TW201106775A - Light emitting element and display apparatus - Google Patents
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201106775 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於發光元件及顯示裝置。 【先前技術】 構成顯示器裴置或照明裝置等顯示裝置的發光元件,已知 有利用了若施加電壓則藉由電激發光(EL)現象而自發光之 物質的EL元件。el元件係在上電極與下電極間形成由有 機材料或無機材料所構成之發光層的薄膜狀發光元件,屬於 利用上與下電極對發光層施加電壓而使其發光的構造。 近年來’開發出藉由將上部電極與下部電極之一者設為全 反射鎖並將另一者設為使部分波長穿透的半透射鏡 (semi-transmitting mirror),使利用發光層進行發光的光發生 共振之共振器構造(所謂「微共振腔(microcavity)構造」)的 發光元件(例如參照專利文獻1、2)。 然而,共振器構造的薄膜發光元件中,濾色特性係對鏡間 距離(共振器光程長)敏感。故例如若因製造過程中之製作誤 差而導致共振器光程長產生變動,則有無法容許正面方向的 色座標(色純度)或輝度變動的情況。 共振器構造中,色純度可具有較寬裕的設計。另一方面, 藍色(B)與紅色(R)的發光元件輝度有時因中心波長的位 移,而變得無法容許的輝度變動。例如若對應鏡間距離的膜 厚(相當於光程長)出現5nm左右(整體元件膜厚的5%程度) 099118693 4 201106775 的變化’中心波長亦有5nm程度變化的情況。例如在藍色 發光兀件的情況,當將中心波長設計值設為47〇nm時’膜 厚若增加5nm,經位移的中心波長(例如475nm)之視感度亦 會有達20%以±的變化,成為大輝度變化、以及畫質降低(輝 度不均)的原因。 [先行技術文獻] [專利文獻] 專利文獻1 :日本專利特開2002-373776號公報 專利文獻2 :日本專利特表2002-518803號公報 【發明内容】 (發明所欲解決之問題) 即,本發明所欲解決的課題之其中-例係有如上述問題。 所以本毛明目的之其中—例係有如提供一種共振器構造的 發光元件與顯示裝置,例如即使偏離設計值而共振器光 程長有所增減,仍可抑_度變動的技術。 (解決問題之手段) /本發明之發光件係如申請專利範圍第丨項所記載, 徵在於具備有共振H構造及帶吸收m,該共振器構造係 具有:第1反射構件、第2反射構件、及配置於上述第1 反射構件與第2反射構件之間的發光層,並使在上述第1 反射構件與上述第2反射構件之間進行共振的光之 刀’利用上述第1反射構件或上述第2反射構件進行穿透; 099118693 201106775 該帶吸收濾波器係將利用上述第丨反射構件或上述第2反射 構件進行穿透的光之一部分更進一步穿透;上述帶吸收濾波 器的穿透成為最小值的波長,係位於來自上述共振器構造的 共振器輸出光譜成為最大值的波長、與比視感度成為最大值 的波長之間。 本發明顯示裝置係如申請專利範圍第9項所記載,其特徵 在於具備有:多數之共振器構造及共通帶吸收濾波器,該等 多數共振器構造係具有:第1反射構件、第2反射構件、及 配置於上述第1反射構件與第2反射構件之間的發光層,並 使在上述第1反射構件與上述第2反射構件之間進行共振的 光之-部分,利用上述第1反射構件或上述第2反射構件進 行穿透;該共通帶吸收濾波器係將利用上述第丨反射構件或
上述第2反射構件進行穿透的光之一部分更進一步穿透,L 由上述多數共振器構造共通;其中,上述帶吸收滤波器的穿 透成為最小值的波長,係位於來自上述共振器構造的共振器 輸出光譜成為最大值的波長、與比視感度成為最大值的^長 之間。 / 【實施方式】 以下,針對本發明較佳實施形態的發光元件及顯示穿置 參照附示圖式進行詳細說明。以下說明中, 且 發出紅色⑻、卿)、藍色⑼光之發光元二= 為一例進行說明。但,不可解釋為本發明技術範圍受以下所 099118693 6 201106775 說明實施形態的任何限定。 (第1實施形態) 圖1與圖2所示係在共通基板1上配置發出紅色(R)、綠 色(G)、藍色(B)光的3個發光元件(R、G ' B),而形成 單元的一例。圖1係發光元件(R、G、B)的縱剖圖,圖之係 平面圖。另外’實際的顯示裝置係在基板丨上排列多數發光 元件(R、G、B)而形成顯示區域,並利用在未圖示之顯示區 域外所配置的驅動電路構成被動驅動的構造,或依每個元^ 配置驅動電路而構成主動驅動的構造。 本實施形態的發光元件(r、G、b)係如圖i所示,將作為 第1反射構件用的陽極2、有機層3、及作為第2反射構件 用的陰極4積層於基板上,再從成膜面側取出發光之所謂 「頂部發光構造」。該等RGB的發光元件係利用通稱「堤 (bank)」的隔牆部5進行區分。另外,有時在陰極4上更2 一步積層著密封膜等有機層或無機層。 再者,在上述發光所取出的成膜面之相對向位置處,配置 使來自共振器構造的光之一部分更進一步進行波長選擇性 穿透的帶吸收濾波器(BEF)6。該帶吸收濾波器6較佳係如圖 1所示,屬於RGB的各發光元件所共通之濾波器。帶吸收 濾波器6係由濾波器支撐構件所支撐,該濾波器支撐構件係 由未圖示之支撐構件所固定配置。圖丨係例如利用透明材料 所形成之基板(滤波器支撐基板)7,構成遽波器支撐構件的 099118693 7 201106775 例子濾波器支撐構件並不侷限於基板,亦可為透明薄膜 等。且,亦可附加例如用於防止外光反射用的構造或材料。 陽極2係反射電極2]與透明電極22的雙層構造。作為陽 極2之鄰接於電洞注入層31的材料係使用功函數較高的材 料。具體而言,反射電極21的材料可使用例如Cr、
Mo、Νι、Pt、Au、Ag等金屬、或含有該等的合金、或介金 屬化合物等。反射電極21的厚度係例如1〇〇nn^反射電極 21隶好係對400〜700nm波長光的反射率之平均值為例如 80%以上的高反射率。又,透明電極22的材料可使用例如 ITO(Indium Tin Oxide)或 IZO(Lndium Zinc Oxide)等金屬氧 化物等等。透明電極22的厚度係例如75nin。另外,在圖i 與圖2中雖省略圖示,但陽極2係連接著拉出電極(配線電 極)。另外,陽極2亦可為反射電極21的單層構造。 有機層3亦可其一部分為由無機材料構成。又,亦可更進 -步分割而形成多層化’或亦可依單一層即具有複數層機能 的方式而減少積層數。圖1所示之有機層3係從陽極2側起 依序積層著電洞注入層31、電洞輸送層32、發光層33、及 電子輸送層34的多層構造。有機層3只要至少具有發光層. 33即可,但為了有效率地促進電激發光現象,較佳係配置:· 電洞注入層31、電洞輸送層32、及電子輸送層μ等。 在作為共振器構造的情況’ RGB的各發光元件分別具有 較佳共振器光程長。在圖1所示構造的情況,反射電極21 099118693 〇 201106775 與陰極4反射面的相隔距離係共振器光程長。就其中一例, 用於獲得紅色(R)之較佳共振器光程長的積層膜厚係 300麵’用於獲得綠色(G)之較佳共振器光程長的積層膜厚 係235nm,用於獲得藍色(B)之較佳共振器光程長的積層膜 厚係200nm。該等共振器光程長係例如利用有機層3的膜厚 ‘ 而進行調整。但,如前述般,在製作步驟中,難以完全防止 膜厚逾越設計值外。尤其是在彻塗佈法形成有機層3時將 難以控制膜厚。例如當利时墨法進行成膜時,有時元件間 發生達5%以上膜厚變動。 圖1所不構造的一例,係改變電洞注入層31的厚度以調 整共振器光程長。具體而言,紅色(R)電洞注入層31的厚度 (設計值)係例如125nm,綠色(G)電洞注入層31的厚度(設計 值)係例如65nm,藍色(B)電洞注入層31的厚度(設計值)係 例如2〇nm。關於電洞輸送層32、發光層33、電子輸送層 34,係屬於RGB的共振器構造而形成相同厚度。電洞輸送 層32的厚度(設計值)係例如3〇nm,發光層33的厚度(設計 值)係例如30nm,電子輸送層34的厚度(設計值)係例如 * 40nm。 . 電洞注入層31與電洞輸送層32只要為由電洞的輸送特性 較尚之材料形成即可,其一例係使用例如:酞菁鋼 等酞菁化合物;m-MTDATA等星爆式胺;聯苯胺型胺的多 聚物;4,4'-雙[N-(l-萘基)-N-苯基胺基;]聯苯(NPB)、N_苯基_p_ 099118693 9 201106775 苯-胺(PPD)等芳香族三級胺;4•(二_p甲苯基胺)_4I_[4_(二 -P-曱苯基胺)笨乙稀基]笨乙稀等笨乙烯化合物; 三唑衍生 物、苯乙烯基胺化合物、巴克球(buckyball)、c的等富勒烯 (fullerene)等等有機材料。又,亦可使用使用在聚碳酸醋等 高分子材料中分散了低分子材料的高分子分散緒料。但, 並不僅侷限該等材料。 作為發光層33係可使用產生紅色(R)、綠色⑹、藍色⑻ 之電激發光現象的材料。發光層33的材料—㈣可使用: (8-經基啥琳基成錯合物(Alq3)等螢光性有機金屬化合物; 4,4’·雙(2,2,-二苯基乙烯基)聯苯(DpvBi)等芳香族二亞甲基 化合物;雙(2_甲基苯乙稀基)苯等苯乙稀基笨化合物了 3并聯苯基Μ·苯基i第三丁基苯基],2,4-三嗤(TAZ)等三 吐衍生物;蒽酿衍生物、苐衍生物d咖㈣等 螢光性有機⑽;料苯乙烯(PPV)系、料系、聚乙焊啼 婦vm等高分子材料;白金錯合物或銀錯合物等鱗光性 有機材料。但,並不僅侷限該特料。又,亦可不為有機材 料,亦可使用產生電激發光現象的無機材料。 電子輸送層34只要依電子輸送雜較高㈣料形成即 可’其—例可使用例如·· PyPySPyPy等石夕環戊二稀(石夕諾魯) 衍生物4基取代㈣衍生物H甲貌衍生物等有機材 料,參㈣基㈣)華_ 8_噎轉衍生物的金屬錯合 物,金屬醜菁、Η4·聯苯基)邻-第三丁基苯基)冰苯基 099118693 201106775 1,2,4 一哇(TAZ)等三嗤系化合物;2-(4-伸聯笨義)$ (4第 三丁基)-1,3,4-噚二唑(PBD)等哼二唑系化合物;巴克球 Qo、碳奈米管等富勒烯。但,並不僅侷限該等材料。 陰極4的材料可使用鄰接於電子輸送層34的區域之功函 數較低’且陰極整體的反射及穿透損失較小 _ 、付枓。具體而 言’陰極4的材料可使用將a卜Mg、Ag、Al1 p & 八11、Ca、Li 等 金屬或其化合物、或含有該等的合金等,形成單層或經積 層後使用。又,有時亦在鄰接電子輸送層34的區域形成較 薄的氟化鋰或氧化鋰等,以控制電子注入特性。陰極4的厚 度係例如l〇nm。如前述,本實施形態係從成膜面側(即陰極 側)輸出光的頂部發光構造。所以,陰極4係對4〇〇〜 波長光的穿透率之平均值為例如20%以上的半穿透性電 極。穿透率例如可利用電極的膜厚等進行調整。另外,在圖 1與圖2中雖省略圖示,但陰極4係連接著拉出電極(配線 電極)。 當在陰極4上進一步積層密封膜的情況,例如可利用水蒸 氣或氧等穿透率較小的透明無機材料予以形成。作為密封膜 的材料’其一例可使用例如:氮化石夕(SiNx)、I氧化石夕 (SiOxNy)、氧化鋁(AlOx)、氮化鋁(AINx)等。 作為通稱「堤」的隔牆部5之材料,其一例可使用含有氟 成分的感光性樹脂。藉由含有氟成分,因為對液狀材料可發 揮撥液性,因而可抑制當使用塗佈法進行成膜時的液流動 099118693 11 201106775 (所謂「重疊(oVerlap)」)。且,隔牆部5較佳由依具 性的材料形成β b 再者,帶吸收渡波器_)6可使用例如具有略高斯形狀 之吸收特性的單一帶吸收之遽波器。帶吸收遽波器6若具有 下述吸收特性,财雜與材料並無限定。作為—例的帶吸 收濾波器6可藉由將薄膜狀或板狀濾波器黏貼於顯示面 上’且亦可使具有下述吸收特性的色素塗佈或附著於顯示面 上,而構成濾波器。但’因為屬於單一帶吸收的濾波V,玫 視以藍色⑻、紅色⑻、綠色⑼中何者作為對象色^盧波 器的吸收特性有所不同。以下的說明中,較佳例係針對^ 色⑻為對象色的情況進行說明。另外,以下說明中,為了 說明的便利,將發光強度成為最A的波長稱為「中心波長」。 如圖3所示,在以藍色⑻為對象色時,來自共振器構遠 的輸出光譜(以下稱「共振器輸出光譜」)S1之中心波長(紐) 係470nm±10nm。又,使其具±1〇nm範圍的原因為用於獲得 NTSC色純度的中心波長⑽依存於共振器輸出光譜以的 寬度與PL形狀。又,亦考慮因膜厚變動所造成的中心波長 (λΒ)之位移幅度。另-方面,比視感度紐的中心波長係依 明視覺標準計為555nm。此情況,本實施形態較佳一例係使 用具有吸收的t心波長〇a)為例如495nm之穿透光譜S2的 帶吸收濾波器6。更佳係當將基礎吸收設為〇%時,尖峰吸 收達60%以上。又,圖3所示係當形成如設計值的膜厚時, 099118693 12 201106775 通過帶吸收濾波器6並輸出光的光譜(以下稱「發光輸出光 譜」)S3。 更詳言之,帶吸收濾波器6的吸收光譜S2係接近共振器 輸出光譜si,且吸收率從共振器輸出光譜S1的中心波長(λΒ) 起朝長波長側呈單調性增加。然後,作為重要要素,較佳係 共振器輸出光譜S1中心波長附近之穿透率變化能充分抑制 輝度變動。具體而言’如圖4所示,在將中心波長(λΒ)的穿 透率设為Τ(0) ’並將距上述中心波長為+1 〇ηιη波長的穿透 率設為T(l〇)時’穿透率的比△τρτοογτ⑼]較佳為〇9以 下、更佳0.7以下、特佳0.6以下。 如上述’本實施形態係使用滿足上述吸收條件的帶吸收據 波器6,構成將從共振器構造所輸出的光之一部分更進一步 吸收的構造。即,構成為當共振器輸出光譜S1的中心波長 (XB)位移於高視感度侧(〜480nm)時,則依減少發光輸出的方 式’利用帶吸收濾波器6控制著中心波長(λΒ)附近的形狀, 而當中心波長(λΒ)位移致低視感度侧(〜460nm)時,便依增加 發光輸出的方式,利用帶吸收濾波器6控制著中心波長(沾) 附近的形狀。藉由形成該構造,例如即便膜厚偏離設計值在 士 10nm範圍内,導致共振器光程長出現變動,仍可抑制輝度 變動。此時,色度座標距NTSC色純度的偏移係在〇 以内、或屬於擴大NTSC色重現範圍的色度座標,滿足彩色 顯示用的良好色純度。 099118693 13 201106775 以下,參照更具體的模擬結果,針對輝度變動受抑制之事 進行說明。㉟’以下模擬結果係一例,並非對本實施形態進 行任何限定。 當共振H輸出光譜S1㈣,續長_設計值設為例如 472nm時,圖5(a)所示係臈厚偏離設計值—匕⑴時的模擬結 果。又’圖5(b)所不係成為依照設計值膜厚時的模擬結果。 又,圖5(c)所示係膜厚偏離設計值+ inm時的模擬結果。帶 吸收濾波器6係使用具有吸收中心波長(&)為5〇〇nm、吸收 係數σ為1 Onm的略尚斯形狀吸收特性者。穿透率的比 △T[=T(10)/T(0)]大約為 0.9。 另外,圖5所記載的各光譜内,光譜sl〇係帶吸收濾波器 6的穿透光譜,光谱S11係'通過帶吸收遽波器6並輸出的發 光輸出光譜。又,光譜S12係作為比較用,在未設置帶吸收 滤波器6時的發光輸出光譜。且,光譜sn係未使用共振器 構造而進行發光時,内部發光的光致發光光譜。又,膜厚在 .又十值附近進行增減時,將模擬正面輝度變化的結果示於圖 6 〇 如圖5的模擬結果所示,藉由使用滿足上述條件的帶吸收 滤波器6,當共振器輸出光譜&的中心、波長㈣位移於高 視感度側Η夺則控制為減少發光輸出,當中心波長⑽)位移 於低視感度側時,則控制為增加發光輸出。若依此進行控 制隹因膜厚的增減造成發光強度變動,但如圖6的模擬結 099118693 201106775 果相對於犋厚增減所造成的輝度變動將受抑制。即,當未 使用π及H皮s 6時,在設計值附近會因膜厚變化幻細 而發生±5%的輝度變化;相對於此,當使用帶吸《波器6 時,雖然設計值的輝度減少、1〇%左右,但相對於膜厚變化 士1則輝度變化被抑制至现左纟。另外,設計值係慮波 穿透後的發光針對輝度與色度進行了最佳化者。 另一例,圖7所示係使用具有吸收中心波長為495nm、吸 收係數^為1Gnm之略高斯形狀吸收特性的帶吸«波器6 時之模擬結果。穿透率的比ΔΤ[=Τ⑽⑽狀約q 7。此情 况,光4行為亦具有如同圖5的傾向,但穿透率之比值 減小之4刀,會隨臈厚增減而導致發光輸出變動幅度變大。 、’^果如圖8的模擬結果所示,相對於膜厚增減的輝度變 動,没计值的輝度雖減少2〇%左右,但相對於膜厚變化 ±lnm,輝度變化被抑制至±1%左右。即,藉由使用共振器 輸出光谱S1中心波長附近的穿透率變化較大之帶吸收濾波 器6,可更確實地抑制輝度變動。 另一例’圖9所不係使用具有吸收中心波長為495nm、吸 收係數σ $ i5nm之略高斯形狀吸收特性的帶吸收滤波器6 時之模擬結果。穿透率的比大約〇 6。此情 況’光譜行為亦具有如同圖5與圖7的傾向,但穿透率之比 △Τ值減j之。ρ刀’會隨臈厚增減而導致發光輸出變動幅度 變大。結果’如圖10的模擬結果所示,相對於膜厚增減的 099118693 15 201106775 輝度變動,設計值的輝度雖減少^ 35%左右,但可知在保持充 分十分色純度的情況下,輝度變各碰 文化幾乎為零。即,藉由使用 共振器輸出光譜S1中心波長附诉+ b 反咐近的穿透率變化較大之帶吸 收濾波器6 ’可更確實地抑制輝度變動。 圖Η所示係共振器輸出光譜S1令心波長⑽)的帶吸收滤 波器6之吸收變化率Ra、與相對於臈厚變動的輝度變化^ RL(%)間之關係模擬結果。吸收變化率Ra得中心波長㈣ 的吸收光譜斜率除以波長λΒ的吸收率,可依照^["畔 〔dA⑽胤〕从⑽的計算式㈣計算。又,輝度變化率 RL(%)係當將滿足NTSC色純度的最佳膜厚設為d〇時輝 度對鎖nm膜厚偏移的變化率。更詳言之,依照輝度變化 率RL[〇/〇]=〔 d0士2nm的輝度最大〜最少之差〕/〔⑽的輝度〕 xlOO而計算出之值。如目u所示的結果,藍色⑼發光元 件的吸收變化率RA[1/nm]較佳係_〇 〇1以下、更佳係以 下。 另外,圖1所示發光元件係利用反射電極與半穿透電極構 成第1與第2反射構件,惟並不僅侷限於此,亦可形成電極 之外的其他反射膜。此情況,電極之外的其他反射膜之靠元 件側的陽極與陰極,較佳係設為透明電極。 (第2實施形態) 本實施形態係第1實施形態的變化例’將利用帶吸收濾波 器6進行控制的對象色設為紅色(R)的實施形態。 099118693 16 201106775 如圖12所示,當以紅色(r)為對象色時,共振器輸出光譜 S1的中心波長(\R)係620±20nm。使其具±20nm範圍的原因 為用於獲得NTSC色純度的中心波長(XR)依存於共振器輸 出光譜S1的寬度與PL形狀。又,亦考慮因膜厚變動所造 成的中心波長〇R)之位移幅度。另一方面,比視感度光譜的 中心波長係依明視覺標準為555nm。此情況,本實施形態較 佳一例係使用具有吸收的中心波長(\a)為例如59〇ηιη之穿 透光譜S2的帶吸收濾波器6。更佳係當將基礎吸收設為〇0/〇 時’尖峰吸收達60%以上。又,圖12所示係當形成如設計 值的膜厚時,通過帶吸收濾波器6並輸出光的發光輸出光譜 S3。 更詳言之,帶吸收濾波器6的吸收光譜S2係接近共振器 輸出光譜si,且吸收率從共振器輸出光譜S1的中心波長(XR) 起朝長波長側呈單調性增加。然後,作為重要要素,較佳係 共振器輸出光譜S1中心波長附近之穿透率變化能充分抑制 輝度變動。具體而言,如圖13所示,在將中心波長(人r)的 穿透率設為τ(ο),並將距上述中心波長為_1〇11〇1波長的穿透 率設為T(-l〇)時,穿透率的比^^[=7(-10)/1(0)]較佳〇.9以 下、更佳0.7以下、特佳0.6以下。 再者’如同圖11,共振器輸出光譜S1中心波長(XR)的帶 吸收濾波器6之吸收變化率Ra、與相對於膜厚變動的輝度 變化率RL(%)間之關係模擬結果,紅色(尺)發光元件的吸收 099118693 17 201106775 變化率RA[l/nm]較佳係+0.01以上、更佳係+0.02以上。 依此’即便以紅色(R)為對象色的情況,當共振器輪出光 譜S1令心波長(XR)位移於高視感度侧時,則發光輸出減少 的方式’而當中心波長(XR)位移於低視感度側時,則發光輪 出增加的方式,利用帶吸收濾波器6控制著中心波長(入 附近的形狀。所以,如同藍色(B)的情況,即便例如膜厚在 ±10nm範圍内偏離設計值,導致共振器光程長出現變動的情 況下,仍可抑制輝度變動。 (第3實施形態) 本實施形態係第1與第2實施形態的變化例,將利用帶吸 收濾波器6進行控制的對象色設為藍色(B)與紅色(R)二者的 實施形態。 即’準備具有第1實施形態吸收特性的帶吸收渡波器、 具有第2實;^態吸收特性的帶吸收滤波器等二者,並死 雙層積層的構造。此情況,可利用藍色⑻與紅色⑻未分 塗佈的纽器’則可獲得輝度變動抑制效果。但,並^ 限於雙層積層的構造,亦可形成分別配置於藍色^
(R)發光元件中的構造。若形成此種構造,可抑制藍色m 紅色(R)雙方的輝度變動。 I 再者’不僅偈限於準備2個滤波器,亦可使 i實施形態吸㈣性條件、與第2實卿態 = 方的雙帶吸收單-遽波器。 則 生條科 099118693 18 201106775 (第4實施形態) 另外,第1〜第3實施形態中’係針對改變電洞注入層31 的厚度,而調整RGB的共振器光程長為一例進行說明。但, 並不僅侷限於此,亦可如圖14所示,改變發光層33的厚度, . 而調整RGB的共振器光程長。 (第5實施形態) 再者’第1〜第4實施形態中,係以頂部發光構造的發光 元件為一例進行說明。但,ji不僅侷限於此種構造,如圖 15所示,亦可為底部發光構造。圖15所示係藉由將圖1的 反射電極21設為半穿透電極,將陰極4設為反射電極’而 形成底部發光構造的例子。此時的帶吸收濾波器6 ’係如圖 15所示,可配置於基板1上,或亦可使用如圖1所示濾波 器支撐基板7,而配置成與基板1呈相對向狀態。佴,並不 僅偈限於此種構造。 (第6實施形態) 接著,針對製造圖1所示RGB發光元件的順序,以其中 一例進行說明。 首先’使用例如蒸鍍或濺鍍法等依序形成反射電極21、 . 透明電極22。該等電極21、22的圖案化可依照例如光學微 影法實施。接著,將例如含有氟成分的感光性樹脂爹佈於基 板1上’經乾燥而成膜後’再利用例如光學微影法’形成具 有如圖1所示圖案的隔牆部5。例如在被動式的情况’係在 099118693 201106775 將電極21、22形成為條紋狀後,形成隔踏部5。另—方面, 例如在主動式的情況,則在每個驅動電路所連接的島狀上形 成電極2卜22後,再形成隔牆部5。 其次,將電洞注入層31的液體材料,使用例如喷墨噴嘴 等,塗佈於利用隔牆部5所區隔的區域内,使其乾燥而成 膜。關於電洞輸送層32、發光層33亦同樣地利用塗佈法, 對各70件每個施行分開塗佈而成膜。膜厚可利用例如液體材 料的塗佈量進行調節。接著,使用蒸鍍法,依序形成電子輸 送層34及陰極4。陰極4的圖案化可使用金屬遮罩等遮罩、 或利用隔牆部5的堤形狀實施。例如在被動式的情況,可將 陰極4圖案化為條紋狀。另一方面,例如在主動式的情況, 可不施行圖案化,形成所謂的平板電極。 最後,例如藉由將已黏貼薄膜狀之帶吸收濾波器6的濾波 器支撐基板7,配置於與取出發光的成膜面相對向之位置 處’可製得圖1與圖2所示之RGB發光元件。 如上述,根據第1〜第6實施形態,在具有共振器構造的 發光元件中,藉由使在來自共振器構造的共振器輪出光譜成 為最大值的波長、與比視感度成為最大值的波長之間,耳有 穿透成為最小值之波長的帶吸收纽器,並構成為使來自'共 振器構造的光之一部分更進一步波長選擇性穿透的構造,: 可抑制因共振器光程長的變動所造成的輝度變動。換&之 即便膜厚偏離設計值,因為輝度變動較少,因 ° 」1定膜厚變 099118693 20 201106775 動的容許幅度變寬廣,而可實現良率提升與低成本化。 依照上述實施形態的技術’除有機薄膜發光元件之外,亦 可適用於具有積層元件構造的無機薄膜發光元件(電場發 光、發光二極體)。又,亦可適用於將發光元件呈面朝上且 陣列化配置的發光型顯示裝置。又’亦可為從第1與第2 反射構件二側取出發光的構造。此外,不僅侷限於RGB三 色,亦可為單色、或雙色、或含有其他顏色。 以上,雖針對本發明根據具體的實施形態進行了詳細說 明,惟相關形式與細節的各種取代、變化、變更等,在不脫 逸申请專利範圍記載所規定之本發明精神及範壽之下均可 進行’此係該技術領域中具通常知識者可輕易思及。所以, 本發明In®並非限定於前述實施形態及所附示圖式,而應根 的記栽、及其均等涵義所規範。 【圖式簡單說明】 為本冬月較佳第1實施形態的RGB發光元件之縱剖 圖。 圖2為本發明較佳第1實施形態的RGB發光元件之平面 圖。 為色⑻為對象色的帶吸收濾波器之特性圖。 圖為以I色⑻為對象色的帶吸收滤波器之特性圖。 二上·述發光7L件的膜厚與發光光譜之關係圖 °為上述發光元件的膜厚與輝度之關係圖。 099118693 21 201106775 圖7為上述發光元件的膜厚與發光光譜之關係圖。 圖8為上述發光元件的膜厚與輝度之關係圖。 圖9為上述發光元件的膜厚與發光光譜之關係圖。 圖10為上述發光元件的膜厚與輝度之關係圖。 圖11為上述發光元件的帶吸收濾波器之吸收變化率與輝 度變化率之關係圖。 圖12為以紅色(R)為對象色的帶吸收濾波器之特性圖。 圖13為以紅色(R)為對象色的帶吸收濾波器之特性圖。 圖14為本發明較佳第4實施形態的發光元件之縱剖圖。 圖15為本發明較佳第5實施形態的發光元件縱剖圖。 【主要元件符號說明】 1 基板 2 陽極 3 有機層 4 陰極 5 隔牆部 6 帶吸收濾波器 7 濾波器支撐基板 21 反射電極 22 透明電極 31 電洞注入層 32 電洞輸送層 099118693 22 201106775 33 34 51 52 發光層 電子輸送層 共振器輸出光譜 S3 吸收光譜 099118693 23
Claims (1)
- 201106775 七、申請專利範圍: 1·一種發光元件,其特徵在於具備有: 共振器構造’其具有第1反射構件、第2反射構件、及配 置於上述第1反射構件與第2反射構件之間的發光層,並使 在上述第1反射構件與上述第2反射構件之間進行共振的光 之一部分,利用上述第1反射構件或上述第2反射構件進行 穿透;以及 帶吸收濾波器’係將利用上述第1反射構件或上述第2 反射構件’進行穿透的光之一部分更進一步穿透; 上述帶吸收濾波器的穿透成為最小值的波長,係位於來自 上述共振器構造的共振器輸出光譜成為最大值的波長、與比 視感度成為最大值的波長之間。 2. 如申請專利範圍第1項之發光元件,其中,上述共振器 輸出光譜成為最大值的波長係470±1〇11111範圍内; 將上述共振器輸出光譜成為最大值的波長中,上述帶吸收 遽波器的穿透率設為τ(〇)、將距成為最大值之波長+1〇細 之波長的穿透率設為Τ(10)時,穿透率的比訂卜丁⑽/丁⑽ 係0.9以下。 3. 如申請專利範圍第2項之發光元件,其中,上述穿透率 的比ΔΤ係0.7以下。 4. 如申請專利範圍第i i 3項中任一項之發光元件,其 中’上述T吸收遽波器的穿透變化率R』_〇叫^細]以下。 099118693 24 201106775 5. 如申請專利範圍第1項之發光元件,其中,上述共振器 輸出光譜成為最大值的波長係620±20nm範圍内; 將上述共振器輸出光譜成為最大值的波長中,上述帶吸收 濾波器的穿透率設為τ(ο)’將距成為最大值之波長_i〇nm之 波長的穿透率設為T(-l〇)時’穿透率的比 係0.9以下。 6. 如申請專利範圍第5項之發光元件,其中,上述穿透率 的比ΔΤ係0.7以下。 7. 如申請專利範圍第1、5及6項中任一項之發光元件, 其中’上述帶吸收遽波器的穿透變化率RA係+〇 〇 1 [l/nm]以 上。 8. 如申請專利範圍第1項之發光元件’其中,色度座標距 NTSC色純度的偏移MV係在〇·05以内、或屬於擴大NTSC 色重現範圍的色度座標。 9·一種顯示裝置’其特徵在於具備有: 多數共振器構造’其具有:第1反射構件、第2反射構件、 及配置於上述第1反射構件與第2反射構件之間的發光層, 並使在上述第1反射構件與上述第2反射構件之間進行共振 的光之一部分,利用上述第1反射構件或上述第2反射構件 進行穿透;以及 共通帶吸收濾波器’其將利用上述第1反射構件或上述第 2反射構件進行穿透的光之一部分更進一步穿透,且由上述 099118693 25 201106775 多數共振器構造共通; 其中,上述帶吸收濾波器的穿透成為最小值的波長,係位 於來自上述共振器構造的共振器輸出光譜成為最大值的波 長、與比視感度成為最大值的波長之間。 099118693 26
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