TW201144077A - Dry laminate method and laminated article obtained with such method - Google Patents

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201144077 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關乾式積層方法及以該乾式積層方法製 得之積層物。 【先前技術】 -作為將各種歸薄购絲㈣方法、將塑膠薄膜與 $金屬._之_薄卿貼的方法、或是塑膠薄膜與金屬 落片黏貼的方法，一直以來是藉由乾式積層方法來進行。 2式積層方法是將在有機溶誠水等之溶射稀釋的接著 背J在基材上塗布後，以乾燥機揮發溶劑，一面加熱與壓力， 一面與另一基材黏貼之方法。 作為在乾式積層方法中使用的接著劑者，大部分是使 用2液硬化型之有機溶劑型接著劑。例如’在第i液中’ $將聚㈣脂或聚胺醋樹脂等之含有m基樹脂溶解到有機 洛劑^溶液，在第2液中，係含有聚異氰酸醋化合物。 前述有機溶劑型接著劑是含有大量之有機溶劑。因 此^吏用該等之乾式積層方法，抱有由於排氣而污染環境、 ^災爆發之危險性、作業環境之衛生性阻害等的很多問 題。以往之有機溶劑型接著劑由於固形分在3〇質量％以 下’故接著齊 1塗布後，在有機溶劑揮發之際會有大量之有 2溶劑被排放到外面去。在此’有提案使有機溶劑之含有 量降低之高固形分的高固（h_ solid)型接著劑（來昭專 利文獻1)。 一导 然而，將相關之高固型接著劑在利用以往之凹版 322077 4 201144077 (graVUre)方式的乾式積層方法中使用時，於積層後之積層 體的^面上，沿著塗布之流動方向會出現筋狀之模樣。為 此’得不到均句之外觀，而有很難有良好加工品的問題存 在。又，積層後之積層體會剝離成随道狀，而會出現所謂 的隧道式現象之情形。 a ° #近年’由於勞動作業環境之改善、消防法的強化、對 大氣中之V0C (揮發性有機化合物）之排放規定等之要求， 而強烈地要求接著#丨之齡機溶㈣。因此 使用經水性化的水性接著劑，乾式積層方 = 用水性接著劑之乾式積層方法中，作業環境之 上之問題及對大氣中之VQC的排放等問題是有改善。然 而’部產生了水性原因的本質上之新問題。即，由於水之 表面張力的高度而力起之對塑膠基材的濕霜不良，在積層 後之積層體的表面，會出現筋狀模樣而得不到之 的問題。 [先前技術文獻] (專利文獻） 專利文獻1 :日本特開2005-298588號公報 【發明内容】 (發明欲解決的課題） 本發明的課題是提供積層後之積層體的外觀良好， 且’不發生制式現象之乾式積層方法及藉由 方法而得之積層體。 气積層 (解決課題之手段） 322077 201144077 本發明人等為了解決上述課題而作了各種檢討的結 果發現，將固形分在35質量％以上之接著劑以凹版方式塗 布之際，藉由選擇在鐵心經鉻電鍍凹版（Gravure ;以下簡 稱凹版）之凹版線數及單元容積（cell volume)，或是選擇 以電子雕刻機雕刻之凹版雕刻針（stylus)角度與凹版線 數，或是選擇在鐵心經陶瓷塗布之陶瓷輥筒（以下簡稱陶瓷 輥筒）之凹版線數及單元容積，不管是有機溶劑型接著劑及 水性接著劑積層後之積層體的外觀會變良好，遂而完成本 發明。 本發明之一個實施態樣，係有關將經由溶劑稀釋之固 形分35質量％以上之接著劑以凹版方式在薄膜上塗布 後，將溶劑揮發，而與其他之薄膜黏貼而得積層體之乾式 積層方法，其特徵為使用 凹版線數為135至270線/11寸、單元容積為10至30 cc /m2的凹版、 以雕刻針角度為120至140°、凹版線數為120至270 線/吋的電子雕刻機雕刻之凹版，或是 在陶瓷輥筒使用凹版線數為135至350線/吋、單元 容積為10至30 cc/m2的陶瓷輥筒，而塗布前述接著劑之 乾式積層方法。 前述接著劑是有機溶劑型接著劑或是水性接著劑。 又，本發明的一個實施態樣，係有關藉由前述之乾式 積層方法而得之積層體。 本發明之主題是有關在日本之專利申請案 6 322077 201144077 2008-325327 號f9nno > (2008 年 12 月 22 日申請）及 2008-333277

號（2008 年 12 月 Orfaj·*、t-M 26曰申请）’參照此專之全部申請說明書 而組合者。 (發明之效果） 依照本發日—實施態樣，可以提供積層後之積層體 的外觀'又有筋狀或橘皮肌（orange peel)狀之模樣，沒有 擦傷有均勻表面 、作又名 _ ^ /的加工扣，並且，不會產生隧道式現象之 [二二‘式f以及經由該乾式積層方法而得之積層體。 (發明實施之最佳形態） 乾式積層方法，係將經由溶劑稀釋成固形 3W以上之接著劑以凹版方式在薄膜上塗布後成將溶刀 劑揮發’並與其他之薄膜㈣而得積層體的乾式積層方法 中’使用以下之⑴至（iii)中任一種方式來塗布前述接著 劑0 (i) 凹版線數為135至270線/吋、單元容積為1〇至 30 cc/m2的凹版（以下，當作凹版（1)。） (ii) 以雕刻針角度為120至140。、凹版線數為丨2〇至 270線/吋的電子雕刻機雕刻之凹版（以下，當作凹 版（II)。） (iii)在陶瓷輥筒之凹版線數為135至350線/时、單元 容積為10至30 cc/m2的陶瓷輥筒。 (凹版（I)) 至270線/忖、單

首先，說明有關凹版線數為135 322077 7 201144077 容積為10至30 cc/m2的凹版。 凹版（I)之凹版線數為135至350線/吋，較佳是135 至255線/11寸。 使用凹版線數為135線/吋以上的凹版將固形分35 質量％以上之接著劑塗布時，在塗布之流動方向不會發生 添加筋狀之模樣，得到積層後之積層體有良好之外觀品質。 另一方面，凹版線數為270線/吋以下的凹版，因為 單元容積可以作成10 cc/m2以上故可以確保有充分之塗 布量。因此，接著性能良好，可得良好之外觀品質。 凹版（I)之單元容積是10至30 cc/m2，而以10至27 cc/m2為佳。前述單元容積在10 cc/m2以上時，可以確 保接著劑之充分塗布量。因此，接著性能良好，可得良好 之外觀品質。又，前述單元容積在30 cc/m2以下時，硬 化時間短作業性優，在積層後之積層體不會產生隧道式現 象。 凹版（I)之版深是無特別限定，而以25至100/im為 佳，以27至85//m更佳。前述版深在25/zm以上時，於塗 布表面不會產生擦傷模樣，100# m以下時硬化時間短。 凹版（I)之形狀並無特別限定，例如可列舉：角錐 (pyramid)形版、格子版、斜線版等。 製件凹版（I)之方法並無特別限定，可以用一般之製 版方法作成。可列舉如：雷射製版、雕刻（Helio)、俄亥俄 (Ohio)、通用（vulgus)等之電子雕刻製版，藉由轉刻之雕 刻版、藉由腐蝕法之傳統製版等。 8 322077 201144077 (凹版（II)) 得 到良好. 其次’說明有關以雕刻針角度為12〇至14〇d 數為120至270線/吋的電子雕刻機雕刻之凹版凹版線 凹版（II)是用電子雕刻機雕刻之版。電 德國製的雕刻版、美國製的俄亥俄版、日本制刻機雖有 版等，但最具代表性的是雕刻版。以電子雕^的Vulgus 版是與藉由轉刻之雕刻版或藉由腐蝕法的腐=機雕刻之凹 同，單元（凹部）之開口部廣，單元與單元間之版的形狀不 所謂的「堤」部分變成狹窄形狀。因此/即未雕刻部分， 的接著劑”在_時，在薄膜上接著劑也卩^將高固形分 凹版（Π)的凹版線數為120至27〇線又好地t平。 至255線/吋為佳。前述凹版線數為12〇線^，而以135 在塗布之流動方向不會發生添加筋狀之模樣，呀以上時， 之積層體有良好之外觀品f。在27() “ 積屬後所 確保有充分之塗布量，接著 下時， 觀品[ 接者^良好，得到良好之外 又’凹版（π)之雕刻針角度是12〇至如 130。為佳。前述雕刻針角度為120。以上0士 ’以吻至 方向不會發生添加筋狀掸 τ在塗布之 好之外觀品，積層後所得動 日士，喊广…士 故在成本方面有矛IJ。/性優， “性能良的深度，可以確保有充分之下 雕刻針角度二之外觀品質。〜 此趣雕刻; 322〇77 子雕刻機之刀刀角度，使用 201144077 之凹版單元（凹部）的尖端角度因為是與刀刃同一角度，故 單元的尖端角度也稱為雕刻針角度。單元是以電子雕刻機 之瓚石刀刃（雕刻針），在金屬製之凹版胴體之表面雕刻成 倒角錐形而製作。磺石刀刃1是如第1圖所示尖端為作成 尖的形狀，藉由適當選擇瓚石刀刃的尖端角度就可以調整 單元之尖端角度在所期望之值内。 在第2圖，表示單元形狀之概念圖。單元形狀雖有壓 縮型（compresed)(10)、正常型（normal)(ll)、拉長型 (elongated)(12)、強制型（coerce)(13)、良好型（f ine)(14) 等5種類，但通常主要是使用壓縮型（10)、拉長型（12)、 強制型（13)、良好型（14)的種類。單元是在由電子雕刻機 作成四角錐之凹部的圓柱中（cy 1 i nder)雕刻。在第2圖， 「軸方向之對角線」是指在圓柱之轴方向中之單元對角線 之意，「圓周方向之對角線」是指在圓柱之圓周方向中之單 元對角線之意。 嚴格而言，單元形狀是由單元雕刻之角度、單元對角 線之相對長度來決定。單元雕刻之角度係指，在圓柱轴方 向通過連續的單元對角線之交點的通過線，與，在圓柱軸 之斜方向通過連續的單元對角線之交點的通過線，為相互 交叉的角度。 單元之深度與容積是藉由單元形狀、凹版線數、雕刻 針角度、單元的對角線長度而決定。又，即使凹版線數與 雕刻針角度是相同之單元，由於形狀之不同，單元之深度、 單元之容積、單元之對角線長度也變得不同。例如，凹版 10 322077 201144077 線數為175線/吋、雕刻針角度120°時之例子在表1中， 凹版線數為175線/吋、雕刻針角度130°時之例子在表2 中表示。 表1 凹版線數為175線/吋、雕刻針角度120° 單元形狀 軸方向之 對角線 圓周方向之 對角線 深度 容積 (#m) (#m) (ym) (cc/m2) 壓縮型 180 170 52 23 拉長型 140 205 40 17 粗才造型 180 255 52 22 細微型 120 125 35 15 表2 凹版線數為175線/吋、雕刻針角度130° 單元形狀 軸方向之 對角線 圓周方向之 對角線 深度 容積 ("m) (/im) (μπι) (cc/m2) 壓縮型 180 170 42 18 拉長型 140 205 32 14 粗糙型 180 255 42 18 細微型 120 125 28 12 凹版（II)之單元容積並無特別限定，而以10至30 cc /m2為佳，較佳是10盖27 cc/m2。前述單元容積在10cc /m2以上時，可以確保接著劑之充分塗布量，接著性能變 良好。又，前述單元容積在30 cc/m2以下時，硬化時間 縮短作業性優，積層後之積層體不會發生隧道式覌象。又， 11 322077 201144077 並無1別限定，而以20至⑽㈣為佳， 右 #m。刖述單元深度為25/ζιη以上時，在參 :表面不會產生擦傷模樣，在一以下時，硬化時間: (陶瓷滾茼） 、單元容積 至3:=版線數為丨8°至卿線〜…- 分35使質用旦1數為135線/相上之陶竟滾筒塗布固形 汚加1里。接著劑時’在塗布之流動方向不會發生 "Γ一之模樣’積層後得到之積層體有良好之外觀品質。 陶竟滾：方:二究滚筒之凹版線數為350線/吋以下之 以確伴有穿八夕;cc/ln以上，故可 之外觀3:之塗布量1此，接著性能良好，得到良好 27陶/滾同之單元容積是10至30CC/m2,而以10至 雄cc/二為佳。前述單元容積為i〇 cW以上時，可以 ?好^劑有充分的塗布量。因此，接著性能良好，得到 ^化日^門觀品^又’前述單元容積為3G Cc/m2以下時， 式現象。曰^短作業性優’在積層後之積層體不會發生隧道 陶=筒之版深並無特別限定，而以烈至副”為 义疋27至85<am。前述版深為25/zm以上時，在塗 322077 12 201144077 布表面不會產生擦傷模樣，在1〇〇//m以下時，硬化時間縮 短0 、 陶《•滾筒之形狀並無特別限定，例如可列舉，蜂巢 :(honeycomb)®* . (dia pattern) 11 ^ •等。第3圖之（a)表示蜂巢圖案（單元度3〇度）、（b)表示蜂 巢圖案（單元度60度）、及（c)表示鑽石圖案（單元度奶度）。 ,製作陶瓷滾筒之方法並無特別限定，可以使用一般的 製版方法作成。例如，在鐵芯中以容易作成陶究滾筒方式 作底ik布在其上以電漿炫射方法使陶莞層塗布成0.3至 〇· 5 mm。將此表面藉由鑽石研磨石研磨，在雷射雕刻機上 使指定線數、容積、圖案一致而雕刻。 (接著劑） 本發明之乾式積層方法使用之接著劑，只要藉由溶劑 稀釋之固形刀在35質量％以上者即可，而無特別限定，可 以使用有機溶劑型接著劑，也可以使用水性接著劑。前述 固形分為35質量％以上時，可以確保塗布量，接著性能優。1 前述固形分是以在35‘至55質量％為佳，以在35至5〇質量 %更佳。 +作為有機溶劑型接著劑者，可舉例以有機溶劑溶解有 接著機能之樹脂者。作為如此之樹脂者，例如列舉：聚酯 系樹脂、聚_系樹脂、聚醋_系樹脂、聚胺醋系樹脂、聚 醋胺醋系樹脂、聚醚胺酯系樹脂、聚㈣胺酯系樹脂。此 等接著劑也有使用單獨樹脂之情形，但一般是與混合聚異 氰酸酯化合物之硬化劑組合，作為2液硬化型接著劑使用^ 322077 13 201144077 為聚g旨系樹脂者’可列舉：將二元酸或是此等之二 院^曰或此等之混合物，與二醇類或是此等之混合物反應 二&髹S曰系树脂或是將内酯類開環聚合而得之聚酯系樹 脂=為二元酸者，可列舉如：對苯二m間苯二甲酸、 己=敲、壬二酸、癸二酸。作為二醇類者，可列舉如··乙 f醇、丙二醇、二乙二醇、丁二醇、新戊二醇' U—己二 =基1,5-戊二醇、3,3’ _二羥甲基庚烷、聚氧化乙 歸：醇、聚氧化丙婦二醇、聚四亞甲基_二醇。作為内醋 ;員，例如列舉··聚己内g旨、聚戊内酉旨、聚（石-甲基 戊内酯）。 人作為聚_系樹脂者’列舉如將氧化合物使用起始劑聚 5而f之聚㈣樹脂。作為氧化合物者可列舉如：環氧乙 、匕衣氧两燒、環氧丁燒、四氫σ夫喃。作為起始劑者例如： =乙二醇、丙二醇、三經基甲基丙焼、料等之低分量 …作為聚㈣系樹脂者，可列舉，二元酸或是此等之二 ==此等之私物與上述㈣系難反_得之聚驗 曰^脂。作為二元酸者，列舉如：對苯二㈣、間笨二 甲酉夂、己二酸、壬二酸、癸二酸。 元 作為聚胺醋系樹脂者，係在j分子中有胺醋結合之 醇與有機多錢酸自旨（PQ 1 yi咖y咖te，有稱 M之情形)反應而得，為多元醇者，例如列舉:數平氛 =子量至2〇，_之聚醚多元醇、聚醋多元醇、聚㈣ 夕价(以下’稱為有機多元醇⑴)。反應之際的_/ 322077 14 201144077 OH的比是不滿1，而以0. 9以下為佳。作為上述多元醇者， 可以使用其之分子中（分子内部或分子末端）有羧基者，（以 下，稱為有機多元醇（2))。有機多元醇（2)是藉由所期望之 上述的有機多元醇（1)與多元酸或是其之酸酐反應而得。此 時作為所使用之有機多元醇（1)者，係在分子末端含有2 個以上之羥基，數平均分子量為1，000至100, 000，而以 使用在3, 000至15, 000者為佳。在1，000以上則無凝集 力，在100, 000以下，則合成上、在末端容易使元多酸或 是其酸奸反應，不怕會增黏或凝膠化。.作為多元酸或是其 酸酐者，例如雖可列舉：苯二酸、偏苯三酸、均苯四酸等 芳香族系多元酸及其酸酐，但以此等之酸酐的苯二酸酐、 偏苯三酸酐、均苯四酸酐等為特別適合。作為酸酐者，從 此等之酸酐所衍生之乙二醇雙偏苯三酸酐酯、甘油參偏苯 三酸酐酯、乙二醇雙均苯四酸酐酯、甘油參均苯四酸酐酯、 或可以使用松脂成分之松香酸（abietic acid)、CioHie二嫦 化合物或是在此等混合物中馬來酸酐之加成反應的衍生物 寺。-

有機多元醇（2)之合成，也可以是在有機多元醇（1)之 合成後，將多元醆或是其之酸酐，而較佳是將多元酸酐在 加熱下添加並以2階段進行。又，也可以在有機多元醇之 合成時，由多價羧酸與多元醇以一階段合成有機多元醇 (2)。與此等多元酸酐之反應，由於接著劑組成物之接著性 能，例如，财熱水性、对油性、耐酸性等提高，而顯示有 促進效果。有機多元醇與多元酸酐之反應，係藉由多元酸I:SJ 15 322077 201144077 酐之開環反應而醋化反應變成主反應方式，有必要控制反 應溫度在200。(：以下，較佳是在15〇至職之範圍内。相 對於有機多元醇，兩者之反應比率係將多元酸肝之量設成 有機多元醇之分子中的經基消費在40 %以上之量。在此之 「心是指將有機多元醇之分子中的㈣個數當作基準者。 上述數值在40 %以上時，所得組成物之耐酸性優。又，作 為多元酸酐者，即使使用脂肪族多韻酸酐，也同樣在分 導人絲，但此_看不到_性之提高。為此， 2魏性之觀點而言時，使用脂肪族多價細㈣並不佳。 ^者’有機多謂⑴令使用聚醋多元醇或聚㈣多元醇 時，作為此等之出發原料的_者只使用 ，時’有機多謂⑴之物性在控制上會有輸生·^ nr是4價多價⑽，係產生分枝有機多元醇⑴， =凝=又人芳香族系多價㈣因為有昇華性， 或脫制之合成時’此等昇華物會附著在反應鍋中 造上會有困難之情形。此點，使用在該 =中有竣基之有機多元醇（有機多元醇⑵）時’可以避開 三亞曱基二異氣酸輯、:亞甲Γ醋者，可列舉如，例如： s ^ ^ 亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基- 異氰酸酯、1,2-伸丙基二異 * 醋、伸丁基二異氣酸酿'?’2其伸丁基二異氛酸 〇 . , .. 9 9 , 曰L 3-伸丁基二異氰酸酯、 ，，或，，〜二曱基六亞甲基二異氰酸昱 酸酯甲基己酸酯等脂肪族二 ，〜、氰 酸酉旨、環己境二異氰_认酉曰，^卞己炫二異氰 、曰、3-異氰酸酯曱基_3, 5, 5 _ 322077 201144077 » 二甲基環己基異氰酸酯、4, 4，_亞f基雙（環己基異氰酸 醋）、甲基2, 4-環己烷二異氰酸酯、甲基2, 6-環己烷二異 氛酸醋、丨，4-雙（異氰酸酯甲基）環己烷、1，3-雙（異氰酸酯 s 甲基）環己烷等脂環式二異氰酸酯；間-苯基二異氰酸酯、 . 對-苯基二異氰酸酯、4, 4，-二苯基二異氰酸酯、1，5-萘基 二異氛酸醋、4, 4，-二苯基甲烷二異氰酸酯、2, 4_或2,6-甲笨伸二異氰酸酯或是此之混合物、4, 4’ -甲苯胺二異氰 酸酯、聯甲氧基苯胺二異氰酸酯、4,4，—二苯基醚二異氰 酸酉曰等芳香族二異氰酸酯、1，3-或1，4-二甲苯二異氰酸酯 或此之混合物、ω，ω, _二異氰酸酯_丨，4_二乙基苯、丨，3一 或1，4-雙（1-異氰酸酯_丨-曱基乙基）苯或此之混合物等之 芳香月日肪族二異氰酸酯、三苯基曱烧-4,4，，4” -三異氰酸 酉曰、1，3, 5-二異氰酸酯苯、2, 4, 6_三異氰酸酯甲苯等有機 17 201144077 内酯多元醇、丙烯基多元醇、聚碳酸酯多元醇、聚羥基烷、 篦麻油、聚胺酯多元醇等之附加體等。 作為有機溶劑型接著劑的硬化劑而使用的多異氰酸 酉旨化合物者，係例示上述有機聚多氰酸自旨。 又，水性接著劑可列舉如：水性聚胺酯接著劑、水性 丙烯酸接著劑、水性聚酯接著劑、水性聚醚接著劑等。 水性聚胺酯接著劑，也可以是將聚胺i旨化合物分散或 溶解在水中的本身乳化型水分散性或水溶解性水性胺酯接 著劑。上述之聚胺酯化合物，係在分子内不含羧基之多元 醇化合物與分子内含有羧基之多元醇化合物及多異氰酸酯 化合物反應而得之有羧基的聚胺酯化合物。又，也可以是 將聚胺酯化合物在使用界面活性之水中強制乳化成水分散 性聚胺酯接著劑。此時之聚胺酯化合物，係由在分子内不 含羧基之多元醇化合物與多異氰酸酯化合物反應而得。在 水性聚胺酯接著劑所使用之在分子内不含羧基之多元醇化 合物，可列舉如：聚酯多元醇、聚醚多元醇、聚醚聚酯多 元醇、聚胺S旨多元醇、聚酷醯胺多元醇、丙稀基多元醇、 聚碳酸酯多元醇、聚羥基烷、篦麻油等。作為含羧基之多 元醇化合物者，可列舉如：二羥甲基丙酸、二羥甲基丁酸 等，但以二羥甲基丁酸為特佳。作為多異氰酸酯化合物者， 可列舉如：曱苯二異氰酸酯、4, 4’ -二苯基曱烷二異氰酸 酯、1,6-六曱基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、.1，5-萘基二異氰酸酯、二曱苯二異氰酸酯等，但以曱笨二異氰 酸酯、及4, 4’ -二苯基曱烷二異氰酸酯為特佳。 18 322077 201144077 '水性丙烯酸接著劑，係將不含羧基之丙烯基單體與含 羧基之丙烯酸單體經乳化聚合而得之水性丙烯酸系接著 劑。 , (乾式積層方法） . 本發明之乾式積層方法，係將上述之接著劑以凹版方 式在薄膜上塗布後，使溶劑揮發，與別的薄膜黏貼而得積 層體。塗布接著劑之際，使用上述之凹版（I)或（II)。在揮 發溶劑之際也可以使用乾燥機，乾燥條件並無特別限定， 乾燥溫度通常是50至90°C。 (薄膜） 在本發明之乾式積層方法中所使用之薄膜是無特別 限定，可列舉如：聚酯、聚醯胺、聚乙烯、聚丙烯等之塑 膠薄膜、鋁、氧化矽、氧化鋁等之金屬蒸鍍薄膜、鋁箔等 之金屬箔等。此之組合、前述塑膠薄膜相互間、塑膠薄膜 與金屬蒸鍍薄膜、塑膠薄膜與金屬箔等。薄膜之厚度也無 特別限定，通舍為5至200 /z m。 依據本發明之乾式積層方法時，如在第4圖概念圖所 示，在第1之薄膜21之上形成接著劑層22，在其上形成 第2之薄臈23而得積層體20。

在本發明之乾式積層方法中，藉由使用高固形分之接 著劑，接著劑之乾塗布量可以確保在1至8 g/m2之範圍， 而得到接著性能優異之積層體。又，使用高固形分之接著 劑也無妨，積層體之外觀是非常優美。為此，可以特別適 合在食品領域之用途。 I •19 322077 201144077 實施例 以下，藉由實施例而詳細說明本發明。但是，下述之 實施例並不侷限本發明。 同時，自實施例A-1至實施例A_4中使用凹版（1)， 自實施例B-1至實施例B-6中使用凹版（π)，自實施例C-1 至實施例C-4中使用陶瓷輥筒。 (實施例Α-1) 將厚度20/zm之雙軸延伸聚丙烯薄膜（〇ρρ;東洋紡績 (股）公司製，PYLEN FILM 〇Τ Ρ-2161 )作為基材，使用以 轉刻方式作成的凹版線數為18〇線/吋、單元容積為丨9 cc /m2之凹版，用乾式積層機（富士機械工業（股）公司製：FL2 型），將高固型有機溶劑型接著劑（東洋M〇rt〇n (股；)公司 製’聚酯系接著劑、TM-550 )以固形分45質量％塗布，使 溶劑藉由乾燥機（溫度6(TC、70°C、8(TC、80°C)揮發後， 將厚度25//m之無延伸聚丙烯薄膜（CPP ; Tohcello(股） 公司製’0此#25)藉由塵輪（_此11)在50。(：積層而得到 積層體。 所仔積層體切成1Q cmx 10 cm之大小後，以精密天秤_ g 疋積層體之重量：A(g)。之後，剝離積層體，將在兩方戈 剝離面上付著的接著劑以醋酸乙酯完全擦栻除去。擦拭去 著劑後之薄膜在8(rc乾燥5分鐘後，以精密天秤測定己. 離之兩方薄膜的重量：B(g)。乾塗布量藉由下述式曾 有 2. 8 g/m2。 w · 乾塗布量（g/m2 ΜΑ-Β)/0· 〇i 322077 20 201144077

I x’以目視觀察所得積層體之外觀時，有均勻之良好 表面，也沒有隧道式現象之發生。 (實施例A-2) 使用以雷射方式製作之凹版線數為200線/吋、單元 • 容積為14 a/m2之版當作凹版，使用固形分45質量％之 水性丙婦酸系接著劑（Rohm and haas.公司製，ROBOND L-250)當作接著劑，其他與實施例A_i同樣之方法得到積 層體。接著劑之乾塗布量是2.1 g/m2。所得積層體之外 觀以目視觀察時，有均勻良好之表面，也沒有璲道式現象 之發:生。 (實施例A-3) 使用以電子雕刻製版（雕刻（Helio)版）製作之凹版線 數為250線/吋、單元容積為16 cc/m2之版（雕刻針角度 為145度）當作凹版，使用固形分45質量％之水性丙烯酸系 接著劑（Rohm and haas.公司製，ROBOND L-250)當作接著 劑，其他與實施例A-1同樣之方法得到積層體。接著劑之 乾塗希量是2.4 g/m2。所得積層體之外觀以目視觀察時， 有均勻良好之表面，也沒有隧道式現象之發生。 (實施例A-4) 使用以電子雕刻製版（雕刻版）製作之凹版線數為137 線/吋、單元容積為26 cc/m2之版（雕刻針角度為145度） 作為凹版，使用固形分45質量％之高罔型有機溶劑型接著 劑（（股）東洋Morton公司製，聚酯系接著劑、TM-550)作為 接著劑，其他與實施例A-1同樣之方法得到積層體。接著！ si 21 322077 201144077 劑之乾塗布量是3. 8 g/m2。所得積層體之外觀以目視觀 察時，有均勻良好之表面，也沒有隧道式現象之發生。 (比較例A-1) 使用以轉刻方式作成的凹版線數為120線/吋、單元 容積為41 cc/m2之版作為凹版，使用固形分45質量％之 水性丙烯酸系接著劑（Rohm and haas.公司製，ROBOND L-250)作為接著劑，其他與實施例A-1同樣的方法得到積 層體。接著劑之乾塗布量是6. 0 g/m2。所得積層體之外 觀以目視觀察時，有隧道式現象之發生。 (比較例A-2) 使用以轉刻方式作成的凹版線數為300線/吋、單元 容積為8 cc/m2之版作為凹版，使用固形分45質量％之高 固型有機溶劑型接著劑（東洋Morton (股）公司製，聚酯系 接著劑、TM-550)作為接著劑，其他與實施例A-1同樣之方 法得到積層體。接著劑之乾塗布量是1. 2 g/m2。所得積 層體之外觀以目視觀察時，產生擦傷。 (比較例A-3). 使用以轉刻方式作成的凹版線數為120線/吋、單元 容積為23 cc/m2之版作為凹版，使用固形分45質量％之 高固型有機溶劑型接著劑（東洋Morton (股）公司製，聚酯 系接著劑、TM-550)作為接著劑，其他與實施例A-1同樣之 方法得到積層體。接著劑之乾塗布量是3. 4 g/m2。所得 積層體之外觀以目視觀察時，產生筋狀之模樣。 (比較例A-4) 22 322077 201144077 使用以轉刻方式作成的凹版線數為140線/吋、單元 容積為34 cc/m2之版作為凹版，使用固形分45質量％之 高固型有機溶劑型接著劑（東洋Morton (股）公司製，聚酯 系接著劑、TM-550)作為接著劑，其他與實施例A-1同樣之 方法得到積層體。接著劑之乾塗布量是5. 1 g/m2。所得 積層體之外觀以目視觀察時，有隧道式現象之發生。 (比較例A-5) 使用以電子雕刻製版（雕刻版）製作之凹版線數為200 線/吋、單元容積為8 cc/m2之版（雕刻針角度為145度） 作為凹版，使用固形分45質量％之水性丙烯酸系接著劑 (Rohm and haas.公司製，ROBOND L-250)作為接著劑，其 他與實施例A-1同樣之方法得到積層體。接著劑之乾塗布 量是1.· 2 g/m2。所得積層體之外觀以目視觀察時，產生 擦傷。 (比較例A-6) 使用以電子雕刻製版（雕刻版）製作之凹版線數為300 線/叫、單元谷積為12 cc/m2之版（雕刻針角度為145度） 作為凹版’使用固形分45質量％之水性丙烯酸系接著劑 (Rohm and haas.公司製，R0B0ND l-250)作為接著劑，其 他與實施例A-1同樣之方法得到積層體。接著劑之乾塗布 量是1. 8 g/m2。所得積層體之外觀以目視觀察時，產生 擦傷。 將以上之結果在表3中表示。 同時，關於表3中之「版深」，係由凹版線數及單元.£ 23 322077 201144077 容積來計算。 表3 實放你1 _ . _ . A-1 A-2 A-3 A-4 A I Λ_9 比4 交例 Λ A 接著剤型 有機溶 劑型 水性 水性 有機溶 劑型 水性 Λ ώ 有機溶 劑型 Α-3 有機溶 劑型 A_4 有機溶 劑型 A-D 水性 Α-6 水性 接著劑的固形分 (ft%) 45 45 45 45 45 45 45 45 45 45 凹版的製法 轉刻 離刻版 雕刻版 Γ¥ί'| 轉刻 轉刻 轉刻 雕刻版 雕刻€ 版深（/zm) 45 1 on on 35 54 「85 20 75 75 30 24 — 凹版蘇取（琢 loU 1 Λ 200 250 137 120 300 120 140 200 3〇〇 早το:相tcc/m ) iy 14 —— Ο 1 16 26 41 8 23 34 8 12 乾式塗布量(g/m2) 2.8 厶I 2.4 3.8 6.0 1.2 3 4 5.1 1.2 18 外觀 良好 良好 良好 良好 隧道式 現象 擦傷 筋狀之 模樣 隧道式 現象 擦傷 擦傷 由表3 ’實施例A-1至實施例a-4，積層後之積層體 的外觀是均勻良好之表面，沒有隧道式現象之發生。相對 於此’凹版線數與單元容積與本發明之範圍偏離之比較例 A-1至比較例A-6,積層後之積層體的外觀是筋狀之模樣或 是產生擦傷而得不到良好之表面，也看得到隧道式現象之 發生。 (實施例B-1) 將厚度20# m之雙軸延伸聚丙烯薄膜（0ΡΡ ;東洋紡績 (股）公司製，PYLEN FILM OT P-2161)作為基材，使用以電 子雕刻製版（雕刻（Helio)版）作成之凹版線數為175線/ 吋、雕刻針角度為120 °、被壓縮、軸方向之對角線180 μ m、 圓周方向之對角線170# m、單元深度52 Am的雕刻版，用 乾式積層機（富士機械工業（股）公司製：FL2型），將高固 型有機溶劑型接著劑（東洋Morton(股）公司製，聚酯系接 著劑、TM〜550)以固形分45質量％塗布，使溶劑藉由乾燥機 24 322077 201144077 (溫度 6(Tc、7〇〇c、8(TC、8(TC)揮發後，將厚度 25#111 之 無延伸聚丙烯薄膜（CPP ; Tohcello(股）公司製，GHC# 25) 藉由壓輪（Nip Roll)在5(TC積層而得積層體。 所得積層體切成lOcmxlOcm之大小後，以精密天秤測 定積層體之重量：A (g)。之後，剝離積層體，將在兩方之 剝離面付著的接著劑以醋酸乙酯完全擦拭除去。擦拭接著 知J後之<4膜在8 〇 c乾燥5分鐘後，以精密天种測定已剝離 之兩方薄膜的重量：β (g)。乾塗布量藉由下述式算出時， 有 2. 8 g/m2。 乾塗布量（g/m2)= (A-B)/〇. 〇1 又，以目視觀察所得積層體之外觀時，有均勻良好之 表面。 (實施例β-2) 使用凹版線數為200線/叫、雕刻針角度為12〇。、拉 長型、軸方向之—角線125 # m、圓周方向之對角線] θπι、單元深度36/zm的雕刻版作為如刻版，使用固形分 45質量％之水性丙烯酸系接著劑（R〇hm andhaas•公司製， R0B0NDL-250)作為接著劑，其他與實施例β」同樣之方\ 得到積層體。接著劑之乾塗布量是2 2 g/m2。所得積層 體之外觀以目視觀察時，有均勻良好之表面。 曰 (實施例B-3) 使用凹版線數為250線/吋、雕刻針角度為13〇。、拉 長型、軸方向之對角線98//m、圓周方向之對角線145_、 單元深度22⑽的雕刻版作為_版，使用固形分質量^ 322077 25 201144077 %之水性丙烯酸系接著劑（Rohm and haas.公司製，R0B0ND L-250)作為接著劑，其他與實施例B—丨同樣之方法得到積 層體。接著劑之乾塗布量是1. 5 g/m2。所得積層體之外 觀以目視觀察時，有均勻良好之表面。 (實施例B-4) 使用凹版線數為150線/吋、雕刻針角度為13〇。、強 制型、軸方向之對角線210/zm、圓周方向之對角線3〇〇 M m、單元永度49 # ra的雕刻版作為雕刻版，使用固形分 45質量％之高固型有機溶劑型接著劑（東洋M〇rt〇n(股）公 司製，聚酯系接著劑、TM—550)作為接著劑，其他與實施例 B-1同樣之方法得到積層體。接著劑之乾塗布量是2. 8〆 /m2。所得積層體之外觀以目視觀察時，有均勻良好之表 面。 (比較例B-1) 使用凹版線數為1〇〇線/吋、雕刻針角度為13〇。、壓 縮型、軸方向之對角線310#^、圓周方向之對角線3〇5 Am、單元深度72#m的雕刻版作為雕刻版，使用固形分 45質量％之高固型有機溶劑型接著劑（東洋％⑻公 司製，聚醋系接著劑、ΤΜ—550).作為接著劑，其他與實施例 Β \同樣之方法知到積層體。接著劑之乾塗布量是I〗宮 /m2。所得積層體之外觀以目視觀察時，產生筋狀之模樣。 (比較例B-2) 使用凹版線數為350線/忖、雕刻針角度為13〇。、壓 _、軸方向之對角線85心、圓周方向之對角線8〇口、 322077 26 201144077 單元深度20//m的雕刻版作為雕刻版，使用固形分45質量 %之高固型有機溶劑型接著劑（東洋M〇rt〇n(股）公司製，聚 酯系接著劑、TM-550)作為接著劑，其他與實施例B_i同樣 " 之方法得到積層體。接著劑之乾塗布量是1. 2 g/m2。所 • 传積層體之外觀以目視觀察時，產生擦傷。 將以上之結果在表4中表示 表4 實β 比較例 b-1 B-2 B-3 B-4 B-1 B-2 接著劑型 有機溶劑型 水性 水性 有機溶劑型 有機溶劑型 有機溶劑型 接著劑的固形分（質1%) 45 45 45 45 45 45 版的製法 雕刻版 雕刻版 雕刻版 雕刻版 雕刻版 雕刻版 凹版線數（線/吋） 175 200 . 250 150 100 350 雕刻針角度（°) Γ20 120 130 130 130 130 單7G深度（V Π1) 52 36 22 45 72 20 形狀 ~壓縮 拉長 拉長 強制 強制 強制 軸方向的對角線（#m) 180 125 98 卜210 310 65 圓周方向的對角線（#m) 170 180 145 300 305 80 塗佈量(g/m2) 2.8 2.2 1.5 2.8 5.2 1.2 外觀 良好 良好 良好 良好 筋狀之模樣 擦傷 由表4，實施例B-1至實施例B-4，積層後之積層體 的外觀為均勻良好之表面。相對於此，凹版線數與雕刻針 角度疋與本發明之範圍偏離之比較例B -1至比較例B_ 2 ’ 積層後之積層體的外觀是筋狀之模樣或產生擦傷而得不到 良好之表面。 (實施例C-1) 將厚度20// m之雙軸延伸聚丙烯薄膜（opp ;東洋紡績 (股）公司製，PYLEN FILM OT P-2161)作為基材，使用以雷 射雕刻作成之凹版線數為.180線/吋、單元容積21 cc/ 27 322077 201144077 m之陶曼輥筒，以乾式積層機（富士機械工業（股）公司製： FL2型）’將高固型有機溶劑型接著劑（東洋M〇rt〇n(股）公 司製，聚酯系接著劑、TM-550 )以固形分45質量％堂布， 使溶劑藉由乾燥機（溫度60°C、7(TC、8(Tc、80。〇揮發後， 將厚度25/zm之無延伸聚丙烯薄膜（CPP ; Tohcello(股）公 司製，GHC# 25)藉由壓輪（Nip Roll)在5(Tc積層而得積層 體。 、 、 所得積層體切成lOcmxlOcm之大小後，以精密天秤測 定積層體之重量：A (g)。之後，剝離積層體，將在兩方之 剝離面付著的接著劑以醋酸乙酯完全擦栻除去。擦拭接著 劑後之薄膜在8(TC乾燥5分鐘後，以精密天秤測定已剝離 之兩方薄膜之重量：B(g)。乾塗布量藉由下述式算出時， 有 3. 0 g/m2。 乾塗布量（g/m2 ) = (Α-Β)/0· 01 又’以目視觀察所得積層體之外觀時，有均勻良好之 表面’也沒有隧道式現象之發生。 (實施例C-2) 使用以雷射方式製作之凹版線數為2〇〇線/吋、單元 容積為23 cc/m2之版作為陶瓷輥筒，使用固形分45質量

%之水性丙烯酸系接著劑（Rohm and haas.公司製，R〇B〇ND L-250)作為接著劑，其他與實施例〇1同樣之方法得到積 層體。接著劑之乾塗布量是3. 1 g/m2。所得積層體之外 觀以目視觀察時，有均勻良好之表面，也沒有隧道式現象 之發生。 28 322077 201144077 ' (實施例C-3)

使用以雷射方式製作之凹版線數為250線/吋、單元 容積為19 cc/m2之版作為陶瓷輥筒，使用固形分45質量 . %之水性丙烯酸系接著劑（Rohm and haas.公司製，R0B0ND • L-250)作為接著劑，其他與實施例C-1同樣之方法得到積 層體。接著劑之乾塗布量是2. 5 g/m2。所得積層體之外 觀以目視觀察時，有均勻良好之表面，也沒有隧道式現象 之發生。 (實施例04) 使用以雷射方式製作之凹版線數為300線/吋、單元 容積為18 cc/m2之版作為陶瓷輥筒，使用固形分45質量 %之高固型有機溶劑型接著劑（東洋Morton(股）公司製，聚 酯系接著劑、TM-550)作為接著劑，其他與實施例C-1同樣 之方法得到積層體。接著劑之乾塗布量是2. 1 g/m2。所 得積層體之外觀以目視觀察時，有均勻良好之表面，也沒 有隧道式現象之發生。 (比較例C-1) 使用以雷射方式製作之凹版線數為120線/吋、單元 容積為42 cc/m2之版作為陶瓷輥筒，使用固形分45質量 %之水性丙烯酸系接著劑（Rohm and haas.公司製，R0B0ND L-250)作為接著劑，其他與實施例C-1同樣之方法得到積 層體。接著劑之乾塗布量是6. 0 g/m2。所得積層體之外 觀以目視觀察時，有隧道式現象之發生。. (比較例C-2) ! 29 322077 201144077 使用以雷射方式製作之凹版線數為400線/吋、單元 容積為8 cc/m2之版作為陶瓷輥筒，使用固形分45質量°/〇 之高固型有機溶劑型接著劑（東洋Morton (股）公司製，聚 酯系接著劑、TM-550)作為接著劑，其他與實施例C-1同樣 之方法得到積層體。接著劑之乾塗布量是1. 2 g/m2。所 得積層體之外觀以目視觀察時，發生擦傷。 將以上之結果在中表示。 同時，表5之「版深」係由凹版線數及單元容積計算。 表5 實施例 比較例 C-1 C-2 C-3 C-4 C-1 C-2 接著劑型 有機溶劑型 水性 水性 有機溶劑型 水性 有機溶劑型 接著劑的固 形分（重量％) _ 45 45 45 45 45 45 陶瓷輥筒版 的製法 雷射 雷射 雷射 雷射 雷射 雷射 版深（/im) 55 55 43 35 85 20 凹版線數 (線/吋） 180 200 250 300 120 400 單元容積 (cc/m2) 21 23 19 18 42 8 乾式塗布量 (g/m2) 3.0 3.1 2.5 2.1 6.0 1.2 外觀 良好 良好 良好 良好 隧道式現象 流動 【圖式簡單說明】 第1圖係表示鑽石刀刃（雕刻針）圖。 、 第2圖係表示以電子雕刻機所雕刻之單元形狀的概念 圖。 第3圖（a)至（c)係表示以雷射雕刻之陶瓷輥筒的單元 形狀圖。 30 322077 201144077 第4圖係表示本申請發明案之積層體的概念圖。 【主要元件符號說明】 1 鑽石刀刃 10 壓縮型單元形狀 11 正常型單元形狀 12 拉長型單元形狀 13 強制型單元形狀 14 良好型單元形狀 20 積層體 21 ' 23 薄膜 22 接著劑層 31 322077

Claims (1)

1. 201144077 七、申請專利範圍： 1. 一種乾式積層方法，係將經由溶劑稀釋含有固形分35 質量％以上的接著劑以凹版方式塗布在薄膜後，使溶劑 揮發，而與其他的薄膜黏貼而得積層體之乾式積層方法 中，其特徵為：使用凹版線數為135至270線/吋、單 元容積為10至30 cc/m2的凹版； 以雕刻針角度為120至140°、凹版線數為120至 270線/吋的電子雕刻機雕刻之凹版；或是， 在陶瓷輥筒中使用凹版線數為135至350線/吋、 單元容積為10至30 cc/m2的陶瓷輥筒；將前述接著 劑塗布之方法。 2. 如申請專利範圍第1項之乾式積層方法，其中，前述接 著劑為有機溶劑型接著劑或是水性接著劑。 3. —種積層物，藉由申請專利範圍第1或2項之乾式積層 方法而得。 32 322077