TW201337412A - 背光模組 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種背光模組,其包括導光板及位於導光板一側的光源模組。所述導光板包括相互垂直的入光面及出光面。所述光源模組正對著入光面設置。所述光源模組包括複數發射光線的間隔設置的發光部。所述入光面上與發光部所對應的位置處設置有用於散射入射光線的點狀微結構。所述入光面上與二相鄰發光部之間部分所對應的位置處設置有用於會聚入射光線的點狀微結構。
Description
本發明涉及一種背光模組。
先前的背光模組通常包括一導光板以及設置在導光板一側的光源。所述光源出於節能環保的考慮大多採用了發光二極體。然而,因所述發光二極體發出的光線指向性較強,在發光二極體間距較大時容易在導光板的入光側形成複數明顯的“亮點”(hot spot),所述亮點區域不能用於提供背光從而影響了背光面板的實際出光面積。
鑒於此,有必要提供一種可減少亮點現象的背光模組。
一種背光模組,其包括導光板及位於導光板一側的光源模組。所述導光板包括相互垂直的入光面及出光面。所述光源模組正對著入光面設置。所述光源模組包括複數發射光線的間隔設置的發光部。所述入光面上與發光部所對應的位置處設置有用於散射入射光線的點狀微結構。所述入光面上與二相鄰發光部之間部分所對應的位置處設置有用於會聚入射光線的點狀微結構。
相對於先前技術,本發明所提供的背光模組藉由在入光面上對應光源的發光部的位置處設置散射光線的微結構,對應光源的非發光部的位置處設置會聚光線的微結構,以使得整個入光面上的入射光強度趨於平均從而儘量避免入光面與光源的發光部對應位置處的亮度明顯大於其他位置而造成的亮點現象。
如圖1和圖2所示,本發明實施方式所提供的背光模組1包括導光板10以及位於導光板10一側的光源模組11。該導光板10包括入光面120及出光面140。本實施方式中,所述入光面120與出光面140垂直相連。所述光源模組11正對著入光面120設置。所述光源模組11發射的光線經由所述入光面120進入導光板10並在導光板10內部充分混合後由所述出光面140射出。
本實施方式中,所述導光板10還為矩形平板。所述導光板10的材料為透明材料,例如:聚甲基丙烯酸甲酯樹脂、甲基丙烯酸樹脂、聚丙烯酸樹脂、聚碳酸酯或聚乙烯樹脂等,並採用射出成型工藝製作。
本實施方式中,所述光源模組11包括一燈條110及複數設置在所述燈條110上作為發光部的發光二極體112。所述燈條110為細長狀板條,所述發光二極體112按照相等間距設置在所述燈條110朝向所述入光面120的一側上。
所述入光面120上設置有複數用於調整入射光線強度的點狀微結構122。所述微結構122包括由入光面120嚮導光板10內側沿垂直入光面120的方向凹陷的點狀凹坑124及由入光面120向外突出的點狀凸起126。所述凹坑124能夠起到散射光線的作用,從而減弱由凹坑124處進入到導光板10內部的光線強度。所述凹坑越深所散射的光線就越多,所起到的減弱入射光線的作用就越明顯。所述凸起126能夠起到類似於凸透鏡般會聚光線的作用,從而可以增加由凸起126處進入到導光板10內部的光線強度。所述凸起126越高所會聚的光線越多,所起到的增強入射光線的作用就越明顯。所述微結構122根據燈條110上發光二極體112所處的位置進行排布,排布的原則為減少所述入光面120與發光二極體112對應部分的入射光線強度而增強所述入光面120位於相鄰發光二極體112之間部分的入射光線強度,以使得整個入光面120上的入射光強度趨於平均從而儘量避免入光面120與發光二極體112對應部分的亮度明顯大於其他部分而造成的亮點現象。
如圖3所示,所述入光面120與每個發光二極體112對應的部分定義為亮區域121。每個亮區域121內設置有所述凹坑124。所述入光面120與相鄰每二發光二極體112之間對應的部分,即每二亮區域121之間的部分定義為暗區域123。每個暗區域123內設置有所述凸起126。所述凹坑124的深度與所處位置能接收到的發光二極體112所發出的光線強度成正比。所述凸起126的高度與所處位置能接受到的發光二極體112所發出的光線強度成反比。所述入光面120上某位置處的凹坑124排布密度與該位置所能接收到的發光二極體112所發出的光線強度成正比。所述入光面120上某位置處的凸起126排布密度與該位置所能接收到的發光二極體112所發出的光線強度成反比。在本實施方式中,所述發光二極體112的發光強度由中心部分分別向兩側逐漸減弱。對應地,每個亮區域121內,所述入光面120上與發光二極體112的中心部分正對的凹坑124最深,其他凹坑124的深度由最深凹坑124處分別向兩側逐漸減少。每個暗區域123內,所述入光面120上與相鄰發光二極體112之間的中心部分正對的凸起126最高,其他凸起126的高度由最高凸起126處分別向兩側逐漸減少。每個亮區域121內所述入光面120上與發光二極體112的中心部分正對區域的凹坑124的排布密度最高並由此向兩側逐漸減少。每個暗區域123內,所述入光面120與相鄰發光二極體112之間的中心部分正對的凸起126的排布密度最高並由此向兩側逐漸減少。
如圖4所示,在另一實施方式中,所述凹坑124的延展方向並不垂直於入光面120,而是以所對應發光二極體112的發光部分為中心呈發散狀分佈,從而便於更好地針對發光二極體112所發出的光線進行發散。所述凸起126的延展方向指向最鄰近的發光二極體112的發光部分中心,從而便於更好地會聚發光二極體112所發出的光線。
所述微結構122與導光板10在模具內一體成型,而不需要二次加工。因此,在模具設計時可根據光源的發光強度分佈來調整凹坑124深度、凸起126高度以及凹坑124和凸起126的分佈密度,使得所述導光板10起到平均各種發光強度分佈的光源的作用。可以理解的是,所述凹坑124及凸起126的具體形狀不受限制,可以為圓柱形、圓錐形或棱錐形。在本實施方式中,所述凹坑124及凸起126為圓柱形。
本技術領域的普通技術人員應當認識到,以上的實施方式僅是用來說明本發明,而並非用作為對本發明的限定,只要在本發明的實質精神範圍之內,對以上實施例所作的適當改變和變化均落在本發明要求保護的範圍之內。
1...背光模組
10...導光板
11...光源模組
110...燈條
112...發光二極體
120...入光面
140...出光面
121...亮區域
123...暗區域
122...微結構
124...凹坑
126...凸起
圖1係本發明實施方式所提供的背光模組的結構示意圖。
圖2係圖1中導光板的入光面上微結構的分佈示意圖。
圖3係圖2中導光板沿III-III線的剖視圖。
圖4係本發明另一實施方式所提供的背光模組的結構示意圖。
120...入光面
121...亮區域
123...暗區域
124...凹坑
126...凸起
Claims (11)
- 一種背光模組,其包括導光板及位於導光板一側的光源模組,所述導光板包括相互垂直的入光面及出光面,所述光源模組正對著入光面設置,所述光源模組包括複數發射光線的間隔設置的發光部,所述入光面上與發光部所對應的位置處設置有用於散射入射光線的點狀微結構,所述入光面上與二相鄰發光部之間部分所對應的位置處設置有用於會聚入射光線的點狀微結構。
- 如申請專利範圍第1項所述之背光模組,其中,所述用於散射入射光線的點狀微結構為點狀凹坑。
- 如申請專利範圍第2項所述之背光模組,其中,所述點狀凹坑的形狀選自圓柱形、圓錐形及棱錐形的一種。
- 如申請專利範圍第2項所述之背光模組,其中,所述點狀凹坑的深度與點狀凹坑所處位置對應的入射光線的強度成正比。
- 如申請專利範圍第4項所述之背光模組,其中,所述點狀凹坑的排布密度與點狀凹坑所處位置所能接收到的入射光線強度成正比。
- 如申請專利範圍第1至5任一項所述之背光模組,其中,所述用於會聚入射光線的點狀微結構為點狀凸起。
- 如申請專利範圍第6項所述之背光模組,其中,所述點狀凸起的形狀選自圓柱形、圓錐形及棱錐形的一種。
- 如申請專利範圍第6項所述之背光模組,其中,所述點狀凸起的高度與點狀凸起所處位置對應的入射光線的強度成反比。
- 如申請專利範圍第8項所述之背光模組,其中,所述點狀凸起的排列密度與點狀凸起所處位置所能接收到的入射光線強度成反比。
- 如申請專利範圍第9項所述之背光模組,其中,所述點狀微結構與導光板在模具內一體成型。
- 如申請專利範圍第9項所述之背光模組,其中,所述光源模組包括一燈條,所述發光部為發光二極體,所述發光二極體按照相等間距設置在所述燈條朝向入光面的一側上。
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