TW201329493A - 顯示裝置及其複合光學膜及複合光學膜的製造方法 - Google Patents
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Abstract
一種複合光學膜，設置於一基板，基板具有一第一區域及一第二區域，第一區域鄰設於第二區域，複合光學膜包括一第一光學膜及一第二光學膜。第一光學膜設置於一區域；第二光學膜設置於第一光學膜上及第二區域之上。本發明亦揭露一種顯示裝置及複合光學膜的製作方法。
Description
本發明係關於一種顯示裝置及其複合光學膜及複合光學膜的製造方法。
許多電子產品在現代人的生活中已是不可或缺的日常用品，且因應市場的激烈競爭以及消費者的要求不斷提高，電子產品的外觀也成為業者設計的重要考量之一。
請參照圖1所示，其為一種習知之光學膜1示意圖。於此，光學膜1例如為行動通訊裝置中的光學膜。因應設計的考量，習知之光學膜1係設置於一基板10上，並包含複數相互疊合的光學膜層11、12。其中，該等光學膜層11、12例如可分別具有抗反射、或濾光等不同功能。
然而，於習知技術中，並無法因應不同區域的不同需求，來形成不同功能的光學膜層11、12。舉例來說，在基板10上可分為第一區域A1以及第二區域A2，若欲於第二區域A2形成具有抗反射功能的光學膜層11、12，則於習知技術中，光學膜層11除了會設置於第二區域A2之外，還會設置在周圍的第一區域A1，以形成一平坦的膜層；而光學膜層12也是如此，均會設置在第一區域A1及第二區域A2。
因此，習知的光學膜1於不同的區域中所具有的光學性質是相同的，無法因應不同區域具有不同的光學功能，而僅具有單一光學功能。
有鑑於上述課題，本發明之目的為提供一種可具有複合光學功能的顯示裝置及其複合光學膜及複合光學膜的製造方法。
為達上述目的，依據本發明之一種複合光學膜，設置於一基板，基板具有一第一區域及一第二區域，第一區域鄰設於第二區域，複合光學膜包括一第一光學膜及一第二光學膜。第一光學膜設置於第一區域；第二光學膜設置於第一光學膜上及第二區域之上。
為達上述目的，依據本發明之一種顯示裝置，包含一裝置本體及一保護基板。保護基板設置於裝置本體的一側，保護基板具有一基板及一複合光學膜。基板具有一第一區域及一第二區域，第一區域鄰設於第二區域。複合光學膜具有一第一光學膜及一第二光學膜，第一光學膜設置於第一區域，第二光學膜設置於第一光學膜上及第二區域之上。
為達上述目的，依據本發明之一種複合光學膜的製造方法包含形成一第一光學膜於一基板的一第一區域，第一區域鄰設於一第二區域周圍；以一濕式製程形成一第二光學膜於第一光學膜上及第二區域之上。
承上所述，本發明之顯示裝置的複合光學膜係將一第一光學膜形成於一基板的一第一區域，再以一濕式製程形成一第二光學膜於第一光學膜上及第二區域之上。藉此，本發明之複合光學膜可因應基板上不同的第一區域及第二區域，而具有不同的光學功能，故能增加複合光學膜的應用性，進而增加產品競爭力。
以下將參照相關圖式，說明依本發明較佳實施例之一種顯示裝置及其複合光學膜及複合光學膜的製造方法，其中相同的元件將以相同的元件符號加以說明。
請參照圖2、圖3A及圖3B所示，其中圖2為本發明較佳實施例之複合光學膜之製造方法的流程步驟圖，圖3A及圖3B為本發明較佳實施例之複合光學膜的製作過程示意圖。本發明較佳實施例之複合光學膜2之製造方法包含步驟S01及步驟S02。
請參照圖2及圖3A，步驟S01為形成一第一光學膜21於一基板41的一第一區域A1，第一區域A1鄰設於一第二區域A2。基板41的材質包含高分子聚合物(例如聚對苯二甲酸乙二酯(PET))、金屬或玻璃。第一光學膜21的材質包含氧化矽、氧化鋁或氟化鎂或其組合，其中氧化矽可以為二氧化矽(SiO2)、氧化鋁可以為三氧化二鋁(Al2O3)、氟化鎂可以為二氟化鎂(MgF2)。而第一光學膜21的折射率可介於1.3至1.7之間。又，第一光學膜21例如可利用乾式製程或濕式製程形成，乾式製程例如物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)及化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition,CVD)等，濕式製程例如為浸泡塗佈(dip coating)、狹縫塗佈(slit coating)、旋轉塗佈(spin coating)及噴霧塗佈(spray coating)等，第一光學膜21的形成方式於此不予以限制。而為了形成第一光學膜21位於第一區域A1的圖案，例如可利用遮罩方式遮擋第二區域A2或利用可撥膠(peelable mask)技術來形成。再者，如欲形成高解析度的圖案於第一區域A1，亦可使用黃光製程。
如圖2及圖3B所示，步驟S02為以一濕式製程形成一第二光學膜22於第一光學膜21上及基板41的第二區域A2。濕式製程包含浸泡塗佈、狹縫塗佈、旋轉塗佈及噴霧塗佈等，於此不予以限制。第二光學膜22的材質包含氮化矽、氧化鈦、氧化鈮或氧化鉭或其組合，其中氮化矽可以為四氮化三矽(Si3N4)、氧化鈦可以為二氧化鈦(TiO2)、氧化鈮可以為五氧化二鈮(Nb2O5)、氧化鉭可以為五氧化二鉭(Ta2O5)。而第二光學膜22的折射率可介於1.8至2.4之間。因此，可利用濕式製程並藉由其流平之特性來形成第二光學膜22，並可使第二光學膜22形成一平坦化層，也就是第二光學膜22的上表面為平坦的。再者，於本實施例中，複合光學膜2位於第一區域A1之第一光學膜21及第二光學膜22的厚度加總H1+H2，與複合光學膜2位於第二區域A2之第二光學膜22的厚度H3差係小於H1+H2的20%，且第一光學膜21的厚度H1及第二光學膜22的厚度H2或H3可介於1奈米至1微米之間，而H1、H2或H3較佳實施例範圍則為1奈米至300奈米之間。
因此，本實施例之複合光學膜2位於第一區域A1的色度、穿透率、反射率或折射率可與位於第二區域A2不同。於此，第一區域A1可為高反射區，在可見光(380~780nm)下，反射率約可達60%，可以搭配裝飾鍍膜技術之應用；而第二區域A2係可為抗反射區，在可見光(380~780nm)下，反射率約可低達1.2%。藉此，本實施例之複合光學膜2係可因應第一區域A1及第二區域A2所需的不同光學功能，而分別形成不同功能的光學膜。
如圖4A至圖4B所示為本發明較佳實施例之複合光學膜的另一態樣製作過程示意圖。同樣的，先形成第一光學膜21a於基板41a的第一區域A1，第一區域A1可圍設第二區域A2，或第二區域A2圍設第一區域A1。於此，以第一區域A1圍設於第二區域A2的周圍為例。接著，以濕式製程形成第二光學膜22a於第一光學膜21a上及基板41a的第二區域A2之上。再者，同樣的，於本實施例中，複合光學膜2a位於第一區域A1之第一光學膜21a及第二光學膜22a的厚度加總H1+H2，與複合光學膜2a位於第二區域A2之第二光學膜22a的厚度H3差係小於H1+H2的20%，且第一光學膜21a的厚度H1及第二光學膜22a的厚度H2或H3可介於1奈米至1微米之間，而H1、H2或H3較佳實施例範圍則為1奈米至300奈米之間。
因此，本實施例之複合光學膜2a位於第一區域A1的色度、穿透率、反射率或折射率可與位於第二區域A2不同。
另外，請參照圖5A所示，其為本發明較佳實施例之複合光學膜的另一態樣示意圖。複合光學膜2b更可形成一第三光學膜23於第一區域A1之第二光學膜22a之上，而第三光學膜23可與第一光學膜21a的材質相同或不相同。因此，可藉由第三光學膜23來加強第一區域A1的光學功能，以增加複合光學膜2b的應用範圍。
又，請參照圖5B所示，其為本發明較佳實施例之複合光學膜的又一態樣示意圖。複合光學膜2c更可形成一第四光學膜24於第一區域A1之第三光學膜23上及第二區域A2的第二光學膜22a之上。而第四光學膜24可與第二光學膜22a的材質相同或不相同，藉由第四光學膜24可再加強第二區域A2的光學功能。
因此，依需求第一區域A1及第二區域A2可形成複數的光學膜。複數光學膜的各層光學膜形成位置可以先於第一區域A1形成光學膜，再形成同時覆蓋第一區域A1及第二區域A2的光學膜，並重複此順序疊構而成。而複數光學膜的各層光學膜疊構順序亦可穿插先於第二區域A2形成光學膜，再形成同時覆蓋第一區域A1及第二區域A2的光學膜。因此，複數光學膜的疊構方式於此不予以限制。
請參照圖6所示，其為本發明較佳實施例之顯示裝置的示意圖。顯示裝置3例如可為一觸控顯示裝置、一液晶顯示裝置、一有機發光二極體顯示裝置或一電子紙顯示裝置。顯示裝置3包含一裝置本體31及一保護基板4，保護基板4具有基板41a及複合光學膜2d。於此，複合光學膜2d可以採用複合光學膜2a、2b或2c的方式形成，則保護基板4可成為一裝飾玻璃，即於第一區域A1形成高反射區，其對應顯示裝置之非主動顯示區(black matrix area)，在可見光(380~780nm)下，反射率約可達60%，可以搭配裝飾鍍膜技術之應用；而第二區域A2係形成抗反射區，其對應顯示裝置之主動顯示區(active area)，在可見光(380~780nm)下，反射率約可低達1.2%。保護基板4可再與裝置本體31(例如為觸控顯示面板或顯示面板)連接，以成為例如行動通訊裝置、觸控行動通訊裝置或觸控平板電腦等的顯示裝置。
請參照圖7所示，其為本發明較佳實施例之顯示裝置的另一態樣示意圖。於此，顯示裝置3a例如可為行動通訊裝置的顯示裝置，則第一區域A1的複合光學膜2e例如可為紅外光(波長大於700奈米)接收區，而第一區域A1之紅外光穿透率大於90%，以作為手機紅外線接收孔。位於第二區域A2的複合光學膜2e可為抗反射區，第二區域A2反射率約為2.7%。於此，複合光學膜2e可以採用複合光學膜2a、2b或2c的方式形成。再者，更可有一第三區域(圖未表示)，圍設於第二區域A2的周圍以搭配裝飾鍍膜技術之應用。藉此，可增加複合光學膜2e的應用範圍。
綜上所述，本發明之顯示裝置的複合光學膜係將一第一光學膜形成於一基板的一第一區域，再以一濕式製程形成一第二光學膜於第一光學膜上及基板的第二區域之上。藉此，本發明之複合光學膜可對應基板上不同的第一區域及第二區域，而具有不同的光學功能，故能增加複合光學膜的應用性，進而增加產品競爭力。
以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本發明之精神與範疇，而對其進行之等效修改或變更，均應包含於後附之申請專利範圍中。
1．．．光學膜
10、41、41a．．．基板
11、12．．．光學膜層
2、2a～2e．．．複合光學膜
21、21a．．．第一光學膜
22、22a．．．第二光學膜
23．．．第三光學膜
24．．．第四光學膜
3、3a．．．顯示裝置
31．．．裝置本體
4．．．保護基板
A1．．．第一區域
A2．．．第二區域
H1～H3．．．厚度
S01～S02．．．本發明之複合光學膜之製造方法的流程步驟
圖1為一種習知之光學膜示意圖；
圖2為本發明較佳實施例之複合光學膜之製造方法的流程步驟圖；
圖3A及圖3B為本發明較佳實施例之複合光學膜的製作過程示意圖；
圖4A及圖4B為本發明較佳實施例之複合光學膜的另一態樣製作過程示意圖；
圖5A至圖5B為本發明較佳實施例之複合光學膜的不同態樣示意圖；
圖6為本發明較佳實施例之顯示裝置的示意圖；以及
圖7為本發明較佳實施例之顯示裝置的另一態樣示意圖。
2．．．複合光學膜
21．．．第一光學膜
22．．．第二光學膜
41．．．基板
A1．．．第一區域
A2．．．第二區域
H1～H3．．．厚度
Claims (20)
- 一種複合光學膜，設置於一基板，該基板具有一第一區域及一第二區域，該第一區域鄰設於該第二區域，包括：一第一光學膜，設置於該第一區域；以及一第二光學膜，設置於該第一光學膜上及該第二區域之上。
- 如申請專利範圍第1項所述之複合光學膜，其中位於該第一區域之該第一光學膜及該第二光學膜的厚度加總與位於該第二區域之該第二光學膜的厚度差係小於該第一區域之該第一光學膜及該第二光學膜的厚度加總的20%。
- 如申請專利範圍第1項所述之複合光學膜，其中該複合光學膜於該第一區域之光學特性係與於該第二區域不同。
- 如申請專利範圍第1項所述之複合光學膜，其中該第一光學膜的厚度介於1奈米至1微米之間，該第二光學膜的厚度介於1奈米至1微米之間。
- 如申請專利範圍第1項所述之複合光學膜，其中該第二光學膜為一平坦化層。
- 如申請專利範圍第1項所述之複合光學膜，其中該第二光學膜係以濕式製程形成。
- 如申請專利範圍第1項所述之複合光學膜，更包含：一第三光學膜，設置於該第一區域或該第二區域之該第二光學膜之上。
- 一種複合光學膜的製造方法，包含：形成一第一光學膜於一基板的一第一區域，該第一區域鄰設於一第二區域；以及以一濕式製程形成一第二光學膜於該第一光學膜上及該第二區域之上。
- 如申請專利範圍第8項所述之製造方法，更包含：形成一第三光學膜於該第一區域或該第二區域之該第二光學膜之上。
- 一種顯示裝置，包括：一裝置本體；以及一保護基板，設置於該裝置本體的一側，該保護基板包括：一基板，具有一第一區域及一第二區域，該第一區域鄰設於該第二區域；及一複合光學膜，具有一第一光學膜及一第二光學膜，該第一光學膜設置於該第一區域，該第二光學膜設置於該第一光學膜上及該第二區域之上。
- 如申請專利範圍第10項所述之顯示裝置，其中位於該第一區域之該第一光學膜及該第二光學膜的厚度加總與位於該第二區域之該第二光學膜的厚度差係小於該第一區域之該第一光學膜及該第二光學膜的厚度加總的20%。
- 如申請專利範圍第10項所述之顯示裝置，其中該複合光學膜於該第一區域之光學特性係與於該第二區域不同。
- 如申請專利範圍第10項所述之顯示裝置，其中該第一區域圍設該第二區域。
- 如申請專利範圍第13項所述之顯示裝置，其中該第一光學膜的折射率介於1.3至1.7之間。
- 如申請專利範圍第13項所述之顯示裝置，其中該第二光學膜的折射率介於1.8至2.4之間。
- 如申請專利範圍第10項所述之顯示裝置，其中該第二區域圍設該第一區域。
- 如申請專利範圍第10項所述之顯示裝置，其中該第一光學膜的厚度介於1奈米至1微米之間，該第二光學膜的厚度介於1奈米至1微米之間。
- 如申請專利範圍第10項所述之顯示裝置，其中該第二光學膜為一平坦化層。
- 如申請專利範圍第10項所述之顯示裝置，其中該第二光學膜係以濕式製程形成。
- 如申請專利範圍第10項所述之顯示裝置，其中該複合光學膜更具有：一第三光學膜，設置於該第一區域或該第二區域之該第二光學膜之上。
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