TW201344184A - 用以測量眼用裝置之波前的方法及設備 - Google Patents

用以測量眼用裝置之波前的方法及設備 Download PDF

Info

Publication number
TW201344184A
TW201344184A TW102105239A TW102105239A TW201344184A TW 201344184 A TW201344184 A TW 201344184A TW 102105239 A TW102105239 A TW 102105239A TW 102105239 A TW102105239 A TW 102105239A TW 201344184 A TW201344184 A TW 201344184A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
optical
lens
wavefront
mandrel
intensity
Prior art date
Application number
TW102105239A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI591327B (zh
Inventor
Michael F Widman
Naveen Agarwal
Original Assignee
Johnson & Johnson Vision Care
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Johnson & Johnson Vision Care filed Critical Johnson & Johnson Vision Care
Publication of TW201344184A publication Critical patent/TW201344184A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI591327B publication Critical patent/TWI591327B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/02Testing optical properties
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/41Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Eyeglasses (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
  • Eye Examination Apparatus (AREA)

Abstract

本發明提供一種用來以單次或連續測量方式來測量一或多個直接位於一成形心軸上之眼用裝置的方法與波前測量設備,其測量係在非水化態下並且以遠為快速之方式進行,而且具有高空間解析度。

Description

用以測量眼用裝置之波前的方法及設備
本發明說明一用於獲得一眼用裝置之精確光學測量結果的方法與設備,其係使用一光學數位波前感測器並且未接觸該眼用裝置。更具體而言,該設備使用一光學數位波前計量學技術,以在一或多個連續測量中獲得所傳送波前之強度與相位的同步測量結果。
已為習知的是,使用各種設備與方法(即光學計量學)來測量隱形眼鏡之物理性質。傳統上,光學計量學涉及使入射光束瞄準一光學物體、測量所致之繞射光束,並且分析該繞射光束以決定各種特徵,例如結構剖面。然而,傳統眼用鏡片常以鑄造成型製成,其中一單體材料係沉積於一界定在相對模件之光學表面間的模穴中。使用此類模件製作鏡片時,係將未硬化之水凝膠鏡片材料放置於塑膠拋棄式前曲面模件與塑膠拋棄式後曲面模件間。
所述之前後曲面模件通常經由射出成型技術來形成,其中係將融化塑膠迫入具有至少一光學品質表面的精密鋼模中。
之後依據期望之鏡片參數將前後曲面模件壓合,賦予鏡片所需之形狀。接著使該鏡片製劑固化,例如藉由曝露於熱與光中,從而形成一鏡片。在固化後,將模件分離並且將該鏡片由模件中取出,以進行所述之傳統光學計量。然而,射出成型程序之本質及其設備卻不適合用來製造專用於特定病患眼睛或特殊應用之客製鏡片。因此,在先前說明中,已說明經由使用自由成形(free-form)技術來形成客製鏡片之方法與設備,例如描述於WO 2009/025848與WO 2009/025845中者。這些技術之一重要態樣為鏡片係以新穎之方式生產,在此方式中兩鏡片表面之其中一者係以自由成形方式形成,並且無須進行鑄造成型、車床或其他工具作業。
自由成形表面及基質可包括一涵括於該自由成形表面之自由流動介質。此組合所產生之設備有時稱為鏡片前驅物。定影輻射及水化處理典型可用來將一鏡片前驅物轉換為眼用鏡片。
以此方式產生之一自由成形鏡片可能需要進行測量,以確定該鏡片的物理參數。因此,需要用以測量一形成自一前驅物之鏡片的新式設備與方法。
因此,本發明係關於用於使用一非接觸式光學儀器藉由使用光學數位波前技術來測定一眼用裝置之測量結果的方法與設備,該眼用裝置例如一包括一經UV固化鏡片之乾式隱形眼鏡(鏡片中不存在水分)。本發明的一些重要優勢包括下列一或多者:透過單次與即時光學測量來獲得乾式隱形眼鏡之精確測量結果的遠為快速方法、直接視覺化強度與波前、高動態範圍、高空間解析度(與CCD攝影機解析度直接相關)、對振動不敏感以及具成本效益。
本發明提供用以測量一眼用裝置之一物理特徵的設備,該設備包含:一用於使用自由成形技術來形成一眼用裝置之光學心軸(optic mandrel);該光學心軸包含一光學效應;一鏡片相消系統(lens cancellation system),其包含一或多個鏡片以共同相消該光學心軸之光學效應;一功能為發射一輻射波長之發射器,該輻射之方向係朝向該眼用裝置; 一功能為基於所發射波長來偵測一經傳送之波前的感測器,其中該經傳送之波前強度與相位將基於該眼用裝置之一物理特徵而有所不同,以及一與該發射器及該感測器之其中一者或兩者邏輯通訊的處理器;其中該處理器係經編程以基於該反射波前之強度與相位來傳送一邏輯訊號。
該設備可測量超過一種物理特徵。較佳的是,該設備獲得一眼用裝置之波前測量結果。
如本說明書中所用者,用語「發射器」可意指「光源」。
該光學心軸、該鏡片相消系統、該發射器與該感測器可經對準。較佳的是,該鏡片相消系統、該發射器與該感測器係設置於一軌道上。該軌道可為一直立軌道,較佳為一直立光學軌道。
在該設備中,該感測器可包含一數位波前攝影機。該數位波前攝影機可為能夠沿兩或多個強度分布之傳送光軸移動以連續變化或變動一段距離。該數位波前攝影機可為對振動不敏感。該數位波前攝影機可進一步包含一光束分散鏡,以造成一第二影像產生在沿該傳送光軸之不同位置。或者或此外,該數位波 前攝影機可取決於一光源中之光闌以及該光源與該數位波前攝影機間之工作距離而進一步包含一或多個放大鏡片。
該設備可進一步包含一用於放置該光學心軸以與該鏡片相消系統及該發射器適當對準之運動支座。此外,該設備可進一步包含一用於吸持該心軸治具(fixture)與該運動支座之真空。
該設備可進一步包含一頂光圈與一底光圈,其中該頂光圈係略小於該底光圈並且位於該心軸治具頂部且未接觸該心軸,以藉由限制通過之光束來產生一物理障壁(barrier),從而定義一用於求解一強度傳播方程式之邊界條件。該頂光圈可經變更以涵蓋一不同視域。該底光圈亦可經變更以進一步改善測量之動態範圍。
本說明書中所述用於該設備之鏡片相消系統可包含一組合件,該組合件包含三個位於一管之內部的鏡片,其中一光束可通過各該鏡片。該組合件可直立放置於該軌道。該光束可直立放置於該軌道。該三鏡片相消系統可包含下列一或多者:一非球面(asphere)鏡片、一平凸鏡片與一平凹鏡片以消去下列一或兩者:該成形光學心軸之散焦以及球面像差,而在後續使由該心軸透出之光能夠準直。
該處理器可即時作用以產生該眼用裝置之一或多個連續波前測量結果。
所發射之輻射可為一具有一單色波長(monochromatic wavelength)之高品質光束。所發射之輻射可包含一約630nm至約635mm之單色波長。
本發明亦提供一獲得一眼用裝置之波前測量結果的方法,該方法包含;對準一眼用鏡片波前系統,進行一成形光學心軸之光學測量並將此一成形光學心軸之強度測量結果儲存為一強度參考檔案,進行一成形玻璃心軸(有一可已形成於其上之鏡片)之光學測量並儲存此強度檔度,使用一處理器中能夠將一個強度檔案從至少一個其他強度檔案減去之軟體,以即時獲得一鏡片之光學波前值。
該方法可進一步包含一以下步驟,即讓該處理器執行一強度傳播方程式與一演算法。或者或此外,強度數據可接著轉換為一光學波前。該光學波前可用一光之強度與相位的方式來描述一光路徑。
用於本發明之方法的眼用鏡片波前系統可包含任何本說明書中所述之設備。
110‧‧‧步驟
120‧‧‧步驟
130‧‧‧步驟
140‧‧‧步驟
200‧‧‧光源
205‧‧‧針孔
210‧‧‧非球面聚焦鏡片
215‧‧‧底光圈
220‧‧‧心軸相消光學系統
225‧‧‧運動支座裝置
230‧‧‧心軸治具
235‧‧‧心軸
240‧‧‧頂光圈
245‧‧‧物鏡
250‧‧‧數位波前攝影機
255‧‧‧軌道
260‧‧‧X、Y台
265‧‧‧台
300‧‧‧定位球
305‧‧‧調整螺絲
310‧‧‧柱塞
315‧‧‧調整器球銷
320‧‧‧彈簧
325‧‧‧運動支座裝置組合件
327‧‧‧鎖定螺帽
330‧‧‧心軸治具
335‧‧‧心軸
340‧‧‧彈簧銷組合件螺絲
345‧‧‧彈簧銷組合件
350‧‧‧真空
355‧‧‧凹口
360‧‧‧封裝鏡片管
400‧‧‧光學波前
410‧‧‧光學波前
420‧‧‧光學波前
500‧‧‧波前測量
510‧‧‧DWC
520‧‧‧影像1
530‧‧‧影像2
540‧‧‧波前測量
圖1說明可用來執行本發明之方法步驟。
圖2說明可用來執行包含數位光學波前技術之本發明的設備組件。
圖3、圖3A及圖3B說明可用來執行本發明的例示性運動支座裝置組件。
圖4說明一心軸波前光學相消之實例,相較於無心軸波前光學相消。
圖4A說明在心軸波前光學相消後之一乾式鏡片實例。
圖5說明可用來執行本發明之額外方法步驟。
本揭露提供用於獲得一眼用鏡片之一光學波前測量結果的方法與設備。在下列段落中,將給出本發明之詳細說明。較佳實施例與替代實施例之說明皆僅為例示性,且熟悉該技藝之人士理解可輕易進行各種變化、修改及變更。因此,可理解例示性之實施例並不限制由申請專利範圍所定義之發明態樣的範圍。
名詞解釋,如本說明書中所用者,用語「包含」涵蓋「包括」以及「由所組成」與「主要由所組成」,例如一設備「包含」X可為僅由X所組成或者可包括其他事物,例如X+Y。
如本說明書中所用者,「流動鏡片反應性介質」意指在其原生態、反應態或部分反應態之任一狀態下可流動之一反應 性混合物,並且一經進一步處理,部分或全部的該反應介質便可形成為一眼用鏡片的一部分。
如本說明書中所用者,「自由成形」係指一藉由交聯一反應性混合物而形成之表面,其交聯係在立體像素對立體像素(voxel by voxel)之基準上經由曝露於光化輻射而進行,無論是否有一流動介質層,並且未依照一鑄模、車床或雷射剝蝕來成形。
本說明書中之「鏡片形成混合物」與有時稱為「反應性混合物」或「RMM」(反應性單體混合物)者,係指一單體或預聚合物材料,其可經交聯以形成一眼用鏡片。鏡片形成混合物可包含具有一或多種如下列者之添加劑:紫外線阻斷劑、染劑、光起始劑或催化劑及其他可能欲加入如隱形眼鏡或人工水晶體的眼用鏡片中。
如本說明書中所用者,「鏡片前驅物」係指一複合物件,其由一鏡片前驅物形式以及與該鏡片前驅物形式接觸之一流動鏡片反應性混合物所組成。例如,該流動鏡片反應性介質可在生產一鏡片前驅物形式之過程中形成於一體積之反應性混合物內。將該鏡片前驅物形式與黏附的流動鏡片反應介質從用來生產該鏡片前驅物形式之一體積反應性混合物中分離出來,可產生一鏡片前驅物。此外,可藉由移除顯著量的流動鏡片反應性混合物, 或者將顯著量的流動鏡片反應性介質轉換為非流動之合併材料,來將一鏡片前驅物轉換為不同的實體。
如本說明書中所用者,「鏡片前驅物形式」意指具有至少一光學品質表面之非流動物體,其經進一步處理後可併入一眼用鏡片。
如本說明書中所用者,「眼用鏡片」有時稱為「眼用裝置」或者「鏡片」,其係指任何常駐在眼睛中或上的眼用裝置。該等裝置可提供視覺矯正或妝飾。例如,用語「鏡片」可指一隱形眼鏡、人工水晶體(intraocular lens)、覆蓋鏡片(overlay lens)、眼嵌入物(ocular insert)、光學嵌入物(optical insert)或其他之類似裝置,透過鏡片可矯正或修正視覺,或在不阻礙視覺的情況下可妝飾性地改善(例如虹膜顏色)眼睛生理外觀。本發明之較佳鏡片可為由聚矽氧彈性體或水凝膠製成之軟式隱形眼鏡,其包括但不限於聚矽氧水凝膠與含氟水凝膠。
一或多個眼用裝置之測量可在其非水化鏡片狀態下進行,以及在一心軸上進行,而一鏡片可使用自由成形技術形成在該心軸上。
本揭露所包括者為一數位波前攝影機與一物鏡。亦可包括者為一心軸治具,其可設置於一運動支座裝置組合件上,該組合件可包括一在一管內部之三鏡片心軸相消系統、一下方之 底光圈、一心軸治具與一直接位於該玻璃心軸頂部且無實體接觸之頂光圈、一光源、一針孔、光闌與一位於該設備底部之非球面鏡片。所有這些組件皆可直立設置於一直立光學軌道並且經調整,直到來自一光源之輸出光束係平行軌道,並且在其離開該成形光學心軸時可為準直。準直光可為具有平頂波前之平行光束,其意指光強度不會沿一光軸(稱為「z方向」)而有變化。
可執行一系列步驟來測量該自由成形之非水化眼用鏡片。首先,可在一穿透模式下進行一成形光學玻璃心軸(無鏡片於其上)之光學測量,以獲得一基本心軸之光學波前。此波前數據可接著儲存為一參考檔案。一鏡片可接著製成於同一個心軸治具上,該治具可設置於該運動支座組合件上。接下來,可在穿透模式下進行一成形光學玻璃心軸(有鏡片於其上)之光學測量,並且其波前檔案亦經儲存。這兩個數據檔案可彼此相減,從而提供一鏡片在穿透下之測量結果。測量可在穿透模式下進行,但或者或此外在反射模式下進行測量同樣可行。
現請參照圖1,其為一流程圖,說明可用來獲得一鏡片之光學波前的方法步驟。各種步驟包括一或多個下列者:對準一眼用鏡片波前(WF)系統110,接著進行一成形光學玻璃心軸之光學波前測量並將其波前數據儲存為一參考檔案(波前1)120,接著進行一成形光學玻璃心軸(有一可已形成於此特定光學件上之 鏡片)之光學波前測量並儲存其波前檔案(波前2)130,接著將波前2檔案從波前1檔案減去並獲得一眼用鏡片140之光學波前值。
現請參照圖2,所繪示者為一例示性波前測量系統之側視圖,該系統係直立設置於一直立光學軌道255。在對準設備時,一光源200可作為其餘組件之參考,並且可放置在距直立光學軌道255約125mm處。對準設備之整體目的可為產生一準直光束,並且當其離開一成形光學玻璃心軸235時係平行軌道255。光源200(其波長可為約633nm)可包含各式光學元件在其中並且產生一高品質光束。然而,波長可有所變化,本說明書中所述之633nm係用於說明性之目的,並且可使用任何其他單色波長。一針孔205(其調整該光束之直徑)可限制一非準直之光束。一非球面聚焦鏡片210接著聚焦一光束並使其準直。在一準直光束進入一心軸相消光學系統220前,一底光圈215可直接位於一非球面聚焦鏡片210上方,並且可獨立設置或設置於一「LP1A」(軸可調整)台265之底部。一可調整底光圈215控制來自非球面聚焦鏡片210之準直光的直徑。底光圈215的一個用途可為限制一視域以獲得一同相且均勻強度之分布,並且防止一數位波前攝影機(本說明書中亦稱為「DWC」)250之飽和。
在底光圈215正上方可為一運動支座裝置225,其可包含一管於其中,該管中包含可共同形成一心軸相消光學系統220之一系列鏡片。例如,可使用三鏡片組:一非球面鏡片、一平凸鏡片與一平凹鏡片。心軸相消光學系統220之用途可為消去成形光學玻璃心軸235之散焦及球面像差,並接著使由心軸235透出之光成為準直。若為三鏡片之心軸相消光學系統220,該三鏡片間之焦度與距離可經設計,而使心軸235在10mm視域的光學效應得以消去,從而造成該DWC偵測到一平頂波前。否則,心軸235可能在進行減去時將錯誤導入鏡片波前的計算中。在心軸相消光學系統220正上方者可為一運動支座裝置225,其用於該可設置於其上之心軸治具230。
現請同時參照圖3與圖3A,繪示於圖3中者為一例示性運動支座裝置組合件325之示意圖。圖3A表示一運動支座裝置組合件325之上視圖。一成形光學組合件玻璃心軸治具330可由兩個調整器球銷315(圖3中僅繪示其中一個)與一柱塞310固持於定位。柱塞310在一凹槽中移行並且其後可有一彈簧320,該彈簧可由一彈簧銷組合件螺絲340抓持,代表一彈簧銷組合件345。柱塞310可自由進出,從而接合一心軸治具330於一凹口355中。當彈簧320推動柱塞310進入凹口355時,凹口355可保持心軸治具330鎖定於一期望位置中。彈簧銷組合件345經由柱塞 310,推動心軸治具330向左(在圖3中),其邊緣接著碰撞調整器球銷315。調整調整器球銷315任一者,可調整心軸治具330之X、Y位置。心軸治具330之高度與水平可藉由調整螺絲305與定位球300來調整。一真空350可施加至介於心軸治具330與運動支座325間之空間。真空350會將心軸治具330向下吸持至該些球300上,但不會到達防止彈簧320與柱塞310推動心軸治具330頂靠調整器球銷315之程度。成形光學玻璃心軸335可位於心軸治具330上。可使用不同幾何之運動支座裝置325。
現請參照圖3B,其表示一運動支座裝置325與一封裝鏡片管360,該管裝載心軸相消光學系統之三個鏡片。亦說明者可為運動支座325內所容納之心軸相消光學系統的位置。該運動支座裝置325可包含一鎖定螺帽327。
請回頭參照圖2,一頂光圈240可接附於一軌道255並直接位於心軸治具230上方。頂光圈240可直接位於心軸治具230之頂部上,並且靠近成形光學玻璃心軸235但未實際接觸該心軸。可使用不同幾何之頂光圈240。頂光圈240(其可略小於底光圈215)可限制離開成形光學玻璃心軸235之光束的直徑,造成DWC 250只會獲得在由頂光圈240所限制之某些區域中的準直光強度。頂光圈240直徑可經變更以涵蓋一不同視域。頂光圈之用途可為藉由限制光只能由該頂光圈通過來產生一物理障壁,並且 該頂光圈會定義求解一強度傳播方程式之邊界條件,該方程式假設頂光圈240直徑以外之光強度可等於零。可調整之頂光圈240,或者頂光圈240與底光圈215之各式組合,可用來改善測量之動態範圍。
一物鏡245可直接位於頂光圈240之上方並且DWC 250可接附於物鏡245。DWC 250可設置於一X、Y台260上。或者,一旋轉台可設置於此處。在DWC內可為一光束分散鏡,其可沿該傳送光軸在距一第一強度影像之固定距離處造成一第二強度影像形成。兩個影像間之距離可變更為另一固定值,或使用一可動攝影機來連續變化。DWC 250與一光源200中之光闌間的工作距離可取決於所用之攝影機物鏡放大率。物鏡攝影機放大率可為.333而工作距離可為69mm。
DWC 250可有三個對準位置。第一,DWC 250與物鏡245可位於一直立光學軌道255上之位置1中。在位置1中,物鏡245將頂光圈240反射於DWC 250中,其產生一準焦之第一影像,稱為影像1。第二,DWC 250與物鏡245可位於直立光學軌道255上之下方位置2中,在此位置影像1會變得模糊。在位置2,DWC 250中之光束分散鏡可接著造成第二影像之產生,稱為影像2。最終,DWC 250與物鏡245可接著位於影像1與影像2間之最終位置。在最終位置,影像1與影像2可皆同樣模糊。
現請同時參照圖4與圖4A,圖4為電腦產生之參考光學波前(無心軸光學相消)400與參考心軸光學波前(有心軸光學相消)410。圖4A說明一電腦產生之乾式鏡片波前的實例,此係在移除心軸光學波前420後所獲得。在系統對準後,所進行之第一測量可為玻璃心軸(無鏡片於其上)之光學參考測量,如實例410所示。此數據可稱為波前1並且可經儲存。接著可進行玻璃心軸(有鏡片於其上)之光學測量,此數據稱為波前2並且可經儲存。最後,可將波前1從波前2減去以產生一鏡片波前,如實例420中所示。
現請參照圖5,其表示一說明用以進行波前測量540之程序的圖片示意圖500,該測量可透過從DWC 510採集影像1 520與影像2 530而達成。在測量期間,可獲得兩個強度影像,即影像1 520與影像2 530。所用之軟體可參考由Phaseview所設計之Getwave軟體(版本1.0.9)。然而,可使用其他執行相同功能之軟體。為了說明之目的,影像1 520可稱為強度分布1而影像2 530可稱為強度分布2。這兩個強度分布影像可接著用於一計算中,該計算可基於這兩個影像之差異並在軟體內部進行。接下來,可針對測量結果建立光學波前。更具體而言,軟體利用一可稱為強度傳播方程式之通用方程式,該方程式為:
該強度傳播方程式可使用一特定演算法來執行,而使玻璃心軸或有鏡片於其上之玻璃心軸的測量得以進行,並且收集來自兩個測量的強度數據。強度數據可接著轉換為光學波前。光學波前用一光之強度與相位的方式來描述一光路徑。測得之波前可用一或多個下列者來表示:任尼克係數(Zernike coefficient,即峰至谷(「PTV」)),以及波前均方根(「RMS」,相較於平頂波)。接著進行以下兩者之波前計算,即無鏡片之玻璃心軸(波前1)的參考測量結果與有鏡片之玻璃心軸(波前2)的測量結果;兩個波前檔案(波前2與波前1)可彼此相減以獲得鏡片之光學波前值。
結論,如上所述以及如以下申請專利範圍所進一步界定者之本揭露,提供用以測量一或多個眼用裝置之物理特徵的方法與設備。
110‧‧‧步驟
120‧‧‧步驟
130‧‧‧步驟
140‧‧‧步驟

Claims (24)

  1. 用以測量眼用裝置之一物理特徵的設備,該設備包含:一用於使用自由成形技術來形成一眼用裝置之光學心軸(optic mandrel);該光學心軸包含一光學效應;一鏡片相消系統(lens cancellation system),其包含一或多個鏡片以共同相消該光學心軸之光學效應;一功能為發射一輻射波長之發射器,該輻射之方向係朝向該眼用裝置;一功能為基於所發射波長來偵測一經傳送之波前的感測器,其中該經傳送之波前的強度與相位將基於該眼用裝置之一物理特徵而有所不同,以及一與該發射器及該感測器之其中一者或兩者邏輯通訊的處理器;其中該處理器係經編程以基於該反射波前之強度與相位來傳送一邏輯訊號。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之設備,其中該光學心軸、該鏡片相消系統、該發射器與該感測器係經對準。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之設備,其中該光學心軸、該鏡片相消系統、該發射器與該感測器係設置於一軌道上。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之設備,其中該軌道係為一直立光學軌道。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之設備,其中該感測器包含一數位波前攝影機。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之設備,其中該數位波前攝影機為能夠沿兩或多個強度分布(intensity profile)之一傳送光軸移動以連續變化或變動一段距離。
  7. 如申請專利範圍第5或6項所述之設備,其中該數位波前攝影機係對振動不敏感。
  8. 如申請專利範圍第5至7項中任一項所述之設備,其中該數位波前攝影機進一步包含一光束分散鏡,以造成一第二影像產生在沿該傳送光軸之不同位置。
  9. 如申請專利範圍第5至8項中任一項所述之設備,其中該數位波前攝影機取決於一光源中之光闌(diaphragm)以及該光源與該數位波前攝影機間之工作距離而進一步包含一或多個放大鏡片。
  10. 如申請專利範圍第1至9項中任一項所述之裝置,其進一步包含一用於放置該光學心軸以與該鏡片相消系統及該發射器適當對準之運動支座。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之設備,其進一步包含一用於吸持該心軸治具(fixture)與該運動支座之真空。
  12. 如申請專利範圍第1至11項中任一項所述之設備,其進一步包含一頂光圈與一底光圈,其中該頂光圈係略小於該底光圈且位於該心軸治具頂部且未接觸該心軸,以藉由限制通過之光束來產生一物理障壁(barrier),從而定義一用於求解一強度傳播方程式之邊界條件。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之設備,其中該頂光圈可經變更以涵蓋一不同視域。
  14. 如申請專利範圍第12或13項所述之設備,其該底光圈亦可經變更以進一步改善測量之一動態範圍。
  15. 如申請專利範圍第1至14項中任一項所述之設備,其中該鏡片相消系統包含一組合件,該組合件包含三個位於一管內部的鏡片,其中一光束可通過各該鏡片並且可直立放置於該軌道。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之設備,其中該三鏡片相消系統可包括一或多個下列者:一非球面(asphere)鏡片、一平凸鏡片與一平凹鏡片以消去下列一或兩者:該成形光學心軸之散焦以及球面像差,而在後續使由該心軸透出之光能夠準直。
  17. 如申請專利範圍第1至16項中任一項所述之設備,其中該處理器即時作用以產生該眼用裝置之一或多個連續波前測量結果。
  18. 如申請專利範圍第1至17項中任一項所述之設備,其中所發射之輻射為一具有一單色波長(monochromatic wavelength)之高品質光束。
  19. 如申請專利範圍第1至19項中任一項所述之設備,其中所發射之輻射包含一約630nm至約635mm之單色波長。
  20. 一種用以獲得一眼用裝置之波前測量結果的方法,該方法包含;對準一眼用鏡片波前系統,進行一成形光學心軸之光學測量並將此一成形光學心軸之強度測量結果儲存為一強度參考檔案,進行一成形玻璃心軸(有一可已形成於其上之鏡片)之光學測量並儲存此強度檔度,使用一處理器中能夠將一個強度檔案從至少一個其他強度檔案減去之軟體,以即時獲得一鏡片之光學波前值。
  21. 如申請專利範圍第20項所述之方法,其進一步包含一以下步驟,即讓該處理器執行一強度傳播方程式與一演算法。
  22. 如申請專利範圍第20或21項所述之方法,其中強度數據可接著轉換為一光學波前。
  23. 如申請專利範圍第22項所述之方法,其中該光學波前用一光之強度與相位的方式來描述一光路徑。
  24. 如申請專利範圍第20至23項中任一項所述之方法,其中該眼用鏡片波前系統包含申請專利範圍第1至19項中任一項之設備。
TW102105239A 2012-02-10 2013-02-08 用以測量眼用裝置之波前的方法及設備 TWI591327B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201261597338P 2012-02-10 2012-02-10

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201344184A true TW201344184A (zh) 2013-11-01
TWI591327B TWI591327B (zh) 2017-07-11

Family

ID=47747828

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW102105239A TWI591327B (zh) 2012-02-10 2013-02-08 用以測量眼用裝置之波前的方法及設備

Country Status (13)

Country Link
US (1) US9459204B2 (zh)
EP (1) EP2812665B1 (zh)
JP (1) JP6181084B2 (zh)
KR (1) KR101981034B1 (zh)
CN (1) CN104094095B (zh)
AU (2) AU2013217073A1 (zh)
BR (1) BR112014019813A8 (zh)
CA (1) CA2863519C (zh)
HK (1) HK1205250A1 (zh)
RU (1) RU2626999C2 (zh)
SG (1) SG11201404516WA (zh)
TW (1) TWI591327B (zh)
WO (1) WO2013119764A1 (zh)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB201503267D0 (en) 2015-02-26 2015-04-15 Westerton Uk Ltd Tool
US10649234B2 (en) 2016-03-23 2020-05-12 Johnson & Johnson Surgical Vision, Inc. Ophthalmic apparatus with corrective meridians having extended tolerance band
CA3018545A1 (en) 2016-03-23 2017-09-28 Johnson & Johnson Surgical Vision, Inc. Power calculator for an ophthalmic apparatus with corrective meridians having extended tolerance or operation band
EP3522771B1 (en) 2016-10-25 2022-04-06 Amo Groningen B.V. Realistic eye models to design and evaluate intraocular lenses for a large field of view
US10739227B2 (en) 2017-03-23 2020-08-11 Johnson & Johnson Surgical Vision, Inc. Methods and systems for measuring image quality
US11282605B2 (en) 2017-11-30 2022-03-22 Amo Groningen B.V. Intraocular lenses that improve post-surgical spectacle independent and methods of manufacturing thereof
KR20210156233A (ko) * 2020-06-16 2021-12-24 이미지 에이아이 피티이 리미티드 건식 안과 렌즈의 광학 파워를 검출하기 위한 시스템 및 방법

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3320877B2 (ja) * 1992-12-26 2002-09-03 旭光学工業株式会社 被測定物の面形状測定方法およびその装置
US6800225B1 (en) * 1994-07-14 2004-10-05 Novartis Ag Process and device for the manufacture of mouldings and mouldings manufactured in accordance with that process
TW325744U (en) * 1993-07-21 1998-01-21 Ciba Geigy Ag Two-sided contact lens mold
US5500732A (en) * 1994-06-10 1996-03-19 Johnson & Johnson Vision Products, Inc. Lens inspection system and method
JP4405170B2 (ja) * 2003-03-28 2010-01-27 フジノン株式会社 光学素子成形型設計方法
JP2007335493A (ja) * 2006-06-13 2007-12-27 Canon Inc 測定方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法
US8318055B2 (en) 2007-08-21 2012-11-27 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Methods for formation of an ophthalmic lens precursor and lens
US8313828B2 (en) * 2008-08-20 2012-11-20 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Ophthalmic lens precursor and lens
US8317505B2 (en) * 2007-08-21 2012-11-27 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Apparatus for formation of an ophthalmic lens precursor and lens
EP2184596B1 (en) * 2007-08-27 2018-11-14 Nikon Corporation Wavefront aberration measuring device and method and wavefront aberration adjusting method
US8240849B2 (en) * 2009-03-31 2012-08-14 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Free form lens with refractive index variations
JP5625310B2 (ja) * 2009-10-20 2014-11-19 株式会社ニコン 波面収差測定方法及び波面収差測定機

Also Published As

Publication number Publication date
AU2016273907A1 (en) 2017-01-12
CA2863519C (en) 2020-03-10
KR101981034B1 (ko) 2019-05-23
TWI591327B (zh) 2017-07-11
SG11201404516WA (en) 2014-11-27
RU2014136704A (ru) 2016-03-27
KR20140125847A (ko) 2014-10-29
AU2016273907B2 (en) 2018-09-06
AU2013217073A1 (en) 2014-09-18
CN104094095A (zh) 2014-10-08
CN104094095B (zh) 2018-01-26
EP2812665A1 (en) 2014-12-17
JP2015507202A (ja) 2015-03-05
EP2812665B1 (en) 2019-11-20
US9459204B2 (en) 2016-10-04
WO2013119764A1 (en) 2013-08-15
BR112014019813A8 (pt) 2017-07-11
CA2863519A1 (en) 2013-08-15
US20130307965A1 (en) 2013-11-21
RU2626999C2 (ru) 2017-08-02
HK1205250A1 (zh) 2015-12-11
BR112014019813A2 (zh) 2017-06-20
JP6181084B2 (ja) 2017-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI591327B (zh) 用以測量眼用裝置之波前的方法及設備
US8953176B2 (en) Laser confocal sensor metrology system
USRE38839E1 (en) Methods and devices to design and fabricate surfaces on contact lenses and on corneal tissue that correct the eye's optical aberrations
US7217375B2 (en) Apparatus and method of fabricating a compensating element for wavefront correction using spatially localized curing of resin mixtures
JP2017516155A (ja) 多層加法的技術によるアイウェア・レンズの作成
US8810784B2 (en) Method and apparatus for determining a thickness profile of an ophthalmic lens using a single point thickness and refractive index measurements
JP2004507730A (ja) 光学要素の幾何学構造の伝達測定方法と装置
JP4974117B2 (ja) 眼科用品の曲率の非接触測定方法とその方法を実装した測定装置
US11154190B2 (en) Eye surface topographer

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees