TW201040600A - Method of manufacturing optical waveguide core, method of manufacturing optical waveguide, optical waveguide, and optoelectric composite wiring board - Google Patents

Description

201040600 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種光波導纖核之製造方法、光波導 之製造方法、由此光波導之製造方法製造的光波導、以及 具有此種光波導的光電複合線路板。 【先前技術】 光電複合線路板係具有内建光波導的印刷電路板，現 〇 7做為在各種資訊處理裝置内解決與較高的訊號速度相關 聯的高頻噪音及傳輸頻寬不足等問題的方法，其受到相當 的矚目。 ',3有/、有能夠反射光的一傾斜端面的光波導纖核的光 . 導被形成在此種光電複合線路板中，用以例如從光波導 i 輪出光 種具有此一傾斜端面的光波導纖核的製 造方法的例子係在下面非專利文件1中說明的方法。 ❹ #專利文件i說明一種光波導纖核的製造方法，其包 "下列步驟：形成-光波導纖核；經由以—迴轉刀等加工 反=導纖核’形成一傾斜端面以當做在光波導纖核上的一 鏡射鏡；及經由在傾斜端面上沉積_層金屬而形成一反射 兄以增加在傾斜端面上的反射效率。 波導纖：利文件2在下面說明—種方法’其中，形成-光 姓，從而從45。方向以一準分子雷射照射而完成燒 專利：株—45。傾斜的端面以做為-反射鏡。 1在下面說明_種製造方法，其包括一製造 5 201040600 步驟’其中，光被選擇地昭 — 、、、对在一感光材料層上，以改變 感光材料，從而形成一結構， ^ 吳褽造方法包括一步驟，其 中’使光以一特定条隹 又進入基板。更具體而言，其揭露具 有一 45。反射鏡的波導可經 _ , 田依序貫仃纖核塗膜、4 5。曝 光、及顯影而被形成。 ^專利文件1及2揭露具有一傾斜端面的光波導纖核 可經由上述製造方法被形成。 ，同時在具有-傾斜端面的光波導纖核的製造中，除 /成傾斜端面的能力外，經由減少製造具有—傾斜端面 的光波導纖核所需要的步驟數目，希望增加製造的效率。 再者纟希望經由減少製造步驟的數目抑制製造成本。 、在非專利文件1及2說明的方法中，在光波導纖核形 成之後’㉟由切割操作等，形成一傾斜端面。也就是，光 波導纖核的形成及傾斜端面的形成分別被實行，與兩者同 時實行時相比，i舍茑砂 〃、會導致較低的生產效率及較高的生產成 本〇 、士、匕而。’專利文件1揭露-技藝，其經由使光在曝 光日以-特定角度進人基板’而使得光波導纖核的形成及 傾斜端面的形成可同時被完成。 引文列表 專利文獻 專"矛U文 >(半 1 · 〇 1 ^ •曰本專利申請案早期公開No. 2004-279687 非專利文件〗.” η + . uptoelectric composite flexible ed circuit boards, H Mat sushi ta Denko G iho. Vol. 201040600 54， No. 3(2006 年 9 月） 非專利文件 2: Tsuyoshi Shioda and Kenji Suzuki， • "45-Degree micromirror formed in polymer optical ， waveguide by exciiner laser machining, " Journal of Japan Institute of Electronics Packaging, Vol. 7, No. 7， PP· 607-612(2004) o o 【發明内容】 根據本發明人的研究，當光如專利文件i中說明一樣 在曝光時傾斜地進入基板時，若纖核材料層的折射率大， 其將會相當地不同於在與纖核材料層的界面處的空氣等的 折射率。從而，形成具有一特定角度的傾斜端面，諸如做 為一 45。反射鏡的傾斜端面，要求在曝光期間，相對於小的 土板光具有-角度。在曝光期間使得光對於基板的角度 較小的情況中’光有時會反射離開纖核材料層的表面，使 其不可能形成預定角度的傾斜端面。此外，#纖核材料層 的折射率明顯不同於空氣的折射率時，不引起光的全反射 之在曝光期間相對於被覆層及基板的光的角度之範圍變 窄。因此，可被形成在光波導中的傾斜端面的角度之範圍 , 也就疋有無法形成預定角度的傾斜端面的情況。 口此本毛月之目的在於提供一種光波導纖核的製造 :法，其可有效地製造具有預定角度的傾斜端面之光波導 本發明之其他目的在於提供一種製造含有具有一傾 的光波導纖核的光波導之方法，經由此製造方法製 7 201040600 造的-光波導，及具有此光波導的—光電複合線路板。 根據本發明之光波導纖核的製造方法係一種製造具有 -傾斜端面的光波導纖核的方法，此方法包括：—纖核材 料層形成步驟，在已被形成於基板上的被覆層的表面上形 成由感光材料形成的纖核材料層；一高折射率物質覆蓋步 驟，經由使高折射率物質緊密接觸纖核材料層表面’而以 折射率大於1的物質覆蓋纖核材料層的表面；一曝光步 'Γ射=以相對於被覆層表面傾斜—預定角度之曝光的光 :射由南折射率物質覆蓋之纖核材料層的—側，用預定形 成纖核的形狀對纖核材 τ纖核材科層進行圖案曝光以形成纖核；— 尚，率物質移除步驟，從在+ s 層的表面移除高折射率物m驟的纖核材料 率物質移除步驟：，及一顯卿，將在高折射 層顯男 ㈤折射率物冑已從其被移除的纖核材料 層顯…形成具有傾斜端面的纖核。 本發明之光波導製造方法係一種製造含有呈有 端面的光波導纖核的光波導…：3有八有—傾斜 材枓層形成步驟，在已纖核 面上形成由 歧基板上的第-被覆層的表 覆蓋步驟，經的纖核材料層；-高折射率物質 面，而以折射率大:斤射率物質緊密接觸纖核材料層表 曝光步驟，二大於1的物質覆蓋纖核材料層的表面；— ，纟至由以相對於笛„ 之曝光的光照射由古覆層表面傾斜一預定角度 側，用預定升^、呵折射率物質覆蓋之纖核材料層的- 形成纖核；—言拆心/狀對纖核材料層進行圖案曝光以 ;物質移除步驟，從在曝光步驟中眼 201040600 光的纖核材料層的表面移除高折射率物質，·一顯影步驟， 將在高折射率物質移除步驟中高折射率物質已從其被移除 '的纖核材料層顯影’以形成具有傾斜端面的纖核；及一被 . 覆層形成步驟，形成第二被覆層，以掩埋纖核。 本發明的光波導係由此光波導製造方法獲得。 本發明的光電複合線路板具有前面的光波導。 ο 、經由下面的詳細說明及附圖，目的、特點、特徵及優 點被清楚地闡明。 【實施方式】 雖然本發明不限於這些實施例，下面 施例。 β n 製造光波導纖核的方法之一 锖… 法之實施例包括下面步驟，依 ’ ” ？形成於基板上的被覆層的表面上形成由残光 材料形成的纖核材料層 ★ 成由感光 ❹ 核材料層表面，而以折射$ 率物質_接觸纖 的表 斤射率大於1的物質覆蓋纖核材料層 的光從且… '被覆層表面傾斜-預定角度之曝光 箱…丄 物質覆盍之-側照射纖核材料層，用 ^ ^ 對纖核材料層進行圖案曝光水 的纖核材料層的表面 曝光，從曝先 質已從其被移除的纖核材料η I將呵折射率物 的纖核。•了前二=顯影’以形成具有傾斜端面 明的製造光波導的纖核的製造方法的步驟外，發 的步驟。 /匕括：形成第二被覆層以掩埋纖核 9 201040600 第一實施例 圖1顯示根據本發明之第一實施例描繪製造光波導的 方法之簡化圖。圖1A係顯示第一實施例中的曝光步驟之簡 化截面圖，® 1 β係、顯示第-實施w中的顯影步驟之簡化截 面圖’圖1 c係顯示已被形成的光波導之簡化截面圖；且圖 1D係、、’s示在第一實施例的曝光步驟中曝光的光之行進方向 的簡化圖’其係顯示於圖1A的橢圓A中之區域的放大圖。 如圖1A所示，根據本發明之第一實施例製造光波導的 方法需要在將-纖核材料層13 $成於其上具有第一被覆 層12的基板11之第一被覆層12上之後，將隨後以高折射 率物質15覆蓋的纖核材料層13曝光。 更詳細地說明此點，首先，第一被覆層12被形成在基 板11的表面上。 任一不同種類的有機基板或無機基板可無特別限制被 使用做為基板Π。有機基板的說明例包括環氧基板、壓克 力基板、聚碳酸S旨基板及聚亞醯胺基板。無機基板的說明 例包括石夕基板及玻璃基板。或者’也可使用—印刷電路板， 其具有已形成在基板上的一電路。 形成第一被覆層12的方法可為例士 J芍例如一種方法，其中， 由用以形成第一被覆層12之具有特金* 、 W疋折射率的可固化樹 脂材料組成的樹脂膜被貼附至基柄n ^ ± u的表面，然後被固 化；一種方法，其中，用以形成第—祜涛an 破覆層12的液態可固 化樹脂材料被塗佈至基板11的表面上 一種方法’其中’用以形成弟一被覆居 然後被固化；或是 12的可固化樹脂材 10 201040600 料的从被塗佈至基板i i的表面上，然後被固化。當第一被 1層12被形成時為了增加黏著性，最好使基板u的表面 預先受到電漿處理等。 表面 用以形成第一被覆層12的可固化樹脂材料可為—種 材料’其在導光的傳播波長下具有比其後形成的纖核工6的 材料低的折射率。古+ # 在此傳播波長下的折射率係被例示為從 、’’勺1. 5至約1. 55的折射率。此種可固化樹脂材料的例子包 Ο

括八有上面的折射率之環氧樹脂、魔克力樹脂、聚碳酸醋 樹脂及聚亞醯胺樹脂。 第一被覆層12的厚度最好係約5至約15_。 可被用以形成第一被覆I 12 &特定方法包括例如一 種方法’、中，用以形成第一被覆層12的樹脂膜被貼附至 基板11的表面，然、後被固化；且形成第—被覆層12的另 一種方法係一種方沐，甘士 裡万沄其中，一液態可固化樹脂材料或可 固化樹脂材料的漆被㈣至基板11 @表面上，然後被固 化。 例如，下面的方法可被用以將用於形成第一被覆層12 的樹脂膜貼附至基板11的表面，然、後被固化。首先，由可 固化樹脂製成的樹脂膜被放在基板u的表面之上，然後經 由在加熱下施壓以貼附至該處；或者__由可固化樹脂製成 的樹脂膜利用透明黏著劑被貼附至基板u的表面。然後， 以光照射或者加熱而使貼附的樹脂膜固化。 可被用於塗佈、然後固化用於形成第_被覆層12較 態可固化樹脂材料或可固化_材料的漆之特定方法的例 11 201040600 子如下。首先，經由使用例如旋 … 浸潰式塗佈，液態可固化樹 =f棒式塗佈、或 被塗佈至基板η的表面上固化樹脂材料的漆 ^ M ^ -Τ η “羑，已塗上的液態可固化樹 月曰材枓或可固化樹脂材料的 化。 由以先照射或加熱而固 其次’如圖1Α所示，由咸伞从 戍忐材料組成的一纖核材料層 被形成在已被形成的第-被覆層12的外表面上。 舉例而言，形成纖核材料層13的方法可 其中，用以形成纖核材料層13之 /’ ^ <由具有特定折射率的感光 的=材料:成的樹脂膜（感光膜）被貼附至第—被覆層a 液離^ ’種方法，其中’用以形成纖核材料層13的一 /心感先聚合物材料被塗佈至第_被覆層Μ的外表面 上，或一種方法，其中，用以形成 人弘从^ 取纖核材枓層13的感光聚 :物材料的漆被塗佈至第一被覆層12的外表面上，铁後被 弄乾。當纖核材料層13被形成時為了活化第—被覆声Μ 的外表面並且增加對該處的黏著性， 是曰 的外表面減受到電漿處理等。 使第—被覆層12 變之：：在此使用的’”感光’，指當以光照射時經歷的改 變的例子包括固化 '軟化、關於特定溶劑的 ^度之變化、及折射率之變化。光（曝光的光）例示但不 ^為諸如紫外光之能量射線。取決於纖核材料層Η的材 抖特性’可使用其他波長的光。 、由此種感光聚合物材料組成的樹脂膜（感光祺）係例干 為—乾膜，其係經由以半固化狀態的感光聚合物材料= 12 201040600 聚對苯二甲二乙酯（pET)膜而獲得。此一 護膜保護。 乾勝通常係由一保 用於形成纖核材料層13的感光聚合物 来的值嫉、竹了為在導 光的傳播波長下具有比第一被覆層12 者。在傳播、*直 材枓尚的折射率 得播波長下的折射率可為例如從 m .. 、J 1ϋb 至約 1. 6。 用於形成纖核材料層13的感光聚合 例示A句人 切材枓的種類係 U丁為包3具有如上指出的折射 ❹ 脂、聚磁虱樹脂、壓克力樹 聚妷齩酯樹脂、或聚亞醯胺 光材料。在ϋ此夕& , 忟為樹脂成分的感 在k些之中，特別喜好雙酚型的環 形成纖核材料層13的感光聚合物材料最好係勺曰錐於 的壤氧樹月旨及陽離子光固化劑的樹脂合成物 = 脂合成物可彳專$丨丨θ 士 > 1 U為此種树 寸到具有尚耐熱性的波導，從 成波導及印刷電路# # 其可復合形 丨刎電路板等。再者，由纖核 覆層12之間的㈣性的觀點，用於 e 13及第一被 感光聚合物材^纖核材料層13的 “勿材科取好係與用於形成第 化樹脂材料相同類型的系統。 覆層12的可固 雖然未受到特別的限定，纖核材料層Μ 其最好係從約20至約100μπι。 -有-厚度， 可被使用之用於形成纖核 括一種方法，i中，—組 叶層13的方法的例子包 及-種方法，其中：:膜被貼”形成纖核材料層13, 料的漆被塗佈以形成織核材料層^材科或可固化樹脂材 貼附樹脂膜以形成纖核材料層13的且體 由可固化樹脂組成的樹腊膜放在 ：體方法包括將 ^破覆層12的外表面 13 201040600 上’然後經由在加熱下施壓而將樹脂膜貼附至該處；或者 利用透明黏著劑將由可固化樹脂組成的樹脂膜貼附至第— 被覆層12的外表面。 、塗佈用於形成纖核材料層13的液態可固化樹脂材料 或可=化樹脂材料的漆之方法的具體例包括經由旋轉塗 佈杯棒式塗佈、或浸潰式塗佈將液態可固化樹脂材料或 可固化樹脂材料塗佈至第一被覆層12的外表面，然後若需 要的話再加以乾燥。 纖核材料層13可在纖核材料層13被例如選擇地曝光 及固化之前受到熱處理。這樣的話，纖核材料層13的表面 :清除掉不平整、氣泡、裂縫等，從而變得平坦。熱處理 溫度最好係一溫度，其提供纖核材料層13黏性，使其清除 表面的不平整、氣泡、裂縫等’並且使其平坦而根據形 成纖核材料層13 #可固化樹脂材料的類型而被適當地選 擇。為了完全達成上述效應’熱處理時間最好係從約i。至 約3。分。熱處理的手段未受到任何特別的限定。舉例而 了，可使用包含在被設定於一給定溫度的烤爐中的處理或 疋在加熱板上加熱之方法。 其次，在經由使具有高於！的折射率之物質緊密接觸 於該處而覆蓋纖核材料層13的表面之後，經由通過一光罩 “以曝光的光照射纖核材料層13而在纖核材料層13上實 行預定形狀的圖案曝光。如圖1D所示，曝光在此未經由將 曝光的光從垂直於第一被㈣12的表面之方向照射而完 成；更確切地說，|包含傾斜的曝光，其中，當形成一仏。 14 201040600 反射鏡時，曝光的光傾斜地照射，使得在垂直於第一被覆 層12的表面之方向與曝光的光通過纖核材料層13行進的 方向之間的角度θι變成一特定角度，例如45。。更具體來 說，曝光的光傾斜地照射，使得曝光的光關於垂直於第一 被覆層12的表面之方向的角度θ〇’及角度㊀丨，變成特定角 度。 當纖核材料層13被曝光時，以高折射率物質緊密接觸 纖核材料層13的方式使纖核材料層Η的表面處於被具有 大於1的折射率之高折射率物質覆蓋的狀態而完成此曝 光。此配置避免曝光的光在纖核材料層13的表面未完全地 被反射，從而增加曝光的光進人纖核材料層13的角度之範 34在下面更完整地說明。 ▲令出現在纖核材料層13之曝光的光進入側的表面之 ❹ =射率物質15的折射率為nQ且令纖核材料㈣的折射 率為nl，當曝光的光進 纖核材枓層13時，下列的公放 (1)適用 a式 nOSinGO = nlSinGl 7 n〇為1. 33，曝光的光進入纖核材料 給定為下面的公式（2) 的條件被 °-<Q1-<Sin->(i.33/nl) (2) 令nl為1. 4至1 β θ .’曝光的光進入纖核材料層1 q 條件被給定為下面的公式（3) 13的 〇 < Θ1 < 約 56 至 72。 (3) 15 201040600 相比之下’在纖核材料層1 3未被高折射率物質15覆 蓋的情況中’當空氣存在於纖核材料層13之曝光的光進入 側的表面上’假定n〇為1且nl係1. 4至1. 6，曝光的光 進入纖核材料層1 3的條件被給定為下面的公式（4) 0 S Θ1 S 約 37 至 46° (4) 如上所述’當纖核材料層13被具有高於1的折射率之 高折射率物質15覆蓋而實行曝光時，曝光的光在纖核材料 層13的表面未完全地被反射，從而增加曝光的光進入纖核 材料層13的角度之範圍。結果，關於垂直於被覆層13的 表面之方向，可使得曝光的光以諸如45。的一特定角度通過 纖核材料層。在曝光係於空氣中而非例如在纖核材料層Μ 係以具有高於1的折射率之高折射率物質15覆蓋的狀態中 被實行的情況中，除非纖核材料層13的折射率nl被調整， 其將不可能形成例如45。的預定角度之一傾斜端面以做為 反射鏡。同時，即使假定可調整纖核材料層的折射率Μ並 形成-傾斜端面，傾斜端面的表面的平坦度將傾向於降 低可忐疋由於即使曝光的光能夠進入纖核材料層，被 反射之曝光的光增加，導致不充分的曝光。 從上述，經由處於以高折射率物質緊密接觸纖核材料 層1 3的方式使纖核材料層i 3的表面被具有大於i的折射 率。折射率物質覆蓋的狀態而完成此曝光，用於製造具 有特定角度的-傾斜端面(諸如做為- 45。反射鏡的傾斜端 面)之光波導纖核的曝光可被輕易地完成。此外，可得到— 平-的傾斜端面。這可能是由於充分之曝光的光能夠進入 201040600 纖核材料層。 、,不會經由諸如與纖核材料層丨3反應或是分解纖核材 料層1 3而腐ϋ纖核材料f【3之任何適當的物質可以沒有 特：的限制而被使用做為高折射率物質15。說明例包括具 有阿於1的折射率之液體，及隨後說明的類型的結構，其 ”有傾斜於第一被覆層12(具有高於1的折射率之樹脂膜） 的表面之面。 〇 、可被用以覆蓋高折射率物質15的方法包括例如一種 方法’其中’已被形成在下面的被覆層12的表面上之纖核 材料層被浸人至具有高於i的折射率之液體中，及一種 - ”中具有间於1的折射率之液體被塗佈至纖核材 料層13上。 • 高折射率物質15的折射率與纖核材料層13的折射率 最好差別不大於〇. 3。若离 斤射率物質15的折射率與纖核 材枓層1 3的折射率之間的差 ,^ 〕差別太大，將無法達成充分之曝 〇 先的光進入的角度範圍增加的效果。 高折射率物質15必笮丨、；^ ^ 、 緊岔接觸於該處的方式覆甚 纖核材料層13。舉例而言 “处的万式覆现 μ 1 〇 « - ^ 層二氧等存在於纖核材料 層13及尚折射率物質15之間 # % Λ f…、法達成充分之曝光的 先進入的角度範圍增加的 ^ 放果因此，高折射率物質15最 好係液體，其說明例包括水、 取 •油的油。 諸如乙•的醇、或是諸如矽 15的情況中，一種方 12的表面上之纖核材 在液體被使用做為高折射率物質 法(其中，已被形成在下面的被覆層 17 201040600 料層13被浸入至具有高於i的折射率之液體中)可被輕易 地完成且最好被使用。在此種情況中，最好使用上述感光 膜（乾膜）做為纖核材斜居 柯枓層13因為可抑制纖核材料屬13 的腐蝕。 曝光係如上述之傾斜曝光，且未受到任何特別限定， 而可使用-種方法’其包含通過光罩14在需要的劑量下曝 先於能夠修改（例如固化）感光㈣的波㈣ 可使用其他曝光方法，諸如接觸曝光，其包含在使光罩Η 接觸纖核材料層13的表面之後曝光，或者投影曝光，其保 持一給定的間隔，以不與纖核材料層13的外表面接觸。 曝光條件係根據感光材料的類型被適當地選擇 如，包括使用具有約365nm的波長的uv光做為曝光的光且 曝光的劑量為5GG至25嶋之曝光條件可被選擇。 "'光之後心由加熱完成後固化對於確保實行固化 二:效的。後固化的條件最好係從約8〇至約⑽七溫度及 別2〇至約120分鐘的時間。不過，此範圍未受到任何特 優化限定；當然’重要的是後固化的條件根據感光材料被 =曝光已被完成之後，高折射率物質㈣已曝光的 任層u被移除。移除高折射率物f 15的方 到任何特別的限定。例如，在纖核材料層 ，射率物…情況中，適當方法的一個 ，'上具有纖核材料層丨3的工 ’、、 移除並且當需要時去m 射率物質15 田而要時去掉或弄乾液體。或者，在樹脂膜已被 18 201040600 使用做為高折射率私陆 ^ ^ 羊物質15的情況中，移除的方法可自今彻 如將樹脂膜從纖彳 匕含例 纖核材料層1 3剝離。 其次，如圖1 R _ 1η β所示’經由實行顯影步驟形成—綸妨 1 6。因為如上诚/風纖核 的傾斜曝光被施加於纖核1 6，經 常的顯影；也就熹Α 乂由實仃通 面17 ，疋，未實行特定的顯影，而形成一傾斜端 Ο Ο 疋一種操作’其中’當纖核材料層13的感光材料 係 正型材料時^ 町’、，，呈由使用顯影液洗掉未曝光的區域 除不需要的區域，七土 或者’當感光材料係一負型材料時，、、杏 掉曝光的區域。顯旦， ' 硕衫液的說明例包括丙酮、異丙醇、曱苯、 乙二醇、或其特別比例的混合物。此外，也可適 含水顯影液，锉心 丄 曰本專利申請案早期公開

No· 2007-292964 中搞㊉去 … 萄路者。顯影方法例示為使用喷霧器嘖

灑顯影液的方法，B 及包含使用超音波清洗的方法。 如上述形成的傾斜端面Π可直接被使用做為-反射 見不過4 了增加傾斜端面17的反射率，最好經由使用

諸如氣相沉積、瀹钿 L 、 a、或疋奈米膠（nanopaste)技術等已知 的程序在傾斜端面 ^ 的表面上形成由金屬、介電質多層膜 等組成的反射塗層。 4由形成此反射塗層，可實行在不可 能全反射之特定方向的反射。 、 述被形成的傾斜端面1 7可被直接使用做為一 反射鏡。或者，傾斜端 %面17可在平坦處理已被施加於其表 面以增加傾斜端面nΫ ^ 的反射率之後被使用。利用此種平坦 處理’可得到能韵扯 电用做為具有較高反射率的反射鏡之 19 201040600 傾斜端面。可被有利地使用的平坦處理的例子係一種方 法，其中，經由以諸如紅外線雷射之不同種類的能量射線 照射，表面被炼化。以能詈勒砼u &人 乂月匕里射線照射包含—種裝置，鱼 接觸型減，其係簡單的，且係與接觸的方式有關的變化 性無關n經由限制能量射線照射範圍，可僅處理被 做為目標的傾斜端面。另外，紅外線雷射係易於操縱，但 能夠供應高密度能量。特別地，㈣在被照射的表面引發 分子振動’此雷射可有效地熱溶化傾斜端面。在—聚合物 中’因為分子振動造成的吸收通常接近1〇_的波長發生， 具有接近的波長之二氧化碳雷射除了成本低之外，其 係特別有效。 Λ 除了上面的能量射線照射外，也可經由塗佈樹脂而增 加平坦度。可被使用於此情況中的樹脂係與用以形成纖核 或被覆相同的種類。最好㈣已被稀釋之折射率非常近^ 的樹脂以適於塗佈。在此種情況中，因為物理值(熱膨脹係 數等）與下面的材料的相容性很良好且折射率也類似，使用 此種樹知未減損光學特性。而且，經由使用稀釋的樹脂， :維持好的可塗佈性。再者’因為其可僅塗佈必須的最小 量，傾斜端面可被完全平面化。 最後，如圖1C所示，經由以將在顯影步驟中已被形成 的纖核16掩埋的方式形成第二被覆層（外被覆層）18,而7形 成一光波導1 9。 乂 中 形成第二被覆層18的方法之說明例包括一種方法，其 用於形成第二被覆層18的液態可固化樹脂材料係以掩 20 201040600 埋纖核16的方式被塗佈，然後用光或熱等加以 方法，其中，用於形成第二被覆層18的可固 好―種 .漆係以掩埋纖核16的方式被塗佈1後用光或^加= .化广-種方法，其中，用於形成第二被覆層18的由可： 化樹知材料組成的樹脂膜係以掩埋纖核16的 附，然後用光或熱等加以固化。 、工被貼 假如其係在導光的傳播波長下具有比製造纖 材科者低的折射率之可固化樹脂材科，用於 覆 :8的可固化樹脂材料沒有受到任何特別的限制。：;覆 可使用類似於形成第一被覆# 通电， 樹脂材料。 ?皮覆層12的材料之種類的可固化 雖然在纖核16上其厚度最好是與第 同的程度，第二被覆層18 a 12者相 制。 予度沒有文到任何特別的限 ο 如此，/經由上述步驟，形成像圖κ所示的光波導】 已被开，成的光波導丨9 # 導1 9。 及覆蓋纖核的被覆層(第一::二光输^ 成。纖㈣具有比被覆層高的折射率，從第:;：吻 内側的光經由全反射侷限於纖核。、字傳播通過 被形成以做為多模波導。下面雖 光波導19主要係 波導丨q φ认 非必要’但係適當的.上 波導19中的纖核16具有矩形 、田的.光 丨。。_的尺寸；底部第_被覆弟 其具有例如從20至 的厚度，排除包括纖核的層的：声 12及頂部第二被覆層18 且纖核與被覆層之間的折射率的：：自為從5至l5Mm; 、差係從約〇· 5%至約3¾。 21 201040600 第二實施例 其次’說明一種情況，其中，兩種不同角度的光被使 用做為在本發明的第一實施例的製造光波導的方法中被採 用的曝光的光。對應於本發明的第一實施例的製造光波導 的方法之特徵係由相同的參考符號標示，且省略重複的特 徵之詳細說明。 圖2顯不根據本發明之第二實施例描繪製造光波導的 方法之簡化圖。圖2A係顯示第二實施例中的曝光步驟之簡 化截面圖；圖2B係顯示第二實施例中的顯影步驟之簡化截 面圖，及圖2C係顯示已被形成的光波導之簡化截面圖。 與第一實施例相同，根據本發明之第二實施例的製造 光波導的方法包含，如圖2A所示，在將一纖核材料層丄3 形成於其上具有第一被覆層12的基板丨丨之第一被覆層12 上之後，在被局折射率物質丨5覆蓋的狀態下使纖核材料層 1 3曝光。 更特別地，首先，第一被覆層12被形成在基板11的 表面上。其次，由感光材料組成的纖核材料層13被形成在 已經形成的第一被覆層12的外表面上。 然後，如圖2 A所示，經由通過一光罩14以曝光的光 射纖核材料層丨3而在纖核材料層丨3上實行預定形狀的 圖案曝光。不同角度的兩種光在此時被使用做為曝光的 光。如此’可實行用於形成具有特定角度之二傾斜端面的 光波導纖核的曝光。 其-人，在曝光的步驟已被完成之後，經由實行顯影步 22 201040600 驟形成像圖Μ 111 2β中所不者的纖核u。 光:“加於纖核16，經由實行通常的4如=傾斜曝 行特定的顯旦彡^ _ ,5 „ W〜’也就是，未實 ”貝〜，而形成一傾斜端面1 γ。 、 最後，如圖2C所示，經由以樁神丄 核16的方< + F 顯影步驟形成的纖 波導19。 被覆層)18’最後形成一光 第三實施例 Ο ❹ 其次，說明一種情況，其 的奥j #、* it 發明之第二實施例 的I k先波導的方法中使用的 屉姑本 射率物質係相對於被覆 層的表面具有一傾斜面的結構， .. . 折射率物質覆蓋步驟 係一步驟，1中，κ 只後盈7驟 ”中此、、、α構被緊费接觸纖核材 本發明的第一及第-眚渝存丨从制 對應於 …▲例的製造光波導的方法之特徵係 由相同的參考符號標示，且省 付仪係 名略重锼的特徵之詳細說明。 圖3顯示根據本發明之筮_ 之第二實施例描繪製造光波導的 方法之簡化圖。圖3Α係顯示在第三實施例中的高折射率物 質覆蓋步驟之簡化截面圖，·圖3Β係顯示第三實施例中的曝 光步驟之簡化截面圖；圖3C俜顯 你顯不第二實她例中的顯影步 驟之簡化截面圖；及圖3D孫is - a、x y 1 _ 係顯不已被形成的光波導之簡化 截面圖。 如圖3A所不根據本發明之第三實施例的製造光波導 的方法包含將一纖核材粗恳1〇 y l ^ ^何科層1 3形成於其上具有第一被覆 層12的基板11之第—祧遵 _ 被復層12上。其次’ 一高折射率物 質31以覆蓋纖核材粗爲 针層13的方式緊密接觸纖核材料層13。 如圖3A所示，哀把&、右，， 阿折射率物質31在此不僅具有平行於 23 201040600 纖核材料層13的接觸面31b及適 …而且也具有相對於第_被覆層12^、接觸纖核材料層 w心。 的表面傾斜的傾斜面 而：觸^ U係曝光的光輸入至高折射率物質31的面， 而接觸面31b係曝光的光從高折射率 s 1Q A m午物貝31輸出且朝向纖 核材枓層13的面。也就是，高折射率物 輸入面31a及輸出面仙的結構。、在此係具有 开31a之傾斜的角度’被定義為相對於接觸面31b = ΓΓΘ4’最好是使得曝光的光大體上垂直於輸 3度。也就疋’最好使用做為高折射率物質31 =種結構，其中，角度Θ3Μ4係根據曝光的光之傾斜的 新又被改變。假如其係如上述裝配’使用做為高折射率物 貝3i的結構未受到任何特別的限制。說明例包括由石英構 成的結構及由樹脂構成的結構。最好做為高折㈣物質Μ 的結構之折射率與較小的纖核材料層13之折射率間具有 差異’且其間的差異最好不大於〇.3。結果，在曝光的光 從給定的傾斜角度照射於第一被覆層12的表面的曝光 中’曝光的光通過傾斜面31a進入結構3卜使得在高折射 率物質31的表面之曝光的光的反射可被抑制，且也使得在 纖核材料層13的表面之反射可被抑制。 △其-人’如圖3B所示，在以高折射率物質】5覆蓋的狀 態中經由通過光罩14曝光而在纖核材料層13上實行預定 形狀的圖案曝光。&時最好在纖核 間與邮u及高折射率物…間插入具二:： 的液態物質，諸如水。這使其可輕易地抑制空氣存在於纖 24 201040600 核材料層13及光罩！4之間與光罩14及高折射率物質31 之間。結果，具有特定角度的傾斜端面之光波導纖核可更 有效地被製造。在纖核材料層13及光罩14之間與在光罩 14及高折射率物質31 <間插入具有高折射率的液態物質 (水）的方法係例示為一種方法，其中，纖核材料層13被塗 佈水且光罩14被放置在其上1後光罩14被塗佈水且高 折射率物質31被放置在其上。 〇 〇 如圖3B所示，如同第二實施例，不同角度的兩種光被 使用做為曝光的光。這使其可實行用於製造具有二傾斜端 面的光波導纖核之曝光。當一種光被使用時，用於製造具 有單一傾斜端面的光波導纖核之曝光可被實行。 在曝光步驟已被完成之後’經由實行顯影步驟，纖核 16被形成如圖3C所示。因為如上述的傾斜曝光被施加‘ 纖核16，經由實行通常的顯影處理；也就是，未實行特定 的顯影處理’而形成二傾斜端面17。 然後，如圖3D所示，經由以將在顯影步驟中被形成的 纖核Η掩埋的方式形成第二被覆層（外被覆層）18，從而形 成一光波導19。 不一只他例中的圖案 曝光之曝光步驟中的曝光裝置。任何曝光裝置只要至少呈 有改變能量射線對著基板之相對的照射方向的功能，二； 被使用。舉例而言，經由改變能量射線本身的方向或θ其 度’可達成相對的照射方向之改變。當曝光 其^需要安排對著光罩的—位置或者使高折射率材料黏 25 201040600 貼至基板。在前面的情況中，裝置最好具有至少在ι〇_的 準確度内安排一位置的功能。在後面的情況中，裝置最好 具有一功能以將基板固定於液體中。也可將—固態的古折 射率材料黏貼至基板。在該情況中，裝置最好具有固定基 板、其後自動在基板上安排位置並且使高折射率材料黏貼 至基板的功能。裝置最好具有約5至約1 5mW的照射功率。 再者，裝置最好具有能量射線的多重照射通道，使得具有 不同方向的多重反射鏡可同時被形成。具有不同方向之多 重照射通道的裝置被例示為具有一個以上的可撓性光導的 裝置。 雖然本發明的範圍未受到操作實施例的絲毫限制，本 發明下面利用這些例子更完整地說明。 例子 首先，說明在操作實施例中使用的產生可固化樹脂片 的方法。 形成内被覆層的光固化樹脂片A的生產 經由將7等分的重量之丙二醇縮水甘油醚（PG207，可 由TohtoKasei Co·，Ltd.買到）、25等分的重量之氫化雙 酚 A 型環氧樹脂（γχ 8000，可由 Japan Epoxy Resins Co.， Ltd.取得）、20等分的重量之固態氫化雙酚A型環氧樹脂 (YL 7170 ’ 可由 Japan Epoxy Resins Co.，Ltd.取得）、8

等分的重量之2,2-雙羥曱基-1-丁醇的1，2-環氧-4-(2-環 氧乙基）環己烷附加產物（EHPE 3150，可由Daicel Chemical Industries, Ltd.)、2等分的重量之固態雙酚A 26 201040600 型環氧樹脂（Epikote 1 006FS，可由 japan Epoxy Resins c〇. Ltd.取得）、20等分的重量之苯氧基樹脂（YP50,可由Tohto • Kasei Co·，Ltd.購到）、〇. 5等分的重量之陽離子光固化 ' 起始4 (SP170，可由 Adeka Corporation 取得）、〇·5 等分 的重量之陽離子熱固化起始劑（31_15扎，可由Sanshin Chemical Industry c〇.，Ud•取得）及等分的重量之 表面改性劑（F470，可由βIC Corporation取得）溶解至做 〇 為溶劑的30等分的重量之甲笨及7〇等分的重量之MEK中 以提供環氧樹脂的漆，用具有1 μπ]的孔徑大小之薄膜過濾 器過濾溶液，然後，進行真空除氣。此環氧樹脂的漆係以 塗佈棒被塗到具有50μιη厚度的PET膜上，且在80 °c下經 過10分鐘的初步乾燥，接著在12(rc下經過10分鐘的二 -人乾燥。最後，乾燥的漆被覆蓋做為保護膜的35叫的〇pp 膜。如此獲得之形成内被覆層的光固化樹脂片A具有丨〇叩 的膜厚且對於579ΠΠ1波長的光為丨.54的折射率。 Q 形成纖核的光固化樹脂片B的生產 經由將42等分的重量之液態雙酚a型環氧樹脂 (Epi cl on 850S，可由 DIC Corporation 取得）、55 等分的 重量之固態雙酚A型環氧樹脂（Epikote 1〇〇6FS，可由Japan Epoxy Resins Co·，Ud取得）、3等分的重量之笨氧基樹 月曰（YP50，可由Tohto Kasei Co·，Ltd.購到）、1等分的重

量之陽離子光固化起始劑（SP17〇，可由AdekaC〇rp〇rati〇n 取侍）及o.i等分的重量之表面改性劑（F47〇，可由DIC

Corporat ion取得）溶解至做為溶劑的24等分的重量之甲 27 201040600 苯及56等分的重量之Μ£：κ中以 _的孔徑大小之薄 ”衣氧樹脂的漆’用具有 八J之相過慮器過濾溶 除氣。此環襄槲护沾〆 然後，進行真空 產，，相π沾士二 ”这先固化樹脂片Α的生 產相问的方式形成_ 1 固化樹脂片B且有4n 式獲仔之形成纖核的光 々有40μιη的膜屋日 1 59的批μ 的膘尽且對於579nm波長的光為 i. 59的折射率。再者， 、#如态 ，專片在850⑽具有〇· 06dB/CI«的 透射率，因此具有高透明性。 形成外被覆層的光固化樹脂片c的生產 、”除了改《氧樹脂料之塗佈厚度外，經由以與上 述光固化樹脂片A的生產，，相同的方式形成薄膜而獲得 形成外被覆層的光固化槲炉y Γ 疋口化樹月曰片c。以此方式獲得之光固化 樹脂片C具有50μιη的膜厚且斟於R7q 手丑對於579nm波長的光為ι_ 54 的折射率。 操作實施例1 一種製造光波導的方法係結合圖4加以說明。圖4係 緣示在操作實施例1中使用的光波導製造方法的示意圖。 形成内被覆層的光固化樹脂片A被層壓至由uy透射的 聚奴酸酯樹脂組成之如圖4A所示者的HOmmxUOmm的暫時 基板上。在60C及0. 2 MPa下使用V—130的真空壓膜機製 成薄板。然後’以2 J/Cm2的曝光劑量由超高壓水銀蒸氣燈 將UV光照射至光固化樹脂片a的表面，然後在15〇t下熱 處理30分鐘，從而形成如圖4B所示之内被覆層12。已經 形成的内被覆層12的表面接著受到氧電漿處理。 其次，如圖4C所示，形成纖核的光固化樹脂片b係在 28 201040600 6〇°C及0.2MPa下使用v—130的真空壓膜機被層壓至内被覆 層12的表面上’從而形成纖核材料層1 3。 其次，如圖4D所示，具有4〇μπ3寬及120mm長的狹縫 之線I·生圖案的光罩丨4被放置於其上且以將在光罩上的 對準標記重疊至被形成於纖核材料層13的表面上之對準 標記的方式定&，錢’得Μ的工件在此狀態下被浸入至

水（间折射率物質）1 5中。對應於狹缝的纖核材料層丨3的 部分然後係從被調整使得照射的光大體上為平行光之超高 壓水銀蒸氣燈以3J/CID2的曝光劑量用υν光加以光固化。 來自超高壓水銀蒸氣燈之大體上平行的光被照射以相對於 纖核材料層13形成Π。的角度（相對於垂直第—被覆層12 的表面之方向導致73。的一角度θ〇)。 然後’在140 c下實行2分鐘的熱處理。接著，纖核 材料層13的未曝光部分（未固化部分）係使用被調整至π °C 的水基㈣劑清洗劑（Pinealpha ST-1GGSX，由 Arakawa Cheimcal lndustries，Ud_生產）做為顯影劑經由顯影被 溶解及移除°在以水完成清洗及吹氣之後，在10(rc下實 行1◦分鐘的乾燥，從而形成如圖4E所示之具有傾斜端： 17的纖核16。相對於内被覆層12的表面之傾斜端面”的 角度係以-雷射顯微鏡加以測量，且得到$阶(表示相對 於垂直第-被覆層12的表面之方向被形成的角度係Μ。)。 其次，如圖4F所示，厚1舰的金通過僅在已形成傾 斜端面17的區域具有開口的金屬罩幕被真空沉積至傾斜 端面17的表面上，從而產生一微反射鏡20。 29 201040600 接著，如圖4G所示，形成外被覆層的光固化樹脂片c 係在80°C及0· 3MPa下使用V-130的真空壓膜機被形成薄 板以覆蓋内被覆層12及纖核16。 然後，如圖4H所示，預先在其上形成電路的一基板 21(雙面覆銅箔層壓板R1766，由Panasonic Electric

Works Co.，Ltd.生產，其一面被蝕刻且另一面已形成電路） 被放在形成外被覆層的光固化樹脂片C的表面上且使用 V-130的真空壓膜機被層壓至該處。然後，從暫時基板n 側以2 J/cm2的劑量由超高壓水銀蒸氣燈實行曝光，接著在 140°C下實行1小時的熱處理，從而形成—外被覆層18且 將外被覆層18與預先在其上形成電路的基板21接合在一 起。如此，如圖4H所示，形成由内被覆層12、纖核16及 外被覆層18組成的光波導1 9。 其次，如圖41所示，暫時基板丨1被剝離，接著，一 基板22(雙面覆銅簿層壓板R1 766，由Panas〇nicElectric

Works Co.，Ltd.生產，其一面已被蝕刻）利用一黏著層23 被貼附至該處。然後，、經由產生通孔、鑛銅及㈣，形成 具有預定圖案的-電路。接著，㈣防焊漆，其後完成錢 金處理及網版印刷，從而形成—電路。此外，光輸入/輸出 24係經由繞徑被開啟。其次，如目所示，在其未形成 微反射鏡2G的面上之卫件的末端被光學地拋光至纖核16 浮現’從而m電複合線路板30。在光電複合線路板 3 0中，進入及離開夹，、念道，n u , u 尤波V 1 9的導光的路徑係由圖4J所示 的箭頭指示。 30 201040600 下面對如此形成的光波導實行評價。 波導損耗的測量 具有纖核為ΙΟμίη且數值孔徑（NA)為〇·21的光纖的末 • 端通過匹配油（矽油）被連接至光波導的一端（輸入端）。具 有纖核為200μιη且數值孔徑（ΝΑ)為〇4的光纖的末端通過 匹配油（矽油）被連接至光波導的另一端（輸出端）。來自led 光源的光通過連接至輸入端的光纖被輸入至光波導19。離 開光波導19的光通過連接至輸出端的光纖被輸入至一功 〇 率計，且輸出光的功率被測量。 此外，連接至輸入端的光纖及連接至輸出端的光纖在 其間沒有光波導19而彼此直接連接，且從連接至輸出端的 光纖輸出的光之功率P0以與上面相同的方式被測量。 光波V插入損耗L1係由下面的公式（5 )決定，且經由 將此插入損耗L1除以光波導長度而獲得的值被計算以做 為波導損耗。 ❹ LI = -l〇log(Pl/P〇) (5) 反射鏡損耗的測量 首先，插入損耗L1係以與上面測量波導損耗時相同的 方式被測量。微反射鏡部分接著被切斷且末端被拋光，從 而形成一樣品，其中，光波導在兩端均被曝光。然後，具 有在兩端均被曝光的光波導之樣品僅對於光波導以與上述 波導損耗測量相同的方式測量插入損耗L2。u及L2之間 的差被當做是反射鏡損耗。在有兩個微反射鏡（一個在輸入 側且一個在輪出側）的情況中，每個微反射鏡的反射鏡損耗 31 201040600 係經由將獲得的值降 J沮陈以2而獲得。 在實行上述的測晉η士 、_ . 、 4，得到在操作實施例1中得到的 、導、有°· °8dB/Cm的波導損耗及0. 8dB的反射鏡損耗。 _由上述明瞭當根據本操作實施例形成一光波導時，可 同時形成做為反射鏡的一傾4 π & J傾斜端面。也就是，不需要形成

光波導所包含的步Jg! + U 之外的任何操作，而可形成具有一傾 斜端面的低損耗光波導。 操作實施例2 -種製造光電複合線路板的方法係結合圖5加以說 在圖5中示思圖係繪示在操作實施例2中使用的光 波導製造方法。 經由圖案化在可撓性雙面覆銅落層壓板 (feu〇S(r-F775)，由 Pa_nic Electric ff〇rks &， 生產）（其係將12μιη厚的銅笛層壓至25_厚的聚亞醯胺膜 的各面上得到）上的銅羯而形成一電路41。在層壓板的另 一面上之銅络的整個表面係經由蝕刻被移除。如此，像圖 5Α中顯示的FPC 40的具有I30_xl30mm的外部尺寸之可 撓性印刷電路（FPC)被製造。 其次，如圖5B所示，將可移除雙面膠帶43(n〇 7692 可由Teraoka Seisakusho Co·，Ltd·取得）之強黏著性的 一側在60°C及〇.2MPa下使用壓縮空氣噴射式真空壓膜機 (V-130，由 Nichigo-MortonCo·，Ltd.製造）層壓至玻璃 板42( 140mmxl40mmx2mm厚）的整個表面上。呈女 ,形成於具 上的電路41之FPC 40的側面接著被層壓至雙面勝帶之 32 201040600 弱黏著性的一側，從而暫時地接合Fpc 4〇及玻璃板42。 然後’利肖V-1 30真空壓膜機，將形成内被覆層的光固化 樹脂片A層壓至在未形成電路41之一側# Fpc 4〇的表面 上。 其次，形成内被覆層的光固化樹脂片A的表面使用超 间壓水銀瘵氣燈以2 J/cm2的曝光劑量照射評光，然後在 150 C下熱處理30分鐘，從而形成如圖5C所示之内被覆層 12。如此形成的内被覆層12的表面接著受到氧電漿處理。 接著，如圖5D所示，使用v—13〇真空壓膜機將形成纖 核的光固化樹脂片B層壓至内被覆層12的表面上，從而形 成纖核材料層13。 _ 其次’如圖5E所示，具有⑼叫寬及12()mm長的狹縫 之線性圖案的光罩14被放置於其上且以將在光罩μ上的 對準標記重疊至被形成於纖核材料層13的表面上之對準 標記的方式定位，其後，得到的工件在此狀態下被浸 〇 水15中。 阶便，如團 v,似何竹層1 3的 π为係從被調整使得照射的光大體上為平行光之超高壓水 銀蒸氣燈以3 J/cm2的曝光劑量用ϋν光加以光固化。來7 :商壓水銀蒸氣燈之大體上平行的光被照射以相對： 材料層13形成32。的角度（相對於垂直第— ^ 且乐破覆層12的砉 面之方向導致58。的-角度Θ0)，且光被照射㈣成义 角度(相對於垂直第一被覆層12的表面之方向導 、 一角度Θ0)。 的 33 201040600 -後在140 C下實行2分鐘的熱處理。接著，纖核 材料層13的未曝光部分（未固化部分）係使用被調整至Η C的水基助炫劑清洗劑（Pinealpha ST1⑽，自a㈣_

Chemical lndustries，Ud.生產）做為顯影劑經由顯影被 冷解及移除。在以水完成清洗及吹氣之後，在⑽。。下實 行10 77 I里的乾 '燥，從而形成如5G所示之具有二傾斜端 面π的纖核16。相對於内被覆層12的表面之傾斜端面p 的角度係以一雷射顯微鏡加以測量，且得到為44。及—44。。 相對於垂直第一被覆層12 #表面之方向被形成的角度分 別為46°及-46。。 其次，如圖5H所示，厚1 000a的金通過僅在已形成傾 斜端面17的區域具有開口的金屬罩幕被真空沉積至傾斜 端面17的表面上，從而產生微反射鏡2〇。 接著’如圖51所示’形成外被覆層的光固化樹脂片ε 係在80t及0.3MPa下使用V—130的真空壓膜機被形成薄 板以覆盍内被覆層12及纖核16。然後，在12 〇 °c下熱處理 3〇分鐘之後，層壓之形成外被覆層的光固化樹脂片c係使 用超向壓水銀蒸氣燈以2J/cm2的曝光劑量照射UV光且再 次熱處理’這次是在i 5〇 t下進行3〇分鐘，從而形成—外 破覆層18。如此形成的外被覆層18接著受到氧電漿處理。 然後，如圖5J所示，一覆蓋膜44係在120X：及〇 3MPa 下使用V-1 30真空壓膜機被層壓至外被覆層a的表面上， 其後’其在1 6 01：被加熱1小時並且由此被固化。具有12 5 μηι 的厚度且包括15μπι厚的黏著層之聚亞醯胺膜（無鹵素覆蓋 34 201040600 臈 R-CAES，由 panasonic Electric w〇rks c〇_，Ud.生產） 被使用做為覆蓋膜44。 其人’如圖5K所示’玻璃板42在雙面感壓膠帶43之 弱黏著側上被剝離，且光輸入/輸出45係經由繞徑被開 啟，從而產生一光電複合線路板5〇，其被形成具有光波導 19，其在由内被覆層12及外被覆層18組成的被覆層中具 有被掩埋於其中的纖核16。在此光電複合線路板5〇中， 進入及離開光波導的導光之路徑係由圖5K顯示的箭頭指 上述測試係在操4乍實施 <列2巾#到的光波導上被實 行，據此，得到的波導損耗為〇〇8dB/cm且反射鏡損耗為 0.7dB 。 由上述明瞭當根據本操作實施例形成一光波導時，可 同時形成做為反射鏡的傾斜端面。也就是，不需要形成光 波導所包含的步驟之外的彳不彳4品> 卜的任何操作，而可形成具有傾斜端 ◎ 面的低損耗光波導。 操作實施例3 一種製造光波導的方法梅έ士入国β丄 $ J乃沄係結合圖6加以說明。在圖6 中，示意圖係繪示在择作杏a加9 牡铞作只％例3中使用的光波導製 法。 形成内被覆層的光固化樹脂片八在6代及Ο、下 使用V-130的真空壓膜機抽爲歐$丄τ 膜機被層壓至由υν透射的聚碳酸酯樹 脂组成之如圖6Α所示的10Λ 吓丁的140mmxl20inm的暫時基板上。然 後，以2J/cm2的曝先惑丨香+如古班、， 、、、 尤劏1由超尚壓水銀蒸氣燈將UV光照 35 201040600 射至光固化樹脂片A的表面’接著在150°C下熱處理30分 鐘’從而形成如圖6B所示之内被覆層12。已經形成的内 被覆層12的表面接著受到氧電漿處理。 其次’如圖6C所示，形成纖核的光固化樹脂片b係在 60 C及0. 2MPa下使用V-130的真空壓膜機被層壓至内被覆 層12的表面上’從而形成纖核材料層13。 其次，如圖6D所示，具有40_寬及120mm長的狹縫 之線性圖案的光罩14被放置於其上且以將在光罩Μ上的 對準標記重疊至被形成於纖核材料層13的表面上之對準 己的方式定位，其後，得到的工件在此狀態下被浸入至 水15中。對應於狹縫的纖核材料層丨3的部分接著係從被 調整使得照射的光大體上為平行光之超高壓水銀蒸氣燈以 3//cm2的曝光劑量用肝光加以光固化。來自超高壓水銀蒸 氣燈之大體上平行的光被照射以相對於纖核材料層13形 成75°的角度（相對於垂直第一被覆層以的表面之方向導 致15°的一角度θ〇)。 然後，在14(TC下實行2分鐘的熱處理。接著，纖核 材料層13 W未曝光部分（未固化部分）係使用被調整至託 t：的水基助炫劑清洗劑（PinealphaST]贿丨心⑽

ChemiCaHndustries，Ltd•生產）做為顯影劑經由顯 溶解及移除。在以水完成清洗及吹氣之後在⑽。C下實 行10分鐘的乾燥，從而形成如圖6E所示之具有 而 17的纖核。相對於内被覆層12的表面之傾斜端面”的 角度係以-雷射顯微鏡加以測量，且得到為67。(表示相對 36 201040600 於垂直第一被覆層12的表面之方向被形成的角度係13。）。 使用掃描式電子顯微鏡（SEM)檢驗如此形成的纖核16 • 的傾斜端面1 7。此時得到的SEM影像被顯示於圖8A。 - 接著’形成外被覆層的光固化樹脂片C係在801及 0. 3MPa下使用V-130的真空壓膜機被形成薄板以覆蓋内被 覆層12及纖核16。然後，預先在其上形成電路的一基板 51(雙面覆銅荡層壓板R1 766，由panas〇nic Electric

Works Co·，Ltd.生產，其一面被蝕刻且另一面已形成電路） 被放在被層壓之形成外被覆層的光固化樹脂片c的表面上 且使用V-1 30的真空壓膜機被層壓至該處。然後，從暫時 基板11侧以2J/cm2的劑量由超高壓水銀蒸氣燈實行曝 光，接著在140。(：下實行1小時的熱處理，從而形成一外 被覆層18且將外被覆層18與預先在其上形成電路的基板 51接合在一起。接著，暫時基板u被剝離。如此，如圖 6F所示，形成由内被覆層12、纖核16及外被覆層18組成 ❹ 的光波導1 9。 其次，如圖6G所示，在光波導19的各側上的端面被 光學地拋光至纖核16浮現。進入及離開如此得到之光波導 1 9的導光的路徑係由圖6G所示的箭頭指示。 比較例 種製k光波導的方法係結合圖γ加以說明。在圖7 中，不意圖係繪示在比較例中使用的光波導製造方法。除 了在空氣中實行曝光外，比較例類似於操作實施例3。詳 細說明如下。 37 201040600 )成内被覆層的光固化樹脂片A在6G°C及〇.2MPa下 =用V-130的真空壓膜機被層壓至由uv透射的聚碳酸酯樹 月曰、'且成之如圖/A所示的14〇Μχ12〇_的暫時基板上。然 後以2J/cm的曝光劑量由超高壓水銀蒸氣燈將叮光照 射至光固化樹脂片A的表面，接著在15代下熱處理別分 鐘’從而形成如圖7B所示之内被覆層12。已經形成的内 被覆層12的表面接著受到氧電漿處理。 。其-人’如圖7C所示’形成纖核的光固化樹脂片b係在 6〇C及〇’2MPa下使用v_13〇的真空壓膜機被層壓至内被覆 層12的表面上，從而形成纖核材料層13。 然後’如圖7D所示’具有4。_寬及12。_長的狹縫 之線性圖案的光罩14被放置於其上且以將在光罩Η上的 對準標記重疊至被形成於纖核材料層13的表面上之對準 標記的方式定位。對應於狹縫的纖核材料層13的部分接著 係從被調整使得照射的光大體上為平行光之超高墨水銀基 軋燈'3J/c“曝光劑量用υν光加以光固化。來自超高 壓水銀療氣燈之大體上平行的光被照射以相對於纖核材料 層13形成75。的角度（相對於垂直第-被覆層12的表面之 方向導致15。的一角度e〇)。 然後，在14(TC下實行2分鐘的熱處理。接著，纖核 材料層13的未曝光部分（未固化部分）係使用被調整至55 c的水基助㈣清洗劑（Plnealpha〜嶋&紅也㈣

Ch㈤⑻Industries，Ltd.生產）做為顯影劑經由顯影被 洛解及移除。在以水完成清洗及吹氣之後在1〇吖下實 38 201040600 行10分鐘的乾燥，從而形成如圖7Ε所示之具有傾斜端面 17的纖核1 6。相對於内被覆層12的表面之傾斜端面17的 角度係以一雷射顯微鏡加以測量，且得到為80。（表示相對 於垂直第一被覆層12的表面之方向被形成的角度係1〇。）。 使用掃描式電子顯微鏡（SEM)檢驗如此形成的纖核16 的傾斜端面1 7。此時得到的SEM影像被顯示於圖8B。 ❹ Ο 接著，形成外被覆層的光固化樹脂片C係在8(rc及 〇· 3MPa下使用V-130的真空壓膜機被形成薄板以覆蓋内被 覆層12及纖核16。然後，將預先在其上形成電路的一基 板51(雙面覆銅箔層壓板R1 766，由panas〇nic Eiec什卜

Works Co.，Ltd.生產，其一面被蝕刻且另一面已形成電路） 放在被層壓之形成外被覆層的光固化樹脂片c的表面上且 使用V-130的真空壓膜機被層壓至該處。然後，從暫時基 板11側以2J/cm2的劑量由超高壓水銀蒸氣燈實行曝光， 接著在MOt下實# i小時的熱處理，從而形成—外被覆 層18且將外《層18與預先在其±形成電路的基板^接 合在-起。接著，暫時基板U被剝離。如此，如圖汀所 示，形成由内被覆層12、纖核16及外妯甭a 1〇 及外被覆層18組成的光 波導1 9。 其次，如圖7G所示，在光波導〗 工收導1 9的各側上的端面被

光學地拋光至纖核16浮現。進入及M 及離開如此得到之光波導 19的導光的路控係由圖7G所示的箭頭 當比較操作實施例3與此比軔你 寺’即使在曝光期間 照射的光相對於纖核材料層13的& # Λ 角度相同，在操作實施例 39 201040600 3中形成的纖核丨6上之傾斜 士 ^ 訂嗎面17相對於内被覆層12的 表面的角度較大^此’得知在水中的曝光增加可相對於 内被覆層12的表面被形成的傾斜端面"之角度的範圍。 此外，由圖8明瞭，形成的總妨t e — 风的纖核16之傾斜端面1 7在操作 實施例3中比在比較例中平坦。 另外，當分別對在操作實施例3中與在比較例中得到 的光波導19測量波導損耗時，其在操作實施例3中係 〇· 08dB/cm與在比較例中係〇· 15dB/cm。因而明瞭當曝光在 水中實行時也可改善波導損耗。 插作貫施例4 一種製造光電複合線路板的方法係結合圖9加以說 明。在圖9中，示意圖係繪示在操作實施例4中使用的光 波導製造方法。 經由圖案化在可撓性雙面覆銅箔層壓板 (FELI〇S(R-F775 )，由 Panasonic Electric Works Co·，Ltd. 生產）（其係將12μπι厚的銅羯層壓至25μιη厚的聚亞醯胺膜 的各面上得到）的一面上的銅箔而形成一電路41。在層壓 板的另一面上之銅箔的整個表面係經由蝕刻被移除。如 此’像圖9Α中顯示的FPC 40的具有130mmx 130mm的外部 尺寸之可撓性印刷電路（FPC)被製造。 其次’如圖9B所示，將可移除雙面膠帶43(No. 7692, 可由Teraoka Seisakusho Co.，Ltd.取得）之強黏著性的 —側在60°C及〇· 2MPa下使用壓縮空氣噴射式真空壓膜機 (V-130，由 Nichigo-Morton Co.，Ltd.製造）層壓至玻璃 201040600 板42( 140mmxl40mmx2mm厚）的整個表面上。具有形成於其 上的電路41之FPC 40的側面接著被層壓至雙面膠帶43之 • 弱黏著性的一侧’從而暫時地接合FPC 40及玻璃板42。 • 然後，利用V_1 30真空壓膜機，將形成内被覆層的光固化 樹脂片A層壓至在未形成電路41之一側的FPC 40的表面 上。 接著，形成内被覆層的光固化樹脂片A的表面使用超 〇 鬲壓水銀蒸氣燈以2J/cm2的曝光劑量照射uv光，然後在 150 C下熱處理30分鐘，從而如圖9C所示形成内被覆層 12。如此形成的内被覆層12的表面接著受到氧電漿處理。 接著，如圖9D所示，使用V-130真空壓膜機將形成纖 核的光固化樹脂片B層壓至内被覆層12的表面上，從而形 ' 成纖核材料層1 3。 其次，如圖9E所示，一光罩14及做為高折射率物質 的一結構31係以此順序被放置在纖核材料層13上。具體 〇 而言，首先將水塗佈至纖核材料層13上。其次，具有4〇_ 寬及120ιμι長的狹縫之線性圖案的光罩14被放置於其上且 乂將在光罩14上的對準標記重疊至被形成於纖核材料層 13的表面上之對準標記的方式定位，其後，水被塗佈至光 罩14上。然後，結構31被放在塗佈水的光罩14上。在此 使用的結構31係由具有146的折射率之石英玻璃所組成 者，且其中，傾斜面具有139。的傾斜角度⑽及料。 然後，如圖9F所示，使用被調整使得照射的光大體上 為平行光之超高壓水銀蒸氣燈以3J/Cffl2的曝光劑量照射肝 41 201040600 光以大體上垂直於結構31的傾斜面，從而將對應於狹縫的 纖核材料層1 3的部分加以光固化。來自超高壓水銀蒸氣燈 之大體上平行的光被照射以相對於纖核材料層13形成^ 的角度(相對於垂直第一被覆層12的表面之方向導致Η。 的-角度Θ0)，且光被照射以形成—39。的角度(相對於垂直 第一被覆層12的表面之方向導致_51。的一角度θ〇)。 」後，在140C下貫行2分鐘的熱處理。接著，纖核 材料層13的未曝光部分（未固化部分）係使用被調整至π °C的水基助熔劑清洗劑（pinealpha ST l〇〇sx，由Awkawa

Chenucal industries，Ud•生產）做為顯影劑經由顯影被 溶解及移除。在以水完成清洗及吹氣之後，在l〇(rc下實 行10分鐘的乾燥，從而形成如圖9G所示之具有二傾斜端 面Π的纖核16。相對於内被覆層12的表面之傾斜端面17 的角度係以一雷射顯微鏡加以測量，且得到為45。及—45。。 相對於垂直第一被覆層12的表面之方向被形成的角度分 別為45°及- 45。。 其次，如圖9H所示，厚1 000A的金通過僅在已形成傾 斜端面17的區域具有開口的金屬罩幕被真空沉積至傾斜 端面17的表面上，從而產生微反射鏡2〇。 接著，如圖91所示，形成外被覆層的光固化樹脂片匸 係在80 C及0. 3MPa下使用V-130的真空壓膜機被形成薄 板以覆蓋内被覆層12及纖核16。然後，在120。(：下熱處理 30分鐘之後’層壓之形成外被覆層的光固化樹脂片c係使 用超高壓水銀蒸氣燈以2J/cm2的曝光劑量照射UV光且再 42 201040600 次熱處理’這次是在15(TC下進行30分鐘，從而形成一外 被覆層18。如此形成的外被覆層18接著受到氧電漿處理。 然後，如圖9J所示，一覆蓋膜44係在12(TC及〇. 3MPa 下使用V-130真空壓膜機被層壓至外被覆層18的表面上， 其後，其在1 6 0。(：被加熱1小時並且由此被固化。具有1 2 5 的厚度且包括15 μιη厚的黏著層之聚亞醯胺膜（無鹵素覆蓋 膜 R-CAES，由 Panasonic Electric forks Co.，Ltd.生產） 被使用做為覆蓋膜44。 其次，如圖9K所示，玻璃板42在雙面感壓膠帶43之 弱黏著側上被剝離，且光輸入/輸出45係經由繞徑被開 啟從而產生一光電複合線路板50，其被形成具有光波導 19，其在由内被覆層12及外被覆層18組成的被覆層中具 有被掩埋於其中的纖核16。在此光電複合線路板5〇中， 進入及離開光波導的導光之路徑係由圖9K顯示的箭頭指 示0 〇 上述測試係S操作實施隹Η +冷寻到的h皮導上被實 行，據此，得到的波導損耗為〇〇8(^/^且反射鏡損耗為 0. 6dB。 由上述月瞭田根據本操作實施例形成一光波導時，可 同時形成做為反射鏡的傾斜端面。也就是，不需要形成光 —;皮導所包含的步驟之外的任何操作，而可形成具有傾斜端 ^ 面的低損耗光波導。 如上說明，根據本發明之製造光波㈣方法係1製 造具有一傾斜端面的光波導纖核的方法，此方法包括：— 43 201040600 纖核材料層形成+ 面上形成由残光枒纟已被形成於基板上的被覆層的表 a九材料形成的 _ 覆蓋步驟，經由 ' 人/4 a ，一咼折射率物質 面，而以折射率大/折射率物質緊密接觸纖核材料層表 ^, 大於1的物質覆蓋纖核材料. 曝光步驟’…相對於被=㈣的表面，- 光的光照射由^ 層表面傾斜―預定肖度之曝 巧折射率物質覆蓋之纖枝 預定形成纖核的形纖核材㈣的-側，用 核…高折射率物質二T層進行圖案曝光以形成纖 核材料層的表面移除4=從在曝光步驟中曝光的纖 砂除呵折射率物質； 兩折射率物質移除步驟中高折射 义其巧，字在 核材料層顯影，已從其被移除的纖 〆成具有傾斜端面的纖核。 :據本發明之方法的光波導纖核的製造中，由感光材 心 形成在破覆層的表面上，且纖㈣ 科層的表面係經由使_ 且纖核材 蓋，铁… ㈤折射率物質與之緊密接觸而被覆 然後經由以相對於被覆層表面傾斜一預定角产… 的弁ggjl_山疋用度之曝光 核材料層被圖宰曝来…，纖核材科層的-側，使纖 質接著、ΓΓ 形成纖核的形狀。高折射率物 钭端如此，具有預定角度的-傾 斜端面在纖核被形成時同時被形成在纖核中。 、 另外’當曝光被實行時，因為此曝光係在經由使—高 斤射率物質與之緊密接觸 被卜一 ”覆盍纖核材料層表面的狀態下 =仃，在纖核材料層及高折射率物質之間的折射率的差 :在纖核材枓層及空氣之間的折射率的差。所以，曝 先的光在纖核材料層的表面未完全反射，且曝光的光進入 44 201040600 纖核材料層的角度之範圍變寬。0此，可使得曝光的光通 過纖核材料層以便相對於垂直被覆層表面達到諸如45。的 -預定角I，從而可製造一光波導纖核，其具有預定角度 的傾斜端面’諸如做為45。反射鏡的傾斜端面。此外，在曝 光時，因為纖核材料層表面係經由使—高折射率物質與之 緊密接觸而被覆蓋，、、与古介+ M , /有二耽等存在於纖核材料層及高折 射率物質之間，使其可完全達到增加曝光的光進入纖核材 Ο Ο 料層的角度之範圍等上述效果。 *由於這些理由，可有效地製造具有一特定角度之傾斜 h面的先波導。 纖核㈣層形成步驟最好係將由感光材 光薄膜貼附至被覆層的表面的步驟。此一配置使 材料層形成步驟，從而能夠更有效地製造:有 一預疋角度的傾斜端面之光波導纖核。 前二Γ:圭的配置中，其中，纖核材料層形成步驟使用 月丨J述的感光薄膣，古p + W m 蓋步驟係將纖㈣質係液體且高折射率物質覆 :驟係將纖核材料層浸沒於高折射率物質中的步 配置令’即使當高 料層係—减光舊胺 手物質係液體時’只要纖核材 的腐钱。並且：，可經由高折射率材料抑制纖核材料層 氣 光波導纖核。 中而輕易地抑制：=Γ核材料層浸沒於高折射率物質 盗。因此，可2纖核材料層及高折射率物質之間存在空 錢製造具有—預定角度的傾斜端面之 在另一較佳的配置中，高折射率物質係具有一相對於 45 201040600 被覆層表面傾斜的面之結構’且高折射率物質覆蓋步驟係 使此結構緊密接觸至纖核材料層的步驟。使用此—配置 在曝光的光相對於被覆層表面從預定的傾斜角度照射的曝 光中’曝光的光從傾斜面進入結構，使得在高折射率物^ 的表面之曝光的光的反射可被抑制。因此，即使當高折射 率物質的折射率增加且與纖核材料層的折射率的差變得非 吊小時，曝光的光適當地進入高折射率物質。另外，經由 使得與纖核材料層的折射率的差變小，也使得在纖核材料 層表面的反射可被抑制。 上述可更有效地製造具有一預定角度的傾斜端面之光 波導纖核。 曝光的光最好係由相對於被覆層表面具有不同角度的 至少兩種光形成。此配置使得相對於垂直被覆層表面的方 向具有不同角度的至少二傾斜端面能夠被形成。 感光材料最好係一樹脂組合物，其包含雙酚型的環氧 樹脂及陽離子光固化劑。在此一配置中，感光材料在曝光 步驟中迅速地固化，從而使其可更有效地製造具有一預定 角度的傾斜端面之光波導纖核。並且，製造一具有高耐熱 !生的光波導纖核’進一步使形成具有印刷電路板等的復合 材料變得容易。 ”人本發明的光波導製造方法係一種製造含有具有 二傾斜端面的光波導纖核的光波導之方法，此方法包括： -纖核材料層形成步驟’在已被形成於基板上的第一被覆 層的表面上形成由感光材料形成的纖核材料層·，一高折射 46 201040600 率物質覆蓋步驟，經由佳古 « . N斤射率物質緊密接觸纖核材料 層表面，而以折射率女你 ® - '的物質覆蓋纖核材料層的表 面，一曝先步驟’經由以相 —s , τ於弟—破覆層表面傾斜一預 疋角度之曝光的光昭射由古4 ……斤射率物質覆蓋之纖核材料層 的一側，用預定形点敏& Μ m X ,》狀對纖核材料層進行圖案曝 光以形成纖核；一高拚鉍銮I併 、物質移除步驟，從在曝光步驟 中曝光的纖核材料層的矣而 > 廣的表面移除高折射率物質；-顯影步 Ο

驟’將在尚折射率物質移除 A 、，、步驟中鬲折射率物質已從其被 移除的纖核材料層顯影，以开彡占乱士 Μ 开> 成具有傾斜端面的纖核；及 一被覆層形成步驟，形成第二被覆層，以掩埋纖核。 此-配置可更有效地製造具有一預定角度的傾斜端面 之光波導纖核’其順帶地使其可有效地製造具有此種光波 導纖核的光波導。 ，’士由此光波導製造方法得到本發明的光波導。此種光 波導含有一光波導纖核，其具有一預定角度的傾斜端面， Ο 從而可得到能夠輸入及輸出光的^皮f。並且可得到具有 高平坦度的端面以做為傾斜端面。 本發明的光電複合線路板具有前述的光波導。此種配 置使其可得到具有光波導的光電複合線路板，此光波導經 由3有具有預定角度的傾斜端面之光波導纖核而能夠輸入 及輸出光。因此，可得到具有光波導及電路的光電複合線 路板。 產業上利用性 47 201040600 本心月k供種製造方法，其能夠有效地製造一具有 預定角度的傾斜端面之光波導纖核。本發明進一步提供一 種製坆3有具有-傾斜端面的光波導纖核的光波導之方 法根據此種製造方法之光波導的製造，及具有此種光波 導的光電複合線路板。 【圖式簡單說明】 圖1A至1D顯不根據本發明之第一實施例描繪製造光 波導的方法之簡化圖。 圖2A至2C顯不根據本發明之第二實施例描繪製造光 波導的方法之簡化圖。 圖3A至3D顯不根據本發明之第三實施例描繪製造光 波導的方法之簡化圖。 圖4 A至4 J顯示福給a γ & 抱、.、曰在柄作實施例丨中使用的光波導 製造方法之示意圖。 圖5A至5K顯示插冷 丁梅繪在知作實施例2中使用的光波導

製造方法之示意圖。 操作實施例3中使用的光波導 圖6 Α至6 G顯示描纷在 製造方法之示意圖。 較例中使用的光波導製造方 圖7A至7G顯示描繪在比 法之示意圖。 田用SEMs檢驗在操作實施例3及比 較例中獲得的光波導的傾屏 ± 鏡圖(湖。 、斜一獲得的掃描式電子顯微 48 201040600 圖9A至9K顯示描繪在操作實施例4中使用的光波導 製造方法之示意圖。 【主要元件符號說明】 11 :暫時基板； 1 2 :内被覆層； 13 :纖核材料層； 14 :光罩； 1 5、31 :高折射率物質； 1 6 :纖核； 1 7 :傾斜端面； 18 :外被覆層； 1 9 :光波導； 20 :微反射鏡； 21、22、51 :基板； 2 3 :黏著層； 24、45 :光輸入/輸出； 31 a :輸入面； 31b :輸出面； 4 0 :撓性印刷電路； 41 :電路； 42 :玻璃板； 43 :雙面膠帶； 44 :覆蓋膜； 49 201040600 50 :光電複合線路板。 50

Claims (1)

1. 201040600 七、申請專利範圍：

   一種具有傾斜端 法包括 面之光波導纖核之製造方法，此方 «材科層形成步驟，在已被形成於基礼一 層的亡面上形成由感光材料形成的纖核材料層； -高折射率物質覆蓋步驟，經由使高折射率物質緊密 接觸纖核材料層表面， 、 材料層的表面； 、。大於1的物質覆蓋纖核 Ο 一曝光步驟，經由以相對於被覆層表面傾斜一預定角 度之曝光的光照射由高折射率物質覆蓋之纖核材料層的一 側，用預定形成纖核的形狀對纖核材料層進行圖案曝光以 形成纖核； Γ7折射率物質移除步驟，從在曝光步驟中曝光的纖 核材料層的表面移除高折射率物質；及 'u驟’將在高折射率物質移除步驟中高折射率 ❹物質已伙其被移除的纖核材料層顯影，以形成具有傾斜端 面的纖核。 、2.如申請專利範圍第丨項的光波導纖核之製造方 法’其中’纖核材料層形成步驟係將由感光材料構成的一 感光薄膜貼附至被覆層的表面的步驟。 、3·如申請專利範圍第2項的光波導纖核之製造方 法，其中，高折射率物質係液體，且高折射率物質覆蓋步 驟係將纖核材料層浸沒於高折射率物質中的步驟。 4.如申請專利範圍第1或2項的光波導纖核之製造方 201040600 法，盆十 一 ’、’南折射率物質係具有一相對於被覆層表面傾斜 的面之結構’且面折射率物質覆蓋步驟係使此結構緊密接 觸至纖核材料層的步驟。 5.如申請專利範圍第1至4項中任一項的光波導纖核 之製造方、、表，觉vb / ’具中’曝光的光係由相對於被覆層表面具有 不同角度的至少兩種光形成。 ^ 如申明專利範圍第1至5項中任一項的光波導纖核 製每方法，其中，感光材料係一樹脂組合物，其包含錐 紛型的環氧樹脂及@ μ 2 平、w舶夂除離子光固化劑。 種3有具有傾斜端面的光波導纖核的光 製造方法，此方法包括： 等之 一纖核材料層形忐半_ i 在6被形成於基板上的第~ 被覆層的表面上形成由咸 一 宙感先材料形成的纖核材料層； 一高折射率物質覆篆+ ^ . ν驟’經由使高折射率物質緊宓 接觸纖核材料層表面手物買緊岔 材料層的表面； 彳射率大於1的物質覆蓋纖核 ;第一被覆層表面傾斜一f 2角度之曝先的先照射由高折射率物質覆子 的—側，用預定形成鑣姑Μ 纖核材料^ 成纖核的形狀對纖核 先以形成纖核； 叶增進订圖案喊 一高折射率物質移”驟，從在 核材料層Μ面移除高折射率㈣.j ,驟中曝光的繃 -顯影步驟，將在高折射率二 物質已從其被移除的纖核材 驟中高折射率 、曰办，以形成具有傾斜端 52 201040600 面的纖核；及 一被覆層形成步驟，形成第二被覆層，以掩埋纖核。 - 8. 一種光波導，由如申請專利範圍第7項的光波導之 . 製造方法獲得。 9. 一種光電複合線路板，具有如申請專利範圍第8 項的光波導。

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