TW201029945A - Optical glass - Google Patents
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- 239000005304 optical glass Substances 0.000 title claims abstract description 83
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 70
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 66
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 62
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 62
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 62
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 62
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 39
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Chemical compound O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 36
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten(VI) oxide Inorganic materials O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims abstract description 23
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 62
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 2
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 claims 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 4
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 23
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 20
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 18
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 15
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 9
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 9
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 8
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);trinitrate Chemical compound [Ce+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N arsenic trioxide Inorganic materials O1[As]2O[As]1O2 GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 239000006103 coloring component Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 210000005069 ears Anatomy 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 239000010922 glass waste Substances 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002611 lead compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- CFQCIHVMOFOCGH-UHFFFAOYSA-N platinum ruthenium Chemical compound [Ru].[Pt] CFQCIHVMOFOCGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000003303 reheating Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000005482 strain hardening Methods 0.000 description 1
- 238000012549 training Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/064—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
- C03C3/068—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron containing rare earths
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
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201029945 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種光學玻璃’且更特定言之，關於—種 具有低玻璃轉移溫度（Tg)及高折射率及低分散特性以及極 佳化學耐久性’尤其具有耐候性（表面方法），且適宜於精 密模壓成形的光學玻璃。 【先前技術】 作為用於組成光學系統之透鏡存在球面透鏡及非球面透 鏡。許多球面透鏡可藉由研磨及拋光藉由再加熱模壓成形 玻璃材料獲得之玻璃模壓件而得以生產。另一方面，非球 面透鏡主要藉由精密模壓成形而得以生產，意即，根據該 方法用一具有高精密成形表面之模來模壓成形藉由加熱已 軟化之透鏡預成型體，且模之高精密成形表面的形狀轉移 至透鏡預成型體。 在藉由精租模壓成形獲得諸如球面透鏡之玻璃成形件的 過程中，為了將模之高精密成形表面之形狀轉移至透鏡預 成型體，有必要模壓藉由在高溫環境中加熱已軟化之透鏡 預成型體，且因此用於該精密模壓成形之模遭遇高溫並且 將n模壓力施加於該模。因此，在加熱及軟化透鏡預成型 體及模壓成形該等透鏡預成型體的過程中，模之成形表面 傾向於被氧化或腐蝕，或一提供於該成形表面上之離型模 傾向於受到破壞，結果使得不可維持模之高精密成形表面 或模自身傾向於受到破壞。在此情形中，必須替換該模， 且因此模之替換頻率增加且不可達成大規模低成本產品的 147137.doc 201029945 生產。因此，從防止模遭此破壞，維持模之高精密模壓成 形表面持續一段較長時間並使得能夠以低模壓力進行精密 模壓成形的觀點來看，用於精密模壓成形之玻璃期望具有 最低的可能之玻璃轉移溫度（Tg)。 在進行精密模壓成形的過程中，透鏡預成型體之玻璃需 要具有一鏡面或一接近鏡面之表面。透鏡預成型體通常藉 由滴液方法（dripping method)直接由熔化之玻璃而生產或 藉由研磨及拋光玻璃件而生產。慮及成本及加工步驟之數 目的優勢，滴液方法得以更普遍使用。藉由滴液方法生產 之透鏡預成型體稱為述料或玻璃述料。 然而，用於精密模壓成形之光學玻璃之缺點為，其化學 耐久性通常極差以致在由該等光學玻璃製成之透鏡預成型 體表面上觀察到褪色現象，結果導致難以維持鏡面或接近 鏡面之表面。此在生產坯料之後尤其引發儲存坯料之問 題’且在化學对久性方面表面方法对候性係用於精密模壓 成形之光學玻璃所要求之重要屬性。 因為此等原因’從光學設計之實用性觀點來看，已強烈 需求具有高折射率及低分散特性、低玻璃轉移溫度（Tg)及 極佳耐候性（表面方法）之光學玻璃。 尤其已強烈需求高折射率及低分散之光學玻瑪，其具有 自1.75至1.85範圍内之折射率（nd)及自35至45範圍内之阿 貝數（vd)的光學常數。 由於高折射率及低分散之光學玻璃在光學設計中非常有 用，故長期以來已提議該類型之各種玻璃。 147137.doc 201029945 曰本專利特許公開申請案公告第Hei 6-305769號、第 2002- 362938號、第 2003-201142號、第 2002-12443 號及第 2003- 252647號揭示具有低玻璃轉移溫度（Tg)之光學玻璃。 然而已發現，該等公告中特定揭示之光學玻璃在耐候性 (表面方法）方面並不充分，因為以質量％計Zn〇/Si〇2之比 率超出2.8或大於2.8之範圍，8203/3丨02之比率超出3_2或低 於 3.2 之範圍，且 Si02、B2〇3、La203、Zr02、Nb205、 Ta205、W〇3、ZnO及Li2〇之總量超出超過96質量％之範 圍。 因此’本發明之目標為提供全面消除先前技術光學玻璃 之上述缺點且具有上述光學常數、低玻璃轉移溫度（Tg)及 極佳耐候性（表面方法）並因此適宜於精密模壓成形的光學 玻璃。 【發明内容】 為達成本發明之上述目標，本發明之發明者進行之研究 及實驗產生之發現促成了本發明，即藉由採用一包含特定 量之 Si〇2 ' B203、La2〇3、Zr〇2、Nb2〇5、Ta2〇5、w〇3、
ZnO及La2〇3之組合物，可獲得具有上述光學常數、低玻璃 轉移溫度（Tg)、極佳耐候性（表面方法）並適宜於精密模壓 成形的光學玻璃。 為達成本發明之上述目標，在本發明之第一態樣中，提 供具有於自1.75至1.85範圍内之折射率（nd)及於自35至45 範圍内之阿貝數（vd)之光學常數的光學玻璃，該光學玻璃 包含作為基本成份之“〇2及1〇3及選自由Zr〇2、Nth、 147137.doc 201029945
Ta2〇5及WO3組成之群之一或多個成份，該光學玻璃具有 玻璃轉移溫度（Tg)為580°C或5 80。(：以下並具有第1種（Class 1)或第2種（Class 2)耐候性（表面方法）。 在本發明之第二態樣中’提供具有於自175至185範圍 内之折射率（nd)及於自35至45範圍内之阿貝數（vd)之光學 常數的光學玻璃，該光學玻璃包含作為基本成份之Si〇2、 B2〇3、La203、Zr02、Nb2〇5、Ta205、W03、ZnO及 Li20， 該光學玻璃實質上不含鉛成份、砷成份及氟成份，該等氧 化物之總量超過96質量°/〇，ZnO/Si〇2之比率為2.8或大於 2.8 ’該光學玻璃具有玻璃轉移溫度（1^)為58〇。(：或58〇。(：以 下並具有第1種或第2種財候性（表面方法）。 在本發明之第三態樣中，提供如第一或第二態樣中所定 義之光學玻璃’其中丑2〇3/8丨〇2之比率為3.2或3 2以下。 在本發明之第四態樣中’提供如第一至第三態樣中任一 者中所定義之光學玻璃’該光學破璃具有Zn〇/si〇2之比率 於自3.3至3.7範圍内並具有第1種耐候性（表面方法）。 在本發明之第五態樣中’提供如第一至第四態樣中任一 者中所定義之光學玻璃，其以質量％計包含：
Si〇2 6 -10%及/或 B2〇3 12 -24%及/或 La2〇3 26 -42°/。及 /或 Zr02 1.5 -10°/。及 / 或 Nb205 1 -10%及/或 Ta2〇5 1 -15%及/或 147137.doc -6 - 201029945
wo3 ZnO
Li2〇 1 · 10%及/或 16 - 26%及/或 0.6 - 4%。
在本發明之第六態樣中，提供如第一至第五態樣中任一 者中所定義之光學玻璃，其以質量％計包含： 0 - 10%及/或 0 - 5%及/或 0 - 10%及/或 0 - 10%及/或
Gd203 Ge02 ai2〇3 Ti02 RO 0 - 10% 其中RO係選自由MgO、CaO、SrO及BaO組成之群之一 或多個成份，且/或
Sb203 0 - 1%。 在本發明之第七態樣中，提供一光學玻璃，其以質量％ 計包含：
Si〇2 6 - 10% B203 12 - 24% L3.203 26 - 42% Zr02 1.5 - 10% Nb205 1 - 10% Ta2〇5 1 - 15% W03 1 - 10% ZnO 16 - 26% L12O 0.6 - 4% 147137.doc 201029945
Gd2〇3 0 -10%及/或 Ge〇2 0 -5%及/或 AI2O3 0 -10%及/或 T1O2 0 -10%及/或 RO 0 -10% 其中RO係選自由MgO、CaO、SrO及BaO組成之群之一 或多個成份，且/或
Sb2〇3 0 - 1%。 在本發月之第八態樣中，提供如第一至第六態樣中任一 者中所定義之光學玻璃，其以質量％計包含：
Si02 6 -10% B2O3 12 -24% L a】0 3 26 -42% Zr02 1.5 -10% Nb205 1 -10% Ta2〇5 1 -15% W03 1 -10% ZnO 16 -26% Li20 0.6 -4%及 Gd203 0 -低於4%及/或 Ge〇2 0 -低於4%及/或 AI2O3 0 -低於4%及/或 Ti〇2 0 -低於4%及/或 RO 0 -低於4% 147137.doc 201029945 其中RO係選自由MgO、CaO、SrO及BaO組成之群之一 或多個成份，且/或 Sb203 0 1〇/〇。 在本發明之第九態樣中，提供由如第一至第八態樣中任 一者中所定義之光學玻璃製成之透鏡預成型體。 ' 在本發明之第十態樣中’提供由如第九態樣中所定義之 透鏡預成型體形成之光學元件。 在本發明之第十一態樣中，提供藉由精密模壓成形由如 第一至第八態樣中任一者中所定義之光學玻璃形成之光學 元件。 根據本發明，提供具有上述光學常數、低玻璃轉移溫度 (Tg)及極佳耐候性（表面方法）並因此適宜於精密模壓成形 的光學玻璃。 【實施方式】 將關於本發明之光學玻璃可包含之成份進行描述。除非 象另有描述，每一成份之組合物比率將以質量％計。
Si〇2係對於增加玻璃黏度及改良玻璃耐脫玻性及耐候性 (表面方法）非常有效的不可獲缺之成份.然而，若該成份 之量不足’則該等效果不可充分達成’反之’若該成份之 量過分大’則玻璃轉移溫度（Tg)升高且玻璃之熔化屬性惡 化。因此，該成份之量之下限較佳應為6%，更佳為6 〇1% 且最佳為6.02%，且該成份之量之上限應為1〇%，更佳為 9%且最佳為8%。藉由使用例如si〇2作為原材料，可將 Si〇2併入玻璃中。 147137.doc 201029945 本發明之光學玻璃係.鑛玻璃’ β；2〇3係作為玻璃成形氧化 物之不可獲缺的成份。然而’若該成份之量不足，則财脫 玻性變得不充分’反之’若該成份之量過分大，則耐候性 (表面方法）惡化。因此該成份之量之下限較佳應為丨2%， 更佳為13 %且最佳為14%，且該成份之上限較佳應為 24%，更佳為22%且最佳為2〇%。藉由使用例如h3B〇3或 B2〇3作為原材料，可將b203併入玻璃中。 Ι·^2〇3係對於增加折射率及降低分散有效之不可獲缺的 成份。然而，若該成份之量不足，則難以將光學常數維持 在上述值範圍内，反之，若該成份之量過分大，則耐脫玻 性惡化。因此，該成份之量之下限較佳應為26%，更佳為 28%且最佳為3〇%，且該成份之量之上限較佳應為42%， 更佳為41 %且最佳為40〇/。。藉由使用例如La2〇3、硝酸鑭或 其氫氧化物作為原材料，可將LhCh併入玻璃中。
Zr〇2係對於調節光學常數，改良耐脫玻性及改良耐候性 (表面方法）非常有效之不可獲缺的成份。然而，若該成份 之量不足，則該等效果不可徹底達成，反之，若該成份之 量過分大，則耐脫玻性惡化且將玻璃轉移溫度（Tg)維持於 想要之低溫變得困難。因此，該成份之量之下限較佳應為 15%，更佳為L55%且最佳為1>6%，且該成份之量之上限 較佳應為10%，更佳為8%且最佳為6%。藉由使用例如 Zr〇2作為原材料，可將Zr〇2併入玻璃中。
Nb2〇5對於增加折射率及改良耐候性（表面方法）及耐脫 玻性非常有效。然而，若該錢之量不足，則該等效果不 147137.doc 201029945 ° / _達成反之，若該成份之量過分大，則耐脫玻性降 &而非增加。因此’該成份之量之下限較佳應為1%，更 ^為2。/。且最佳為3%，且該成份之量之上限較佳應為 〇% ’更佳為9%且最佳為8%。藉由使用例如灿2〇5作為原 材料，可將Nb2〇5併入玻璃中。
Τ4〇5係對於增加折射率及改良耐候性（表面方法）及耐脫 玻性非常有效^可獲缺的成份。_，若該成份之量不 足’則該等效果不可徹底達成，反之，若該成份之量過分 貝J ’准持上述光學常數變得困難。因此，該成份之量之 下限較佳應為1%，更佳為2%且最佳為3%，且該成份之量 之上限較佳應為15%，更佳為13%且最佳為1〇%。藉由使 用例如Ta2〇5作為原材料，可將Ta2〇5併入玻璃中。 w〇3對於調節光學常數及改良耐脫玻性係有效的。然 而，右該成份之量不足，則該等效果不可徹底達成，反 之’若该成份之量過分大’則耐脫玻性及可見光區域之短 波區域中之透射率惡化。因此，該成份之量之下限較佳應 為1%，更佳為2。/。且最佳為3%，且該成份之量之上限較佳 應為ίο%，更佳為9%且最佳為8%。藉由使用例如w〇3作為 原材料，可將W〇3併入玻璃中。
ZnO係對於降低玻璃轉移溫度（Tg)有效之不可獲缺的成 份。然而，若該成份之量不足，則該效果不可徹底達成， 反之’若該成份之量過分大，則耐脫玻性惡化。因此，該 成份之量之下限較佳應為16%，更佳為大於20%且最佳為 20.5% ’且該成份之量之上限較佳應為26%，更佳為25%且 147137.doc 201029945 最佳為24%。藉由使用例如Zn0作為原材料，可將Zn〇併 入玻璃中。
LhO係對於本質上降低玻璃轉移溫度（Tg)及促進混合玻 璃材料之熔化有效之不可獲缺的成份。然而，若該成份之 量不足，則該等效果不可徹底達成，反之，若該成份之量 過分大，則耐脫玻性急劇惡化。因此，該成份之量之下限 較佳應為0.6%，更佳為〇.8%且最佳為1% ,且該成份之量 之上限較佳應為4%，更佳為3.5%且最佳為3%。藉由使用 例如Li2〇、Li2C03、LiOH或LIN03作為原材料，可將 併入玻璃中。 在熔化玻璃過程中可視情況添加Sb2〇3用於消泡。若該 成份之量過分大，則可見光區域之短波區域中之透射率惡 化。因此，該成份之量之上限較佳應為1%，更佳為〇 8% 且最佳為0.5 %。 〇七〇3對於增加折射率及降低分散係有效的。然而，若 該成份之量過分大，則耐脫玻性及耐候性（表面方法）惡 化。因此’該成份之量之上限較佳應為1〇%，更佳為小於 4%且最佳為2%。藉由使用例如Gd2〇3作為原材料，可將 Gd203併入玻璃中。
Ge02對於增加折射率及改良耐脫破性係有效的。然而， 由於該成份非常昂貴’故該成份之量之上限較佳應為 5%’更佳為小於4%且最佳為2%β藉由使用例如二為 原材料’可將Ge02併入玻璃中。
Al2〇3對於改良化料久性且尤其是改良耐候性（表面方 147137.doc _ 201029945 法）係有效的。若該成份之量過分大，則耐脫玻性惡化。 因此，該成份之量之上限較佳應為10%，更佳為小於4%且 最佳為2°/。。藉由使用例如Al2〇3或A1(0H)3作為原材料，可 將ai2〇3併入玻璃中。
Ti〇2對於調節光學常數及改良耐脫玻性係有效的。然 而，若該成份之量過分大’則耐脫玻性減小而非增加。因 此’該成份之量之上限較佳應為10%，更佳為小於4%且最 佳為2%。藉由使用例如Ti〇2作為原材料，可將Ti〇2併入玻 璃中。 R〇(選自由MgO、CaO、SrO及BaO組成之群之一或多個 成份）對於調節光學常數係有效的。然而，若該成份之量 過分大，則耐脫玻性惡化。因此，該成份之量之上限較佳 應為10°/。’更佳為小於4%且最佳為2%。藉由使用例如 MgO、CaO、SrO或BaO，或其碳酸鹽、硝酸鹽或氫氧化物 作為原材料，可將RO併入玻璃中。 玻璃之各個成份中所使用之上述原材料僅出於說明之目 的而引用；且可用於本發明之玻璃之原材料不限於上述氧 化物等’而是可選自根據對用於製造玻璃之製造條件之各 種修改的已知材料。 本發明之發明者已發現，藉由將化〇3與8丨〇2之量之比率 調節至一預定範圍，可改良玻璃之耐候性（表面方法）。更 特定言之，BAVSiO2之比率較佳應為3·2或3·2以下，更佳 為3.18或3.18以下，且最佳為3.17或3.17以下。 本發明之發明者已發現，在具有上述範圍内之光學常數 147137.doc -13- 201029945 之光學玻璃中，藉由將ZnO與Si02之比率調節至一預定值 可改良耐候性（表面方法）。更特定言之，Zn〇/Si〇2之比率 較佳應為2.8或2.8以上，且更佳為2.82或2.82以上。為達成 第1種耐候性（表面方法），Zn〇/Si〇2之比率較佳應於自3 3 至3.7之範圍内。 本發明之發明者亦已發現’在具有上述範圍内之光學常 數之光學玻璃中’當si〇2、β2〇3、La2〇3、Zr〇2、Nb2〇5、
Ta205、W03、ZnO及Li2〇之總量超過96質量％時，可改良 耐候性（表面方法）。因此’該總量較佳應超過96質量％， 更佳為97質量％或97質量％以上，且最佳為99質量％或99 質量％以上。 此外’為了維持想要之光學常數及維持極佳耐候性， Si〇2、B2〇3、La2〇3、Zr〇2、Nb2〇5、Ta2〇5、w〇3、Zn〇及
Li20之總量，b2〇3 /Si〇2i比率及zn〇/Si02之比率較佳應 同時於上述想要之範圍内。 在本說明書中，”耐候性（表面方法），，係基於透鏡預成型 體（即堪料）在精密模壓成形之前儲存一段特定時間的假 設而定義之屬性，其指示當透鏡預成型體（即，坯料）在其 儲存環境中曝露一段預定時間時發生褪色的程度。 更特定言之，為了量測耐候性（表面方法），將具有3〇爪爪 x30 mmx3 mm之拋光面的測試片曝露於5(rc，85%相對濕 度之悝溫及恆濕浴中達24小時，且接著藉由用於觀察拋光 面之褪色狀態之50倍放大率的顯微鏡來檢測拋光面。根據 該方法之評估標準，第i種指示#在6()⑽勒克斯下檢測已 147137.doc -14- 201029945 測試達24小時之測試片時未觀察到褪色，第2種指示在 1，500勒克斯下未觀察到褪色但在6,000勒克斯下觀察到褪 色，第3種指示在1，500勒克斯下觀察到褪色，且第4種指 示當將第3種測試片進一步曝露於50°C，85%相對濕度之 恆溫及恆濕浴中達6小時且接著藉由50倍放大率之顯微鏡 來檢測其拋光面時，在1，500勒克斯下觀察到褪色。若在 此進一步測試之測試片中未觀察到褪色，則該測試片仍為 第 3種。此量測方法係OHARA OPTICAL GLASS Catalog 2002J,第13頁中所描述的已知方法。 本發明之光學玻璃所要求之耐候性（表面方法）較佳為第3 種，更佳為第2種，且最佳為第1種。 S亥玻璃可包含 Lu2〇3、Hf203、Sn〇2、Ga2〇3、Bi2〇3 及 BeO。由於Lu203、Hf203及Ga203係昂貴的材料，故該等成 份之使用增加製造成本且在商業生產中使用該等成份係不 實際的。對於Sn〇2而言，有可能當玻璃材料熔化於鉑坩堝 或由與熔化之玻璃接觸的占一定比例之鉑形成之熔爐中 時，Sn〇2中之錫與鉑形成合金’且該合金部分之耐熱屬性 惡化，從而合金部分中形成一孔且熔化之玻璃自該孔洩 漏。BhO3及Be0存在之問題為該等成份不利地影響環境， 且因此給環境造成沉重負擔。因此，該等成份中之每一者 之量的上限較佳應小於〇.1%、更佳為〇 〇5%，且最佳完全 不添加該等成份。 Y2〇3可作為可選擇成份而添加但是該成份之問題為耐脫 玻性顯著惡化。因A，該成份之上限較佳應為小於01%、 147137.doc 15 201029945 更佳為0.05%，且最佳為完全不添加。 現將關於本發明之光學玻璃不應包含之成份進行描述。 I促使在透鏡預成型體之坯料生產過程中出現細溝，且 因此難以生產链料。因此，不應將氟添加至本發明之光學 玻璃。 錯化合物之問題為在精密模壓成形期間傾向於與模熔 合’而且其問題為不僅在玻璃生產過程中而且在諸如拋光 之冷卻製程令須採取措施保護環境，且造成玻璃浪費，且 因此其給環境造成沉重負擔。因此，不應將鉛化合物添加 至本發明之光學玻璃。
As203、鎘及钍不利地影響環境，且因此給環境造成沉 重負擔。因此’不應將該等成份添加至本發明之光學玻璃。 當將P2〇5添加至玻璃時’其傾向於使耐脫玻性惡化，且 因此較佳不將P2〇5添加至本發明之光學玻璃。 對於Te〇2而言，有可能當玻璃材料，熔化於鉑掛堝或由與 熔化之玻璃接觸的占一定比例之麵形成之溶爐中時， Te〇2中之錫與翻形成合金，且該合金部分之耐熱屬性惡 化，從而合金部分中形成一孔，且熔化之玻璃自該孔洩 漏。因此，不應將Te〇2添加至本發明之光學玻璃。 本發明之光學玻璃較佳不應包含諸如V、Cr、Mn、Fe、 Co、Ni、Cu、Mo、Eu、Nd、Sm、Tb、Dy 及 Er 之著色成 份。意即，除非該等成份混合成為雜質，否則不應有意添 加該等著色成份。 由於本發明之玻璃組合物以質量％表示，故不可直接以 147137.doc -16- 201029945 莫耳％表示。存在於滿足本發明所要求之屬性之玻璃組合 物中的各個氧化物之組合物以莫耳％計通常採用以下值··
Si02 B2O3 La2〇3 Zr02 Nb2〇5 Ta205 WO3 ZnO Li2〇
10 - 20% 20 - 45% 7 - 17% 1.5 - 10% 0.5 - 5% 0.2 - 3.5% 0.5 - 5% 20 -38% 2 16% 及
Gd2〇3 〇 -小於4%及/或
Ge02 〇 -小於4%及/或
Al2〇3 0 -小於4%及/或
Ti〇2 〇 -小於4%及/或
RO 〇 -小於4% 其中RO係選自由MgO、Ca〇、Sr〇及Ba〇組成之群之一 或多個成份，且/或
Sb2〇3 0 - 0.5% 〇 在本發明之光學玻璃巾，训2係對於增加玻璃黏度及改 良玻璃耐脫玻性及耐候性（表面方法）非常有效之不可獲缺 的成份。該成份之詈之卜 董之上限較佳應為20莫耳％，更佳為17 莫耳。/。’且最佳為14莫耳％，且該成份之量之下限應為1〇 莫耳。/。’更佳為1G.5莫耳％，且最佳為u莫耳％。 147137.doc •17· 201029945 在本發明之光學玻璃巾’ b2Q3係作為錢成形氧化物之 不可獲缺的成份’且係改良耐脫破性之成份。該成份之量 之上限較佳應為45莫耳％ ’更佳為4〇莫耳％，且最佳為35 · 莫耳％，且該組分之量之下限較佳應為2〇莫耳％，更佳為 24莫耳％，且最佳為26莫耳％。 在本發明之光學玻璃中，&2〇3對於增加折射率及降低 分散係有效的。該成份之量之上限較佳應為17莫耳％，更 佳為16莫耳％’且最佳為15莫彳％，且該成份之量之下限 較佳應為7莫耳％，更佳為8莫耳％，且最佳為9莫耳％。 參 在本發明之光學玻璃中，ZK)2對於調節光學常數，改良 耐脫玻性及改良财候性（表面方法）係有效的。該成份之量 之上限較佳應為1〇莫耳％，更佳為8莫耳％，且最佳為6莫 耳％，且該成份之量之下限較佳應為丨5莫耳％，更佳為 1 · 5 5莫耳％ ’且最佳為1 6莫耳％。 在本發明之光學玻璃中，灿2〇5對於增加折射率及改良 耐候性（表面方法）及耐脫玻性係有效的。該成份之量之上 限較佳應為5莫耳％，更佳為4.5莫耳％，且最佳為4莫耳❹ % ’且該成份之量之下限較佳應狀5莫耳％，更佳為4 耳％ ’且最佳為1.5莫耳。/。。 、 在本發明之光學玻璃中，TkO5對於增加折射率及改良 耐候性（表面方法）及耐脫玻性係有效的。該成份之量之2 限較佳應為3.5莫耳％，更佳為3莫耳％，且最佳為2 6莫耳 %’且該成份之量之下限較佳應為〇 2莫耳％，更佳為〇、5莫 耳％ ’且最佳為0.8莫耳〇/0。 147137.doc -18- 201029945 在本發明之光學玻璃中，w〇3對於調節光學常數及改良 賴玻性係有效的。該成份之量之上限較佳應為5莫耳 更佳為4.5莫耳％ ’且最佳為4莫耳％，且該成份之量之下限 較佳應為0.5莫耳％ ’更佳為4耳％ ’且最佳為15莫耳％。 在本發明之光學玻璃中，Zn〇對力降低玻璃轉移溫度 (Tg)係有效的。該成份之量之上限較佳應為列莫耳％，更 佳為36莫耳％ ’且最佳為34莫耳％，且該成份之量之下限較 φ 佳應為2〇莫耳❶/°，更佳為22莫耳％，且最佳為24莫耳％。 在本發明之光學玻璃中，Li2⑽於本質上降低玻璃轉移 溫度（Tg)及促進混合玻璃材料熔化係有效的。該成份之量 之上限較佳應為16莫耳❶/„，更佳為14莫耳％，且最佳為12 莫耳％，且該成份之量之下限較佳應為2莫耳％，更佳為^ 莫耳％ ’且最佳為3.5莫耳％。 在本發明之光學玻璃中，Sb2〇3在玻璃、溶化期間對於消 泡係有效的。該成份之量之上限較佳應為〇 5莫耳％，更佳 ^ 為0 ·3莫耳％，且最佳為0.1莫耳％。 在本發明之光學玻璃中’ Gd2C^於增加折射率及降低 分散係有效的。該成份之量之上限較佳應小於4莫耳％， 更佳為3莫耳。/。，且最佳為i莫耳％。 在本發明之光學玻璃中’ Ge〇2對於增加折射率及改良对 脫玻性係有效的。該成份之量之上限較佳應小於4莫耳 % ’更佳為3莫耳％，且最佳為丨莫耳0/〇 β 、在本發明之光學玻璃中，Al2〇3對於改良耐候性（表面方 法）係有效的。該成份之量之上限較佳應小於4莫耳％，更 147137.doc •19- 201029945 佳為3莫耳％，且最佳為1莫耳％。 在本發明之光學玻璃中，Ti〇2對於調節光學常數及改良 。耐脫玻性係有效的。該成份之量之上限較佳應小於4莫耳 /〇’更佳為3莫耳％，且最佳為1莫耳％。 在本發明之光學玻璃中，RO(選自由MgO、Ca〇、Sr〇及
Ba〇組成之群之_或多個成份）對於調節光學常數係有效 的。該成份之量之上限較佳應小於4莫耳％，更佳為3莫耳 °/〇，且最佳為1莫耳〇/〇。 現將關於本發明之光學玻璃之屬性進行描述。 如上文中所描述，從光學設計實用性的角度來看，本發 明之光學玻璃較佳應具有於1.75至1.85範圍内之折射率 (nd)及於35至45範圍内之阿貝數（vd)，更佳為於丨％至小於 1.84範圍内之折射率（nd)及於35至45範圍内之阿貝數（μ)， 且最佳為於1.76至1.84範圍内之折射率（nd)及於刊至料範 圍内之阿貝數（vd)。 在本發明之光學玻璃中，過分高之Tg傾向於引起如先前 所描述之在進行精密模壓成形的過程中模之惡化。在本發 明之光學玻璃中，Tg之上限較佳應為58〇。(：，更佳為 550°C，且最佳為530°C。 降服點At較佳應為62(TC，更佳為610。(：，且最佳為 5 80°C 或 5 80°C 以下。 在本發明之光學玻璃中，為了實現如稍後所描述之製造 方法的穩定生產’玻璃之液相線溫度維持低於〗〇8(rc或以 下係重要的。較佳液相線溫度為1〇5〇。(：或10501以下，且 147137.doc -20- 201029945 尤其較佳液相線溫度為l〇2(TC或1020eC以下，因為在此液 相線溫度時使得能夠穩定生產之黏度範圍擴大，且玻璃熔 融溫度降低且從而能量消耗減少。 液相線溫度意謂，當將經壓碾之玻璃樣本置放於鉑板 上’存放於具有溫度刻度之熔爐中達30分鐘且隨後自熔爐 中取出’冷卻之後’用顯微鏡觀察軟化之玻璃中是否出現 晶體時，未觀察到晶體時的最低溫度。 如先前所描述’本發明之光學玻璃可用作一用於模壓成 形之預成型體’或者可直接模壓熔化之玻璃。在其用作預 成型體的情況下’用於製造預成型體之方法及精密模壓成 形之方式不受特定限制’但可使用已知製造方法及已知精 密模壓成形方法。作為製造預成型體之方法，可以如曰本 專利公開申請案公告第Hei 8-319214號中揭示之坯料成形 方法中所描述的方式製成預成型體，或者可自如曰本專利 公開申請案公告第Hei 8-73229號中揭示之光學玻璃之製造 方法及裝置中所描述的熔化之玻璃而直接製成預成型體。 亦可藉由冷加工條形材料來製成預成型體。 在藉由使用本發明之光學玻璃滴加熔化之玻璃來製造預 成型體的情況下，若熔化之玻璃黏度太低，則預成型體中 傾向於出現細溝，反之’若黏度太高，則藉由滴加玻璃之 重量及表面張力來切割玻璃變得困難。 因此’為了穩定生產高品質預成型體，黏度（Pa · s)之對 數logil較佳應於自0.4至2.0範圍内，更佳於自0.5至1.8範圍 内’最佳於自0.6至1.6範圍内。 147137.doc -21 - 201029945 雖然精密模壓成形預成型體之方法不受限制，但是可使 用如日本專利公開申請案公告第Sho 62-411 80號，Method for Forming an Optical Element 中揭示之方法。 實例 現將描述本發明之實例，但本發明決不限於該等實例。 表1至10展示本發明之光學玻璃之第1號至第47號實例的 組合物，以及其折射率（nd)、阿貝數（vd)、玻璃轉移溫度 (Tg)、降服點（At)及耐候性（表面方法）。在表中，代表性 組合物之各個成份均以質量％表示。 表11展示對比實例A至C之光學玻璃組合物，以及其折 射率（nd)、阿貝數（vd)、玻璃轉移溫度（Tg)、降服點（At)及 而才候性（表面方法）。 表1 實例號 1 2 3 4 5 Si02 6.547 6.097 6.067 6.038 6.067 B2〇3 19.140 19.290 19.194 19.098 19.194 La2〇3 34.383 36.482 36.300 36.121 34.311 Zr〇2 3.698 3.698 3.680 3.662 5.669 Nb205 5.997 6.997 6.962 6.927 6.962 Ta205 3.998 3.998 3.978 3.958 3.978 W03 6.697 3.898 3.879 3.859 3.879 ZnO 18.491 17.491 17.404 17.318 17.404 Li20 1.000 1.999 2.486 2.969 2.486 Sb2〇3 0.050 0.050 0.050 0.049 0.050 總量 100.000 100.000 100.000 100.000 100.000 ZnO/Si02 2.824 2.869 2.869 2.868 2.869 B2O3/S1O2 2.924 3.164 3.164 3.163 3.164 Si〇2+B2〇3+La2〇3+Zr〇2+Nb2〇5+ Ta2〇5+W〇3+ZnO+Li2〇 99.950 99.950 99.950 99.950 99.950 rid 1.80477 1.80396 1.80122 1.79844 1.80371 Vd 40.4 41.0 41.0 41.1 40.7 Tg(°C) 563 536 525 515 524 At(°C) 600 575 566 553 566 耐候性(表面方法） 2 2 2 2 2 147137.doc -22- 201029945
表2 實例號 6 7 8 9 10 Si02 6.067 6.067 6.067 6.022 6.058 B2〇3 19.194 19.194 19.194 18.626 17.893 La2〇3 35.306 34.311 35.306 35.420 34.418 Zr02 3.680 3.680 3.680 3.590 3.489 Nb205 7.956 6.962 6.962 6.793 6.601 Ta205 3.978 5.967 3.978 3.882 3.772 W03 3.879 3.879 4.873 3.785 3.678 ZnO 17.404 17.404 17.404 19.893 22.159 Li20 2.486 2.486 2.486 1.941 1.886 Sb2〇3 0.050 0.050 0.050 0.049 0.047 總量 100.000 100.000 100.000 100.000 100.000 ZnO/Si02 2.869 2.869 2.869 3.303 3.658 B2O3/S1O2 3.164 3.164 3.164 3.093 2.954 Si〇2+B2〇3+La2〇3+Zr〇2+Nb2〇5 +Ta2〇5+W 〇3+ZnO+Li2〇 99.950 99.950 99.950 99.951 99.953 na 1.80366 1.80191 1.80136 1.80502 1.80582 vd 40.5 40.7 40.8 40.8 40.6 Tg(°c) 525 525 523 530 525 At a) 567 568 564 570 566 而子候性(表面方法） 2 2 2 1 1 表3 實例號 11 12 13 14 15 Si02 6.067 6.067 6.067 6.067 6.067 B2O3 19.194 19.194 19.194 17.702 19.194 La2〇3 38.289 37.295 38.289 39.781 34.311 Zr02 1.691 3.680 3.680 3.680 3.680 Nb2〇5 6.962 5.967 4.973 4.973 5.967 Ta205 3.978 3.978 3.978 3.978 6.962 W03 3.879 3.879 3.879 3.879 3.879 ZnO 17.404 17.404 17.404 17.404 17.404 U2〇 2.486 2.486 2.486 2.486 2.486 Sb2〇3 0.050 0.050 0.050 0.050 0.050 總量 100.000 100.000 100.000 100.000 100.000 ZnO/Si02 2.869 2.869 2.869 2.869 2.869 B2O3/S1O2 3.164 3.164 3.164 2.918 3.164 Si〇2+B2〇3+La2〇3+Zr〇2+Nb2〇5+ Ta2〇5+W〇3+ZnO+Li2〇 99.950 99.950 99.950 99.950 99.950 na 1.79886 1.79899 1.79649 1.80550 1.79982 vd 41.4 41.7 42.2 41.6 41.0 TgCC) 525 524 523 523 524 At(°C) 566 564 563 564 567 耐候性(表面方法） 2 2 2 2 2 147137.doc •23- 201029945 表4 實例號 16 17 18 19 20 Si02 6.067 6.067 6.067 6.058 6.058 B2O3 19.194 19.194 18.448 17.893 17.893 L&2〇3 32.322 31.328 32.074 35.361 30.646 Ζγ〇2 3.680 3.680 3.680 3.489 3.489 Nb2〇5 5.967 5.967 5.967 5.658 5.658 Ta2〇5 8.951 8.951 8.951 3.772 8.487 w〇3 3.879 4.873 4.873 3.678 3.678 ZnO 17.404 17.404 17.404 22.159 22.159 U20 2.486 2.486 2.486 1.886 1.886 Sb2〇3 0.050 0.050 0.050 0.047 0.047 總量 100.000 100.000 100.000 100.000 100.000 ZnO/Si02 2.869 2.869 2.869 3.658 3.658 B2〇3/Sl〇2 3.164 3.164 3.041 2.954 2.954 Si〇2+B2〇3+La2〇3+Zr〇2+Nb2〇5+ Ta2〇5+W〇3+ZnO+Li2〇 99.950 99.950 99.950 99.953 99.953 nd 1.80049 1.80026 1.80504 1.80326 1.80503 Vd 40.7 40.3 40.1 41.1 40.3 TgCC) 524 522 524 524 518 AtCC) 568 565 565 568 561 耐候性(表面方法） 2 2 2 1 1 表5 實例號 21 22 23 24 25 Si02 6.058 6.058 6.058 6.058 6.058 B2〇3 17.893 17.893 17.893 17.186 17.469 La2〇3 31.589 32.532 30.646 31.353 31.070 Zr02 3.489 3.489 3.489 3.489 3.489 Nb205 4.715 3.772 4.715 4.715 4.715 Ta2〇5 8.487 8.487 8.487 8.487 8.487 w〇3 3.678 3.678 4.620 4.620 4.620 ZnO 22.159 22.159 22.159 22.159 22.159 Li20 1.886 1.886 1.886 1.886 1.886 Sb203 0.047 0.047 0.047 0.047 0.047 總量 100.000 100.000 100.000 100.000 100.000 ZnO/Si02 3.658 3.658 3.658 3.658 3.658 B2O3/S1O2 2.954 2.954 2.954 2.837 2.884 Si〇2+B2〇3+La2〇3+Zr〇2+Nb2〇5+ Ta2〇5+W 〇3+ZnO+Li2〇 99.953 99.953 99.953 99.953 99.953 n<i 1.80267 1.80044 1.80286 1.80752 1.80561 vd 40.7 41.3 40.6 40.3 40.3 Tg(°C) 517 518 516 518 518 AtCC) 560 559 558 560 560 对候性(表面方法） 1 1 1 1 1 147137.doc •24· 201029945
表6 實例號 26 27 28 29 30 Si〇2 6.058 6.058 6.068 6.560 6.580 B203 17.893 17.327 17.172 16.640 16.710 L&2〇3 32.060 31.683 32.404 32.340 32.470 Zr02 3.489 3.489 3.496 3.490 3.500 Nb205 4.243 4.243 3.779 3.770 3.790 Ta205 8.487 8.487 8.503 8.480 8.500 W03 3.678 4.620 4.629 4.620 4.640 ZnO 22.159 22.159 22.201 22.160 22.240 U2〇 1.886 1.886 1.701 1.890 1.520 Sb2〇3 0.047 0.047 0.047 0.050 0.050 總量 100.000 100.000 100.000 100.000 100.000 ZnO/Si02 3.658 3.658 3.659 3.378 3.380 B2O3/S1O2 2.954 2.860 2.830 2.537 2.540 Si〇2+B2〇3+La2〇3+Zr〇2+Nb2〇5+ Ta2〇5+W〇3+ZnO+Li2〇 99.953 99.953 99.952 99.950 99.950 na 1.80105 1.80519 1.80676 1.80548 1.80743 vd 41.1 40.5 40.7 40.6 40.6 TgCC) 517 515 523 520 525 At(°C) 562 558 564 562 570 耐候性(表面方法） 1 1 1 1 1 表7 實例號 31 32 33 34 35 Si〇2 6.560 6.580 6.580 6.580 6.580 B203 16.640 17.010 17.010 17.010 17.010 La2〇3 31.340 32.170 31.170 32.170 32.170 Zr02 3.490 3.500 3.500 3.500 3.500 Nb2〇5 3.770 3.790 3.790 3.790 3.790 Ta2〇5 9.480 8.500 9.500 6.500 5.500 WO3 4.620 4.640 4.640 6.640 7.640 ZnO 22.160 22.240 22.240 22.240 22.240 Li20 1.890 1.520 1.520 1.520 1.520 Sb203 0.050 0.050 0.050 0.050 0.050 總量 100.000 100.000 100.000 100.000 100.000 ZnO/Si02 3.378 3.380 3.380 3.380 3.380 B2O3/S1O2 2.537 2.585 2.585 2.585 2.585 Si〇2+B2〇3+La2〇3+Zr〇2+Nb2〇5+ Ta2〇5+W〇3+ZnO+Li2〇 99.950 99.950 99.950 99.950 99.950 Hd 1.80582 1.80561 1.80587 1.80504 1.80473 Vd 40.5 40.7 40.5 40.5 40.4 TgCC) 519 531 530 536 539 At(°c) 561 572 570 571 573 而才候性(表面方法） 1 1 1 1 1 147137.doc •25· 201029945 表8 實例號 36 37 38 39 40 Si02 6.580 6.580 6.560 6.560 6.560 B2〇3 17.010 17.010 16.640 16.940 16.540 La2〇3 32.170 32.170 34.340 33.040 34.140 Zr02 3.500 3.500 3.490 3.490 3.490 Nb205 3.790 3.790 3.770 4.770 3.770 Ta2〇5 6.000 5.000 6.480 6.480 6.480 w〇3 6.640 7.640 4.620 4.620 4.920 ZnO 22.740 22.740 22.160 22.160 22.160 Li20 1.520 1.520 1.890 1.890 1.890 Sb2〇3 0.050 0.050 0.050 0.050 0.050 總量 100.000 100.000 100.000 100.000 100.000 ZnO/Si02 3.456 3.456 3.378 3.378 3.378 B2O3/S1O2 2.585 2.585 2.537 2.582 2.521 Si〇2+B2〇3+La2〇3+Zr02+Nb2〇5+ Ta2〇5+WO3+ZnO+Li，0 99.950 99.950 99.950 99.950 99.950 nd 1.80415 1.80378 1.80497 1.80547 1.80554 Vd 40.6 40.4 41.1 40.7 41.1 Tg(0C) 532 530 524 521 523 AtfC) 573 568 565 564 566 耐候性(表面方法） 1 1 1 1 1 表9 實例號 41 42 43 44 45 Sl〇2 6.560 6.580 6.580 6.580 6.560 B2〇3 16.540 16.910 16.910 16.710 16.540 La2〇3 35.440 33.270 34.270 33.470 32.140 Zr02 3.490 3.500 3.500 3.500 3.490 Nb205 3.770 3.790 3.790 3.790 3.770 Ta205 5.480 5.500 4.500 5.500 6.480 W03 4.620 6.640 6.640 6.640 6.920 ZnO 22.160 22.240 22.240 21.940 22.160 Li20 1.890 1.520 1.520 1.820 1.890 Sb2〇3 0.050 0.050 0.050 0.050 0.050 總量 100.000 100.000 100.000 100.000 100.000 ZnO/Si02 3.378 3.380 3.380 3.334 3.378 B2〇3/Sl〇2 2.521 2.570 2.570 2.540 2.521 Si〇2+B2〇3+La2〇3+Zr〇2+Nb2〇5 +Ta2〇5+W〇3+ZnO+Li20 99.950 99.950 99.950 99.950 99.950 na 1.80515 1.80547 1.80539 1.80518 1.80586 Vd 41.2 40.6 40.9 40.7 40.4 Tg(0C) 524 531 531 527 524 At (°C) 566 574 573 566 564 _候性(表面方法） 1 1 1 1 1 147137.doc -26- 201029945 表ίο
實例號 46 47 Si02 6.560 6.560 B2〇3 16.440 16.440 La2〇3 33.240 32.240 Zr02 3.490 3.490 Nb2〇5 3.770 3.770 Ta205 7.480 6.480 W03 4.920 6.920 ZnO 21.960 21.960 Li20 2.090 2.090 Sb2〇3 0.050 0.050 總量 100.000 100.000 Zn0/Si02 3.348 3.348 B203/Si02 2.506 2.506 Si〇2+B2〇3+La2〇3+Zr〇2+Nb2〇5 +Ta2〇5+W〇3+ZnO+Li2〇 99.950 99.950 na 1.80544 1.80532 vd 40.7 40.3 Tg(°C) 522 521 At(°C) 564 560 财候性(表面方法） 1 1 表11 對比實例號 A B C Si〇2 1.000 3.000 4.500 B203 21.000 19.500 16.700 La2〇3 27.000 15.000 24.200 Gd2〇3 8.000 10.000 12.000 Zr02 4.000 4.000 3.800 Nb205 2.000 2.000 1.100 Ta205 8.000 8.000 8.800 W03 7.000 7.000 5.700 ZnO 20.000 30.500 21.500 Li20 2.000 1.000 1.800 總量 100.000 100.000 100.100 ZnO/Si02 20.000 10.167 4.778 B2O3/S1O2 21.000 6.500 3.711 Si〇2+B2〇3+La2〇3+Zr〇2+Nb2〇5 +Ta2〇5+W〇3+ZnO+Li2〇 92.000 90.000 88.000 na 1.80840 1.79469 1.80968 Vd 41.1 40.4 41.5 Tg(°C) 519 531 525 At(°C) 556 566 564 封候性(表面方法） 3 3 3 147137.doc -27- 201029945 為了製造表1至10中所展示之第1號至第47號實例之玻 璃’包括氧化物、碳酸鹽及硝酸鹽的光學玻璃之一般原材 料經稱重及混合以便實現表1至10中所展示之各個實例之 組合物比率。將原材料置放於鉑坩堝中，且視組合物之熔 化屬性而定在於自l〇〇〇°C至13〇〇。(：範圍内之溫度下熔化達 3至5小時。在提煉及攪拌熔融物以實現均質化之後，熔融 物鑄成一模並經退火以提供玻璃。 相對於藉由將退火溫度降低之速率設定為_25。(： /Hr而獲 付之玻璃來量測該等玻璃之折射率（nd)及阿貝數（vd)。 根據日本光學玻璃工業標準jOGIS〇8-2〇〇3(Japan 〇ptical Glass Industry Standard JOGIS08'2003)"Measuring Method of Thermal Expansion 〇f Optical Glass"來量測該等玻璃之 玻璃轉移溫度（Tg)。使用長度為5〇 mm及直徑為4 mm之樣 本作為測試樣本。 以如量測玻璃轉移溫度（Tg)相同之方式量測降服點 (At)，且採用玻璃拉伸停止及玻璃收縮開始之溫度作為降 服點。 藉由進行以下測試判定耐候性（表面方法）。 具有30 mm><30 mmx3 mm拋光面之測試片曝露於5〇。(：， 85¾相對濕度之恆溫及恆濕浴中達24小時，且接著藉由用 於觀察拋光面之褪色狀態的50倍放大率之顯微鏡來檢測該 拋光面。在此方法中’第1種指示當在6,000勒克斯下檢測 已測試達24小時之測試片時未觀察到褪色，第2種指示在 1，500勒克斯下未觀察到褪色但在6,000勒克斯下觀察到褪 147137.doc -28 - 201029945 色第3種指示在1，500勒克斯下觀察到褪色，且第4種指 不當將第3種測試片進—步曝露於別^，85%相對濕度之 恆溫及恆濕浴中達6小時，且接著藉由5〇倍放大率之顯微 鏡檢測其拋光面時，在勒克斯下觀察到褪色。若在 此進一步測試之測試片中未觀察到褪色，則該測試片仍為 第3種。 如表1至10中所展示，第！號至第47號實例之光學玻璃具 有該等光學常數（即折射率（nd)及阿貝數（Vd)於上文中所描 述之範圍内），且其玻璃轉移溫度（1^)為58〇。〇或“❹它以 下，且因此其適宜於精密模壓成形。其亦具有極佳耐候性 (表面方法）’且因此具有極佳化學耐久性。 另一方面，表11中所展示之對比實例八至c之樣本係在 與製造本發明之實例相同的條件下製成，且所製造之玻璃 係藉由與用於評估本發明之實例相同的評估方法而進行評 估。在對比實例A至C中，BzCh/SiO2之比率超過3.2，且因 此其具有較差耐候性（表面方法）。 工業適用性 如上所述，本發明之光學玻璃係不含pb、As&F2Si〇2_ B203-La203-Zr02-Nb205-Ta205-W03-Zn0-Li20玻璃，且具 有於自1.75至1·85範圍内之折射率（nd)及於自35至45範圍 内之阿貝數（vd)之光學常數且玻璃轉移溫度（丁幻為58〇它或 580°C以下，且因此其適宜於精密模壓成形並具有充分工 業實用性。 此外，由於本發明之光學破璃具有極佳耐候性（表面方 147137.doc •29- 201029945 法），故在透鏡預成型體（即，坯料）在精密模壓成形之前被 儲存的情況下，無發生褪色之可能性，此歸因於在儲存期 間曝露坯料達一段特定時間，且因此該光學玻璃可非常易 於處理。 147137.doc 30-
Claims (1)
- 201029945 七、申請專利範圍： 1. 一種光學玻璃，其具有一自1.75至1.85範圍内之折射率 (nd)及一自35至45範圍内之阿貝數（vd)之光學常數，其 包含作為基本成份之Si〇2及b2〇3，及選自由Zr〇2、 Nb2〇5、Ta2〇5及WO3組成之群之一或多個成份，並具有 一玻璃轉移溫度（Tg)為58(TC或580。(：以下，且具有第丄種 (Class 1)或第2種（Class 2)耐候性（表面方法）。 2. 一種光學玻璃’其具有一自1.75至1.85範圍内之折射率 ® (nd)及一自35至45範圍内之阿貝數（vd)之光學常數，其 包含作為基本成份之Si02、B203、La203、&〇2、 Nb2〇5、Ta2〇5、W03、ΖηΟ及Li20，實質上不含錯成 份、坤成份及氟成份，該等氧化物之總量超過96質量 °/°，211〇/8丨〇2之比率為2.8或2.8以上，並具有一破璃轉移 溫度（Tg)為58(TC或58(TC以下，且具有第1種或第2種耐 候性（表面方法）。 3·如請求項1或2之光學玻璃，其中B2〇3/Si〇2之比率為3 2 或3.2以下。 4. 如請求項1至3中任一項之光學玻璃，其具有ZnO/Si〇2之 比率為自3.3至3.7之範圍内，且具有該第1種耐候性（表 面方法）。 5. 如請求項1至4中任一項之光學玻璃，其以質量％計包 含： Si〇2 6 - 10%及 /或 B2〇3 12 - 24%及/或 147137.doc , 201029945 La203 26 - 42°/。及 /或 Zr02 1_5 - 10%及 /或 Nb205 1 - 10%及 /或 T&2〇5 W〇3 -15%及/或 1 - 10%及/或 ZnO 16 - 26%及 /或 Li20 0.6 - 4%。 6. 如請求項1至5中任一項之光學玻璃，其以質量％計包 含： Gd203 0 - 10%及/或 Ge02 0 - 5%及/或 ai2o3 0-10%及/或 Ti02 0 - 10%及/或 RO 0 - 10% (其中RO係選自由MgO、CaO、SrO及BaO組成之群之 一或多個成份）’及/或 Sb203 0 - 1%。 7. 一種光學玻璃，其以質量％計包含： Si02 6 - 10% B2〇3 12 - 24% La2〇3 26 - 42% Zr02 1.5 - 10% Nb2〇5 1 - 10% Ta205 1 - 15% 147137.doc -2- 201029945 W〇3 1 - 10% ZnO 16 - 26% Li20 0.6 - 4%及 Gd203 0 - 10%及/或 Ge02 0 - 5%及/或 ai2o3 0 - 10%及/或 Ti〇2 0 - 10%及/或 RO 0 - 10% (其中RO係選自由MgO、CaO、SrO及BaO組成之群之 一或多個成份），及/或 Sb2〇3 0 - 1%。 8.如請求項1至6中任一項之光學玻璃，其以質量％計包 含： Si02 6 -10% B2〇3 12 -24% La203 26 -42% Zr02 1.5 -10% Nb205 1 -10% Ta2〇5 1 -15% W〇3 1 -10% ZnO 16 -26% Li20 0.6 -4%及 Gd203 0 -小於4%及/或 Ge〇2 0 -小於4%及/或 147137.doc 201029945 Al2〇3 0 -小於4%及/或 Ti〇2 0 -小於4%及/或 RO 0 -小於4% (其中r〇係選自由MgO、CaO、SrO及BaO組成之群之 一或多個成份），及/或 Sb2〇3 〇 - 1%。 9_ 一種透鏡預成型體，其係含如請求項1至8中任一項之光 學破璃。 種光學兀件’其係由如請求項9之透鏡預成型體形 11 一種光學元件，其係藉由對主s 學珐M奵如'月求項1至8中任一項之光 螭進行精密模壓成形所形成者。 147137.doc 201029945 四、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：（無） (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 五、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： (無） 147137.doc
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005054239A JP4895512B2 (ja) | 2005-02-28 | 2005-02-28 | 光学ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201029945A true TW201029945A (en) | 2010-08-16 |
| TWI428304B TWI428304B (zh) | 2014-03-01 |
Family
ID=36204343
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW095106346A TWI326277B (en) | 2005-02-28 | 2006-02-24 | Optical glass |
| TW099108439A TWI428304B (zh) | 2005-02-28 | 2006-02-24 | 光學玻璃 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW095106346A TWI326277B (en) | 2005-02-28 | 2006-02-24 | Optical glass |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8148280B2 (zh) |
| JP (1) | JP4895512B2 (zh) |
| KR (2) | KR20090005229A (zh) |
| CN (2) | CN102173585A (zh) |
| DE (1) | DE112006000460T5 (zh) |
| MY (1) | MY148669A (zh) |
| TW (2) | TWI326277B (zh) |
| WO (1) | WO2006093062A1 (zh) |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1604959A1 (en) * | 2004-06-02 | 2005-12-14 | Kabushiki Kaisha Ohara | An optical glass |
| WO2006115183A1 (en) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Ohara Inc. | A glass composition |
| JP4746995B2 (ja) * | 2006-02-02 | 2011-08-10 | 株式会社オハラ | 光学ガラス |
| JP4756554B2 (ja) * | 2006-03-23 | 2011-08-24 | Ｈｏｙａ株式会社 | 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームとその製造方法、および光学素子とその製造方法 |
| CN101516794A (zh) * | 2006-09-14 | 2009-08-26 | 旭硝子株式会社 | 光学玻璃和使用该光学玻璃的透镜 |
| CN101583575B (zh) * | 2006-10-24 | 2014-01-08 | 株式会社小原 | 光学玻璃 |
| EP1950186A1 (en) * | 2007-01-24 | 2008-07-30 | Hoya Corporation | Optical glass, preform for precision press-molding, optical element, and methods for manufacturing the same |
| JP4567713B2 (ja) | 2007-01-24 | 2010-10-20 | Ｈｏｙａ株式会社 | 光学ガラスおよび光学素子 |
| JP5365523B2 (ja) * | 2007-12-06 | 2013-12-11 | 旭硝子株式会社 | 光学ガラス、およびそれを用いた精密プレス成形用プリフォームおよび光学素子 |
| CN101386469B (zh) * | 2008-10-16 | 2011-05-11 | 成都光明光电股份有限公司 | 高折射低色散光学玻璃 |
| DE102009010701B4 (de) * | 2009-02-27 | 2016-12-15 | Schott Ag | Optisches Glas |
| JP2010215444A (ja) * | 2009-03-16 | 2010-09-30 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 光学ガラス |
| KR20110001972A (ko) * | 2009-06-30 | 2011-01-06 | 가부시키가이샤 오하라 | 광학 유리, 프리폼재 및 광학 소자 |
| CN102241479A (zh) * | 2010-04-30 | 2011-11-16 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件和玻璃成型体的制造方法 |
| JP5875572B2 (ja) * | 2013-04-05 | 2016-03-02 | 株式会社オハラ | 光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子 |
| JP6910702B2 (ja) * | 2016-07-14 | 2021-07-28 | 株式会社オハラ | 光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子 |
| JP7148880B2 (ja) * | 2017-02-24 | 2022-10-06 | 日本電気硝子株式会社 | 光学ガラス |
| JP7081967B2 (ja) * | 2018-04-13 | 2022-06-07 | Hoya株式会社 | 光学ガラスおよび光学素子 |
| CN114956548A (zh) * | 2018-09-27 | 2022-08-30 | 成都光明光电股份有限公司 | 光学玻璃及由其制成的玻璃预制件、光学元件和光学仪器 |
| CN109721241B (zh) * | 2019-03-18 | 2022-01-25 | 成都光明光电股份有限公司 | 光学玻璃、玻璃预制件、光学元件及光学仪器 |
| CN117023978A (zh) * | 2019-12-20 | 2023-11-10 | 成都光明光电股份有限公司 | 光学玻璃 |
| CN111662008B (zh) * | 2020-06-30 | 2022-04-15 | 成都光明光电股份有限公司 | 玻璃组合物及其制造方法 |
| CN113024110B (zh) * | 2021-03-18 | 2022-04-15 | 成都光明光电股份有限公司 | 玻璃组合物 |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52103412A (en) * | 1976-02-26 | 1977-08-30 | Obara Optical Glass | Optical glass |
| JPS553329A (en) * | 1978-06-21 | 1980-01-11 | Ohara Inc | Optical glass |
| JPS60221338A (ja) | 1984-04-12 | 1985-11-06 | Ohara Inc | 光学ガラス |
| JP2875709B2 (ja) * | 1993-04-22 | 1999-03-31 | 株式会社オハラ | 光学ガラス |
| JP3113604B2 (ja) * | 1997-03-25 | 2000-12-04 | 株式会社オハラ | 負の異常分散性を有する光学ガラス |
| JP4127949B2 (ja) * | 2000-06-27 | 2008-07-30 | Ｈｏｙａ株式会社 | 光学ガラス及びそれを用いた光学製品 |
| JP4093524B2 (ja) * | 2001-02-20 | 2008-06-04 | Ｈｏｙａ株式会社 | 光学ガラス、プレス成形予備体および光学部品 |
| US20040186003A1 (en) * | 2001-06-06 | 2004-09-23 | Susumu Uehara | Optical glass |
| JP3943348B2 (ja) | 2001-06-06 | 2007-07-11 | 株式会社オハラ | 光学ガラス |
| US6558316B2 (en) * | 2001-06-27 | 2003-05-06 | Olympus Optical Co., Ltd. | Endoscope optical system including composition having durability to a sterilization treatment |
| JP4789358B2 (ja) * | 2001-07-03 | 2011-10-12 | 株式会社オハラ | 光学ガラス |
| US7138348B2 (en) * | 2001-07-03 | 2006-11-21 | Kabushiki Kaisha Ohara | Optical glass |
| US6977232B2 (en) * | 2001-10-24 | 2005-12-20 | Hoya Corporation | Optical glass, preform for press molding and optical part |
| JP3912774B2 (ja) * | 2002-03-18 | 2007-05-09 | Ｈｏｙａ株式会社 | 精密プレス成形用光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームおよびその製造方法 |
| CN100351193C (zh) * | 2002-08-20 | 2007-11-28 | Hoya株式会社 | 光学玻璃、预型件及其制造方法、光学元件及其制造方法 |
| JP2004175632A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Hikari Glass Co Ltd | 光学ガラス |
| EP1574486A4 (en) * | 2002-12-17 | 2008-09-03 | Ohara Kk | OPTICAL GLASS |
| EP1433757B1 (en) * | 2002-12-27 | 2017-02-01 | Hoya Corporation | Optical glass, press-molding glass gob and optical element |
| US20050049135A1 (en) * | 2003-08-29 | 2005-03-03 | Kazutaka Hayashi | Precision press-molding glass preform, optical element and processes for the production thereof |
| JP4218804B2 (ja) * | 2004-03-19 | 2009-02-04 | Ｈｏｙａ株式会社 | 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームとその製造方法および光学素子とその製造方法 |
| US7576020B2 (en) * | 2004-10-12 | 2009-08-18 | Hoya Corporation | Optical glass, precision press-molding preform, process for the production of the preform, optical element and process for the production of the optical element |
| JP4361004B2 (ja) * | 2004-11-15 | 2009-11-11 | Ｈｏｙａ株式会社 | 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームおよびその製造方法ならびに光学素子およびその製造方法 |
-
2005
- 2005-02-28 JP JP2005054239A patent/JP4895512B2/ja active Active
-
2006
- 2006-02-21 KR KR1020087029269A patent/KR20090005229A/ko not_active Application Discontinuation
- 2006-02-21 WO PCT/JP2006/303532 patent/WO2006093062A1/en active Application Filing
- 2006-02-21 US US11/817,274 patent/US8148280B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-02-21 CN CN2011100337168A patent/CN102173585A/zh active Pending
- 2006-02-21 KR KR1020077017626A patent/KR100890588B1/ko active IP Right Grant
- 2006-02-21 CN CN2006800063837A patent/CN101128400B/zh active Active
- 2006-02-21 DE DE112006000460T patent/DE112006000460T5/de not_active Withdrawn
- 2006-02-24 TW TW095106346A patent/TWI326277B/zh active
- 2006-02-24 TW TW099108439A patent/TWI428304B/zh active
- 2006-02-27 MY MYPI20060835A patent/MY148669A/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MY148669A (en) | 2013-05-31 |
| CN102173585A (zh) | 2011-09-07 |
| JP4895512B2 (ja) | 2012-03-14 |
| TWI428304B (zh) | 2014-03-01 |
| US20090062101A1 (en) | 2009-03-05 |
| DE112006000460T5 (de) | 2008-01-10 |
| JP2006240889A (ja) | 2006-09-14 |
| CN101128400B (zh) | 2011-05-18 |
| KR100890588B1 (ko) | 2009-03-25 |
| CN101128400A (zh) | 2008-02-20 |
| US8148280B2 (en) | 2012-04-03 |
| TW200637799A (en) | 2006-11-01 |
| KR20090005229A (ko) | 2009-01-12 |
| TWI326277B (en) | 2010-06-21 |
| KR20070091226A (ko) | 2007-09-07 |
| WO2006093062A1 (en) | 2006-09-08 |
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