TW201250267A - Apparatus and method for identifying a defect in an electronic circuit having periodic features and computer-readable medium thereof - Google Patents

Apparatus and method for identifying a defect in an electronic circuit having periodic features and computer-readable medium thereof Download PDF

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Description

201250267 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於對電子裝置進行電氣檢查之領域;詳細而言,本 發明係關於對液晶(Liquid Crystal ; LC)顯示器以及有機發光二 極體(Organic Light Emitting Diode ; OLED)顯示器之檢查之系 統,此系統係用於檢查、缺陷偵測以及影像處理技術。 【先前技術】 液晶顯示器(Liquid Crystal Display ;以下簡稱「LCD」)面板包 含液晶,該等液晶呈現出與電場相關之光調變特性。液晶顯示器 面板最常使用於各種裝置中顯示影像及其他資訊,包括傳真機、 行動電話、平板電腦、筆記型電腦螢幕及大螢幕高清晰度電視。 主動矩陣式LCD面板之複雜分層式結構係由如下若干功能層組 成:一或多層偏光膜;一包含多個薄膜電晶體之薄膜電晶體(Thin Film Transistor ;以下簡稱「TFT」)玻璃基板;儲存電容器;畫素 電極及互連佈線;'一濾色片玻璃基板,其包含一黑色矩陣、一濾 色片陣列及一透明共用電極;由聚醯亞胺製成之一定向膜;以及 實際液晶材料,其包含塑膠/玻璃間隔片(spacer)以維持恰當之 LCD單元厚度。 LCD面板係在一潔淨的環境中於高度受控之條件下製造,以使 生產良率最大化。然而,某些LCD可能會因為在組裝產品的過程 中產生瑕庇而必須被丟棄。 為提高LCD面板之生產良率,在LCD面板之整個製造過程期 間執行多個檢查及修復步驟。在該等步.驟中,最為關鍵乏檢查步 201250267 驟其中之一係為陣列測試,係在TFT陣列製造過程結束時所執行 之電性檢查步驟。 目前在市場上存在若干種傳統陣列測試技術可供LCD製造商使 用,其中最常被使用者為如美國專利4,983,91 1中所述採用光電變 換器(調變器)來進行電性LCD檢查,該美國專利係以引用方式 全文併入本文中。一個典型之實例性LCD檢查裝置係為陣列檢驗 器(下稱「Array Checker」),其可自設址於美國加利福尼亞州聖 何西市(San Jose, California, USA)之 Photon Dynamics, Inc.(隸 屬於Orbotech公司)商購獲得。具體而言,上述Array Checker 檢查系統採用被稱為「VOLTAGE IMAGING®」之方法,該方法利 用基於液晶之反射性調變器來量測各別TFT陣列畫素上之電壓。 在藉由Array Checker檢查TFT陣列時,對受試TFT面板施加驅 動電壓樣板(voltage pattern ),並藉由將上述光電調變器定位於距 離受試TFT陣列很近之位置(通常大約為相距50微米),使其接 受高電壓方波電壓樣板,而量測所得到之面板畫素電壓。舉例而 言,施加至調變器之電壓方波樣板之振幅可為300V,且頻率為60 Hz。由於檢查系統之光電調變器靠近被施以驅動電壓之受試TFT 陣列之畫素,因而於光電調變器兩端形成電勢,該電勢迫使調變 器中之液晶改變其與電場相關之空間定向,進而局部地改變穿過 調變器之透光率。換言之,調變器之透光率可表示其附近之陣列 畫素上之電壓。為擷取已改變之調變器透光率,以光脈衝來照射 調變器,且將由承受面板電壓之調變器所反射之光成像於電壓成 像光學子系統(voltage imaging optical subsystem ;以下簡稱 「VIOS」)照相機上,由該照相機獲取所得到之影像並將其數位 201250267 =而言’上述光脈衝之持續時間可為丨毫秒。美國專利第 (,號闡述了—種用於將原始電壓影像轉換成⑽書素圖 C pixel map )並利用該書素圖自 美國專利《制方式併之實例㈣誠方法.該 =基於電壓成像之缺陷_方法利用所謂的㈣圖該㈣ 述光電調㈣及彻8照_形成之原始影像之降頻採 (d°wn-sampled ve_)°降頻採樣通常根據面板之LCD :素之尺寸、位置及幾何形狀而執行,且所得到之缺咖之精 度會顯者地遭讀查系統之光學校準之不準4度以及其他誤差 (例如玻璃旋轉誤差、系統級偏差等)之影響。 【發明内容】 本發明所涉及之方法及系統能夠實質上排除習知電子電路(包 括PCB、半導體電路(例如’在晶圓上))尤其是LCD及0LEDTFT 陣列之檢查技賴帶來的-❹個上述或其他的問題。 根據本發明之-態樣,提供一種用於辨識具有週期性特徵之一 電子電路中之-缺陷之裝置。該裝置包含—照相機及—影像處理 糸統。㈣相制於取得該電子電路之n該影像處理系統 包含-處理單元及-記憶體。該影像處理系統用以:自該昭相機 接收該電子電路之該影像;藉由該電子電路之週期性特徵之至少 -對角線尺寸’對所接收之該電子電路之該影像執行—對角線位 移’進而形成該電子電路之—已位移影像;利用該電子電路之該 影像以及該電子電路之該已位移影像來辨識_候選缺陷;利用位 於已辨識之該候選缺陷附近之已選擇之至少一個不包含缺陷之影 201250267 =域’計算該電子電路之—區域之—或多個局部無缺陷參考(令 影像;以及利用已計算之該電子電路之該金色影〜 候選缺陷之該電子帝啟$匕δ邊 在一缺陷。私子电路像之一區域’確定該電子電路中存 之另'態樣’提供一種用於辨識具有週期 ,子电路中之-缺陷之方法。該方法包含下列步驟:a — 相機取得該電子電路一 徵之至少-對角線尺寸,二 電子電路之週期性特 對角之該1子電路之該影像執行— ’進而形成該電子電路之—已位移影像々 子電路之該影像以及該電子電路之該已位移影像來辨識該電 陷;d.彻最可能接近已辨識之該 狀候選缺 影像區域,計料擇之至少-個 e·以及利討電子Γ—區域之—❹個局部金色影像; 之該電子ίΓ 計算之絲色料及妨_選缺陷 陷。之—㈣,確㈣電子電-存在^ 記憶體之—影像處理系統執係由包含一或多個處理單元及― 根據本發明之另—態樣,提供一人— 記錄媒體。該組指令在由 ::二::腦可讀取 行時’使該-或多個處理單元執r二 ^個處理單元執 之—電子電路t之—奸,仃―種用於辨識具有週期性特徵 -照相機取得該電子^之該方法包含下財驟、利用 特徵之至少—對:—知像;b·藉由該電子電路之週期性 —對角線位移,進而形成該電路之該影像執行 于窀路之一已位移影像;C·利用該 201250267 電子電路之該影像以及該電子電路之該已位移影像來辨識一候選 缺陷;d.利用最可能接近已辨識該候選缺陷之己選擇之至少一個 影像區域,計算該電子電路之—區域之—或多個局部金色影像; e·以及利㈣電子電路之已計算之該—或多個局部金色影像及包 含該候選缺陷之該電子電路之該影像之—區域,確定該電子電路 中存在一缺陷。上述三個步驟(步驟b至d)係由包含該一或多個 處理單元及-記憶體之-影像處理系統執行。 一光電變換器,其中該電 換器成像於該照相機上而 該裝置可包含位於該電子電路附近之 子電路之一電壓影像係藉由使該光電變 取得》 ”他改良可包含以下方式:定位—成像路徑中之各缺陷, t定位之該成像路徑之該等缺陷與該電壓影像中之已確定之一缺 ^:父又檢查,,以自該電子電路之缺陷偵測中排除位於該電壓 〜中且對應於錢像路徑之該等缺陷之區域。 其他改良可包含藉由以下方式來定位該成像 I利用-低通(例如,高斯)渡波器對該 =專缺 執行摺積運算以獲得―已摺 。之-&準影像 摺__之1對差校準影像與該已 定(—kling)該差異影像。 4像,亚以臨界值限 其他改良可包含藉由以丁士』+ 遥缺陷:對該電子電 行減法運算,並對所 ^ 方式來辨識該候 之邊影像與S玄電子電路t 4 p y m 移影像執 钟到之-ϋ異影像進行臨界值限定。 8 201250267 ’使用一低通(例如, 摺積運算,並對已摺積 其他改良可包含於執行臨界值限定之前 冋斯)m對所得到之該差異影像執行 之該差異影像執行臨界值限定運算。 :、他改良可包含藉由以下方式確定該電子電路中之該缺 ::屯子電路之該區域之已計算之該一或多個局部益缺陷 影像,對該候選缺_近之—感興趣影像區域執行臨界 其他改良可包含以下方式:藉由將該候選缺 影像區域與該雷早带趣 〜^之已計#之該局部金色影像間之 心、一臨界餘比較’以確定該電子電料之該缺陷。 其他改良可包含以下方式:藉由將該候選缺陷 =與已計算之-第-金色影像及已計算之-第二金色影: 目t 乂末確^電子電路_之該缺陷,已計算之該第—金色影像 包含複數個最小強度值’已料之該第二金色影像包含複數個最 旦大強度值,其中該等最小強度值及該等最大強度值係針對該金色 影像之複數個執行個體(丨nstance)而確定。 以下說明將局部地闡述關於本發明之其他態樣,該等其他態樣 根據本a明而部分地顯而易見’或可藉由實踐本發明而得知, 可猎由以下詳細說明及隨附巾請專利範圍中具體指出之元件以及 各種7L件與祕之組合來理解及達成本發明之各種態樣。 應理解’上述說明及以下說明二者僅為實例性及解釋性說明, 而非曰在以任何方式限制所主張之發明或其應用。 201250267 【實施方式】 在以下詳細說明中,將參照一或多個附圖,在該一或多個附圖 中’相同之功能元件由相同之編號表示。附圖係僅為闡釋本發明, 而非用以限制本發明之具體實施例及實施。以下將詳盡地闡述此 等實施方式,以使熟習此項技術者能夠實踐本發明,且應理解者, 在不背離本發明之範圍及精神之條件下,可利用其他實施方式並 可對各種元件作出結構改變及/或替代。因此,以下詳細說明不應 被視為具有限制意義。此外’如上所述本發明之各種實施例可藉 由軟體形式實施於電腦上,且能以專用硬體形式或以軟體與硬體 相結合之形式來實施。 本發明所提供用於在LCD面板中偵測缺陷之系統及相關方法之 各種悲樣,該等系統及相關方法不受檢查系統之光學校準不準確 以及其他誤差(例如玻璃旋轉誤差系統級偏差等)影響。因此, 根據本發明各種實施例’本發明m统及方法將提供相較對 應基於電壓圖之傳統方法更佳之缺_測效能。 根據本發明之—或多個實施例,缺陷偵測係根據原始vI〇s照相 機y像來執行’包含权準影像、量測影像及電壓影像。電邀影像 Y自;k準衫像及置測影像計算出而不將其換算成座標系(如 “美國專利第7,212,G24號t所述之傳統缺㈣測方法)。校準 影像中代表器之損壞區域之區域係藉由眾所習知之影像不均 勻性偵測方法所辨識出,須自LCD缺陷偵測,排除該等區域。 他各態樣提供以下系統及方法:利用—高㈣波器或其 低通錢器對原始校準影像與該影像之權積運算之結果間之差 201250267 異之絕對值進行料值限定。_轉明之m时施例,於 VIOS照相機影像中可能之LCD缺陷之區域(其可包含但不限於 如點、點集、線、色差缺陷等影像特徵)係藉由利用—或多個以 下1明步琢而被辨識出及分類,該等發明步驟將結合第1圖加以 闡述’第i圖用於描繪根據本發明—或多個實施例之原始電壓影 像缺陷偵測演算法之流程圖100。 根據本發明之-或多個實施例,在步驟104中,藉由檢查裝置 之恰好-個可重複元件之對角線尺寸,使上述彻8照相機所產生 之電壓影像進行對角線位移,該對角線位移等於使上述影像藉由 上述-個可重複元件之寬度執行水平位移以及上述—個可重複元 件之高度執行垂直位移之組合。根據本發明之—或多個實施例, 好驟103 +,藉由以原始校準影像1〇1來正規化(劃幻原始 量測影像102,以確定電壓影像。 在本發明之一或多個實施例中,端視所檢查之電子裝置之結構 而定’上述-個可重複元件可為—單個LCD畫素,倘若電性及/ 或幾何重複單位大於-單個畫素時,可為―組LCd畫素。應注音 者,本發明並不限制於檢查具有LCD畫素之電子裝置,因= 視所檢查之電子裝置之可重複結構之類型及特性㈣,上述可重 複元件可係、為所檢查之電子裝置之任何可重複結構。同樣,本發 明並不僅限制於使電㈣像藉由恰好—個可重複元件之對角線二 寸’執行對祕位移。在_或多個實施财,該影像可藉由一第 -數目之可重複元件執行水平地位移,並藉由—第二數目之可重 複7L件執行垂直地位移’其中可重複元件之該第—數目及該第二 201250267 數目可為任意整數(包括零)。因此,在本發明之上下文中所用之 術語「對角線」旨在亦涵蓋所有此種位移。同樣,上述位移可以 一次對角線運動或以連續之水平運動及垂直運動而達成,該水平 運動及垂直運動可按任何順序執行。 應注思者’在大多數電壓成像檢查系統中,由照相機產生 之電壓影像中之已成像LCD畫素之間距不為vios感測器之畫素 尺寸之整數倍(此VIOS感測器係用於產生上述電壓影像)。因此, 在本發明之一或多個實施例中,上文所述之對角線影像位移應以 次畫素(sub-pixel )精確度來執行,此使用方法為此領域之技術者 所習知。 根據本發明之一或多個實施例,在第1圖所示之步驟105中, 自原始電壓影像減去該電壓影像之已位移複本。熟f此項技術者 可理解,上述自原始電壓影像減去已對角線位移之電壓影像之減 法運算’將有效地自所得到之影像中移除由該等電壓影像之重複 (週期性)特徵(例如LCD畫素及與其相連接之驅動線及定址線 (貧料線及閘極線))所造成之訊號,進而留下起因於非週期性缺 陷之強烈訊號。熟f此項技術者可理解,由於藉由恰好—個週期 h件之對角線尺寸執行影像位移,檢查裝置之週期性特徵將於 原始電壓影像與已位移影像之實質上相同之位置形成實質上 =同之心虎。由於實質上相同之週期性訊號在上述二影像中相交 登對上述二影像執行減法運算將使性訊倾抵消。相反的, 2週Μ特微(例如缺陷)將不會因位移及減法運算而被抵消, 將於所件影像中形成極性相反之二假像(artifact)。來自非週期 12 201250267 性特徵之上述二假像(候選缺陷斑點及其複本)以向量代 =,彼此相對替換,如第2圖中之編號4所示提象 树明候選缺_顺術之-實施例。在 七1代表所/射s式面板之Lm责冬 夕佥丢,之咖畫素,小正方形2代表VI〇S照相 =畫素,域4連制料狀相同畫素。_3财 陷斑點及其已對角線位移之複本。 、玦 >'、、Γ。者根據本發明一或多個實施例之對角線影像位移容 早個位移來_電壓影像中所有可能之缺陷(包括垂直(水 :)線缺陷)區域,而假若僅執行垂直(水平)影像位移,則該 寺區域將不會被偵測出。 、 根據本發明之—❹個實施例’在對上述影像執行減法運算之 t去在弟1圓所示之步驟106中,藉由根據此項技術中之通常知 識者所習知之技術利用高斯濾波器或其他低通渡波 執行摺積運算’使所得之差異影像平穩。 像 康本1月之或多個實施例,在對影像執行指積運當之後, 藉由對步驟1G6中所取得之已摺雜波之影像之 : 砂°界值限定,偵測出對應於可能之缺陷之畫素斑點(候 逼缺陷斑點108)。庫注音本 ,θ ^ ^ 愿/主思者,根據本發明之一或多個實施例,實 驗性地選擇用於此運算之臨界值,以確健選缺陷偵測之選擇性 (selectlvity)及特異性(啊娜㈣二者。在另一實施例中可 利用1代演算法自動地確㈣臨界值。如此項技術中之通常知 識者可理解,-般而言,該臨界值將取決於所檢查之電子 設計及特性以及客戶要求。 、 13 201250267 根據本發明之一 或夕個貫施例,本發明技術之下一階段涉及最 終缺陷偵測及特徵抽取以進行分_。具體而言,在第1圖所示之 步驟109中,對於代表—真實缺陷及其已對角線位移複本之每一 對候選斑點’將形成包含此對斑點之一感興趣區域㈣⑽ interest ’以下簡稱R〇i」)。第3圖描繪一個實例性r⑺其在該 圖中由編號7表^根據本發明之-或多個實施例,⑽之尺寸 係為上文所述VIOS照相機之畫素尺寸之整數倍。 此外’根據本發明之-或多個實施例,上述步驟109涉及形成 -或多個局部無缺陷參考影像,其在本文中將被稱為金色影像 (golden image)。為達此目的,本發明系統將定位原始電壓影像 之-或多個(I域(貼片(tUe))’該—或多個區域無任何候選缺陷 斑點並最接近包含欲被分析之候選缺陷斑點之R〇I。根據本發明 之-或多個實施例,利用原始電壓影像之—或多個無缺陷區域(貼 片)形成一或多個局部金色影像,且該一或多個局部金色影像位 於最可能接近所分析之缺喊。第3圖㈣原始影像之適用於金 色影像之構造之實例性區域(貼片),其在該圖中由編號5表示。 換言之,為建構金色影像,本發明系統挑選結構及尺寸與包含 欲被分析之候選缺陷斑點之ROI (貼片)相同之無失真(無缺陷) 局部等效影像區域(貼片根據本發明之各種實施例,選擇總共 9個、25個或其他數目之貼片用於金色影像之構造。如第3圖所 示,在一個實例性之態樣中,本發明系統之該一或多個實施例在 包含候選缺陷之貼片附近形成一由pxS個鄰近貼片形成之矩陣, 並在X方向及Y方向上,分別以K*N*pitchx& L*M*pitchY距離 14 201250267
相對於該候選缺陷貼片執行位移,其中κ為1至p之整數,且^ 為1至s之整數,其中河及N分別為候選缺陷貼片沿χ方向及γ 方向覆蓋之IXD畫素之數目,且其中pitehx及pitehY分別為所 檢查電子電路之結構分別^方向及γ方向上之週I根據本發 明之各種實施例,矩陣之尺寸可為3χ3或5χ5。,然而,熟習此項 技術者可理解,本發明並不限制於上述或任何其他矩陣尺寸。實 際上,本發明系統可利用任何適宜數目之鄰近貼片。 A 此外’根據本發明之-或多個實施例,為了形成尺寸與缺陷貼 片相同之鄰近貼片之-精確複本,本發明系統以次晝素精確度來 執打貼片影像複製。每-已形成貼片中之每—感測器畫素皆代表 週期性LCD結構中與缺陷貼片中之畫素相同之局部座標。根據^ 發明之-或多個實施例’最終局部金色影像被計算成已辨識之Μ 個貼片影像之平均值。如熟習此項技術者可理解,所計算出之金 色影像代表來自候選缺陷貼片(R0I)附近之平均無缺陷貼片之特 徵之影像訊號。此種來自平均無缺陷貼片之特徵之影像訊號構成 用於在候選缺陷貼片(R0I)中進行缺陷偵測及分類之背景訊號。 應注意者,用於金色影像之構造之候選貼片應選自候選缺陷貼片 UOI)之附近’以實質上消除緩慢(逐漸)變化之影響(例如照 明之不均勻性、光學失真等等)。 根據本發明之一或多個實施例,在第丨圖所示之步驟110令利 用所產生之金色影像,精確地偵測缺陷斑點及計算所偵、.則缺卩々, 特徵。根據本發明之-或多個實施例,藉由計算代表包含候選缺 陷之貼片之影像與金色影像之相對差異並將該差異與—臨界值相 15 201250267 比較,以確定缺陷斑點。具體而言,在一實施方式中,若候選缺 陷貼片(ROI)中具有座標(i,j)之晝素之強度與由對應之金色 影像貼片畫素強度所規範之金色影像貼片間之差異之絕對值大於 一預定臨界值,則判斷該候選缺陷貼片中具有該等座標之νι〇§ 照相機畫素屬於-實際缺陷斑點。否則,畫素〇⑴被視為係無 缺陷的。 應注意者’根據本發明之一或多個實施例,實驗,吐地選擇用於 此運异之上述臨界值,以確保候選缺陷偵測之選擇性及特異性。 在另-實施例巾’可湘-疊代演算法自動地確定該臨界值。此 項技術中之通常知識者可理解,—般而言,該臨界值將取決於所 才双查電子裝置之没计及特性以及客戶要求。 根據本發明之一或多個替代實施例,依照以下方法來執行實際 之缺陷斑點偵測。應注意者,歸究於LCD畫素結構之設計特徵, 不同LCD畫素之影像中之相同VI〇s❹,】器畫素之強度與在各 LCD畫素影像之間可以相差很大。因此,基於上述與所選擇之 個無缺陷(背景)貼片相對應之每一 VI0S照相機畫素之強度之PU 樣本之矩陣,本發明系統用以形成二金色貼片影像。其中之一所 形成之金色影像包含每-VI〇W測器畫素之強度之最小值。另_ 方面,另一所形成之影像包含每一 VIOS感測器畫素之強度之最大 值。本發明线利用上述二所產生之金色影像作為用於偵測缺陷 貼片之臨界值限定區間。 根據本發明之一或多個實施例,利用以 限定。具體而言 下演算法來達成臨界值 若 DefectTileIntensity(i,i)>ImensityMa吼 16 201250267 j)*(l+ThresholdHigh)或 DefectTileIntensity(i, j)<IntensityMin(i, j)*(l-ThresholdLow),則判斷候選缺陷貼片(R〇I)中具有座標(i,j) 之VIOS照相機畫素屬於實際缺陷斑點。否則,畫素(i,j)被視為係 無缺陷的。在上述公式中,DefectTileIntensity(i, j)為候選缺陷貼片 中之VIOS照相機畫素(i,j)之強度,且lntensityMax(i, j)及 IntensityMin(i,j)對應於VIOS照相機畫素(i,j)在上述二所產生之 金色影像中之強度。根據本發明之一或多個實施例,上臨界值與 下E&界值(即ThresholdHigh與ThresholdLow )係為不同的。在替 代實施例中,上述臨界值係為相同的。 同樣’應注意者’根據本發明之一或多個實施例,實驗性地選 擇用於此運算之上述臨界值,以確保候選缺陷偵測之選擇性及特 異性。在另一實施例中,可利用一疊代演算法自動地確定該臨界 值。此項技術中之通常知識者可理解,一般而言,該臨界值將取 決於所檢查電子裝置之設計及特性以及客戶要求。 應〉主意者’在其中電壓影像強度顯示出顯著不均勻性(例如在 對應於閘極線或資料線之區域中)之情形中’根據本發明一或多 個貫施例之用於缺陷斑點偵測之第二所述實例性方法具有更佳效 果’此種顯著不均勻性可引起VI〇s照相機畫素強度在各LCD區 域之間較大變化。 第3圖提供根據本發明之一實施例之最終缺陷偵測及特徵抽取 ^不思圖。所選擇之貼片5代表所選擇之九個貼片,該九個貼片 郝近候選缺陷貼片7’候選缺陷貼片7包含具有由編號8表示之缺 斑點之缺陷晝素。黑線6連接具有相同起點之影像畫素。所選 201250267 擇之貼片5可用於根據上文中所述技術來構成金色影像。 根據本發明之一或多個實施例,為消除由光電調變器、感測器、 及光學系統之瑕庇以及用於安放所檢查基板之卡盤之凹凸不平 (將此等瑕疵統稱為「成像路徑缺陷」)而被誤偵測之缺陷,在步 驟112至115令處理原始校準影像1〇1,以辨識出並隔離此等瑕 '疵。具體而言’在第1圓所示之步驟112中,藉由根據此項技術 中之通常知識者所習知之技術利用—高斯;慮波器或另—低通遽波 器對校準影像執行摺積運算,而使原始校準影像1〇丨平穩。在步 驟113中’ 原始校準影像與已遽波校準景彡像間之—絕對差異。 在步驟114 _,將此差異與—預定臨界值相比較。根據此比較, ^步驟⑴中韻成像路徑缺陷。最後,•其可能源於成像路 、㈣>^驟111 t ’對根據上文所述之電㈣像缺陷偵 測方法而職出之缺陷與已隔離之成像路徑缺陷輯輯交叉檢 查並忽略包含於此等區域中之缺陷。 根據本發明之一或多個實例姓麻e 丨 中夕心 / Λ㈣只知例,上述用於定位成像路徑 甲之缺陷之過程以及用於偵測Lc 明“ J CD面板中之缺陷之過程係由本發 月糸統之影像分析電路以—平 度。 仃方錢仃,Μ成更高之處理速 亦應注意者 當之影像產生方法而取得之影像/可彻⑽何其他適 以用於缺陷辨識及分類。 〃以之教示内容相結合, 圓4描綠可對用以實施本發明影像處 理方法之 電腦化影像處 18 201250267 理系統400之一實施例之示意圖。電腦化影像處理系統400包含 一控制器401及周邊裝置402。 控制器401可包含一資料匯流排404或其他通訊機構以及與資 料匯流排404相耦合之一處理器405,資料匯流排404用於在控制 器401之各部件之間傳送資訊,處理器405用於處理資訊及執行 其他計算任務、影像處理任務及控制任務,例如影像位移及減法 運算、臨界值限定或利用上述低通(例如,高斯)濾波器之摺積 運算。控制器401亦包含耦合至資料匯流排404之一揮發性記憶 體406 (例如一隨機存取記憶體(random access memory ; RAM )) 或其他動態儲存裝置,以用於儲存各種資訊(包含影像)以及欲 被處理器405執行之指令。揮發性記憶體406亦可用於在由處理 器405執行指令期間儲存臨時變數或其他中間資訊。控制器401 可更包含辆合至資料匯流排404之一唯讀記憶體(ROM或 EPROM) 407或其他靜態儲存裝置’以用於儲存靜態資訊及處理 器405之指令(例如基本輸入輸出系統(.basic input-output system ; BIOS))以及各種系統配置參數。提供一持久性儲存裝置408 (例 如磁碟、光碟、或固態快閃記憶體裝置)並將其耦合至資料匯流 排404,以用於儲存資訊及指令。 控制器401可透過資料匯流排404耦合至一顯示器409(例如一 陰極射線管(cathode ray tube ; CRT )、一等離子體顯示器、或一 液晶顯示器(liquid crystal display ; LCD )),以用於向系統管理者 或控制器401之使用者顯示資訊。一輸入裝置410(包含字母數字 鍵及其他鍵)耦合至資料匯流排404,以用於傳送資訊及命令選擇 19 201250267 至處理器405。另一類型之使用者輸入裝置係為游標控制裝置々η (例如一滑鼠、一執跡球、或游標方向鍵),以用於傳送方向資訊 及命令選擇至處理器405並用於控制游標在顯示器4〇9上之移 動。此種輪入裝置通常在二軸線(第一軸線(例如,χ)及第二軸 線(例如,y))上具有二自由度,此容許該裝置在平面中指定位 置。 —外部儲存裝置412可透過資料匯流排4〇4耦合至控制器4〇1, 以提供控制器4G1 -額外或可移除之儲存容量。在電腦化影像處 理系統400之-實施例中,可使用外部可移除儲存裝置412來達 成與其他電腦系統之資料交換。 本發明係關於利用電腦化影像處理系統_來實施本文所述之 技術。在-實施例中,本發明系統可常駐於_機器(例如控制器 401)上。根據本發明之一實施例,響應於處理器4〇5,執行包含 於揮發性記憶體概中之一或多個指令之一或多個序列,由電腦 化影像處理系統400執行本文所述之技術。此等指令可自另一電 腦可讀取記錄媒體(例如持久性儲存裝^術)讀取至揮發性記憶 體406巾。執行包含於揮發性記憶體4〇6中之指令序列會使處理 器405執行本文所述之處理步驟。在替代實施例中,可使用硬接 線電路代替軟體指令或與軟體指令相結合來執行本發明。因此, 本發明之實施例並不限於硬體電路與軟體之任何特定組合。 本文所用術語「電腦可讀取記錄媒體」係指參與提供指令至處 理器405以供執行之任何媒體。電腦可讀取記錄媒體僅係為機器 可讀取記錄媒體之-實施例’機器可讀取記錄媒體可載送用於執 20 201250267 可n所述方法及/或技術之指令。此種媒體可採用許多形 式’包含但不限於非揮發性媒體及揮發性媒體。非揮發性媒體包 β^碟(例如持久性儲存裝 置 408)。 電腦可讀取記錄媒體之常見形式包含例如:軟磁碟(floppy disk)軟|·生磁碟(以乂丨仏⑴认)、硬碟(hard disk )'磁帶(magnetic tape)或任意其他磁性媒體;CD-ROM、DVD、Blu-Ray Disk、任 何其他光學媒體;穿孔卡片、紙帶、任何其他具有孔圖案之實體 媒體’ RAM、PR〇M、EPROM、FLASH-EPROM、快閃驅動裝置、 記憶卡、任何其他記憶體晶片或盒式磁盤;或電腦可讀取之任何 其他媒體。 各種形式之電腦可讀取記錄媒體可參與載送一或多個指令之一 或多個序列至處理器405以供執行。舉例而言,該等指令最初可 由一遠端電腦载送於一磁碟上。或者,一遠端電腦可將該等指令 載入其動態s己憶體中並使用一數據機透過一電話線來發送該等指 令。電腦系統本身之一數據機可接收電話線上之資料,並利用一 紅外發射器將該資料轉換成一紅外訊號。一紅外偵測器可接收載 达於該紅外訊號中之資料,且適當之電路可將該資料置於資料匯 流排404上。資料匯流排404將該資料載送至揮發性記憶體4〇6, 處理器405自揮發性記憶體406擷取並執行該等指令。揮發性記 憶體406所接收之該等指令可視需要由處理器405執行之前或之 後儲存方;持久性儲存裝置4〇8上。亦可利用此項技術中所習知之 各種網路資料通訊協定透過網際網路將該等指令下載至控制哭 4〇1中。控制器4〇1亦包含一通訊介面,例如VI0S照相機介面 21 201250267 用 413,VIOS照相機介面413耦合至資料匯流排4〇4,並被設計成 於自VIOSCCD照相機(圖中未顯示)接收影像資料。 最後,應理解者,本文所述之處理程序及技術並非固有地相關 於任何特定裝置,且可由任何適當之組件組合來執行。此外,可 根據本文所述之教示内容,以各種類型之通用裝置來實施本發 明。亦可證明製造專用裝置來執行本文所述之方法步^有二 的。透過前述實施例已具體闡述本發明,且該等實施例在所有方 面均為描述性的,而非限制性的。熟習此項技術者可理解本發明 月b藉由硬體、軟體及韌體之許多不同組合加以實現。舉例而士, 前述軟體能夠以各種各樣之程式語言或腳本語言(例如
Assembler、C/C++、ped、shel卜 PHP、Java 等)來實現。 此外,熟習此項技術者在閱讀本說明書及實踐本說明書所述發 明之後,將會一目了然本發明之其他實施方式。在檢查系統中可 單個地或以任何組合來利用所述各實施例之各種態樣及/或組件。 曰在將本說明書及各實例僅視為實例性的,本發明之真正範圍及 精神由以下申請專利範圍表示。 【圖式簡單說明】 本發明之圖式包含於本說明書申且為本說明書之一部分,其係 用以描繪本發明之各實施例,並與本說明書一起用於解釋及描繪 本發明技術之原理。具體而言: 第1圖描緣根據本發明之一或多個實施例之原始電壓影像缺陷 偵測演算法之流程圖; 22 201250267 第2圖提供根據本發明之一或多個實施例之候選缺陷偵測之示 意圖, 第3圖提供根據本發明之一或多個實施例之最終缺陷偵測及特 徵抽取之示意圖;以及 圖4描繪可用以實施本發明影像處理方法之一電腦化影像處理 系統之一實施例之示意圖。 【主要元件符號說明】 1 :大矩形 2 :小正方形 3 .區域 4 :線 5:所選擇之貼片 6 :黑線 7 :候選缺陷貼片 8:缺陷斑點 400 :電腦化影像處理系統 401 :控制器 402 :周邊裝置 404 :資料匯流排 405 :處理器 23 201250267 406 :揮發性記憶體 407 :唯讀記憶體 408 :持久性儲存裝置 409 :顯示器 410 :輸入裝置 411 :游標控制裝置 412 :外部儲存裝置 413 : VIOS照相機介面

Claims (1)

  1. 201250267 七 申請專利範圍.· -種用於辨識具有週期性特徵之—電子 置,該裝置包含: 中之—缺陷之裝 一照相機,用於— ; 用於取㈣電子電路之一影 -影像處理系統,包含 i 及 處理系統用以: < 早& —記憶體,該影像 自該照相機接收該電子電路之該影像; 错由該電子電路之週期性特徵之 寸,對所接收之該雷彳+竹 對角線尺 進而形成該電子電:ΠΓ該影像執行—對角線位移, 电峪之一已位移影像; 利用該電子電路之該影像以及該電子 移影像來辨識一候選缺陷; Μ已位 利用位於已辨辦十# δ δΛ候選缺陷附近之已選擇之至少 —個不包含缺陷之影像區 * 才异3亥電子電路之一區域之 -或多個局部無缺陷參考影像;以及 利用已計算之·^ Φ+ ^ 卷子電路之該無缺陷參考影像及該 2. 兒子電路之該影像,墟中兮+ 7 ,^ , 確疋5亥電子電路中之該缺陷。 如化求項1所述之裝置, 雷树始 更包含位於該電子電路附近之一光 成二广electro-optical transducer)’其中由該照相機所形 獲得:電子電路之—電壓影像係藉由對該光電變換器成像而 ;、貞2所述之4置’其巾該影像處理系統更用以定位-k中之各缺’亚對已定位之該成像路徑之該等缺陷 。該電壓影像中之已確定之—缺陷進行交叉檢查以自該電 25 3. 201250267 子電路之缺陷偵測中排除位於—電壓影像中且對應於—調變 态之缺陷之區域。 。… 4. 5. 6. 8. 如請求項3所述之裝置,其中該成像路徑中之該等缺陷係由 以下方式來定位:利用一低通濾波器對該調變器之—校準旦, 像執行摺積運算以獲得—已_校準影像,計算該校_ = 與該已摺減準料U縣異叫得—差異影像y並 以臨界值限定(thresholding)該差異影像。 如請求項i所述之裝置,其中該影像處理系統藉由以下方式 來辨識該候選齡對該電子電路之該影像與該電子電路: 該已位移影雜行減法運算,並對所得狀—差異 臨界值限宗。 丁 如請求項5所述之裝置,其中於執行臨界值限定之前,使用 一低通濾波器對所得到之該差異影像執行摺積運算並對已 摺積之3亥差異影像執行臨界值限定。 如請求項6所述之裝置,其中該電子電路之該影像中之-感 興趣區域會自該候選缺陷附近選出。 :請求項i所述之裝置,其中該影像處理系統藉由以下方式 =該電子電路中之該缺陷:利用該電子電路之該區域之已 ^异^該-或多個局部無缺陷參考影像,對該候選缺陷附近 感興趣影像區域執行臨界值限定。 =項1所述之裝置’其中該影像處理系統係藉由將該候 ^㈣附近之—感興趣影像區域與該電子電路之該區域之已 ^之該局部無缺陷參考影像間之—差異與—臨界值相比 較’以確定《子電財之該_。 26 9. 201250267 10·如請求項i所述之裝置,其中該影像處理 選缺陷附近之-感興趣影像區域與嘗丁— 猎將遠候 =像及已計算"二無缺陷參考影 子電路中之該缺陷,已計算之兮笛_A 疋q電 數個最小強度值,已計算之該。第二^缺陷參考影像包含複 個最大強产值,$箄…、缺1^參考影像包含複數 係針對該無缺陷參考影像之複數個執行度值亦 L 一種用於辨識具有週期性特徵之—帝 法’該方法包含下列步驟: ;路中之缺陷之方 利用-照相機取得該電子電路之—影像; •猎由該電子電路之週期性特徵之至 寸’對所取得之該電子電路之該 = 而形成兮雷工+ ^ 主丁月線位移’進 亥電子電路之-已位移影像; c•利用該電子電路之該影像以 影像來辨識—候選缺陷; 4子電路之該已位移 少—1:=能接近已辨識之該候選缺陷之已選擇之至 個办像區域’計算該電子電路之 無缺陷參考影像;以及 -❹個局部 e.利用該電子電路之已計嘗 子電路之該影像,確定陷參考影像及該電 至dn勺人 疋心子電路中之該缺陷,其中步驟b 行:憶體之—影像處理系統所執 12·如請求項丨丨所述 H、中由該照相機所形成之該電子電 27 201250267 13- 14. 路之轉像係藉由對—光電變換器成像而獲得 如請求項】】戶斤述之方法,更包含下列步驟^ 定位—成像路徑中之各缺陷;以及 左已定位之該成像路徑中之該等缺陷與—電壓影像中之 =定缺陷進行交叉檢查’以自該電子電路中之缺陷横測 中排除位於《壓影財且對應於—婦器之顧之區域。 如凊求項13所述之方法,直中哕太咏 方法·由以下步驟來Μ 成像路財之該等缺陷:_ —低_波11對該調變器之 一权準影像執行摺積運算以獲得—已摺積校準影像叶h 校準影像㈣已_校準料H龍異以制^異 影像,並以臨界值限定該差異影像。 /、 0.如請求項U所述之方法,其中該方法更藉由以下步驟來辨識 該候選缺陷:對該電子電路之該影像與該電子電路之該已位 移影像執行絲運算’並制得狀―差異影耗行臨界值 限定。 16.如請求項丨5所述之方法,其中於執行臨界值限定之前使用 低通濾波器對所得到之該差異影像執行摺積運算,並對已 摺積算之該差異影像執行臨界值限定。 !7.如4求項11所述之方法,更包含藉由以下方式以確定該電子 電路中之該缺陷:利用該電子電路之該區域之已計算之該無 缺陷參考影像,對泫候選缺陷附近之一感興趣影像區域執行 臨界值限定。 18.如請求項11所述之方法,更包含藉由將該候選缺陷附近之一 感興趣影像區域與該電子電路之該區域之已計算之該無缺陷 28 201250267 以確定該電子電路 參考影像間之一差異與一臨界值相比較, 中之該缺陷。 19. 如請求項U所述之方法,更包含藉由將該候選缺陷附近之- 之一 陷 感興趣影像區域與已計算之—第—無缺陷參考影像及已計算 第二無缺陷參考影像相比較來確定該電子電路中之該缺 已計算之該第—無缺陷參考影像包含複數個最小強度 =’二計算之該第二無缺陷參考影像包含複數個最大強度 最小強度值係針對該無缺陷參考影像之複數個執行 體”算出’且料最大強度值㈣針對該無缺陷參考影 像之歿數個執行個體而計算出。 20. S /以"之電腦可讀取記錄媒體,該組指令在由- 吩終理系統之一或多個處理單元執扞.. 理單元勃广一接m 執仃呤,使該一或多個處 於賴具有㈣特徵之—電子電路中之 -缺陷之方法,該方法包含: -路中之 3•利用—㈣機取得該電子電路之-影像. 由該電子電路之週期性特徵 寸’對所取得之該電子雷 對角、.桌尺 而形成該電子1 料執行1肖線位移,進 成“子電路之—已位移影像; C.利用該電子電路之該影 影像來辨識一候選缺陷,· 電十甩路之该已位移 d·利用最可能垃a k已辨識該候選缺陷之pr,登搜 -個影像區域,計、缺陷之己選擇之至少 缺陷參考影像’·以^ %電路之—區域之—或多個局部無 e •利用該電子雷& 汁异之該—或多個局部無缺陷參 29 201250267 考影像及該電子電路之該影像,確定該電子電路中之該缺 陷,其中步驟b至d係由包含該一或多個處理單元及一記憶 體之一影像處理系統所執行。 30
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI678529B (zh) * 2015-02-25 2019-12-01 南韓商東友精細化工有限公司 光學薄膜缺陷檢測裝置及方法

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20140270347A1 (en) * 2013-03-13 2014-09-18 Sharp Laboratories Of America, Inc. Hierarchical image classification system
US9689923B2 (en) * 2013-08-03 2017-06-27 Kla-Tencor Corp. Adaptive electrical testing of wafers
JP6486050B2 (ja) 2014-09-29 2019-03-20 株式会社Screenホールディングス 検査装置および検査方法
CN105300308B (zh) * 2015-11-26 2017-12-05 凌云光技术集团有限责任公司 一种基于浅景深成像的深度测量方法及系统
CN106056608A (zh) * 2016-06-01 2016-10-26 武汉精测电子技术股份有限公司 一种图像点线缺陷检测方法及装置
CN106441820B (zh) * 2016-11-23 2019-07-26 深圳Tcl新技术有限公司 显示屏均匀性测试方法及系统
JP7113613B2 (ja) * 2016-12-21 2022-08-05 エフ イー アイ カンパニ 欠陥分析
CN107229598B (zh) * 2017-04-21 2021-02-26 东南大学 一种面向卷积神经网络的低功耗电压可调卷积运算模块
CN111344851A (zh) * 2017-10-02 2020-06-26 应用材料以色列公司 判定图样的临界尺寸变化
US10867382B2 (en) * 2018-05-24 2020-12-15 Keysight Technologies, Inc. Detecting mura defects in master panel of flat panel displays during fabrication
EP3899423B1 (de) * 2018-12-21 2024-04-10 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung, vermessungssystem und verfahren zur erfassung einer zumindest teilweise spiegelnden oberfläche unter verwendung zweier spiegelungsmuster
CN111476938B (zh) * 2019-01-24 2023-04-28 中科晶源微电子技术(北京)有限公司 用于周期性样式的异常检测
CN110310275B (zh) * 2019-07-02 2021-09-28 芜湖启迪睿视信息技术有限公司 一种基于图像处理的链式传送带缺陷检测方法
CN110487803A (zh) * 2019-08-20 2019-11-22 Oppo(重庆)智能科技有限公司 红外发光元件的缺陷检测方法和装置
CN118135250A (zh) * 2024-05-06 2024-06-04 中电科新型智慧城市研究院有限公司 一种图像识别方法、装置、电子设备及介质

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5774572A (en) 1984-12-20 1998-06-30 Orbotech Ltd. Automatic visual inspection system
US5774573A (en) 1984-12-20 1998-06-30 Orbotech Ltd. Automatic visual inspection system
US4983911A (en) 1990-02-15 1991-01-08 Photon Dynamics, Inc. Voltage imaging system using electro-optics
US5235272A (en) * 1991-06-17 1993-08-10 Photon Dynamics, Inc. Method and apparatus for automatically inspecting and repairing an active matrix LCD panel
JP3273973B2 (ja) * 1991-09-10 2002-04-15 フォトン・ダイナミクス・インコーポレーテッド アクティブマトリックス液晶ディスプレイ基板の検査装置およびその検査方法並びに検査装置用電気光学素子
US5790247A (en) * 1995-10-06 1998-08-04 Photon Dynamics, Inc. Technique for determining defect positions in three dimensions in a transparent structure
JP3409670B2 (ja) * 1997-11-28 2003-05-26 株式会社日立製作所 外観検査方法およびその装置
US6165658A (en) 1999-07-06 2000-12-26 Creo Ltd. Nonlinear image distortion correction in printed circuit board manufacturing
CN1289901C (zh) 2000-09-10 2006-12-13 奥博泰克有限公司 Pcb检测中错误报警的减少
JP3468755B2 (ja) 2001-03-05 2003-11-17 石川島播磨重工業株式会社 液晶駆動基板の検査装置
JP2003288583A (ja) * 2002-03-28 2003-10-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 画像処理を用いた不良箇所検出方法
JP3973024B2 (ja) * 2002-06-26 2007-09-05 株式会社ブイ・テクノロジー 撮像検査装置における8近傍点隣接比較方式による欠陥検出方法、欠陥検出システム
US7330583B2 (en) * 2002-08-19 2008-02-12 Photon Dynamics, Inc. Integrated visual imaging and electronic sensing inspection systems
JP2004108902A (ja) * 2002-09-18 2004-04-08 Hitachi Ltd カラー表示画面の欠陥分類方法およびその装置
US7308157B2 (en) * 2003-02-03 2007-12-11 Photon Dynamics, Inc. Method and apparatus for optical inspection of a display
US7236625B2 (en) * 2003-07-28 2007-06-26 The Boeing Company Systems and method for identifying foreign objects and debris (FOD) and defects during fabrication of a composite structure
US7084970B2 (en) * 2004-05-14 2006-08-01 Photon Dynamics, Inc. Inspection of TFT LCD panels using on-demand automated optical inspection sub-system
US7376269B2 (en) * 2004-11-22 2008-05-20 Xerox Corporation Systems and methods for detecting image quality defects
US7519222B2 (en) 2005-01-14 2009-04-14 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Print defect detection
WO2007074770A1 (ja) * 2005-12-26 2007-07-05 Nikon Corporation 画像解析によって欠陥検査を行う欠陥検査装置
EP1874034A3 (en) * 2006-06-26 2011-12-21 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Apparatus and method of recovering high pixel image
US7970201B2 (en) 2006-07-31 2011-06-28 Applied Materials Israel, Ltd. Method and system for defect detection
KR101192053B1 (ko) 2007-08-31 2012-10-17 아이코스 비젼 시스템스 엔파우 반도체 기판 이상들을 검출하기 위한 장치 및 방법
JP2009097928A (ja) * 2007-10-15 2009-05-07 Tokyo Seimitsu Co Ltd 欠陥検査装置及び欠陥検査方法
US20090175530A1 (en) * 2007-11-12 2009-07-09 Fredrik Sjostrom Methods and apparatuses for detecting pattern errors
CN102037371B (zh) * 2008-05-21 2015-11-25 光子动力学公司 使用前侧照射增强显示面板的缺陷检测
JP5242248B2 (ja) 2008-06-09 2013-07-24 シャープ株式会社 欠陥検出装置、欠陥検出方法、欠陥検出プログラム、及び、記録媒体
JP2012503797A (ja) * 2008-09-25 2012-02-09 フォトン・ダイナミクス・インコーポレーテッド 自動ダイナミック画素マップ補正および駆動信号較正

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI678529B (zh) * 2015-02-25 2019-12-01 南韓商東友精細化工有限公司 光學薄膜缺陷檢測裝置及方法

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Publication number Publication date
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