷基,該1至6個碳原子由具有1至6個碳原子的烷氧基或具有4至8個碳原子的環烷氧基取代或未取代);
(其中R1是氫原子或甲基,R2是具有1至6個碳原子的烷基或具有4至8個碳原子的環烷基);
(其中R1是氫原子或甲基,R2是具有3至8個碳原子的亞烴基,R3是具有1至6個碳原子的烷基或具有4至8個碳原子的環烷基);
(其中R1是氫原子或甲基,以及R2是具有1至6個碳原子的亞烴基或具有4至8個碳原子的環亞烴基,R3是具有1至6個碳原子的烷基或具有4至8個碳原子的環烷基)。 (3)根據上述第(1)項所述的組合物,其中該黏結劑樹脂是藉由包含5至60莫耳%的分子式1所表示的單體來聚合。 (4)根據上述第(1)項所述的組合物,其中該黏結劑樹脂具有5,000至30,000的重量平均分子量。 (5)根據上述第(1)項所述的組合物,其中相對於該組合物的總重量,該黏結劑樹脂包括於5至60重量%的量。 (6)根據上述第(1)項所述的組合物,更包含光酸產生劑、光敏劑以及溶劑 (7)根據上述第(6)項所述的組合物,其中該光酸產生劑是選自重氮鹽、鏻鹽、鋶鹽、碘鎓鹽、苯磺酸醯亞胺、苯磺酸肟、重氮二碸、二碸、鄰硝基苯甲基苯磺酸鹽以及三嗪化合物所組成群組的至少其中之一。 (8)根據上述第(6)項所述的組合物,其中相對於100重量分的黏結劑樹脂,該光酸產生劑包括於0.1至20重量分的量。 (9)根據上述第(6)項所述的組合物,其中該光敏劑是選自多核芳香族、氧雜蔥、氧雜蒽酮、青色素、氧雜菁、噻嗪、吖啶、吖啶酮、蒽醌、角鯊烯鎓、苯乙烯基、鹼基苯乙烯基、香豆素以及蒽化合物所組成群組的至少其中之一。 (10)根據上述第(6)項所述的組合物,其中相對於100重量分的黏結劑樹脂,該光敏劑包括於0.01至60重量分的量。 (11)根據上述第(6)項所述的組合物,其中該溶劑是選自醚、醋酸酯、酯、酮、醯胺以及內酯所組成群組的至少其中之一。 (12)根據上述第(6)項所述的組合物,其中該溶劑是丙二醇甲醚醋酸酯、二乙二醇甲基乙基酯或其混合物。 (13)根據上述第(6)項所述的組合物,其中相對於該組合物的總重量,該溶劑包括於40至90重量%的量。 (14)根據上述第(1)項所述的組合物,更包含選自鹼性化合物、界面活性劑、吸附增強劑、熱交聯劑、光穩定劑、光固化增強劑、防光暈劑以及消泡劑所組成群組的至少其中之一。 (15)一種絕緣層,藉由固化根據上述第(1)至(14)項任一項所述的感光樹脂組合物來製備。 (16)一種液晶顯示裝置,包含根據上述第(15)項所述的絕緣層。 本發明的感光樹脂組合物具有極佳的敏感度與降解能力以及改進的流動性,以因此允許輕易地處理,並可控制所形成圖案的角度。 本發明的感光樹脂組合物具有極佳的電特性,以及優越的化學抗性以及熱抗性。
本發明揭露了一種感光樹脂組合物以及從感光樹脂組合物製備的絕緣層,該感光樹脂組合物包括藉由包含以分子式1表示的單體而聚合的黏結劑樹脂,因此具有極佳的敏感度以及降解能力、改進的流動性,其隨之能夠輕易地處理,且能夠控制所形成圖案的角度。 此後,將更詳細地描述本發明。 本發明的感光樹脂組合物可包括藉由包含以分子式1所表示的單體而聚合的黏結劑樹脂。 該黏結劑樹脂可藉由包含以下述分子式1所表示的單體而聚合。
其中R1是氫原子或甲基;R2是具有1至6個碳原子的亞烴基;R3以及R4每個獨立地是氫原子或具有1至6個碳原子的烷基,或可耦合以形成具有3至8個碳原子的環;以及m是範圍為1至6的整數)。 以分子式1表示的單體具有鄰接於R2的氧原子,如果該氧原子包含在一鏈中,單鍵的旋轉半徑變大,以減少了玻璃過渡溫度,並改進了流動性,因此能夠輕易地處理。 在分子式1中,單體的長度可藉由調整「m」來控制,因此控制了所形成圖案的角度。在此例子中,減少所形成圖案的角度可在沉積透明電極期間預防固化薄膜的分離或破裂的發生。 關於根據本發明的黏結劑樹脂,取決於特定的單體類型,由於以分子式1表示的單體可如想要地與其他單體混合並共聚,其含量以及混合比例不特別受限。然而,在關於改進透明度以及輕易處理,以及控制圖案角度以最大化在沉積透明電極期間預防固化薄膜中破裂發生的效果方面,以分子式1表示的單體較佳包括以及聚合於5至60%莫耳的量。 根據本發明的黏結劑樹脂可藉由共聚以分子式1表示的單體以及本技術領域已知並用於黏結劑樹脂的任何其他單體而製備。例如,共聚作用可藉由進一步包括以下述分子式2至5所表示的單體之中的至少其中之一來進行。以分子式2表示的化合物可作用以改進硬度,而以分子式3至5表示的化合物可改進浸透性。     [分子式2]
(其中R是具有1至6個碳原子的烷基,該1至6個碳原子由具有1至6個碳原子的烷基取代或未取代;四氫吡喃基;或,具有1至6個碳原子的烷基,該1至6個碳原子由具有1至6個碳原子的烷氧基或具有4至8個碳原子的環烷氧基取代或未取代)。
(其中R1是氫原子或甲基,R2是具有1至6個碳原子的烷基或具有4至8個碳原子的環烷基)。
(其中R1是氫原子或甲基,R2是具有3至8個碳原子的亞烴基,R3是具有1至6個碳原子的烷基或具有4至8個碳原子的環烷基)。      [分子式5]
(其中R1是氫原子或甲基,以及R2是具有1至6個碳原子的亞烴基或具有4至8個碳原子的環亞烴基,R3是具有1至6個碳原子的烷基或具有4至8個碳原子的環烷基)。 可隨選地,本發明的黏結劑樹脂可藉由進一步包含本技術領域中一般使用的丙烯酸酯單體而共聚。 如果丙烯酸酯單體是本技術領域中已知且一般使用的,它們的種類不特別受限,然而,可包括,例如,乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三甲基醇丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、環己基(甲基)丙烯酸叔丁酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸叔辛酯、(甲基)丙烯酸十二酯、(甲基)丙烯酸十八烷酯、(甲基)丙烯酸乙醯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苯酯、2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(2-甲氧基乙氧基)乙基(甲基)丙烯酸酯、3-苯氧基-2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸芐酯、二乙二醇單甲醚(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇單乙醚(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇單苯醚(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇單甲醚(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇單乙醚(甲基)丙烯酸酯、β-苯氧基乙氧基乙基丙烯酸酯、壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、環芬太尼(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯基(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯基氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、八氟戊基(甲基)丙烯酸酯、過氟辛基乙基(甲基)丙烯酸酯、三溴苯基(甲基)丙烯酸酯、三溴苯基氧基乙基(甲基)丙烯酸酯,或諸如此類,其單獨或以其二或更多個組合而使用。 在圖案形成期間維持極佳的解析度及/或圖案流動特徵方面,本發明的黏結劑樹脂可具有範圍為5,000至30,000的重量平均分子量。 如果黏結劑樹脂是在其可如想要地作用的範圍內,該黏結劑樹脂的含量不特別受限,但相對於組合物的總重量,範圍可為5至60重量%,且較佳為10至40重量%。相對於該組合物的總重量,當該黏結劑樹脂包括於5重量%至60重量%的量時,可最大化改進敏感度以及降解能力的效果,同時具有適當的黏性。 除了前述的黏結劑樹脂之外,本發明的感光樹脂組合物可更包括光酸產生劑(「PAG」)、光敏劑以及溶劑,其一般在化學增輻光阻樹脂組合物的應用中使用。 PAG是發出激發光或輻射以產生酸的化合物。 PAG的種類不特別受限,但可包括,例如,重氮鹽、鏻鹽、鋶鹽、碘鎓鹽、醯亞胺苯磺酸鹽、肟苯磺酸鹽、重氮二碸、二碸、鄰硝基苯甲基苯磺酸鹽或三嗪化合物,或諸如此類,其單獨或以其二或更多個組合而使用。 如果PAG是在其可如想要地作用的範圍內,PAG的含量不特別受限,但相對於100重量分的黏結劑樹脂,範圍可為0.1至20重量分,且較佳為0.5至10重量分。 相對於100重量分的黏結劑樹脂,當PAG包括於0.1重量分至20重量分的量時,由於酸的催化反應造成的化學修飾可完全進行,且當塗佈該組合物時,該組合物可均勻地塗開。 光敏劑可吸收在電子變得被激發的這種條件下的激發光或輻射,並與PAG接觸,以造成能量以及電子轉移、熱產生,或諸如此類,藉此加速PAG的降解以因此改進敏感度。 如果光敏劑可加速PAG的降解,它們的種類不特別受限,但可包括,例如,選自多核芳香族、氧雜蔥、氧雜蒽酮、青色素、氧雜菁、噻嗪、吖啶、吖啶酮、蒽醌、角鯊烯鎓、苯乙烯基、鹼基苯乙烯基、香豆素、蒽化合物所組成群組的至少其中之一,其單獨或以其二或更多個組合而使用。 在前述化合物之中,光敏劑可為具有吸收波長在帶寬範圍為350至450 nm的化合物。 多核芳香族化合物的種類不特別受限,但可包括,例如,芘、苝、三亞苯、蒽,或諸如此類。 氧雜蔥化合物的種類不特別受限,但可包括,例如,螢光素、伊紅、赤藻辛、玫瑰紅B、孟加拉玫瑰紅,或諸如此類。 氧雜蒽酮化合物的種類不特別受限,但可包括,例如,氧雜蒽酮、噻吨酮、二甲基噻吨酮、二乙基噻吨酮,或諸如此類。 青色素化合物的種類不特別受限,但可包括,例如,硫碳菁、氧雜碳菁、部花青素、碳部花青素、羅丹青色素,或諸如此類。 噻嗪化合物的種類不特別受限,但可包括,例如,噻嚀、亞甲基藍、甲苯胺藍,或諸如此類。 吖啶化合物的種類不特別受限,但可包括,例如,吖啶橙、氯黃素、吖啶黃素,或諸如此類。 吖啶酮化合物的種類不特別受限,但可包括,例如,吖啶酮、10-丁基-2-氯吖啶酮,或諸如此類。 香豆素化合物的種類不特別受限,但可包括,例如,7-二乙基胺基-4-甲基香豆素。 如果光敏劑是在其可如想要地作用的範圍內,該光敏劑的含量不特別受限,但相對於100重量分的黏結劑樹脂,範圍可為0.01至60重量分,且較佳為0.02至40重量分。當相對於100重量分的黏結劑樹脂,該光敏劑包括於0.01至60重量分的量時,該黏結劑樹脂可同時具有適當的敏感度以及透明度。 如果溶劑可溶解前述成分,本文中所使用的溶劑種類不特別受限,但可使用具有適當乾燥速率並在該溶劑揮發之後形成均勻以及平滑塗層薄膜的任何溶劑。 溶劑的特定範例可包括醚、醋酸酯、酯、酮、醯亞胺以及內酯,其單獨或以二或更多個組合而使用。 醚的特定範例可包括:乙二醇單烷基醚,例如乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚,等等;乙二醇二烷基醚,例如乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、乙二醇二丙醚,等等;丙二醇單烷基醚,例如丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單丁醚,等等;丙二醇二烷基醚,例如丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚,等等;二乙二醇二烷基醚,例如二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇乙基甲醚,等等;二丙二醇單烷基醚,例如二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚、二丙二醇單丙醚、二丙二醇單丁醚,等等;以及二丙二醇二烷基醚,例如二丙二醇二甲醚、二丙二醇二乙醚、二丙二醇乙基甲醚,等等。 醋酸酯的特定範例可包括:乙二醇單烷基醚醋酸酯,例如乙二醇單甲醚醋酸酯、乙二醇單乙醚醋酸酯、乙二醇單丙醚醋酸酯、乙二醇單丁醚醋酸酯,等等;丙二醇單烷基醚醋酸酯,例如丙二醇單甲醚醋酸酯、丙二醇單乙醚醋酸酯、丙二醇單丙醚醋酸酯、丙二醇單丁醚醋酸酯,等等;二乙二醇單烷基醚醋酸酯,例如二乙二醇單甲醚醋酸酯、二乙二醇單乙醚醋酸酯、二乙二醇單丙醚醋酸酯、二乙二醇單丁醚醋酸酯,等等;以及二丙二醇單烷基醚醋酸酯,例如二丙二醇單甲醚醋酸酯、二丙二醇單乙醚醋酸酯、二丙二醇單丙醚醋酸酯、二丙二醇單丁醚醋酸酯,等等。 酯的特定範例可包括:乳酸酯,例如乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯、乳酸異丙酯、乳酸正丁酯、乳酸異丁酯、乳酸正戊酯、乳酸異戊酯,等等;脂肪族羧酸酯,例如醋酸正丁酯、醋酸異丁酯、醋酸正戊酯、醋酸異戊酯、醋酸正己酯、2-乙基己基醋酸酯、丙酸乙酯、丙酸正丙酯、丙酸異丙酯、丙酸正丁酯、丙酸異丁酯、丁酸甲酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸異丙酯、丁酸正丁酯、丁酸異丁酯,等等;其他的酯類,例如羥基醋酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸乙酯、甲氧基醋酸乙酯、乙氧基醋酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丁基醋酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基醋酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丁酸酯、乙醯醋酸甲酯、乙醯醋酸乙酯、纖維甲酯、纖維乙酯、二乙二醇甲基乙基酯,或諸如此類。 酮的特定範例可包括甲乙酮、甲丙酮、甲基正丁酮、甲基異丁基酮、2-庚酮、3-庚酮、4-庚酮、環己酮,或諸如此類。 醯胺的特定範例可包括N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基乙醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯烷酮,或諸如此類。 內酯的特定範例可包括γ-丁內酯,或諸如此類。 在關於絕緣塗層薄膜的薄膜厚度的可應用性以及均勻性方面,溶劑可為丙二醇甲醚醋酸酯、二乙二醇甲基乙基酯或其混合物。 如果溶劑是在其可如想要地作用的範圍內,該溶劑的含量不特別受限,但相對於該組合物的總重量,範圍可為40至90重量%,且較佳為50至80重量%。相對於該組合物的總重量,當該溶劑包括於40重量%至90重量%的量時,固體含量以及黏性可維持在想要的程度,因此改進了塗層功效。 本發明的感光樹脂組合物可更包括適當量而不悖離本發明目的的添加物,例如鹼性化合物、界面活性劑、吸附增強劑、熱交聯劑、光穩定劑、光固化增強劑、防光暈劑(調平劑)或消泡劑,或諸如此類。 鹼性化合物的種類不特別受限,但可包括任一選自用於作為化學增輻型光阻的化合物。該鹼性化合物的特定範例可包括脂肪族胺、芳香族胺、雜環胺、四級氫氧化銨、羧酸的四級銨鹽,或諸如此類,其單獨或以其二或更多個組合而使用。 脂肪族胺的特定範例可包括三甲胺、二乙胺、三乙胺、二-正丙胺、三-正丙胺、二-正戊胺、三-正戊胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二環己胺、二環己基甲胺,或諸如此類。 芳香族胺的特定範例可包括苯胺、苯甲胺、N,N-二甲基苯胺、二苯胺,或諸如此類。 雜環胺的特定範例可包括吡啶、2-甲基吡啶、4-甲基吡啶、2-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2-苯基吡啶、4-苯基吡啶、N-甲基-4-苯基吡啶、4-二甲基胺基吡啶、咪唑、苯並咪唑、4-甲基咪唑、2-苯基苯並咪唑、2,4,5-三苯基咪唑、尼古丁、菸鹼酸、菸鹼酸醯胺、喹啉、8-氧基喹啉、吡嗪、吡唑、噠嗪、嘌呤、吡咯啶、哌啶、哌嗪、嗎啉、4-甲基嗎啉、1,5-二氮雜雙環[4.3.0]-5-壬烯、1,8-二氮雜雙環[5.3.0]-7-十一烯,或諸如此類。 四級氫氧化銨的特定範例可包括四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四-正丁基氫氧化銨、四-正己基氫氧化銨,或諸如此類。 羧酸四級銨鹽的特定範例可包括四甲基醋酸銨、四甲基苯甲酸銨、四-正丁基醋酸銨、四-正丁基苯甲酸銨,或諸如此類。 如果鹼性化合物是在其可如想要地作用的範圍內,該鹼性化合物的含量不特別受限,但相對於100重量分的黏結劑樹脂,範圍可為0.0001至1重量分,且較佳為0.004至0.5重量分。 相對於100重量分的黏結劑樹脂,當該鹼性化合物包括於0.0001重量分至1重量分的量時,可形成具有適當敏感度以及維護穩定性的夾層絕緣層。 界面活性劑為改善基質及感光樹脂組合物之間附著力的組合物。 界面活性劑的類型不特別受限,但可包括各種界面活性劑,例如含氟界面活性劑、非離子性界面活性劑、陽離子界面活性劑、陰離子界面活性劑以及矽界面活性劑,或諸如此類,其單獨或以其二或更多個組合而使用。 含氟界面活性劑的特定範例可包括MAGAFAC F171、F172、F173、F176、F177、F141、F142、F143、F144、R30、F437、F475、F479、F482、F554、F780以及F781(商標名,由DIC Corporation製造)、FLUORAD FC430、FC431以及FC171(商標名,由Sumitomo 3M Limited製造)、SURFLON S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC1068、SC-381、SC-383、S393以及KH-40(商標名,由Asahi Glass Co., Ltd.製造)、SOLSPERSE 20000(商標名,由Lubrizol Japan Limited製造),或諸如此類。 非離子界面活性劑的特定範例可包括:甘油、三甲基醇丙烷以及三甲基油烷,以及其乙氧基化物或丙氧基化物(例如,甘油丙氧基化物或甘油乙氧基化物);聚氧乙烯月桂醚、聚氧乙烯硬脂醚、聚氧乙烯油烯醚、聚氧乙烯辛基苯醚、聚氧乙烯壬基苯醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、去水山梨醇脂肪酸酯,例如PLURONIC L10、L31、L61、L62、10R5、17R2以及25R2,以及TETRONIC 304、701、704、901、904以及150R1(商標名,由BASF製造),或諸如此類。 陽離子界面活性劑的特定範例可包括鈦菁修飾的化合物,例如EFKA-745(商標名,由Morishita & Co., Ltd.製造)、有機矽氧烷聚合物,例如KP341(商標名,由Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.製造)、(甲基)丙烯酸(共)聚合物,例如POLYFLOW編號75、編號90、編號95(商標名,由Kyoeisha Chemical Co., Ltd.製造)、W001(商標名,由Yusho Co., Ltd.製造),或諸如此類。 陰離子界面活性劑的特定範例可包括W004、W005、W017(商標名,由Yusho Co., Ltd.製造),或諸如此類。 矽界面活性劑的特定範例可包括TORAY SILICONE DC3PA、SH7PA、DC11PA、SH21PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA以及SH8400(商標名,由Dow Corning Toray Co., Ltd.製造)、TSF-4440、4300、4445、4460以及4452(商標名,由Momentive Performance Materials Inc.製造)、KP341、KF6001以及KF6002(商標名,由Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.製造)、BYK307、323以及330(商標名,由BYK Chemie製造),或諸如此類。 如果界面活性劑是在其可如想要地作用的範圍內,該界面活性劑的含量不特別受限,但相對於100重量分的黏結劑樹脂,範圍可為0.001至3重量分,且較佳為0.001至2重量分。相對於100重量分的黏結劑樹脂,當該界面活性劑包括於0.001重量分至3重量分的量時,可最大化改進基板與樹脂組合物之間的附著力的功效及/或塗層功效的效果。 吸附增強劑可改進絕緣層以及基板的無機材料之間的附著力,例如,矽化合物,例如矽、氧化矽、氮化矽,等等,或金屬,例如金、銅、鋁,等等,且可有用於調整至該基板的錐角。 吸附增強劑的種類不特別受限,且其特定範例可包括矽烷耦合劑或硫醇化合物,且較佳為矽烷耦合劑。 矽烷耦合劑的種類不特別受限,但可包括,例如,γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-環氧丙氧基丙基三烷氧基矽烷、γ-環氧丙氧基丙基烷基二烷氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯基氧基丙基三烷氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯基氧基丙基烷基二烷氧基矽烷、γ-氯丙基三烷氧基矽烷、γ-巰基丙基三烷氧基矽烷、β-(3,4-環氧環己基)乙基三烷氧基矽烷、乙烯基三烷氧基矽烷,或諸如此類,較佳為,γ-環氧丙氧基丙基三烷氧基矽烷或γ-甲基丙烯醯基氧基丙基三烷氧基矽烷,且更佳為,γ-環氧丙氧基丙基三烷氧基矽烷。這些可單獨或以其二或更多個組合而使用。 如果吸附增強劑是在其可如想要地作用的範圍內,該吸附增強劑的含量不特別受限,但相對於100重量分的黏結劑樹脂,範圍可為0.1至20重量分,較佳為0.5至10重量分。相對於100重量分的黏結劑樹脂,當該吸附增強劑包括於0.1重量分至20重量分的量時,可最大化對於絕緣層的附著力。 當絕緣層是使用前述組合物來形成時,熱交聯劑可使得可能經由UV照射以及熱處理來主動地執行交聯反應,且是用以改進熱抗性的成分。 熱交聯劑的種類不特別受限,但可包括,例如,聚丙烯酸酯樹脂、環氧樹脂、酚樹脂、三聚氰胺樹脂、有機酸、胺化合物、無水化合物,或諸如此類,其單獨或以其二或更多個組合而使用。 如果熱交聯劑是在其可如想要地作用的範圍內,該熱交聯劑的含量不特別受限,但相對於100重量分的黏結劑樹脂,範圍可為0.01至5重量分,更佳為0.1至3重量分。相對於100重量分的黏結劑樹脂,當該熱交聯劑包括於0.01重量分至5重量分的量時,可最大化熱抗性的改進。 光穩定劑是一種改進感光樹脂組合物的光抗性的成分。 光穩定劑的種類不特別受限,但可包括,例如,苯並三唑、三嗪、二苯基甲酮、受阻胺基醚或受阻胺化合物,或諸如此類,其單獨或以其二或更多個組合而使用。 如果光穩定劑是在其可如想要地作用的範圍內,該光穩定劑的含量不特別受限,但相對於100重量分的黏結劑樹脂,範圍可為0.01至5重量分,且較佳為0.1至3重量分。相對於100重量分的黏結劑樹脂,當該光穩定劑包括於0.01重量分至5重量分的量時,可最大化光抗性的改進。 如上所述根據本發明形成的感光樹脂組合物具有極佳的敏感度以及降解能力,且可控制所形成圖案的角度。 本發明可進一步提供一種使用上述組合物來製備的絕緣層。 根據本發明用於製備絕緣層的方法可包括:將本發明的感光樹脂組合物塗佈至用於顯示裝置的基板的頂側或該基板上所提供的源極/漏極或氮化矽層的頂側;預烘烤該感光樹脂組合物;選擇性地曝光以及顯影該感光樹脂組合物以形成圖案;以及完全曝光以及加熱,或只加熱該感光樹脂組合物。 基板可使用玻璃或透明塑膠樹脂作為主要材料來製備,玻璃或透明塑膠樹脂一般用於製造液晶顯示裝置、有機EL顯示器,或諸如此類。然而,這種材料不特別受限,但可取決於將要使用的顯示裝置的特徵。例如,可提供金屬薄膜以在絕緣基板,例如玻璃板上形成閘電極,且該金屬薄膜可形成其表面層。 將感光樹脂組合物塗佈至基板或諸如此類的頂側的方法不特別受限,但可包括,例如,噴灑塗層、滾筒塗層、狹縫噴嘴塗層,例如噴射噴嘴型的塗佈,旋轉塗佈,例如中央佈施旋轉,擠壓塗層、棍棒塗層,或諸如此類。此外,可結合並使用二或更多個前述的塗層製程。 所塗佈的薄膜厚度根據塗佈方法、組合物的固體含量、黏性或諸如此類而不同,然而,一般可執行塗佈以在乾燥之後達到0.5至100 μm的薄膜厚度。 作為隨後的過程,預烘烤是藉由應用真空、紅外線或熱來揮發溶劑的過程,以在形成塗層薄膜之後獲得沒有流動性的塗層薄膜。加熱條件取決於個別成分的種類或其組合而不同,例如,可將加熱板於60至130℃加熱5至500秒,而可將加熱烘箱於60至140℃加熱20至1,000秒。 下來,在照射準分子雷射、遠UV光、UV光、可見光、電子束、X光或g射線(具有436 nm的波長)、i射線(具有365 nm的波長)、h射線(具有405 nm的波長)或其組合時,可執行選擇性曝光。該曝光可藉由接觸式、接近式或投射式曝光過程或諸如此類來進行。 根據本發明,在鹼性顯影之後,可將感光樹脂組合物進行完全的曝光以及加熱(高溫燒成)或只有加熱(高溫燒成)。在高溫燒成的例子中,該感光樹脂組合物可具有包括熱交聯劑或諸如此類的組成配置。加熱可使用加熱裝置,例如加熱板或烘箱於150至350℃加熱10分鐘至3小時來執行。在加熱之後,可產生完全的交聯以及固化圖案。 此後,將描述較佳的具體實施例以更具體地了解本發明。然而,對於本領域技術人員將為顯而易見的是,這種具體實施例被提供用於示例的目的,對於所附帶的申請專利範圖沒有特定的限制,各種修飾以及替代方案是可能的,而不悖離本發明的範圍以及精神,且這種修飾以及替代方案被充分地包括在如同附帶申請專利範圍所定義的本發明中。 範例 範例1至8以及比較性範例 以其相對應的含量(重量%),藉由使用表1中所列出的成分來製備旋轉塗層組合物。
[表1]
實驗範例 關於根據範例以及比較性範例製備的樹脂組合物,已進行下述用於評估的實驗,且其結果顯示於下表2中。 (1)敏感度 將根據範例1至8以及比較性範例的每個感光樹脂組合物塗佈在具有0.7 mm厚度的玻璃基板上(Corning 1737,由Corning co.製造),接著在加熱板上於100℃加熱該玻璃基板125秒,以揮發溶劑,因此形成具有4.0 μm厚度的感光樹脂組合物層。 之後,為了獲得具有10 μm直徑的接觸孔圖案,藉由使用具有有10 μm大小的方形圖案開口的遮罩,並利用i射線步進器(NSR-205i11D,由Nikon Co.製造)來執行曝光。 在曝光之後,使用2.38%四甲基氫氧化銨溶液作為顯影劑,於23℃將基板進行浸置式顯影達40秒,接著在烘箱中於230℃加熱該基板30分鐘,因此獲得固化的薄膜。 將接觸孔的所獲得圖案垂直切割,並在將在獲得10μm接觸孔的曝光值(EV)定義成每個構成組合物中的敏感度。 (2)圖案角度 在垂直切割所獲得的圖案之後,從相對應的光學照片來計算圖案至基板的角度。 (3)透明度 使用光譜儀,測量在400 nm的透明度。
[表2]
參照上述表2,確認的是,使用根據範例1至8的每個感光樹脂組合物製備的絕緣層具有極佳的敏感度以及高透明度。此外,因為低圖案角度(也就是,圖案的低斜率),可在作為隨後過程的透明電極沉積的期間預防固化薄膜的分離或破裂的發生。 另一方面,發現到的是,使用根據比較性範例的組合物製備的絕緣層具有不佳的敏感度、低透明度及高圖案角度,因此,可在沉積透明電極期間造成缺陷。
從下述詳細的描述,結合伴隨的圖式,將更清楚地可解本發明的上述以及其他目的、特徵以及其他優勢,其中:     第1圖是顯示出使用範例3中的感光樹脂組合物製備的絕緣層至基板的圖案角度的照片;     第2圖是顯示出使用範例4中的感光樹脂組合物製備的絕緣層至基板的圖案角度的照片;     第3圖是顯示出使用範例8中的感光樹脂組合物製備的絕緣層至基板的圖案角度的照片;     第4圖是顯示出使用比較性範例1中的感光樹脂組合物製備的絕緣層至基板的圖案角度的照片。

Claims (16)

  1. 一種感光樹脂組合物,包含藉由包含以分子式1表示的一單體而聚合的一黏結劑樹脂:       (其中R1是一氫原子或甲基;R2是具有1至6個碳原子的一亞烴基;R3以及R4每個獨立地是氫原子或具有1至6個碳原子的烷基,或可耦合以形成具有3至8個碳原子的一環;以及m是範圍為1至6的一整數)。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的組合物,其中該黏結劑樹脂是藉由進一步包含以分子式2至5表示的單體之中的至少其中之一而聚合: (其中R是具有1至6個碳原子的一烷基,該1至6個碳原子由具有1至6個碳原子的一烷基取代或未取代;一四氫吡喃基;或,具有1至6個碳原子的一烷基,該1至6個碳原子由具有1至6個碳原子的一烷氧基或具有4至8個碳原子的環烷氧基取代或未取代); [分子式3] (其中R1是一氫原子或甲基,R2是具有1至6個碳原子的一烷基或具有4至8個碳原子的環烷基); (其中R1是一氫原子或甲基,R2是具有3至8個碳原子的一亞烴基,R3是具有1至6個碳原子的一烷基或具有4至8個碳原子的環烷基); (其中R1是一氫原子或甲基,以及R2是具有1至6個碳原子的一亞烴基或具有4至8個碳原子的環亞烴基,R3是具有1至6個碳原子的一烷基或具有4至8個碳原子的環烷基)。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的組合物,其中該黏結劑樹脂是藉由包含5至60莫耳%的以分子式1表示的單體而聚合。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的組合物,其中該黏結劑樹脂具有5,000至30,000的一重量平均分子量。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的組合物,其中相對於該組合物的總重量,該黏結劑樹脂包括於5至60重量%的量。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的組合物,更包含一光酸產生劑、光敏劑以及溶劑。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的組合物,其中該光酸產生劑是選自重氮鹽、鏻鹽、鋶鹽、碘鎓鹽、醯亞胺苯磺酸鹽、肟苯磺酸鹽、重氮二碸、二碸、鄰硝基苯甲基苯磺酸鹽以及三嗪化合物所組成群組的至少其中之一。
  8. 如申請專利範圍第6項所述的組合物,其中相對於100重量分的該黏結劑樹脂,該光酸產生劑包括於0.1至20重量分的量。
  9. 如申請專利範圍第6項所述的組合物,其中該光敏劑是選自多核芳香族、氧雜蔥、氧雜蒽酮、青色素、氧雜菁、噻嗪、吖啶、吖啶酮、蒽醌、角鯊烯鎓、苯乙烯基、鹼基苯乙烯基、香豆素以及蒽化合物所組成群組的至少其中之一。
  10. 如申請專利範圍第6項所述的組合物,其中相對於100重量分的該黏結劑樹脂,該光敏劑包括於0.01至60重量分的量。
  11. 如申請專利範圍第6項所述的組合物,其中該溶劑是選自醚、醋酸酯、酯、酮、醯胺以及內酯所組成群組的至少其中之一。
  12. 如申請專利範圍第6項所述的組合物,其中該溶劑是丙二醇甲醚醋酸酯、二乙二醇甲基乙基酯或其混合物。
  13. 如申請專利範圍第6項所述的組合物,其中相對於該組合物的一總重量,該溶劑包括於40至90重量%的量。
  14. 如申請專利範圍第1項所述的組合物,更包含選自一鹼性化合物、界面活性劑、吸附增強劑、熱交聯劑、光穩定劑、光固化增強劑、防光暈劑以及消泡劑所組成的群組的至少其中之一。
  15. 一種絕緣層,藉由固化如申請專利範圍第1至14項中任一項所述的感光樹脂組合物而製備。
  16. 一種液晶顯示裝置,包含如申請專利範圍第15項所述的絕緣層。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI651592B (zh) * 2015-10-19 2019-02-21 南韓商Lg化學股份有限公司 樹脂組成物與包含使用其所形成之黑堤的顯示裝置
TWI667540B (zh) * 2015-02-10 2019-08-01 南韓商東友精細化工有限公司 負型感光性樹脂組合物、使用其形成的光固化圖案和圖像顯示裝置
TWI704414B (zh) * 2015-03-06 2020-09-11 南韓商東友精細化工有限公司 化學增強型感光性樹脂組成物以及由其所製造的絕緣膜
TWI707204B (zh) * 2016-05-03 2020-10-11 南韓商東友精細化工有限公司 正型感光性樹脂組合物及由其製造之絕緣膜
TWI710856B (zh) * 2016-08-11 2020-11-21 南韓商東友精細化工有限公司 化學增幅型感光性樹脂組合物及由其製造的絕緣膜

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014193165A1 (ko) * 2013-05-28 2014-12-04 동우화인켐 주식회사 스페이서 형성용 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조되는 스페이서
KR102383695B1 (ko) * 2018-02-06 2022-04-05 동우 화인켐 주식회사 포지티브형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 절연막

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7022790B2 (en) * 2002-07-03 2006-04-04 Sumitomo Bakelite Company, Ltd. Photosensitive compositions based on polycyclic polymers
CN1492265A (zh) * 2002-10-25 2004-04-28 三星电子株式会社 滤色板、其制造方法及包括滤色板的液晶显示器
JP5075706B2 (ja) * 2007-03-27 2012-11-21 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
TWI518458B (zh) * 2008-03-28 2016-01-21 富士軟片股份有限公司 正型感光性樹脂組成物及使用它的硬化膜形成方法
JP4718623B2 (ja) * 2008-03-28 2011-07-06 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
TWI608294B (zh) * 2008-10-30 2017-12-11 住友化學股份有限公司 感光性樹脂組成物
KR101357604B1 (ko) * 2010-11-12 2014-02-03 연세대학교 산학협력단 전도성 투명 접착 조성물 및 이를 이용하여 제조한 전도성 투명 접착제
KR101492679B1 (ko) * 2011-04-13 2015-02-12 주식회사 엘지화학 중합체 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI667540B (zh) * 2015-02-10 2019-08-01 南韓商東友精細化工有限公司 負型感光性樹脂組合物、使用其形成的光固化圖案和圖像顯示裝置
TWI704414B (zh) * 2015-03-06 2020-09-11 南韓商東友精細化工有限公司 化學增強型感光性樹脂組成物以及由其所製造的絕緣膜
TWI651592B (zh) * 2015-10-19 2019-02-21 南韓商Lg化學股份有限公司 樹脂組成物與包含使用其所形成之黑堤的顯示裝置
TWI707204B (zh) * 2016-05-03 2020-10-11 南韓商東友精細化工有限公司 正型感光性樹脂組合物及由其製造之絕緣膜
TWI710856B (zh) * 2016-08-11 2020-11-21 南韓商東友精細化工有限公司 化學增幅型感光性樹脂組合物及由其製造的絕緣膜

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