TW201128733A - Vacuum hold-down system, vacuum table mask for use with a vacuum hold-down table, and method for providing vacuum hold-down - Google Patents

Description

201128733 六、發明說明： — 【相關申請案交叉參考】 本申請案主張2010年1月17日提出申請且名稱為「真空固定 裝置（VACUUM HOLD-DOWN APPARATUS )」之以色列專利申請 案第203353號之優先權，該以色列專利申請案之全部内容以引用 之方式併入本文中。 【發明所屬之技術領域】 本發明概言之係關於真空固定裝置（vacuum hold-down apparatus )，更具體而言，係關於採用真空固定裝置之檢驗系統。 【先前技術】 據信，以下美國專利代表所屬領域之現狀：5,671910及 5,709,023、6,422,548 及 7,469,886。 【發明内容】 本發明之目的係為提供一種真空固定裝置。 根據本發明之一態樣，提供一種用於各種形狀及/或尺寸之工件 之真空固定系統。該系統包括一真空固定台以及一有孔之真空台 遮罩。該真空固定台界定一遮罩支撐平面。該有孔之真空台遮罩 可選擇性地定位於該遮罩支撐平面上，該真空固定台及該真空台 遮罩被構造成藉由於該遮罩支撐平面中對該真空台遮罩與該真空 固定台進行適當之相對定位來界定複數個可選擇之不同之相鄰真 空孔陣列。 根據本發明之一較佳實施例，該真空固定台在其一支撐表面上 排列有一真空孔口（vacuum orifice)陣列；並且該真空台遮罩在 其上面形成有至少二孔陣列，該至少二孔陣列係相互偏置，各該 4 201128733 ，少二孔陣列係可與該真空孔口陣列至少其中之某此真 :之!：二孔陣列之每-孔皆被構造成位於該等二少其 根據本發明之-較佳實施例，該真空台遮罩在其 排列有-孔陣列，該遮罩被構造成位於該等工件至少牙^上 ::並且該真空固定台在其上面形成有至少二真空孔口、二： Z二真空孔口陣列係相互偏置，該遮罩之該等孔至少其中之= 二係可與各該至少二孔口陣列之孔口對齊。 ’、 根據本發明之另-態#，提供_種用於各種形 件之真統。該系統包括—真空固u以及 =該真空固定台在其一支擇表面上排列有一真空孔口陣列。該 偏其上T有至少二孔陣列，該至少二孔陣列相互 偏置以至少二孔陣列係可與該真空孔口 真空=各該至少二孔陣列…每一孔皆被構造= 該#工件至少其中之一下面。 根據本&明之又—態樣，提供—種用於各種形狀及㈤尺寸之工 件之真空固定系統。該系統包括一真空台遮罩以及一真空固定 台。該真空台遮罩在其—支擇表面上排列有一孔陣列，該遮罩被 構造成位於該等工件至少其中之—下面。該真空㈣台在其上面 形成有至y _真空孔口陣列，該至少二真空孔口陣列係相互 置，該遮罩之㈣孔至少其中之某些係可與各該至少二孔口陣^ 之孔口對齊。 車父佳地’每—孔之橫截面尺寸至少略大於每一真空孔口之橫截 面尺寸。 201128733 較佳地，該真空台遮罩位於該真空固定台之上方μ乍為另外— 種選擇，該真空台遮罩位於該真空蚊台之增壓室（咖加瓜）内。 根據本發明之一較佳實施例，該至少二陣列之區域至少部分地 重疊。 根據本發明之一較佳實施例，該真空固定台在其上面排列有一 支樓表面陣列，並且該真空台遮罩在其上面形成有一孔陣列。 根據本發明之一較佳實施例，該真空台遮罩具有一孔陣列，該 =罩被構造成位於該等工件至少其中之—下面，並域真空固= 台在其上面形成有至少二支撐表面陣列，該至少二陣列中之不同 陣列之支樓表面具有_不同之橫截面構形，該至少二陣列其中之 母一陣列之支撐表面具有相同之橫截面構形，該遮罩之該等孔被 構造成不覆於該至少二支撐表轉列至少其中之—之支撐表面 上0 較佳地，該真空台遮罩位於該等支推表面之上方。 。較佳地，該真空台遮罩係、可相對於該真空固定台定位於至少二 °、擇之位置處。另外或作為另外-種選擇，該真空台遮罩包括 四個孔陣列。 =本發明之—較佳實施例，該真空台遮罩係可相對於該真空 疋口疋位於四個可選擇之位置處。另外，該四個可選擇之位置 係由該真空固定台之隅角界定。 ，根據本發明之再_態樣，提供—種用於一真空固定台以及各種 形狀及/或尺寸之工件之真空台遮罩。該真空固定台在其-支樓表 面上排列有—真空孔口陣列。該遮罩包括—基板在該基板上形 成有至少二孔陣列，該至少二孔陣列係相互偏置，各該至少二孔 201128733 陣=可與該真空孔口陣列至少其中之某些真空孔口對齊。 面!寸之一較佳實施例，該至少二孔陣列之每-孔之橫截 寸。-略大於該真空孔口陣列之每一真空孔口之橫截面尺 外戍作另外一種選擇’該真空台遮罩包含四個孔陣列。另 次作為另外-種選擇，該至少二陣列之區域至少部分地重疊。 :據本ι明之又—態樣’提供_種用於將各種形狀及/或尺寸之 :牛=固定至—真空岐台上之方法，其_該真空固定台在其 *面上排列有—真空孔口陣列。該方法包括以下步釋：放 真工台遮罩至該真空固定台之該支撑表面上，該真空台遮罩 ο上面形成有至少二孔陣列，該至少二孔陣列係相互偏置，各 該至少二孔陣列係可與該真空孔口陣列至少其中之某些真空孔口 對齊’各該至少二孔陣列皆被構造成位於該等工件其中之一下 面；定位該遮罩於該支撑表面上，俾使該至少二孔陣列其中之一 。該真空孔口陣列至少其中之某些真空孔口對齊；以及放置該等 各種形狀及/或尺寸之卫件中—為—第—尺寸/形狀之工件至該真 空固定台上’覆於該遮罩之至少—部分上並且覆於該至少二孔陣 列中與該真空孔口陣列至少其中之某些真空孔口對齊之該一者 上。 較佳地，該方法亦包括以下步驟：自該真空固定台移除為一第 -尺寸/形狀ϋ件；重新定位該遮罩於該支禮表面上，俾使該 至少二孔陣列其中之另一者與該真空孔口陣列至少其中之某些真 空孔口對齊；以及放置該等卫件中—為—第二尺寸/形狀者至該真 空固定台上’覆於該遮罩之至少—部分上並且覆於該至少二孔陣 201128733 列中與該真空孔口陣列至少其中之某些真空孔口對'齊之該另一者 上面。 另外’該至少二陣列之區域係至少部分地重疊。 【實施方式】 現在請參照第1圖，其為採用根據本發明之一較佳實施例進行 構造和操作之真空固定裝置之一檢驗系統之簡化示意圖。 如第1圖所示，提供一種檢驗系統1〇〇 (例如光學檢驗系統）， 例如可從位於以色列Yavne之Orbotech有限公司商購獲得之 Orbotech Discovery™ 8000 A0I系統。檢驗系統100包括一真空固 定台102,真空固定台102在其一支撐表面1〇6上排列有一真空孔 口陣列104並用於在對工件（例如一平面工件108)進行光學檢驗 期間保持工件。 術語「真空孔口」在通篇中以比傳統用法略微更廣之意義使用。 當提及如在Orbotech Discovery™ 8000 A0I系統中所用之〆真空 固定台時，一平台表面中所形成之孔洞即為真空孔口。當提及美 國專利7,259,777之第15圖及第16圖中所示類型之一真空固定台 (此處被稱為「無頂式真空固定台（topless vacuum hold-down table)」）時’該台之所有非凸起部分皆被視為真空孔口。 根據本發明之一較佳實施例，除真空固定台102之外，該真空 固定裝置亦包括一真空台遮罩110,其中真空台遮罩110在其上面 形成有至少二孔陣列，該至少二陣列之孔係相互偏置，並且各該 至少二孔陣列係可與至少某些真空孔口 104對齊。較佳地，孔之 橫截面尺寸至少略大於真空孔口 104之橫截面尺寸。視需要，該 遮罩之孔之橫截面構形於遮罩之相對之平面表面上可有所不同。 8 201128733 :如’孔之面積可在遮罩之面向工件之表面上相對較大、而在遮 罩之面向真空固定台之表面上相對較小。 本發明之操作之-具體特點為： 當試圖檢驗-為—第一尺寸之工件時，將遮罩ιι〇相對於真空 2台Η)2放置於—第—位置處’俾使—第—陣列之孔與真空固 比 <真工孔口 1〇4其中之某些對齊’該第一陣列之所有孔 =位於該第-尺寸之工件下面，並且剩餘之真空孔口刚皆被遮 "者住進而阻止空氣自由流過所有真空孔口 1〇4;以及 當試圖檢驗一為一第-尺T灿π± 弟一尺寸之工件時，將遮罩110相對於真空 固定台102放置於一不同於第一位置之第二位置處，俾使一第二 陣列之孔與真空固定台1〇2之真空孔口 ι〇4其中之某些對齊1 f二陣列之所有孔皆位於該第二尺寸之卫件下面，並且剩餘之真 空孔口 1G4被遮罩m堵住，進而阻止錢自由流過所有真空孔 口 104。 ’ 第1圖之放大圖A顯示其中遮罩11〇包含四個孔陣列並且遮罩 可相對於真空固定自1〇2定位於四個可選擇之位置處之一實施 例。該等陣列被標識為！、n、m及ιν，並且屬於每一陣列之孔 亦如此進行標識。該四個可選擇之位置係由真空固定台⑽之周 邊壁112之四個隅角界定’該等隅角被標識為遮罩放置伊⑴I ^、請及^藉由將遮罩⑽之—蚊隅角^成與一被 ^識為遮罩放置標記ΪΜ、MI、p_m或p_IV之給定隅角相配合， 使一對應陣列卜Π、111或1V之孔放置成與真空固定台102之某 些適當之孔口 104對齊，如實心黑點所示。 第1圖之放大圖B顯示盆Φ说g ΜΛ4人T»/ .貝丁’、中遮罩110包含五個孔陣列並且遮罩 201128733 可相對於真空固定台102定位於五個可選擇之位置處之一實施 例。該等陣列被標識為I、II、III、IV及V，並且屬於每一陣列之 孔亦如此進行標識。該五個可選擇之位置係由真空固定台102之 周邊土 112的被;^識為遮罩放置標記ρ_ι、ρ_ιι、ρ·ηι及p-iv之四 個隅角以及由—遮罩放置標記ρ_ν界定。藉由將遮罩則之一給 疋。Ρ刀疋位於由遮罩放置標記ρ_Ι、、p hi、ρ_ιν及ρ_ν其中 之任者所^日示之一給定位置處，使一對應陣列I、η、hi、ιν或 V之孔放置成與真空固定台1〇2之某些適當之孔口 對齊，如 實心黑點所示。 另外，現在參照第2圖，其為一典型真空台遮罩丨1〇之簡化平 面圖°亥典型真空台遮罩110適用於本發明之真空固定裝置且其 上面形成有多個孔陣列，該等孔陣列相互偏置。第2圖包含四個 孔陣列，該等孔陣列係相互偏置。應理解，一真空台遮罩之替代 構形可包含以任何適當排列方式排列之更多或更少數量之孔。 第孔陣列適用於最小之工件並包含四個孔，各該孔被標識 為卜 第一孔陣列適用於次最小之工件並包含九個孔，各該孔被標 識為II。 -第二孔陣列適用於最小之卫件並包含十六個孔，各該孔被標 識為III。 第四孔陣列適用於最小之工件並包含二十五個孔 ’各該孔被 標識為IV 〇 應庄思，每一陣列之孔皆相互間隔開某一間距該間距與真空 孔口 104之相互間距相同。 201128733 亦應注意’在遮罩110從遮罩放置標記pq移位至遮罩放置標記 P-Π之方向上’孔Π與對應之孔Ϊ偏置—距離，該距離等於遮罩 110自遮罩放置標記Ρ·Ι移位至遮罩放置標記ρ π之距離。 更應注意’孔III在-第-方向上與對應之孔！偏置—第一距離 且在垂直於第-方向之—第二方向上與對應之孔[偏置—第二距 離’其中該第-距離等於遮罩110從遮罩放置標記Ρ-Ι移位至遮罩 放置標ΖΡ III之距離，該第一距離等於遮罩削自遮罩放置標記 P-Ι移位至遮罩放置標記PJH之距離。 另外，應注意，在遮罩110從遮罩放置標記厂山移位至遮罩放 置標記ρ·ΐν之方向上，孔IV與對應之孔m偏置一距離，該距離 等於遮罩110自遮罩放置標記！>_m移位至遮罩放置標記pi之 距離。 汝上所述孔I、π、III及IV之相對偏置量及間距對應於遮罩 no的相對於真空固定台102之操作位置，以對對應於該四個孔陣 歹J之四種不同尺寸之工件進行高效率之真空固定和檢驗。 現在凊參照第3A圖及第3B圖，其分別料以—第_相互對齊 排列方式保持於本發明真空固定装置上的一為一第一尺寸之第一 平面工件120之平面圖及剖面圖。第3B圖之剖面圖係沿第从圖 中之線A-A截取。如第3A圖及第3B圖所示，遮罩ιι〇在真空固 定台102上定位於由遮罩放置標記M所界定之一第一位置處俾 使第一孔陣列之孔I覆於對應真空孔口 122、124、126及128上。 由標號 no、U2、134、136、138、14〇、142、144、146、148、 150 152 154、156、158、160、162、164、166、168 及 170 所 標識之剩餘真空孔口則被遮罩丨1〇堵住。 201128733 現在請參照第4A圖及第4B圖，其分別係為以一第二相互對齊 排列方式保持於本發明真空固定裝置上的一為一第二尺寸之第二 平面工件220之平面圖及剖面圖。第4B圖之剖面圖係沿第4A圖 中之線A-A截取。如第4A圖及第4B圖所示，遮罩110在真空固 定台102上定位於由遮罩放置標記P-II所界定之一第二位置處， 俾使第二孔陣列之孔II覆於對應真空孔口 122、124、126、128、 130、132、134、136 及 138 上。由標號 140、142、144、146、148、 150 、 152 、 154 、 156 、 158 、 160 、 162 、 164 、 166 、 168 及 170 所 標識之剩餘真空孔口則被遮罩110堵住。 現在參照第5A圖及第5B圖，其分別係為以一第三相互對齊排 列方式保持於本發明真空固定裝置上的一為一第三尺寸之第三平 面工件320之平面圖及剖面圖。第5B圖之剖面圖係沿第5A圖中 之線A-A截取。如第5A圖及第5B圖所示，遮罩110在真空固定 台102上定位於由遮罩放置標記P-III所界定之一第三位置處，俾 使第三孔陣列之孔III覆於對應真空孔口 122、124、126、128、130、 132、134、136、138、140、142、144、146、148、150 及 152 上。 由標號 154、156、158、160、162、164、166、168 及 170 所標識 之剩餘真空孔口則被遮罩110堵住。 現在參照第6A圖及第6B圖，其分別係為以一第四相互對齊排 列方式保持於本發明真空固定裝置上的一為一第四尺寸之第四平 面工件420之平面圖及剖面圖。第6B圖之剖面圖係沿第6A圖中 之線A-A截取。如第6A圖及第6B圖所示，遮罩110在真空固定 台102上定位於由遮罩放置標記P-IV所界定之一第四位置處，俾 使第四孔陣列之孔IV覆於對應真空孔口 122、124' 126、128、130、 12 201128733 132、134、136、138、140、142 ' 144、146、148、150、152、154、 156、158、160、162、164、166、168 及 170 上。 應理解，遮罩可以各種方式與真空固定台相關聯。第1圖至第6 圖顯示遮罩位於真空固定台上方。作為另外一種選擇，遮罩亦可 位於真空固定台之增壓室内。 在第1圖至第6B圖中，顯示一規則之真空孔口圖案，並且在遮 罩上提供各種孔陣列。作為另外一種選擇，亦可在遮罩上提供一 規則之孔圖案，並可在真空固定台中提供各種真空孔口陣列。 在上述說明中，藉由在一平面中對遮罩進行選擇性位移而將該 遮罩定位於一第一位置、一第二位置、一第三位置及一第四位置。 作為另外一種選擇，可在各種方向上翻轉及/或旋轉遮罩，以於各 個位置之間進行移位。 現在參照第7圖至第13B圖，其為一檢驗系統之簡化示意圖， 該檢驗系統採用根據本發明之一實施例進行構造和操作之真空固 定裝置。 如第7圖所示，提供一種檢驗系統500 (例如光學檢驗系統）， 例如可從位於以色列Yavne之Orbotech有限公司商購獲得之 Orbotech Discovery™ 8000 AOI系統。檢驗系統500包含一無項式 真空固定台502,無頂式真空固定台502在其一表面506上排列有 一支撐結構陣列504並用於支撐一可選擇性定位之遮罩51〇。在對 工件（例如一平面工件512)進行光學檢驗期間，工件保持於遮罩 510 上。 根據本發明之一較佳實施例，可選擇性定位之遮罩51〇在其上 面形成有複數個孔514。視需要，遮罩510之孔514之橫截面構形

S 13 201128733 在遮罩510之相對之平面表面上可有所不同。例如，孔之面積可 在遮罩之面向工件之表面上相對較大、而在遮罩之面向真空固定 台之表面上相對較小。 本發明之該實施例之一具體特點係為，支撐結構504被構造和 定位成使得根據可選擇性定位之遮罩510相對於支撐結構504之 位置而使所選之孔514打開並使其他孔514關閉。 本發明之該實施例之另一具體特點係為，對於可選擇性定位之 遮罩510之複數個可選擇之位置其中之每一者，所選之打開之孔 514皆相互毗鄰。 在本發明之一較佳實施例中，如第8圖所清楚地顯示，支撐結 構504分別界定一橫截面積，該橫截面積與遮罩510之一孔514 進行潛在之密封配合。在一第一多個支撐結構504 (在此處分別由 標號520標識）中，該橫截面積係為一第一面積；在一第二多個 支撐結構504 (在此處分別由標號522標識）中，該橫截面積係為 一第二面積，該第二面積大於該第一面積；在一第三多個支撐結 構504 (在此處分別由標號524標識）中，該橫截面積係為一第三 面積，該第三面積大於該第二面積；並且在一第四多個支撐結構 504 (在此處分別由標號526標識）中，該橫截面積係為一第四面 積，該第四面積大於該第三面積。 在本發明之一較佳實施例中，如第9圖所清楚地顯示，遮罩510 包括不同之孔陣列514,以容許不同尺寸之工件與遮罩510以及與 真空固定台502進行潛在之密封配合。在所示之實施例中，顯示 了四個不同之孔陣列514，包括：一第一孔陣列514 (在此處該等 孔分別由標號530標識），對應於一第一工件尺寸；一第二孔陣列 201128733 514 (在此處該等孔分別由標號532標識），其中第一孔陣列530 及第二孔陣列532之組合對應於一第二工件尺寸，該第二工件尺 寸大於該第一工件尺寸；一第三孔陣列514 (在此處該等孔分別由 標號534標識），其中第一孔530、第二孔532及第三孔534之組 合對應於一第三工件尺寸，該第三工件尺寸大於該第二工件尺 寸；以及一第四孔陣列514(在此處該等孔分別由標號536標識）， 其中第一孔530、第二孔532、第三孔534及第四孔536之組合對 應於一第四工件尺寸，該第四工件尺寸大於該第三工件尺寸。 根據本發明該實施例之操作之一具體特點係為： 如第10A圖及第10B圖所示，當試圖檢驗一為一第一尺寸之工 件540時，將遮罩510相對於無頂式真空固定台502放置於一第 一位置處，俾使第一孔陣列之孔530不被支撐結構520堵住，第 一孔陣列之所有孔530皆位於該第一尺寸之工件540下面，並且 遮罩510之剩餘孔514皆被支撐結構504堵住，進而阻止空氣自 由流過剩餘孔514 ; 如第11A圖及第11B圖所示，當試圖檢驗一為一第二尺寸之工 件542時，將遮罩510相對於無頂式真空固定台502放置於一不 同於第一位置之第二位置處，俾使第二孔陣列之孔532不被支撐 結構522堵住並且第一孔陣列之孔530不被支撐結構520堵住， 且第一孔陣列之所有孔530及第二孔陣列之所有孔532皆位於該 第二尺寸之工件542下面，並且遮罩510之剩餘孔514皆被支撐 結構504堵住，進而阻止空氣自由流過剩餘孔514 ; 如第12A圖及第12B圖所示，當試圖檢驗一為一第三尺寸之工 件544時，將遮罩510相對於無頂式真空固定台502放置於一不

S 15 201128733 同於第一位置及第二位置之第三位置處，俾使第三孔陣列之孔534 不被支撐結構524堵住、第一孔陣列之孔530不被支撐結構520 堵住並且第二孔陣列之孔532不被支撐結構522堵住，且第一孔 陣列之所有孔530、第二孔陣列之所有孔532及第三孔陣列之所有 孔534皆位於該第三尺寸之工件544下面，並且遮罩510之剩餘 孔514皆被支撐結構504堵住，進而阻止空氣自由流過剩餘孔 514 ;以及 如第13A圖及第13B圖所示，當試圖檢驗一為一第四尺寸之工 件546時，將遮罩510相對於無頂式真空固定台502放置於一不 同於第一位置、第二位置及第三位置之第四位置處，俾使第四孔 陣列之孔536不被支撐結構526堵住、第一孔陣列之孔530不被 支撐結構520堵住、第二孔陣列之孔532不被支撐結構522堵住 並且第三孔陣列之孔534不被支撐結構524堵住，並且第一孔陣 列之所有孔530、第二孔陣列之所有孔532、第三孔陣列之所有孔 534及第四孔陣列之所有孔536皆位於該第四尺寸之工件546下 面。 第7圖之放大圖A顯示一實施例，在該實施例中，遮罩510包 括一單一均勻相間之孔陣列514並且該遮罩可相對於無頂式真空 固定台502定位於四個可選擇之位置處。在第7圖所示之實施例 中，無頂式真空固定台502包括四個支撐結構陣列504,該等陣列 由標號520、522、524及526標識，如第8圖所清楚地顯示。該 四個可選擇之位置係由無頂式固定台502之周邊壁550之四個隅 角界定，該等隅角被標識為遮罩放置標記P-I、P-II、P-III及P-IV。 通過將遮罩510之一給定隅角定位成與被標識為遮罩放置標記 201128733 P-I、P-II、P-III或Ρ-IV之一給定隅角相配合，使遮罩510之孔514 其中所選之某些孔放置成不被無頂式真空固定台502之支撐結構 504堵住。 第10A圖及第10B圖分別係為以一第一相互對齊排列方式保持 於本發明真空固定裝置上的一為一第一尺寸之第一平面工件540 之平面圖及剖面圖。在第10A圖及第10B圖中，遮罩510在無頂 式真空固定台502上定位於一第一位置處，俾使僅第一孔陣列514 之孔530暴露於真空中，其中該第一位置係由遮罩510與遮罩放 置標記P-Ι進行隅角配合所界定。剩餘之孔514皆被支撐結構504 堵住。 第11A圖及第11B圖分別係為以一第二相互對齊排列方式保持 於本發明真空固定裝置上的一為一第二尺寸之第二平面工件542 之平面圖及剖面圖。在第11A圖及第11B圖中，遮罩510在無頂 式真空固定台502上定位於一第二位置處，俾使僅第一孔陣列514 之孔530及第二孔陣列514之孔532暴露於真空中，其中該第二 位置係由遮罩510與遮罩放置標記P-Π進行隅角配合所界定。剩 餘之孔514皆被支撐結構504堵住。 第12A圖及第12B圖分別係為以一第三相互對齊排列方式保持 於本發明真空固定裝置上的一為一第三尺寸之第三平面工件544 之平面圖及剖面圖《在第12A圖及第12B圖中，遮罩510在無頂 式真空固定台502上定位於一第三位置處，俾使僅第一孔陣列514 之孔530、第二孔陣列514之孔532及第三孔陣列514之孔534 暴露於真空中，其中該第三位置係由遮罩510與遮罩放置標記P-III 進行隅角配合所界定。剩餘之孔514皆被支撐結構504堵住。

S 17 201128733 第13A圖及第13B圖分別係為以一第四相互對齊排列方式保持 於本發明真空固定裝置上的一為一第四尺寸之第四平面工件546 之平面圖及剖面圖。在第13A圖及第13B圖中，遮罩510在無頂 式真空固定台502上定位於一第四位置處，俾使第一孔陣列514 之孔530、第二孔陣列514之孔532、第三孔陣列514之孔534及 第四孔陣列514之孔536暴露於真空中，其中該第四位置係由遮 罩510與遮罩放置標記P-IV進行隅角配合所界定。 應理解，可由適當構形及佈置之支撐結構504來容納任何適當 數量之不同尺寸之工件。更應理解，支撐結構504可以任何適當 之方式及構形加以構造，以選擇性地堵住一遮罩中之孔。支撐結 構504無需固定至無頂式真空固定台502之其餘部分上，並且可 相對於其餘部分進行可移除式安裝。 熟習此項技術者應理解，本發明並不僅限於上文所具體顯示及 說明之内容。相反，本發明包括本文所述各種特徵之組合及子組 合以及熟習此項技術者在閱讀上述說明之後所聯想到但不屬於先 前技術之各種改進及變化形式。 【圖式簡單說明】 結合附圖閱讀以下詳細說明，將會更清楚地理解和領會本發 明，在附圖中： 第1圖係為採用根據本發明之各種實施例進行構造和操作之真 空固定裝置之一檢驗系統之簡化示意圖； 第2圖係為一典型真空台遮罩之簡化平面圖，該典型真空台遮 罩適用於本發明之真空固定裝置且其上面形成有多個孔陣列，該 等孔陣列相互偏置； 18 201128733 圖及第3B圖分別係為以—第—相互對齊排列方式保持於 根據本發明—實施例之真空固定裳置上的—為—第_尺寸之第二 平面工件之平面圖及剖面圖，第3B圖係為

截取之剖視圖； 甲之線A-A

第4A圖及帛4B圖分別係為以—第二相互對齊排列方式 根據本發明—實施例之真空固定裝置上的—為—第二尺寸之第、 平面工件之平面圖及剖面圖，第犯圖係為沿第4A圖中二 截取之剖視圖； 、' "A 第5A圖及帛則分別係為以一第三相互對齊排列方 根據本發明—實施例之真空固定裝置上的—為—第三尺寸之第、 平面工件之平面圖及剖面圖，第5b圖係為 2三

戴取之剖視圖； 圍中之線A-A 第6A圖及第6B圖分別係為以—第四相互對齊排列方式保 根據本發明—實施例之真空固定裝置上的—為—第四尺寸之第四 平面工件之平面圖及剖面圖，第紐圖係為 : 截取之剖視圖； 心之線A_a =圖^為-檢驗系統之簡化示意圖，該檢驗系統採用根據本 發明之一實施例進行構造和操作之真空固定裝置； 視=圖係為第7圖之真空固定裝置在無真空台遮罩時之簡化俯 圖 第9圖係為第7圖之真空固絲置之-真空台遮罩之簡化俯視 第10A圖及第ιοΒ圖分別俏A 错, 為第—相互對齊排列方式保持 於第7圖至第9圖之真空固定裝置上的一為一第一尺寸之第一平 201128733

'第1〇B_ 沿第-B 第UA圖及第11B圖分別係為以一第二相互對齊排列 於第7圖至第9圖之真空以裝置上的—為—第二尺寸之=持 面工件之平面圖及剖面圖，帛11B圖係為沿圖uA中之線 取之剖視圖； 戴 第ΠΑ圖及第12B圖分別係為以一第三相互對齊排列方式 於第7圖至第9圖之真空固；^裝置上的—為—第三尺寸之第三平 面工件之平面圖及剖面圖，帛12B圖係為沿第12A圖中之線^ 截取之剖視圖；以及 第13 A圖及第13B圖分別係為以一第四相互對齊排列方式保持 於第7®至第9圖之真空固定裝置上的—為—第四尺寸之第四平 面工件之平面圖及剖面圖，第13B圖係為沿第13A圖中之線b_b 截取之剖視圖。 【主要元件符號說明】 100 :檢驗系統 102 ： 真空固定台 104 :真空孔口 106 ： 支撐表面 108 :平面工件 110 : 真空台遮罩 112 :周邊壁 120 ： 第一平面工件 122 :真空孔口 124 ： 真空孔口 126 :真空孔口 128 ： 真空孔口 130 :真空孔口 132 ： 真空孔口 134 :真空孔口 136 ： 真空孔口 138 :真空孔口 140 : 真空孔口 20 201128733 142 ： 真空孔口 144 :真空孔口 146 : 真空孔口 148 :真空孔口 150 ： 真空孔口 152 :真空孔口 154 ： 真空孔口 156 :真空孔口 158 ： 真空孔口 160 :真空孔口 162 ： 真空孔口 164 :真空孔口 166 ： 真空孔口 168 :真空孔口 170 ： 真空孔口 220 :第二平面工件 320 ： 第三平面工件 420 :第四平面工件 500 ： 檢驗系統 502 :無頂之真空固定台 504 ： 支撐結構 506 :表面 510 ： 可選擇性定位之遮罩 512 :平面工件 514 ： 孔 520 第一支撐結構 522 ： 第二支撐結構 524 :第三支撐結構 526 ： 第四支撐結構 530 :第一孔 532 ： 第二孔 534 :第三孔 536 : 第四孔 540 :第一尺寸之工件 542 ： 第二尺寸之工件 544 :第三尺寸之工件 546 ： 第四尺寸之工件 550 :周邊壁 P-I ： 遮罩放置標記 P-Π :遮罩放置標記 P-III :遮罩放置標記 P-IV :遮罩放置標記 P-V ： 遮罩放置標記 I、II、III、IV、V :孔陣列 s 21

Claims (1)

1. 201128733 七、申請專利範圍： 1· 一種用於各種形狀及/或尺寸之工件之真空固定系統，該系統 包括： 一真空固定台’界定—遮罩支標平面；以及 一有孔之真空台遮罩，其可選擇性地定位於該遮罩支樓 平面上m固定台及該真空台鱗被構造成藉由於該遮 罩支撐平面中對該真空台遮罩與該真空固定台進行適當之相 對定位來界定複數個可選擇之不同之相鄰真空孔陣列。 2.如請求項1所述之真空固定系統，其中： 该真空固定台在其-支樓表面上排列有一真空孔口陣 列；並且 該真空台遮罩在其上面形成有至少二孔陣列，該至少二 孔陣列相互偏置，各該至少二孔陣列係可與該真空孔口陣列 至少其中之某些真空孔口對齊’各該至少二孔陣列之每一孔 皆被構造成位於該等工件至少其中之一下面。 3.如請求項1所述之真空固定系統，其中： 該真空台遮罩在其—支撐表面上排列有—孔陣列，該遮 罩被構造成位於該等卫件至少其中之__下面；並且 丨該真空1U定台在其上面形成有至少二真空孔口陣列該 至少，真空孔口陣列相互偏置’該遮罩之該等孔至少其中之 某些係可與各該至少二孔口陣列之孔口對齊。 4. 5. 如請求項2或3所述之.真空固定㈣，其中每—孔之橫截面 尺寸至少略大於每一真空孔口之橫截面尺寸。 如請求項2或3所述之真錢^系統，其中該真空台遮罩係 22 201128733 6. 8. 可相對於該真空固定台定位於至少二可選擇之位置處。 月求項2或3所述之真空固定系統，其中該真空台遮罩 含四個孔陣列。 、，項6所述之真空固定系統，其中該真空台遮罩係可相 士於。亥真空固定台定位於四個可選擇之位置處。 9. 如請求項7 ^ 斤述之真空固定系統，其中該四個可選擇之位置 係由β亥真空固定台之隅角界定。 如明求項2或3所述之真空固定系統，其t該真空台遮罩位 於該真空固定台之上方。 10. 11. 如°月求項2或3所述之真空較系統，其中該真空台遮罩位 於該真空固定台之增壓室内。 如明求項2或3所述之真空固定线，其中該至少二陣列之 區域至少部分地重疊。 如巧求項1所述之真空©定系統，其中： 13. 該真空固定台在其上面排列有-支標表面陣列；並且 k真卫台遮罩在其上面形成有一孔陣列。 如哨求項1所述之真空固定系統，其中： 該真空台遮罩具有—孔陣列，該遮罩被構造成位於該等 工件至少其中之-下面；並_§_ 小該真空固定台在其上面形成有至少二支撑表面陣列，該 陣列中之不_狀支#表面具有-不同之橫截面構 1該至少二陣列其$之每—陣列之支#表面皆具有相同之 構形’該料之該等孔被構造成不覆於該至少二支樓 表面陣列至少其中之一之支撐表面上。 S 23 201128733 14. 如請求項1、12或13中之任一項所述之真空固定系統，其中 該真空台遮罩係可相對於該真空固定台定位於至少二可選擇 之位置處。 15. 如請求項1、12或13中之任一項所述之真空固定系統，其中 該真空台遮罩包含四個孔陣列。 16. 如請求項15所述之真空固定系統，其中該真空台遮罩係可相 對於該真空固定台定位於四個可選擇之位置處。 17. 如請求項16所述之真空固定系統，其中該四個可選擇之位置 係由該真空固定台之隅角界定。 18. 如請求項12或13所述之真空固定系統，其中該真空台遮罩 位於該等支撐表面之上方。 19. 一種用於一真空固定台以及各種形狀及/或尺寸之工件之真空 台遮罩，該真空固定台在其一支撐表面上排列有一真空孔口 陣列，該遮罩包含一基板，在該基板上形成有至少二孔陣列， 該至少二孔陣列相互偏置，各該至少二孔陣列係可與該真空 孔口陣列至少其中之某些真空孔口對齊。 20. 如請求項19所述之真空台遮罩，其中該至少二孔陣列之每一 孔之橫截面尺寸至少略大於該真空孔口陣列之每一真空孔口 之橫截面尺寸。 21. 如請求項19或20所述之真空台遮罩，其中該真空台遮罩包 含四個孔陣列。 22. 如請求項19或20所述之真空台遮罩，其中該至少二陣列之 區域至少部分地重疊。 23. —種用於將各種形狀及/或尺寸之工件真空固定至真空固定台 24 201128733 上^法，«空㈣台在其—切表面上排 口陣列，該方法包括以下步驟： 具工孔 放置一真空台遮罩至該真空闳中 真空台遮罩在其上面形成有至少二孔二’該 相互偏置，各該至少二孔陣列係、可與該真空孔口^2 == 齊:各該至少二孔陣列_造成位於 ，俾使該至少二孔陣列其中 中之某些真空孔口對齊，·以 定位該遮罩於該支撐表面上 之一者與該真空孔口陣列至少其 及 放置該等各種形狀及/或尺寸之工件中一為一第一 形狀之工件至該真空㈣台上，覆於該遮罩之至少_部分上 並且覆於該至少二孔陣列中與該真空孔卩陣列至少其中 些真空孔口對齊之該一者上。 、 24. 25. 如請求項23所述之方法，更包括以下步驟： 自該真空固定台移除為-第-尺寸/形狀之該工件； 重新定位該遮罩於該支揮表面上，俾使該至少二孔陣列 其中之另一者與該真空孔口陣列至少其中之某些真空孔口對 齊；以及 放置該等工件n第二尺寸/形狀者至該真空固定台 上’覆於該遮罩之至少-部分上並且覆於該至少二孔陣列中 與該真空孔口陣列至少其中之某些真空孔口對齊之該另一者 上面。 如請求項23或24所述之方法，其中該至少二陣列之區域至 S 25 201128733 少部分地重疊。 26