TW200948688A - Methods and apparatuses for controlling contamination of substrates - Google Patents

Description

200948688 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於基板容器以及於此等容器之内部保持乾燥並使污 染最小化。 【先前技術】 人們已認識到’光罩傳送冬r +·， 、 •^皿（reticle pod)或晶圓容器（wafer container )之聚合物壁内之少八、， ^刀以及滲透過聚合物壁之水分係爲一 污染源，會污染此等容Μ所容心基板。

於運輸儲存或後續製造製程中之暫停期間，半導體晶㈣ 儲存於專用容器中，例如科淮地^ 不平機械介面（standardized mechanical interface，SMIF )傳送盒及前開式晶圓盒（⑽却山 FOUP) t端視例如生產運行及周期時間之長短等諸多因素而 疋曰日圓在各處理步驟之間可放置於此等容器中很長之時間。在 此期〒t過處理之晶圓會受到環境水分、氧氣及其他不利於生 產良率之氣刀子 /亏 ¥ 物（airb〇rne_m〇iecuiar c〇ntaminants, amc ) 之影響。 例如’水分可造喊無法控制的原生氧化層生長 (native oxide growth )、形成霧霾及造成腐蝕，而已知氧氣會影響銅製程 (Cu-mterconnect)之可靠性。實驗數據及計算研究已顯示，透過 位於设體下基座或F〇Up門擋上之一入口介面，可利用一連續之 氮氣流有效地洗淨在内部具有晶圓之封閉Foup^已知每分鐘約4 升之和缓氮氣流在僅僅4至$分鐘内便能將已加載之F〇uP内之 氧氣及水分含量明顯降低至及1%之氧氣濃度。實驗數據 亦顯示’終止氮氣洗淨氣流可導致FOUP内之水分濃度在幾分鐘 3 200948688 内很快地升高至大於1%之含量。據信此種結果係因水分滲透過 FOUP之壁以及水分自f〇up之聚碳酸酯（polycarbonate)壁上脫 附而造成。 因此’需要一種更佳之系統及方法，以更佳地保護基板（例如 晶圓）免受環境水分及氧氣之影響。 【發明内容】 於某些實施例中，在已裝載之基板容器（例如F0UP)於儲存以 及例如利用物料搬運載具（personal guided vehicle, PGV )的輔助 在製矛王區域内運輸（intrabay transportation)期間，提供對基板容 之又重;先淨。雙重洗淨可包含一潔淨乾燥空氣（dry air,

CDA)或其他洗淨氣體之氣流，該氣流被引導或限制至基板容器 夕卜*ί則，ITf I 々止或最小化水分向基板容器内之滲透並使聚合物限制 土（其可例如爲聚碳酸酯）逐漸乾燥。藉由例如氮氣對FOUP内 部進行習知+ 之内部洗淨’將會防止氧氣積聚並自内部提供對該等 限制壁之乾燥。 基板今器错料器内之分隔壁或覆蓋罩將確保潔淨乾燥空氣之有 效流通〇贺「，、 、王區域内之小型儲存器（mini_st〇rage)中之相似覆蓋 罩及分隔壁κ一 使用、 洗淨站上之外殼亦可提供有效之潔淨乾燥空氣的 亦可於裝配有可重複填充式低壓容器之物料搬運載具

(PGV ) A 'sr +A 在運輪中對FOUP提供雙重洗淨，其中該容器可充滿潔 淨乾燥空氣及氮氣。 在本發明 > 每 4 貝轭例中，一種用於在由聚合物形成之基板容器内

維符一極TO 、先，以彳兄之系統提供對基板容器外部之輔助外部氣體沖 77 &氧氣穿過容器聚合物壁之滲透最小化並更達成入 200948688 陷於容器聚合物壁中之水之脫附。 可在排放喷嘴下游提供特定覆蓋罩及/或洗淨氣體引導板作爲儲 料器之一部分，以控制及容納外部洗淨。可爲晶圓容器提供覆蓋 罩及雙重壁，以爲外部洗淨氣體沖洗提供一受限制之路徑。 本發明某些實施例之一特徵及優點係提供一種基板容器，該基 板容器具有一壁面空腔，以使一内壁具有對該内壁之一朝外表面 進行外部洗淨之能力。該壁面空腔可實質封閉，具有例如不到1 平方叫之一有限入口面積。此外，出口面積亦可有限，例如不到1 〇 平方吋。該入口及該出口可於該入口及/或該出口中具有另一限制 構件，例如一止回閥（check valve )或過濾器。本發明某些實施例 之一特徵及優點係提供一種儲料器，該儲料器具有不固定至晶圓 容器之基板容器覆蓋罩，進而提供距晶圓容器外表面約0.25吋至 約2吋之一間隙。 在某些實施例中，本發明之一特徵及優點係提供一種具有一内 部容納壁之基板容器，該基板容器具有一外部覆蓋罩，該外部覆 蓋罩固定地附裝至晶圓容器，進而提供距外表面約0.25吋至約2 吋之一間隙並於該固定附裝之覆蓋罩與該内部容納壁之間形成一 空腔，俾使一外部洗淨氣體可提供至該空腔。在一實施例中，對 於該覆蓋罩内表面之大部分，該間隙係小於2吋。 本發明某些實施例之一特徵及優點係爲一種方法，該方法藉由 對基板容器增加外部覆蓋罩而修改基板容器，以於基板容器之一 容納壁之一朝外表面與該覆蓋罩之間提供一空腔，其中一外部洗 淨氣體可提供至該空腔。 本發明某些實施例之一特徵及優點係提供一基板容器之一洗淨 200948688 出口，其中在基板容器内部循環之洗淨氣體在該洗淨氣體離開該 内部之後被改向，以沖洗基板容器之外表面。 本發明某些實施例之一特徵及優點係提供一種於洗淨出口處具 有偏轉件之基板容器，俾使在基板容器内部循環之洗淨氣體在該 洗淨氣體離開該内部之後被改向，以沖洗基板容器之外表面。 本發明某些實施例之一特徵及優點係提供一種基板容器，該基 板容器具有分布於該容器上之清潔出口以及通往該容器外部之出 口，該等出口使排出之洗淨氣體沿平行於容器外表面之一方向改 向。此等洗淨出口中可具有止回閥，以防止當未進行洗淨時氣體 流入該内部中。 本發明某些實施例之一特徵及優點係爲一種具有複數洗淨入口 之基板容器，至少其中之一洗淨入口被定向成朝向基板容器之内 部，且至少其中之一洗淨入口被定向成沖洗一壁面之外表面，該 壁面界定基板容器之内部容納空間。 本發明某些實施例之一特徵及優點係爲一種具有複數洗淨入口 之基板容器，至少其中之一洗淨入口被定向成朝向基板容器之内 部，且至少其中之一洗淨入口被定向成沖洗一壁面之外表面，該 壁面界定基板容器之內部容納空間。 本發明某些實施例之一特徵及優點係於洗淨出口處提供偏轉 件，俾使在基板容器内部循環之洗淨氣體在該洗淨氣體離開該内 部之後被改向，以沖洗基板容器之外表面。此等偏轉器可被附裝 或固定至基板容器，或者可與基板容器分開，例如作爲儲料器或 容器外殼之一部分。 本發明某些實施例之一特徵及優點在於，可藉由使高濃度之洗 200948688 . 淨孔體（例如非常潔淨且非常乾狀空氣）緊靠—基板容器之外 表面散布而最佳地利用該洗淨氣體 ，以使水分滲透最小化、在光 罩傳送皿之♦σ物设體中維持最少之水分並加快從基板容器表面 之擴散。 【實施方式] 參見苐1圖，圖φδ5_ 甲,，、，員不—外忒20被構造成一具有洗淨氣體供應 源24及26之SKlIF忠宠 U先罩傳送盒儲料器。另一選擇爲，該基板容器 可係爲晶圓容器，你丨1^ 、 ❹ 】如破稱爲前開式晶圓盒（front opening unified pod，FOUP)及前問彳 j 八連輸盒（front opening shipping boxes，FOSB ) 者。於此等儲料哭由 。。T ’可提供潔淨乾燥空氣或極潔淨乾燥空氣。 另一選擇為，可描你 何供—純惰性氣體’例如氮氣。儲料器具有容置 區 40 及 42，其 φ

、iMIF光罩傳送盒安置於搁架44、46上。SMIF 光罩傳送盒50於兮堂丄呢 、μ夺光罩傳送盒之底部具有洗淨入口，俾使一洗 淨氣體提供至該箸 九罩傳送盒之内部。該洗淨氣體可經光罩傳送 益基座中之過涛器^

,^ ^ 即排放入儲料器之周圍環境64中。朝向SMIF 參 光罩傳送盒外部之 * “ 死净出口，例如喷嘴68、70，可提供另一外表 面洗淨氣體。可於 时—产> ^ 項專噴嘴下游利用覆蓋罩或引導板75、76 ' 77 將二軋或軋體流引 等至傳送盒之外表面。此高濃度洗淨氣體提供 兮是之聚合物殼體之通風，防止水分滲透入其中並乾燥 s玄忒σ物殼體。兮 卜双可具有複數隔板74，以隔離該等光罩傳送 盒，進而使為對哕望辟 付 > 曲— Λ寻得送盒實施外部沖洗所提供之洗淨氣體具有 取尚浪度。可於內 ^ . 。丨δ又置一額外之洗淨氣體出口 78，用於提供大 體潔淨之空氣至# t , 无罩傳送盒儲料器之内部。關於潔淨乾燥空氣及 超潔淨乾燥空氣之 ’ 解釋及說明，請參見PCT/US2007/014428，該 7 200948688 PCT申請案以引用方式倂入本文中。 應注意，可針對具體擬定功能（即内部洗淨、外部洗淨氣體沖 洗、或於儲料器中提供環境氣氛），使所提供之各種洗淨氣體具有 最佳之組成並具有不同之乾燥度及/'或潔淨度。 參見第2圖，圖中顯示又一外殼100具有擱架102、104。該等 搁架具有洗淨出口 106、108及洗淨排氣容置器110、112，用於在 洗淨氣體已循環經過晶圓容器之後容置洗淨氣體。可將諸如SMIF 傳送盒或FOUP等晶圓容器120放置於該等擱架上，以安置於各 自之洗淨出口及洗淨排氣接頭上。另外，提供覆蓋罩130，該等覆 蓋罩130可上下移動，以大體封閉該等基板容器，進而提供一限 制性内部空間，從而可提供一特定洗淨氣體來有效地沖洗基板容 器120之外部。該洗淨氣體可在覆蓋罩與搁架之結合部之間排出 或透過其他通氣裝置或出口排氣裝置排出。可如供應源142、144、 146及洗淨氣體管線147、148、149所示提供各種洗淨氣體供應 源。此等供應源可係為不同之氣體，例如氮氣與空氣，並可視需 要或視情況以不同之潔淨度及/或乾燥度提供。第2圖之外殼可係 為可攜式的，可藉由如圖所示之輪子150,以於一製造設備内通常 在各處理步驟之間運輸基板容器。 參見第3圖及第4圖，圖中大體顯示一 SMIF傳送盒，該SMIF 傳送盒被構造成一 SMIF光罩傳送盒160。該SMIF光罩傳送盒大 體係由一殼體部162、一門擋163、及一覆蓋罩164構成。覆蓋罩 164係用以在鄰近位置上覆蓋殼體部之外表面168。該殼體部用作 其中所容納光罩之一容納部。具體而言參見第4圖，光罩172係 由虛線顯示並由光罩支架174、176支撐。該門擋具有一對洗淨入 200948688 口 182、184,洗淨入口 182、184連接至由殼體及門擋所界定之光 罩傳送盒之内部186。洗淨喷嘴190、192喷射洗淨氣體至該SMIF 光罩傳送盒之内部。於此種構造中，洗淨氣體係透過位於門擋163 中央之一過濾器194排出。覆蓋罩164具有又一洗淨入口 198,該 洗淨入口 198通往在覆蓋罩164與殼體外表面168之間所界定之 空間200中。喷射至該空間200内之該洗淨氣體在平行於該外表 面之一方向上，沿著並鄰近該外表面傳送，並且在該覆蓋罩限制 下被引導至且沿循該外表面之輪廓。洗淨氣體可於複數開口 204 Q 處排出。該氣體流在圖中由箭頭所大體顯示，且此處具體地顯示 於空間200中。可為洗淨氣體提供不同之洗淨氣體源208、210， 以提供不同之組成及/或潔淨度及/或乾燥度。 第5圖顯示一 SMIF傳送盒之另一視圖，其中洗淨氣體喷射至 SMIF傳送盒内部後經SMIF傳送盒殼體部162之一出口 220排 出。該洗淨氣體由此在SMIF傳送盒内部循環，然後排出並在覆蓋 罩164之引導下被迫沿殼體之外表面168前進。 參見第6圖，圖中顯示一 SMIF傳送盒250之又一實施例。該 ® SMIF傳送盒具有一殼體部252及一門擋254，門擋254具有一内 部256。門擋及殼體部界定用於容納光罩264之一内部260。於該 實施例中，該門擋具有二洗淨入口 270、272,該二洗淨入口 270、 272通往容納有光罩之光罩傳送盒内部。一第三洗淨入口 276通往 門擋之内部。門擋具有一洗淨出口 278，以使喷射入門擋内部256 之洗淨氣體自門擋中排出。在SMIF傳送盒中，門擋係位於傳送盒 之底部；在FOUP及FOSB中，門擋係位於容器部之具開口之正 面，參見第11圖。此等FOUP及FOSB門擋常常具有可類似地被 200948688 . 洗淨之具開口之内部。在第6圖之構造中，喷射至儲存有光罩之 光罩傳送盒内部之洗淨氣體經殼體之一開口 282排出。該開口中 設置有一過濾器284，如在US 2006/0266011中所揭露，該美國專 利申請案以引用方式倂入本文中。光罩傳送盒内部之排出氣體然 後在覆蓋罩286之迫使下沿殼體部外表面流動。洗淨氣體供應源 290可具有分隔部292、294，用於提供具有不同組成及/或潔淨度 及/或乾燥度之洗淨氣體。 參見第7圖，圖中顯示又一 SMIF傳送盒300。該SMIF傳送盒 大體包含一門擋302及一殼體部304。該門擋具有洗淨入口 306、 308，該等洗淨入口 306、308可連接至洗淨源並喷射洗淨氣體至 SMIF傳送盒300之内部310。於此種構造中，殼體具有用以排出 洗淨氣體之複數出口以及位於各該殼艎出口處之複數偏轉器 320。該等偏轉器用以偏轉及引導離開SMIF傳送盒内部之排出氣 體，以沖洗殼體之外表面324。此一安排亦適用於其他基板容器， 例如晶圓容器，參見下文。 參見第8圖，圖中顯示該偏轉器之一構造之詳細剖視圖。該偏 轉器320係爲具有一帶螺紋端324之T形，具有一延伸貫穿其中 並沿橫向離開之導管路徑326。一止回閥328恰當地置於該出口 中，以便僅容許單向出口流量。此可位於本文所述之SMIF傳送盒 或晶圓容器上。 參見第9圖，圖中顯示一 SMIF傳送盒400之又一實施例，SMIF 傳送盒400大體由一門擋402與一殼體部404構成。該殼體部包 含一内壁406及一外壁408。該内壁具有一朝外表面410。在此種 構造中，該SMIF傳送盒具有四個洗淨介面及一入口端414，用以 200948688 喷射洗淨氣體至光罩傳送^之内部416、然後使洗淨氣體經排出端 420排出。該等介面係恰當地定位於門擋中。基板支撐結構424 設置於門擋上’並可被構造成-光罩支架或用以定位—習知h桿 式晶圓載具（H-bar wafer⑽ier )。殼體部藉由密封件43〇及432 與門撞相密封。輔助密封件432提供對内殼體壁與外殼體壁間之 空間436的封閉。提供-額外洗淨端祀，以喷射—洗淨氣體於内 殼體部與外殼體部間之空間中。提供—額外排出端桃，以爲自該 ❹ ❿ 等壁部之間空間中排出之洗淨氣體提供—出口。儘” 9圖中未 顯示該Η擋具有如第6圖及第7圖所示之内部，然而熟習此項技 術者择理解’在第9圖之構造中，此等Η擋亦將可行，並應被含 納為及視為本發明之一實施例。 參見第1〇圖，圖中顯示一習知_傳送盒則具有-殼體部 術、—_5〇4以及- Η-桿式晶圓载具鳩。該門擋具有一内部 閃鎖機構51〇,内部閃鎖機構510將與殼體部搬之内部淨化㈣ 合，以如S聊傳送盒中之習知作法—樣將門擋㈣於定位。該門 擋亦具有支擇結構512 ’用以將載具之H, 514正確地置於^上 面。在門擋之底部設置有將被從門擋下方喷合之額外洗,。 W娜傳送盒可具有如第9圖所示加以構造之上殼體部，並可且 有如第9圖或如顯示門擔具有具開口之内部之圖式(參見第6及; 圖）所示之門擋。 參見第U圖，圖中顯示-前開式傳妓_。此等傳送各常常 被稱為前開式晶圓盒並用於在各處理步驟之間健存· 宅米晶圓。該容器大體包含-容器部6Q2、—具有關機構之門撞 6〇4、以及位於門擋正面中之_機構鑰匙孔祕。該門擋密封二 11 200948688 嚙合至殼體部602，以形成一氣密性之内部。其一底側顯示於第 11a圖中，該底側上定位有一工業標準三槽式運動耦合件（industry standard three-groove kinematic coupling ) ° 洗淨端 630 可位於殼體 部之底座上，或者位於前門擋上，如第11圖中帶有編號634之虛 線所示。第11圖之容器之殼體部可具有如第13及14圖所示之一 雙重壁構造。晶圓係容納於晶圓容器之内部644中，並可按習知 方式加以洗淨。可提供一額外輔助壁650，以在内壁660與外壁 655之間提供一空間658。内壁具有一暴露於如箭頭所示之内部洗 淨氣體之朝外表面662,洗淨氣體可在該等雙重壁區段之間的内部 中循環，以爲聚合物内壁提供一乾燥效果並防止水分向内滲透。 洗淨氣體可透過如第13圖所示帶有一止回閥672之一端部670自 内部排出，或者可藉由位於容器部基座中之一單獨洗淨端排出， 參見第14圖所示。該端部可顯示為如第11圖中，編號為670、672 之虛線示出。該雙重壁可並非如在第9圖之SMIF傳送盒中所示在 界定一輔助密封外殼之F0UP雙重壁内具有空間658,而是被構造 成如第11圖所示之覆蓋罩。在該二情形中，皆提供一洗淨氣體並 沿界定用以容納晶圓之受限空間之該等壁部之朝外表面引導洗淨 氣體。 參見第12圖，圖中顯示一種構造，該構造適於提供具有密封之 内部空間之雙重壁區段。此構造具有一外殼體部802、一内殼體部 804及一門擋806。當組裝於一起時，外殼體與内殼體之間具有一 間隙，該等殼體間之該間隙可被洗淨以達成上述功能。同樣地， 該容器之内部亦可被適當地洗淨。前開式容器本身通常具有被構 造成三槽式運動耦合件812之機器介面。 12 200948688 【圖式簡單說明】 第1圖係為根據本發明之具有洗淨特徵之一光罩傳送盒儲料器 之示意圖； 第2圖係為根據本發明之具有洗淨特徵之一晶圓容器及儲料器 之不意圖， 第3圖係為根據本發明之一 SMIF光罩傳送盒之立體圖； 第4圖係爲根據本發明如第3圖所示之光罩傳送盒連接至洗淨 系統之剖面示意圖； Φ 第5圖係為根據本發明之另一 SMIF光罩傳送盒之示意圖； 第6圖係為根據本發明之一 SMIF傳送盒之示意圖； 第7圖係為根據本發明之一 SMIF傳送盒之示意圖； 第8圖係爲根據本發明具有一止回閥之一洗淨偏轉器之詳細剖 視圖； 第9圖係為根據本發明之一 SMIF傳送盒之剖視圖； 第10圖係為根據本發明之r半導體晶圓之SMIF傳送盒之立體 爆炸圖； - W 第· 11圖係為根據本發明之一前開式晶圓容器之立體圖，該晶圓 容器例如係為一 300毫米前開式晶圓傳送盒（FOUP); 第11a圖係為第11圖之FOUP之仰視圖； 第12圖係爲根據本發明之一前開式基板容器之爆炸圖； 第13圖係爲根據本發明之一基板容器之詳細壁面剖視圖；以及 第14圖係爲根據本發明之一基板容器之另一詳細剖視圖。 【主要元件符號說明】 20 :外殼 24 :洗淨氣體供應源 13 200948688 26 :洗淨氣體供應源 42 :容置區 46 :擱架 60 :過濾器 68 :喷嘴 74 :隔板 76 :覆蓋罩或引導板 78 :洗淨氣體出口 102 :搁架 106 :洗淨出口 110 :洗淨排氣容置器 120 :晶圓容器 142 :供應源 146 :供應源 148 :洗淨氣體管線 150 :輪子 162 :殼體部 164 :覆蓋罩 172 :光罩 176 :光罩支架 184 :洗淨入口 190 :洗淨喷嘴 194 :過濾器 200 :空間 40 :容置區 44 :搁架 50 : SMIF光罩傳送盒 64 :周圍環境 70 :喷嘴 75 :覆蓋罩或引導板 77 :覆蓋罩或引導板 100 :外殼 104 :搁架 108 :洗淨出口 112 :洗淨排氣容置器 130 :覆篕罩 144 :供應源 147 :洗淨氣體管線 149 :洗淨氣體.管線 160 : SMIF光罩傳送盒 163 :門擋 168 :外表面 174 :光罩支架 182 :洗淨入口 186 :内部 192 :洗淨喷嘴 198 :洗淨入口 204 :開口 14 200948688

208 :洗淨氣體源 210 : 220 :出口 250 ： 252 :殼體部 254 ： 256 :門擋内部 260 : 264 :光罩 270 : 272 :洗淨入口 276 ： 278 :洗淨出口 282 ： 284 :過濾器 286 ： 290 :洗淨氣體供應源 292 ： 294 :分隔部 300 : 302 :門擋 304 ： 306 :洗淨入口 308 : 310 :内部 320 : 324 :外表面 326 ： 328 :止回閥 400 ： 402 :門擋 404 ： 406 :内壁 408 ： 410 :朝外表面 414 ： 416 :内部 420 ： 424 :基板支撐結構 430 ： 432 :輔助密封件 436 ： 442 :額外洗淨端 446 ： 500 :習知SMIF傳送盒 502 ： 504 :門擋 506 ： 洗淨氣體源 SMIF傳送盒 門擋 内部 洗淨入口 第三洗淨入口 開口 覆蓋罩 分隔部 SMIF傳送盒 殼體部 洗淨入口 偏轉器 導管路徑 SMIF傳送盒 殼體部 外壁 入口端 排出端 密封件 空間 額外排出端 殼體部 H-桿式晶圓載具 15 200948688 510 ： 内部閂鎖機構 512 : 支撐結構 514 ： Η-桿 520 ： 額外洗淨端 600 ： 前開式傳送盒 602 ： 容器部 604 ： 門擋 606 ： 閂鎖機構鑰匙孔 630 ： 洗淨端 634 ： 洗淨端 644 ： 内部 655 : 外壁 658 ： 空間 660 ： 内壁 662 ： 朝外表面 670 ： 端部 672 ： 止回闊 802 ： 外殼體部 804 ： 内殼體部 806 ： 門擋 812 ： 三槽式運動耦合件 16

Claims (1)

1. 200948688 七、申請專利範圍： 1. 一種用於容納具有複數晶圓之複數晶圓容器之外殼，該外殼 具有一用以容置該等晶圓容器之一開口並具有二洗淨系統 (purging system )，該等洗淨系統分別提供具有一不同濃度 或成分之一洗淨氣體，該等洗淨系統其中之一係用于該等晶 圓容器之内部，其中之另一則係用於將一洗淨氣體引導至該 晶圓容器之一限制壁之外表面。 2. 如請求項1所述之外殼，其中該外殼係可移動以於一製造設 φ 備之區域内運輸該等晶圓。 3. 一種用於容納具有複教晶圓之複數晶圓容器之外殼，該外殼 係可用於容置該等晶圓容器並具有一覆蓋罩（shroud)，該覆 蓋罩係可移動以便於放置及移除該覆蓋罩，且該覆蓋罩至少 部分地延伸於一晶圓容器上方以於該覆蓋罩及該晶圓容器間 提供一洗淨氣體，俾以一洗淨氣體沖洗該晶圓容器之容納壁 之外表面。 4. 一種用於容納具有複數晶圓之複數晶圓容器之外殼，該外殼 © 具有適於各該晶圓容器之複數各別容置區，各該容置區具有 一用於對該晶圓容器實施内部洗淨之洗淨出口以及一用于洗 .淨該容器外部之出口。 5. 如請求項4所述之外殼，其中用於内部洗淨之該洗淨出口係 連接至一氮氣源，且用于洗淨該容器之外部之該出口係連接 至一潔淨乾燥空氣源。 6. 一種用於容納具有複數晶圓之複數晶圓容器之外殼，該外殼 具有適於各該晶圓容器之複數各別容置區，各該容置區具有 17 200948688 <固用於對該晶圓容器實施内部洗淨之洗淨出口以及一個用 于洗淨該谷1§之外部之出口，該外殼更具有—環境空氣清潔 糸統。 7· 種用于减上—基板容器中之一受控環境下之複數晶體污染 物之方法，該方法包含以下步驟： 封閉合易形成晶體之基板于一密封且可開啟之基板容 器中； 8. 9. 10 12. 八乳軋况手该容器之内部； 以至少潔淨之乾燥空氣提供一外表面洗淨氣體對該容 沖洗；以及 限制該外部沖洗于該外表面之幾忖以内。 如4項7所述之方法，其中洗淨該容器内部之該步驟包含 噴射氮氣至該内部中。 如請求項7所述之方法，盆由& ，、中响求項7所述之步驟包含利用 春淨之乾燥空氣對該外表面進行洗淨氣體沖洗。 、λ車項所述之方法，包含將該基板容器封閉于具有複數 雜11巾，㈣辆㈣洗淨及該外表面洗淨 軋體沖洗。 —種用於對一晶圓容器提供雙 Λ^ , 又里'无予之系統，該系統包含一 外部晶圓容器表面洗淨，其，該外表面洗淨。 -晶圓容器之複數容納壁提供一外部洗淨沖洗之 系m統包含《該晶圓容器之複數洗淨出口。 —種晶圓容器，具有一覆蓋罩， 集中lm。 辭錢叙外表面處 器 ❹ ❹ 18 13. 200948688 14. 一種晶圓容器，具有一洗淨出口，用于使洗淨氣體沿該晶圓 容器之外表面偏轉。 15. —種晶圓容器，具有一對洗淨入口部，該等洗淨入口部其中 之一係用於洗淨該晶圓容器之内部，其中之另一則係用於洗 淨界定出該内部的複數壁面之外表面。 16. —種晶圓容器，具有複數洗淨導管，用于將洗淨氣體引導至 該容器之複數容納壁之外表面。 17. —種晶圓容器，具有延伸於複數容納壁之外表面上之複數洗 φ 淨導管，以傳送及限制用于沖洗該晶圓容器之該等容納壁之 外表面之洗淨氣體。 18. —種晶圓容器，具有一門擋及一殼體部，該門擋與該殼體部 可密封於一起以界定用於容納複數晶圓之一内部，該殼體部 具有一雙重壁及一用於在其中喷射洗淨氣體之接口。 19. 如請求項18所述之晶圓容器，其中該門擋具有一開口内部、 位於該門擂内之一閂鎖機構以及一接口，該接口係用於喷射 洗淨氣體至該門擋之該内部中。 ® 20. —種覆蓋罩，相符於一晶圓容器之外形之一部分，用于沿該 晶圓容器之外表面界定一空間，俾一洗淨氣體可噴射至該空 間中，以沖洗該晶圓容器之複數容納壁之外表面。 21. —種用於使一密封晶圓容器中之複數晶圓之霧霾（haze)增 長及污染最小化之方法，該方法包含以下步驟： 提供對該晶圓容器之一内部洗淨； 提供一外部洗淨，該外部洗淨係藉由一專用洗淨出口而 引導至該晶圓容器之複數外壁上。 19 200948688 22. —種用於使一密封晶圓容器中之複數晶圓之霧霾增長及污染 最小化之方法，該方法包含以下步驟： 提供對該晶圓容器之一内部洗淨； 提供一外部洗淨，該外部洗淨係藉由一專用洗淨出口而 引導至該晶圓容器之複數外壁上。 23. 一種用於300毫米晶圓之前開式晶圓容器（front opening wafer container)，具有一容納壁，該容納壁具有用于對該容納壁之 一外表面實施洗淨氣體沖洗之一裝置。 24. 如請求項23所述之容器，其中該裝置係為一雙重壁，該雙重 壁具有一第二密封内部或一覆蓋罩。 25. —種用於容納複數基板容器之外殼，各該基板容器適以容納 至少一基板於其中，該外殼具有一可封閉開口以用于容置該 等基板容器，該外殼具有二洗淨系統，該等洗淨系統分別提 供具有一不同濃度或成分之一洗淨氣體，該二洗淨系統其中 之一係用于該等基板容器之内部，其中之另一則係用於將一 洗淨氣體引導至該晶圓容器之外部。 26. 如請求項25所述之外殼，其中該外殼係可移動以於一製造設 備之區域内運輸複數晶圓。 27. ' —種用於容納具有複數晶圓之複數晶圓容器之外殼，該外殼 係可可簡易的用於容置該等晶圓容器並具有一覆蓋罩1該覆 蓋罩至少部分地延伸於一晶圓容器上，以於該覆蓋罩與該晶 圓容器間提供一洗淨氣體，俾以一洗淨氣體沖洗該晶圓容器 之複數容納壁之外表面。 28. —種用於容納具有複數基板之複數基板容器之外殼，該外殼 20 200948688 具有適於各該基板容器之複數各別容置區，各該容置區具有 一用於對該晶圓容器實施内部洗淨之洗淨出口以及一用于洗 淨該容器外部之出口。 29. 如請求項28所述之外殼，其中用於内部洗淨之該洗淨出口係 連接至一氮氣源，且用于洗淨該容器外部之該出口係連接至 一潔淨乾燥空氣源。 30. 如請求項28所述之外殼，其中各該基板容器具有一對洗淨入 口，該等洗淨入口其中之一係用以接收用于該基板容器内部 φ 之洗淨氣體，其中之另一則係用以接收用于沖洗該基板容器 之一容納壁之外表面之洗淨氣體。 31. —種用於容納具有複數基板之複數基板容器之外殼，該外殼 具有由複數隔板所界定而適於各該基板容器之複數各別容置 區，各該容置區具有一用于對該基板容器實施内部洗淨之洗 淨出口以及一用于洗淨該容器外部之出口，該外殼更具有一 環境空氣清潔系統。 32. —種用於容納具有複數基板之複數基板容器之外殼，該外殼 ® 具有適於各該基板容器之複數各別容置區，各該容置區具有 —一：覆蓋罩，用於至少部分地覆蓋安置於各該容置區中之各該 對應之基板容器，各該容置區具有一用于對該晶圓容器實施 内部洗淨之洗淨出口以及一用于洗淨該容器外部之出口。 33. —種用於容納具有複數基板之複數基板容器之外殼，該外殼 具有適於各該基板容器之複數各別容置區，各該容置區具有 一覆蓋罩，用於至少部分地覆蓋安置於各該容置區中之各該 對應之基板容器，各該容置區具有一用于對該晶圓容器實施 21 200948688 内部洗淨之洗淨出口以及一用于洗淨該容器外部之出口。 34. 一種用於對一標準機械介面（standardize mechanical interface, SMIF)光罩傳送盒提供雙重洗淨之系統，包括一内部洗淨及 一外部晶圓容器表面洗淨，其中該外表面洗淨被限制以沿循 該SMIF光罩傳送盒外表面之輪廓。 35. —種用於對一 SMIF光罩傳送盒之複數容納壁提供一外部洗 淨沖洗之系統，該系統包含鄰近該晶圓容器之複數洗淨出口。 36. —種SMIF光罩傳送盒，具有一覆蓋罩，用於使一外部洗淨集 中於沿該SMIF光罩傳送盒之一容納壁之外表面。 37. —種SMIF光罩傳送盒，具有一洗淨出口，用于使洗淨氣體沿 該SMIF光罩傳送盒之外表面偏轉。 38. —種SMIF光罩傳送盒，具有一對洗淨入口部，該等洗淨入口 部其中之一係用於洗淨該SMIF光罩傳送盒之内部，其中之另 一則係用於洗淨界定出該内部的複數壁面之外表面。 39. —種SMIF光罩傳送盒，具有複數洗淨導管，用于將洗淨氣體 引導至該容器之複數容納壁之外表面。 40. —種SMIF光罩傳送盒，具有延伸於複數容納壁之外表面上之 複數洗淨導管，以傳送及限制用于沖洗該SMIF光罩傳送盒之 該等容納壁之外表面之洗淨氣體。 41. 一種SMIF光罩傳送盒，具有一門擋及一殼體部，該門擋與該 殼體部可密封於一起以界定用於容納複數光罩之一内部，該 殼體部具有一雙重壁及一用於在其中喷射洗淨氣體之接口。 42. 如請求項41所述之SMIF光罩傳送盒，其中該門擋中具有一 開口内部、位於該門擋内之一閂鎖機構以及一接口，該接口 22 200948688 係用於喷射洗淨氣體至該門擋之該内部。 43. —種覆蓋罩，相符於一 SMIF光罩傳送盒之外形之一部分’用 於沿該SMIF光罩傳送盒之外表面界定一空間，俾一洗淨氣體 可喷射至該空間中，以沖洗該SMIF光罩傳送盒之複數容納壁 之外表面。 44. 一種用於使一密封SMIF光罩傳送盒中之複數光罩之霧霾增 長及污染最小化之方法，該方法包含以下步驟： 提供對該SMIF光罩傳送盒之一内部洗淨； 〇 提供一外部洗淨，該外部洗淨係藉由一專用洗淨出口而 引導至該SMIF光罩傳送盒之複數外壁上。 45. —種用於使一密封SMIF光罩傳送盒中之複數光罩之霧霾增 長及污染最小化之方法，該方法包含以下步驟： ' 提供對該SMIF光罩傳送盒之一内部洗淨； 提供一外部洗淨，該外部洗淨係藉由一專用洗淨出口而 引導至該SMIF光罩傳送盒之複數外壁上。 46. —種用于對一基板容器提供雙重洗淨之系統，該系統包含一 内部洗淨及一外部晶圓容器表面洗淨，其中該外表面洗淨被 限制以沿循該基板容器外表面之輪廓。 47. —種用于對一基板容器之複數容納壁提供一外部洗淨沖洗之 系統，該系統包含鄰近該晶圓容器之複數洗淨出口。 48. —種基板容器，具有一覆蓋罩，用於使一外部洗淨集中于沿 該基板容器之一容納壁之外表面。 49. 一種基板容器，具有一洗淨出口，用于使洗淨氣體沿該基板 容器之外表面偏轉。 23 200948688 50. —種基板容器，具有一對洗淨入口部，該等洗淨入口部其中 之一係用於洗淨該基板容器之内部，其中之另一則用于洗淨 界定出該内部的複數壁面之外表面。 51. —種基板容器，具有複數洗淨導管，用于將洗淨氣體引導至 該容器之複數容納壁之外表面。 52. —種基板容器，具有延伸于複數容納壁之外表面上之複數洗 淨導管，以傳送及限制用于沖洗該基板容器之該等容納壁之 外表面之洗淨氣體。 53. —種基板容器，具有一門擋及一殼體部，該門擋與該殼體部 可密封於一起以界定用於容納複數光罩之一内部，該殼體部 具有一雙重壁及一用於在其中噴射洗淨氣體之接口。 54. 如請求項41所述之基板容器，其中該門擋中具有一開口内 部、位於該門擋内之一閂鎖機構以及一接口，該接口係用於 喷射洗淨氣體至該門擂之該内部。 55. —種覆蓋罩，相符于一基板容器之外形之一部分，用于沿該 基板容器之外表面界定一空間，俾一洗淨氣體可噴射至該空 間中，以沖洗該基板容器之複數容納壁之外表面。 56. —種用于使一密封基板容器中之複數晶圓之霧霾增長及污染 最小化之方法，該方法包含以下步驟： 提供對該基板容器之一内部洗淨； 提供一外部洗淨，該外部洗淨係藉由一專用洗淨出口而 引導至該基板容器之複數外壁上。 57. —種用于使一密封基板容器中之複數基板之霧霾增長及污染 最小化之方法，該方法包含以下步驟： 24 200948688 提供對該基板容器之一内部洗淨； 提供一外部洗淨，該外部洗淨係藉由一專用洗淨出口而 引導至該基板容器之複數外壁上。 ❹

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