TW201144377A - Resin composition for production of optical waveguide, and optical waveguide produced by using the resin composition - Google Patents
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Description
201144377 六、發明說明: r:發明戶斤屬之技術領域3 技術領域 本發明涉及光波導形成用樹脂組合物及使用其的光波 導。
L先前技術U 發明背景 光波導具備芯部和包層部,由於上述芯部與包層部的 折射率的不同,上述芯部成為光路,發揮傳輸光信號的功 能。目前,作為光波導的材料,無機系原料使用石英玻璃、 矽,有機系原料使用高純度聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹 脂、聚醚系樹脂等。 而且,近年來,作為光波導的簡便製作方法,正在開 發各種如下形成光波導的芯部的方法:其材料使用感光性 樹脂溶液(感光性單體混合物溶液),隔著規定圖案的罩模對 由該溶液形成的塗膜層進行紫外線照射,使其光硬化(例 如,參考專利文獻1)。 然而,一直以來用於上述用途的感光性樹脂溶液的光 硬化靈敏度高,但其塗膜層(未硬化層)表面表現黏性(表面 黏著性),因此具有下述缺點:例如難以適用於利用多重塗 布機(multi-coater)等塗布機的親到親(roll to roll)方式如此 的連續程序。即,此乃由於,在輥到輥方式中,一但上述 塗膜層與卷取到其上的塗膜層接觸,則兩塗膜層會黏在一 起,該部分有可能被破壞。 201144377 因此’在採用輥到輥方式的情況下,通常其感光性樹 脂使用常溫為固體的聚合物樹脂(例如,參考專利文獻2)。 現有技術文獻 專利文獻 專利文獻1:日本特開第2001-281475號公報 專利文獻2:日本特開第2005-154715號公報 【智^月内容】 發明概要 發明所欲解決的問題 然而’如上所述使用常溫為固體的聚合物樹脂時,上 述聚合物的分子量越高,由該樹脂形成的未硬化層(硬化前 階段的非晶形膜(amorphous film))的撓性(flexibility,柔軟 性)越會提高’但另一方面會產生圖案化解析度降低的問 題。反之,如果為低分子量的聚合物,雖圖案化解析度會 提高,但撓性會降低。 如此,上述未硬化層的撓性與圖案化解析度通常成權 衡(trade off)關係。因此,現狀是尚未能得到適用於特別是 需要卷取程序的輥到輥方式的光波導用材料。因此,迫切 需要兼顧薄膜的撓性和圖案化解析度的光波導用材料。 本發明疋鑒於上述情況而成者,其目的在於提供可用 輥到輥方式製作、兼顧未硬化層的撓性和圖案化解析度的 光波導形成用樹脂組合物及使用其的光波導。 用於解決問題的手段 為了達成上述目的,本發明的第丨要旨為一種光波導形 201144377 成用樹脂組合物,其含有下述(A)成分〜(D)成分,相對於總 量100重量份的(A)成分、(B)成分和(C)成分,(A)成分設定 為80~90重量份的範圍,(B)成分設定為5〜15重量份的範 圍,(C)成分設定為1〜1〇重量份的範圍。 (A) 重量平均分子量(Mw)為500〜5000的芳香族系多官 能環氧聚合物。 (B) 重量平均分子量(Mw)為10000~50000的芳香族系多 官能環氧聚合物。 (C) 單官能的液態芳香族系環氧單體、雙官能的液態芳 香族系環氧單體、三官能的液態芳香族系環氧單體中的至 少一種。 (D) 光酸產生劑。 另外’本發明的第2要旨為一種光波導,其具備傳輸光 信號的芯部、和包層部,上述包層部和怒部中的至少一方 由上述第1要旨的樹脂組合物形成。 即’本案發明人為解決前述課題而進行了深入研究。 在其研究過程中,本案發明人想到在將高分子量多官能環 氧聚合物和低分子量多官能環氧聚合物複合而成的基礎聚 合物中’添加液態環氧單體’並進行了各種實驗,結果發 現’藉由如上述以特定的比例混合(A)〜(D)的各成分,可以 兼顧未硬化層的撓性和圖案化解析度而不表現黏性,從而 完成了本發明。 考慮能夠表現如此的作用效果的原因如下。即,可考 慮:相對於重視反應性的低分子量多官能環氧聚合物[(A) 201144377 成分]與液態環氧單體[(c)成分]的組成,高分子量多官能環 氧聚合物[(B)成分]發揮了作為賦予撓性的反應性黏合劑的 作用’從而在維持反應性下實現了未硬化層的高撓性。另 外’在本發明的光波導形成用樹脂組合物中,由於將液態 單體成分的添加量設定為特定範圍,因此可良好地進行硬 化而不表現黏性。 發明的效果 如此’本發明的光波導形成用樹脂組合物含有:重量 平均分子罝在特定範圍内(低分子量)的芳香族系多官能環 氧聚合物[(A)成分];重量平均分子量在特定範@内(高分子 里)的芳_$乡官能環氧聚合物[⑻成分];單官能的液態 方香族系環氧單體、雙官能的液態芳香族系環氧單體、: •, 官能的液態料⑽、環氧單體中的至少 一種[(C)成分];及 光酸產生劑[(D)成分],並且將上述各成分的比例設定在特 疋範圍内’因此可以兼顧未硬化層的撓性和高圖案化解析 度而不表現黏。因此,可以適用於輥到報㈣1 ⑽)方 式這樣的連續程序。 【實施方式】 用以實施發明之形態 接著’對用以實施本發明的形態進行說明。 本發明的光波導形成用樹脂組合物可以藉由混合以下 成为來㈣.重量平均分子量(Mw)為獅〜5麵的芳香埃系 多S此環氧聚合物[(A)成分];t量平均分子量(MW)為 10000〜5_0的芳麵系多官能環氧聚合物[⑻齡];單官 6 201144377 能的液態芳香族系環氧單體、雙官能的液態芳香族系環氧 單體、三官能的液態芳香族系環氧單體中的至少一種[(c) 成分];及光酸產生劑[(D)成分],並且如下設定各成分的含 有比例:相對於總量1 〇〇重量份(以下簡稱為“份”)的(A)成 分、(B)成分和(C)成分,(A)成分為80〜90份的範圍,出)成 分為5〜15份的範圍,(C)成分為1〜10份的範圍。 作為上述(A)成分的環氧聚合物,只要如前所述為其重 量平均分子量(Mw)在500〜5000的範圍内且分子中具有芳 香環的多官能聚合物即可,具體而言,可以使用157S70 (JAPAN EPOXY RESINS CO” LTD.製造)、YDCN-70〇-1〇(東 都化成公司製造)等。此等可以單獨使用或將2種以上併用。 另外,作為上述(B)成分的環氧聚合物,只要如前所述 為其重量平均分子量(Mw)在10000〜50000的範圍内且分孑 中具有芳香環的多官能聚合物即可,具體而言,句*以 使用 MARPROOF G-0250S、MARPROOF G-0250SP ' MARPROOF G-0130SP(均為日本油脂公司製造)等。此等4 以單獨使用或將2種以上併用。 而且,如上所述,(A)成分的環氧聚合物的重量平均分 子量(Mw)為500〜5000的範圍,較佳為8〇〇〜2000的範圍。男 外,如上所述’(B)成分的環氧聚合物的重量平均分子量(MW) 為10000〜5〇000的範圍,較佳為15〇〇〇〜30000的範圍。藉由 使用如此的重量平均分子量的環氧聚合物作為上述(A)成 分和(B)成分,可以在維持反應性下實現未硬化時的高換 性0 201144377 作為與上述(A)成分和(B)成分的環氧聚合物一起使用 的(C)成分的液態環氧單體,只要為單官能〜三官能且分子 中具有芳香環的液態單體即可’具體而言,可以使用 JER828、JER827、JER152、JER630 (均為 JAPAN ΕΡ〇χγ RESINS CO.,LTD.製造)等。此等可以單獨使用或將2種以 上併用。 在本發明的光波導形成用樹脂組合物中,如前所述, 需要如下設定各成分的含有比例:相對於總量1〇〇份的(A) 成分、(B)成分和(C)成分’(A)成分為8〇〜9〇份的範圍,(B) 成分為5~15份的範圍’(C)成分為1〜1〇份的範圍;較佳的含 有比例是:(A)成分為83〜87份的範圍,(b)成分為8〜η份的 範圍,(C)成分為4~6份的範圍。即,此乃由於:若(a)成分 的含有比例小於上述範圍’則圖案化解析度會降低,反之, 若(A)成分的含有比例超過上述範圍’則未硬化時的撓性會 降低。另外’若(B)成分的含有比例小於上述範圍,則未硬 化時的撓性會降低’反之’若(B)成分的含有比例超過上述 範圍’則圖案化解析度會降低。另外,若(〇成分的含有比 例小於上述範圍’則圖案化解析度會降低,反之,若(C)成 分的含有比例超過上述範圍,則有可表現黏性之虞。 本發明的樹脂組合物可以進一步含有氧雜環丁烧單 體。在該情況下,可以使氧雜環丁烷單體的含有比例為上 述液態芳香族系環氧單體[(C)成分]與氧雜環丁烷單體的總 量的70重量%以下。藉由如此併使用液態芳香族系環氧單 體[(C)成分]和氧雜環丁烷單體,可以獲得硬化速度提高、 201144377 圖案化解析度提高的效果。而且,作為上述氧雜環丁烷單 體,具體而言,可列舉出:1,4-雙{[(3-乙基-3-氧雜環丁基) 曱氧基]甲基}苯、二[2-(3-氧雜環丁基)丁基]醚、3-乙基-3-苯氧基甲基氧雜環丁烷、3-乙基-3-羥甲基氧雜環丁烷、1,4-雙[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)曱氧基]苯、1,3-雙[(3-乙基氧雜 環丁烷-3-基)甲氧基]苯、1,2-雙[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基) 曱氧基]苯、4,4’-雙[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)曱氧基]聯 苯、2,2’-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁基)甲氧基]聯苯、3,3’,5,5’-四甲基[4,4,-雙(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)曱氧基]聯苯、2,7-雙[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)曱氧基]萘、1,6-雙[(3-乙基氧雜 環丁烷-3-基)甲氧基]-2,2,3,3,4,4,5,5-八氟己烷、3(4),8(9)-雙[(1-乙基-3-氧雜環丁基)甲氧基甲基]-三環[5.2.1.2.6]癸 烷、1,2-雙{[2-(1-乙基-3-氧雜環丁基)甲氧基]乙硫基}乙 烷、4,4’-雙[(1-乙基-3-氧雜環丁基)曱基]硫代二苯硫醚、2,3-雙[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基甲基]降冰片烷、2-乙基 -2-[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)曱氧基曱基]-1,3-0-雙[(1-乙基 -3-氧雜環丁基)曱基]-丙烷-1,3-二醇、2,2-二曱基-1,3-0-雙 [(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)曱基]-丙烷-1,3-二醇、2-丁基-2-乙基-l,3-0-雙[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)曱基]-丙烷-1,3-二 醇、1,4-0-雙[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)曱基]-丁烷-1,4-二醇、 2,4,6-0-三[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)曱基]氰尿酸等。這些可 以單獨使用或將2種以上組合使用。 而且,作為與上述(A)成分〜(C)成分一起使用的光酸產 生劑[(D)成分],可以使用經紫外線照射而產生可進行陽離 201144377 子聚合的酸者。作, 乍為如此的光酸產生劑,例如可列舉出由 子二w抑4·、ASF6、(他)4.、PF4(CF2CF3)2_等陰離 分形成的鏘鹽(重氮顧 鹽、硒鏽鹽、吡咬鐵越、_ ^ 單獨使Γ 料)°此等可以 檀上併用。其中,從硬化性、透明性的觀 ^來看以SbF6、PF4(CF2CF3)2-作為陰離子成分的錯鹽為 。另外作為上述鏽鹽,從陰離子生成速度的觀點來看, 乂佳為方香族鎳鹽,其中,從該觀點來看特佳為三芳基 鎳鹽。 從硬化性、圖案化解析度的觀點來看,相對於總重量 100份的上述(A)成分〜(c)成分,上述(D)成分的光酸產生劑 的配合比例以設定為2〜6份的範圍為佳,從同樣的觀點來 看,以3〜4份的範圍為更佳。 在本發明的光波導形成用樹脂組合物中,在上述各成 分的基礎上,根據需要還可以使用溶劑。作為該溶劑,例 如可以使用乳酸乙酯、醋酸曱酯、醋酸丁酯等酯類,丙酮、 曱乙酮、曱基異丁基酮等酮類,二曱基甲醯胺、二曱基亞 碾等極性溶劑,1,1,1-三氣乙烷、氯仿等鹵素系溶劑,四氫 呋喃、二噁烷等醚類,苯、甲笨、二甲苯等芳香族類,全 氟辛貌、全氣 > 正丁基胺荨氟化惰性液體(inert HqUid)類 等。此外,對於使用上述溶劑時的用量’例如相對於總重 量1〇〇份的上述(A)成分〜(C)成分為〇〜200份左右。 另外,在本發明的光波導形成用樹脂組合物中,在上 述各成分的基礎上,作為其他添加劑,根據需要還可以適 10 201144377 當混合流平劑、賦黏劑、撓性賦予劑、抗氧化劑、消泡劑 等。此等可以單獨使用或將2種以上併用。而且,從不阻礙 本發明的作用效果的觀點來看,較佳以樹脂組合物整體的5 重量%以下的範圍使用此等其他添加劑。 本發明的光波導形成用樹脂組合物(清漆)例如可以如 下製備:將作為樹脂成分的上述(A)成分〜(c)成分適當與溶 劑混合,在40〜1〇〇。(:下加熱來使上述各成分完全溶解後, 冷卻至室溫’接著加入(D)成分的光酸產生劑並混合,從而 製備。 此外,作為本發明的光波導形成用樹脂組合物(清漆) 的黏度’較佳為1000〜SOOOmPa.spSt),更佳為 1500〜2500mPa.s(25°C)。上述黏度例如使用Bro〇kfleld公司 製造的黏度計(D V-I+)來進行測定。 關於使用上述樹脂組合物(清漆)而成的本發明的光波 導,例如可列舉出如下結構的光波導。即,具備傳輸光信 號的芯部、和包層部、且上述包層部和芯部中的至少一方 由上述樹脂組合物形㈣光波導。上述芯部形成為規定圖 案(光波導圖案),上述包層部的折射率需要小於芯部。該折 射率的差異可簡由上述包層部與芯部的材觀例、材料 本身的差異等來進行控制。 另外,本發明的光波導也可以為如下結構:基材和包 層(下包層则,在該基材上設置上述規定圖案的芯部,使 上述芯部暴露於空氣。在該情況下,藉由使芯部的折射率 大於空氣的折射率,可以防止光從芯部逸散。 ^,本發 201144377 明的光波導也可叫τ :分設 ^ m , ·+· ig ^ 讨和下包層,在下包層上 -置上賴疋圖索的芯部,進而自其上形成上包層。 並且、’上述光波導例如可以如下製作。即,在棍到親 方式中首先,在由第一輥捲放出的撓性基材上塗布上述 樹脂組合物(清漆),適當熱乾燥,形成未硬化層(塗膜層) 後’將其捲取到第二親上。接著,以規定圖案對由上述第 一輥捲放出的撓性基材上的未硬化層進行紫外線照射,此 後進行60〜15〇 c Χ5〜30分鐘的加熱處理,來使上述未硬化層 的1外線照射區域硬化,形成光波導的芯部’職將其捲 取到第二輥上。接著,藉由顯影液(喷塗顯影)來將由上述第 二輥捲放出的撓性基材上的未硬化部分(紫外線未照射區 域)溶解除去後,將其捲取到第四輥上。經由如此的程序來 製作上述光波導。而且,上述樹脂組合物具有可兼顧未硬 化層的撓性和高圖案化解析度而不表現黏性的特徵,因此 •sf以較佳地適用於上述如此的需要捲取操作的輥到輥方 式。其結果,其生產性優異。 對於上述芯部的形成中之規定圖案(光波導圖案)的紫 外線照射’例如可以藉由隔著光罩模進行紫外線曝光等光 照射來進行。而且’上述光照射可以使用低壓汞燈、高壓 汞燈、超高壓汞燈、氙氣燈等作為光源來進行,作為照射 量’較佳為100〜3000mJ/cm2。 另外’藉由上述紫外線照射,上述塗膜層的曝光區域 會成為芯部,未曝光區域(未照射紫外線區域)可以進行利用 顯影液的溶解除去,另外,除此之外,例如可以藉由加熱 12 201144377 處理來使其熱硬化而作為光波導的包層部 作為上述挽性基材’例如可列微 田祕 舉光硬化環氧薄膜'聚 對本二曱酸乙二醇酯(PET)薄膜、中_ 一 A奈一甲酸乙二醇酯薄 膜、㈣亞胺薄膜、_、不銹Μ等金屬”。而且, 其厚度通常設定在ΙΟμιη〜5mm的範園内 此外,對於上述撓性基材,根據情況其自身即可作為 包層的基材’ Μ«需要’亦也μ在上述撓性基材上形 部n根據需要,亦可以 在上述以卩上形成上包層。詳言之,餘下述步驟製作: 在上述撓性基材上形成包層料㈣㈣並硬化,形成下 包層’在上述下包層上形成芯部材料的塗膜並進行利用規 定圖案曝光的紫外線硬化,此後,藉由顯影液溶解除去未 硬化部分,形成芯部,進而在其上形成包層部材料的塗臈 並硬化’形成上包層。此外,上述兩包層的硬化可以是熱 硬化亦也可以是紫外線硬化。 在上述光波導的製造方法中,塗膜層的形成方法除了 輥到輥方式以外,例如也可以應用基於旋轉塗布機、塗布 機、圓盤塗布機(disk coater)、棒塗布機等的塗布法、網版 印刷法、靜電塗裝法。 另外,如果不應用輥到輥方式,則作為上述基材,例 如可以使用石英玻璃板、矽晶片、陶瓷基板、玻璃環氧樹 脂基板等非撓曲性基材。 此外,如上所述地得到的光波導也可以藉由剝離除去 基材來製成薄膜狀光波導。在製成如此構成的情況下,可 13 201144377 撓性變得更優異。 而且,本發明的光波導例如可以作為直線光波導(linear optical waveguide)、彎曲光波導(curved optical waveguide)、交又光波導(cross optical waveguide)、Y分支 光波導(Y-branched optical waveguide)、條形介質光波導 (slab optical waveguide)、馬赫-澤德型光波導(Mach-Zehnder optical waveguide)、AWG 型光波導(AWG optical waveguide)、光柵(grating)、光波導棱鏡(optical waveguide lens)等使用。而且,作為使用此等光波導的光學元件,可 以列舉慮波器(wavelength filter)、光學開關(optical switch)、光學分路器(optical demultiplexer)、光學復用器 (optical multiplexer)、光波分複用器(optical multiplexer/ demultiplexer)、光學放大器(optical amplifier)、波長調製器 (wavelength modulator)、分波器(wavelength divider)、分光 器(optical splitter)、定向耦合器(directional coupler)、以及 混合集成有雷射二極體、光電二極體的光傳輸元件等。 實施例 接著,與比較例一起說明實施例。然而,本發明並不 受此等實施例限定。 首先,在實施例和比較例之前,準備以下示出的各材料。 低分子量環氧聚合物A1(A成分) 157S70(Mw : 900,芳香族系多官能環氧聚合物), JAPAN EPOXY RESINS CO_,LTD.製造 低分子量環氧聚合物A2(A成分) 14 201144377 YDCN-700-10(Mw : 1400 ’芳香族系多官能環氧聚合 物),東都化成公司製造 高分子量環氧聚合物B1(B成分) MARPROOF G-0250SP(Mw : 20000,芳香族系多官能 環氧聚合物),日本油脂公司製造 高分子量環氧聚合物B2(B成分) MARPROOF G-0130SP(Mw : 10000,芳香族系多官能 環氧聚合物),日本油脂公司製造 液態環氧單體(C成分) JER828(雙官能的芳香族系環氧單體),japan EPOXY RESINS CO., LTD.製造 氧雜環丁烷單體
Tris P-RK-OX,本州化學公司製造 乳酸乙酯(溶劑) 乳酸乙酯,和光純藥工業公司製造 光酸產生劑(D成分) CPI-200K,San-AproLtd.製造 實施例1 將10g上述高分子量多官能環氧聚合物B1、85g低分子 1多S能%_乳1合物Al、5g液態氧單體與Hg乳酸乙醋混 合,在85°C的加熱下使其等完全溶解。此後,將上述混合 物冷卻至室溫,進一步添加4g光酸產生劑並混合,由此得 到光波導形成用樹脂組合物(清漆)。 然後,使用塗布器將如此得到的清漆塗布(塗布器間 15 201144377 隙:120μηι)在光硬化環氧薄膜層(厚度:15叫^上,在i5〇<>c 的乾燥射進行3分賴熱乾燥’彳㈣未硬化芯薄膜層。接 著,隔著光罩模對上述未硬化_層進行基於曝光裝置的 紫外線⑽線)曝光(綱⑽細2),其後進行⑽。Cxi〇分鐘的 加熱,使其部分硬化。此後,制噴霧顯職,進行基於γ_ 丁内醋的顯影,進-步進行水洗 '乾燥,由此製作光波導 圖案(經圖案化的怎層)。此外’上述这層的圖案化形成如 下.其截面凸部的寬度與截面凹部(槽部)的寬度均為 15μηι ’長寬比(縱橫比)約為3。 實施例2〜7、比較例1〜6 *除了如後述表1和表2所示地改變各成分材料的配合量 等以外,根據實施例丨來製備光波導形成用職組合物(清 漆)。而且,除了使用該清漆以外,用與實施例lfg]樣的方 法製作光波導圖案。 對於如此得到的實施例i〜7和比較例i〜6的樹脂組合 物’按照T述基準進行各特性的 4結果-併示於後 述表1和表2。 撓性 對於形成有紫外線照射前的未硬化芯薄膜層的光硬化 j»ro ^ 长_溥犋,使該未硬化芯薄膜層側朝外來進行彎曲 (㈣cm)。然後’將經過該f曲而未硬化g膜層未產生破裂 一 '仏為〇,將產生破裂的評價為χ。此外,將產生不影響 =際使用的程度的破裂的評價為△。在本發明中,要求評 價為△以上(〇和△)。 16 201144377 解析度 將光波導圖案(經圖案化的芯層)的截面形狀拍成顯微 鏡照片,根據該照片,將未確認到芯層的截面凸部的傾倒 (collapse)、變形(variation)的評價為〇,將未確認到芯層的 載面凸部的傾倒但確認到變形的評價為△,將確認到芯層 的截面凸部的傾倒和變形的評價為X。此外,在本發明中, 要求評價為△以上(〇和△)。 黏性 將光波導形成用樹脂組合物(清漆)塗布並乾燥來製作 未硬化薄膜。然後,如下對其表面的黏性進行評價。即, 在上述未硬化薄膜上放置sus板,進—步載置3kg的重石, 放置一晚,然後在剝離上述SUS板時確認未硬化薄膜是否 黏附,將確認到黏性(表面黏著性)的薄膜評價為x,將未確 認到黏性的薄膜評價為〇。 表1 低分子量環氧聚合物 高分子量環氧聚合物 液態環氧單體 單體 iSZsT" 光酸產生劑 撓性 ϋ ϊϊ5~~
17 201144377 表2 (g)
實施例 1 2 3 4 5 6 7 低分子量%氧聚合物 A1 95 75 - - 100 85 A2 - - - - - - 高分子量環氧聚合物 B1 - 20 80 100 - 10 B2 - - - - - - 液態環氧單體 5 5 20 - - 13 氧雜環丁烷單體 - - - - - - 乳酸乙酯 55 55 55 55 55 55 光酸產生劑 4 4 4 4 4 4 撓性 X 〇 〇 〇 X 〇 解析度 〇 X X X X 〇 黏性 〇 〇 X 〇 〇 X 由上述結果可知,實施例1〜7的樹脂組合物兼顧了未硬 化層的撓性和高圖案化解析度而未表現出黏性。因此,可 以應用於親到親(roll to roll)方式這樣的連續程序。 與此相對,由於比較例!〜6的樹脂組合物的低分子量環 氧聚合物(A成分)與高分子量環氧聚合物(B成分)與液態環 氧單體(C成分)的比例不在本發明所規定的特定範圍内,因 此其未能得到上述這樣的實施例1〜7的樹脂組合物的作用 效果。 L圖式簡單說明3 (無) 【主要元件符號說明】 (無) 18
Claims (1)
- 201144377 七、申請專利範圍: 1. 一種光波導形成用樹脂組合物,係含有下述(A)成分〜(D) 成分者,其特徵在於,相對於總量100重量份的(A)成 分、(B)成分和(C)成分,(A)成分設定為80〜90重量份的 範圍,(B)成分設定為5〜15重量份的範圍,(C)成分設定 為1〜10重量份的範圍,且 (A) 重量平均分子量Mw為500〜5000的芳香族系多 官能環氧聚合物, (B) 重量平均分子量Mw為10000〜50000的芳香族系 多官能環氧聚合物, (C) 單官能的液態芳香族系環氧單體、雙官能的液 態芳香族系環氧單體、三官能的液態芳香族系環氧單體 中的至少一種, (D) 光酸產生劑。 2. 如申請專利範圍第1項所述的光波導形成用樹脂組合 物,其進一步含有氧雜環丁烷單體。 3. —種光波導,係具備傳輸光信號的芯部、和包層部,其 特徵在於,上述包層部和芯部中的至少一方由如申請專 利範圍第1或2項所述的樹脂組合物形成。 19 201144377 四、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:第( )圖。(無) (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 五、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式:
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010109631A JP5308398B2 (ja) | 2010-05-11 | 2010-05-11 | 光導波路形成用樹脂組成物およびそれを用いた光導波路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201144377A true TW201144377A (en) | 2011-12-16 |
TWI504665B TWI504665B (zh) | 2015-10-21 |
Family
ID=44911841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW100116128A TWI504665B (zh) | 2010-05-11 | 2011-05-09 | 光波導形成用樹脂組合物及使用其的光波導 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8437598B2 (zh) |
JP (1) | JP5308398B2 (zh) |
KR (1) | KR101606221B1 (zh) |
CN (1) | CN102253598B (zh) |
TW (1) | TWI504665B (zh) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20130205455A1 (en) * | 2012-02-07 | 2013-08-08 | University Of Western Australia | System and method of performing atomic force measurements |
JP2014102348A (ja) * | 2012-11-19 | 2014-06-05 | Nitto Denko Corp | 光導波路形成用樹脂組成物およびそれを用いた光導波路ならびに光伝送用フレキシブルプリント基板、およびその光導波路の製法 |
JP6026347B2 (ja) | 2013-04-23 | 2016-11-16 | 日東電工株式会社 | 感光性エポキシ樹脂組成物および光導波路コア層形成用硬化性フィルム、ならびにそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板 |
JP6034742B2 (ja) | 2013-04-26 | 2016-11-30 | 日東電工株式会社 | 光導波路用感光性エポキシ樹脂組成物、光導波路形成用硬化性フィルム、およびそれを用いた光導波路ならびに光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板、およびその光導波路の製法 |
JP6332590B2 (ja) | 2013-11-08 | 2018-05-30 | 日東電工株式会社 | 光導波路用感光性樹脂組成物および光導波路コア層形成用光硬化性フィルム、ならびにそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板 |
JP6566417B2 (ja) | 2015-06-18 | 2019-08-28 | 日東電工株式会社 | 光導波路形成用感光性エポキシ樹脂組成物および光導波路形成用感光性フィルム、ならびにそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板 |
JP6694180B2 (ja) | 2016-01-29 | 2020-05-13 | 日東電工株式会社 | 光導波路形成用感光性エポキシ樹脂組成物および光導波路形成用感光性フィルム、ならびにそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板 |
JP6830808B2 (ja) | 2016-12-21 | 2021-02-17 | 日東電工株式会社 | 光導波路形成用感光性エポキシ樹脂組成物、光導波路形成用硬化性フィルムおよびそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板 |
JP7224802B2 (ja) * | 2018-07-31 | 2023-02-20 | 日東電工株式会社 | 光導波路形成用感光性エポキシ樹脂組成物、光導波路形成用感光性フィルムおよびそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0793331B2 (ja) * | 1986-11-22 | 1995-10-09 | 東芝ケミカル株式会社 | 半導体素子 |
DE69302523T2 (de) * | 1992-06-17 | 1997-01-16 | Nippon Catalytic Chem Ind | Copolymer auf Basis von Maleimid und Verfahren zu seiner Herstellung |
JP2001281475A (ja) | 2000-03-29 | 2001-10-10 | Hitachi Chem Co Ltd | 光導波路用有機・無機複合材料及びそれを用いた光導波路の製造方法 |
AU2001268465A1 (en) * | 2000-06-15 | 2001-12-24 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton curing to provide encapsulated optical elements |
JP5102428B2 (ja) | 2003-11-25 | 2012-12-19 | ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. | 導波路組成物およびこれから形成された導波路 |
JP2005274664A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Jsr Corp | 光導波路形成用感光性樹脂組成物および光導波路 |
DE602005001341T2 (de) * | 2004-04-14 | 2008-02-21 | Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C., Marlborough | Zusammensetzungen für Wellenleiter und daraus hergestellte Wellenleiter |
WO2008110512A1 (en) * | 2007-03-14 | 2008-09-18 | Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh | Photocurable compositions for preparing abs-like articles |
JP2009186979A (ja) * | 2008-01-07 | 2009-08-20 | Hitachi Chem Co Ltd | 光導波路複合基板の製造方法 |
US20090186966A1 (en) * | 2008-01-22 | 2009-07-23 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Thermoplastic polyestercarbonate composition |
JP5449688B2 (ja) * | 2008-03-26 | 2014-03-19 | 太陽ホールディングス株式会社 | 光硬化性熱硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物並びにそれらを用いたプリント配線板 |
KR20110014150A (ko) * | 2008-05-13 | 2011-02-10 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 광도파로의 제조 방법 및 광도파로 |
-
2010
- 2010-05-11 JP JP2010109631A patent/JP5308398B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-05-02 US US13/098,699 patent/US8437598B2/en active Active
- 2011-05-09 TW TW100116128A patent/TWI504665B/zh active
- 2011-05-09 KR KR1020110043558A patent/KR101606221B1/ko active IP Right Grant
- 2011-05-09 CN CN201110118570.7A patent/CN102253598B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011237645A (ja) | 2011-11-24 |
KR101606221B1 (ko) | 2016-03-24 |
CN102253598A (zh) | 2011-11-23 |
CN102253598B (zh) | 2015-03-25 |
US20110280531A1 (en) | 2011-11-17 |
TWI504665B (zh) | 2015-10-21 |
KR20110124718A (ko) | 2011-11-17 |
US8437598B2 (en) | 2013-05-07 |
JP5308398B2 (ja) | 2013-10-09 |
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