TW200948052A - Image sensor module package structure with supporting element - Google Patents

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Chung-Hsien Hsin
Chun-Hua Chuang
Chen-Pin Peng
Chien-Wei Chang
Chien-Hen Lin
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Kingpak Tech Inc
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200948052 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係為„# 為-種應用於提高影莫組封袭結構’特別 感測模組封裝結構。組封“構之生產良率之影像 【先前技術】
Ik著各種數位影像產品的問世及普及化， 產品例如數位相機、手機相機、影像電話、指_.=像 影像感測模組的需求量也_增加…般_ 杈^且使用的光感測元件的不同，主要可區分為互補式金氧^導 體影像感測模組及電荷_合影像感測模組。 互補式金氧半導體影像感測模組及電荷_合影像感測模 組各具有不同的優缺點，因此可依照各種不同的應用需求選用 不同類型的影像感測模組。然而，目前各項數位影像產$已逐 瘳漸走向小型化的趨勢，因此如何使影像感測模組的整體體積縮 小並且提尚影像感測模組封裝結構之生產良率，以符八靡用 '的 需求是目前各界努力的目標。 如中華民國專利申請號第200709444號中所揭露之一種光 感測元件之封裝結構中所述’光感測元件之封裝結構係包括一 光感測元件、/基座及一透光層。光感測元件以金屬線打線方 式與基座上的金>1佈線電性連接’並且藉由改變金屬佈線的位 置’使得金屬線與金屬佈線的接點略高於光感測元件之頂部， 而縮短金屬線之打線距離，進而縮小封裝面積。 200948052 仁疋由於在製造光感測元件時，是先將整片透光層覆蓋 於曰曰圓中基座的上表面後’再將每—光感測元件由晶圓上切割 下來，因此在將透光層覆蓋於基座上表面時，無法精確地掌握 透光層是否已完全潔淨，而造成透光層上可能有缺陷或是瑕 疫進而衫響光感測元件的感測靈敏度，並會降低光感測元件 的生產良率。另外，可能使用透光玻璃作為透光層，而在切割 的過紅中透光玻璃的邊緣容易產生碎裂或缺角，也會使得光感 測元件的生產良率大幅降低。 如果國專利第7, 297, 918號中所揭露之一種影像感測封裝 結構及影像感測模組中所述，其中影像感測封裝結構包括一基 板、-光感測晶片、-透光層、及一框架。基板的表面上具有 複數條金屬佈線’而光感測晶片設置於基板上，並且與金屬佈 線電f生連接。透光層則位於光感測晶片上方，又框架設置於基 板上且位於光感測晶片外圍’並且在框架的頂部係向光感測晶 片方向K申及向上延伸出剖面為L形的卡置部，並於卡置部的 ❹ΐ角處形成-置放空間，用以容置並^位透光層。 雖然上述美國專利第7,297,918號案具有結構簡單以及有 ^於點膠與封裝之製程的優點，並且可藉由卡置部之設置，避 =切割k ’直接切割透光層而降低了影像感測封裝結構生產 。之缺‘點但疋’因為仍須使用基板用以設置光感測晶片， =利用打線方式使光感測晶片與基板上的金屬佈線電性連 X致於在〜像感,則封裝結構的設計上仍需要預留打線的空 間’也使得影像感測封裝結構的整體體積 ，仍然無法再進一步 縮小。 200948052 第1圖係為習知之影像感測模組封褒結構⑺之剖 如第1圖所不，習知之影像感測模组封裝結構1〇係 層11利用一勝體層12結合於晶片13上，而 先 數個光感測元件14、複數個導電接點15、以及至+=有複 道16。光感測元件14係設置於晶片 ς電通 而導電接點15則電性連接於光相元# u表㈣感先區上， 雷件4,並藉由穿透晶月 ，電通迢16之—端電性連接於導電 ： 導電通道16之晶片13，稭由使用具 〇13與基板上的金屬佈”&=再_打線方式使光感剩晶片 構1〇的設計上也無須線預^接^以在影像感測模組封裝結 模組封裝結構10的整體體積縮小。 了使心像感測 但是，由於只有藉由膠體層12將透 上，因此透光層U與光感測元件 m 口於曰曰片13 所以容易產生成像像差\ ㈣相距—極短的距離， 感測影像。此外，若是逯光声 ”，、法正確地 —直接被放大，而使得^^曰 、曰或是瑕疵時’也會 ❹敏地感測影像。像感測換组封衆結構10無法準確且靈 【發明内容】 本發明係為—種具支撐件之 藉由支撐件之設置，_ 狀結構’其係 電通道之魏度。料，彻具有導 _ 日日片可利用導電通道直接與外部電路電性 連接，而無須利用打绫太斗a u I电峪1：性 、、方式使4與基絲基板上 200948052 電性連接，進而可節省#τ 結構的封裝體積。 上間，並縮小影像感測模組封裝 為達上述功效，本發 組封裝結構，其包括：〜曰’、提供一種具支撐件之影像感測模 置於晶片之一第一表面之：:’其具有：複數個感光元件，設 電性連接於感光元件；以感光區上；複數個第一導電接點， 端電性連接於第一導電接至ν導電通道，穿透晶片且其— 有-開口、-第-結合面及—★支撐件’其係為一平板，並具 〇感光區，又第一結合面係結：第：結合面，其中開口係對應於 係結合於第二結合面。於第一表面；以及一透光件，其 上述之影像感測模組封 ^ 式金氧半導體影像感測曰7、、中曰曰片係可以為-互補
Semiconductor，⑽S)。、又日日日Metal 〇咖e 曰曰片可進一步具有複數個第_ m 接點或導電球或-球栅陣列，設置於 性連接於導電通道。 電 〇 ±述之影«職㈣裝結構，其巾第—導電接點可 設置於感光區。 "° 上述之影像感測模組封装結構，其中支撐件可進—步具有 一凸出部，設置於透光件之侧邊位置。又支撐件之材質係可以 為一塑膠材質或一金屬材質。 上述之影像感測模組封裝結構，其中第一結合面係可藉由 一接著劑或一紫外光固化接著劑與第一表面結合。 上述之影像感測模組封裝結構，其中透光件係可藉由_接 著劑或一紫外光固化接著劑與第二結合面結合。透光件係可以 200948052 為一光學玻璃，又透光件之材 材質。此外，透光件之其中」係可以為一樹醋材質或一塑膠 外戴止渡光層。 、—表面或上下表面係可鍍有-紅 -、3=1 實施’至少可達到下列進步功效： —、=像感測模組封裝結構之體積。 ❹ 二、；提::::杈組封裝結構之影像感測正確度及*敏度。 一=阿影像感測模組封裝結構之生產良率。敏度 為了使任何熟習；I；目t 以實施，且根據切 錢了解本發明之技術内容並據 式，任何孰習相_蓺^所揭露之内容、申請專利範圍及圖 點。 切料敘述本發明之詳細特徵以及優 【實施方式】 ❹ 體分本發明之—種影像感測模組封裝結構20之立 裝結構20之剖視實施例圖 封 感測模組封f _ 圖#、為本發日狀—種影像 發明之接、" 體分解實施例圖二。第5圖係為本 U =種影像感測馳料結構2Q之剖視實施例圖二。 組封裝所ΐ’二實施例係為一種具支撐件之影像感測模 # ，/、匕括.一晶片30 ;—支撐件40 ;以及一透 九件50。 日日片30,其係可以為一互補式金氧半導體（c〇 Metal 〇yi*h^ 〇 幻加Semiconductor，CMOS)影像感測晶片。如第3圖 200948052 所示，晶片30係具有複數個感光元件31 ;複數個第一導電接 點32 ;以及至少一導電通道33。 感光元件31係設置於晶片30之一第一表面34之一感光 區上，而第一表面34係為晶片30之上表面，又感光元件31 係用以感測入射於影像感測模組封裝結構2 0之光線。在晶片 30之感光區的周圍係圍繞設置有第一導電接點32，並且第一 導電接點32係用以與感光元件31電性連接。而導電通道33 係穿透晶片30,以使得導電通道33之一端可外露於晶片30 ❹之一第二表面35,也就是導電通道33之一端可外露於晶片30 之下表面，而導電通道33之另一端則與第一導電接點32電性 連接。 由於導電通道33之一端係外露於晶片30之第二表面35, 且導電通道33之另一端又與第一導電接點32電性連接，而第 一導電接點32則與感光元件31電性連接。因此，感光元件31 可直接藉由導電通道33在第二表面35側與外部電路（圖未示） ^電性連接，進而可省略晶片30與基板或基座以打線方式電性 連接的步驟，並簡化影像感測模組封裝結構20之製程。此外， 因為無須再利用打線方式使晶片30與基板或基座電性連接， 所以也可縮小影像感測模組封裝結構20的整體體積。 為了使晶片30與外部電路電性連接，晶片30可進一步具 有複數個第二導電接點（圖未示），第二導電接點可以為習知之 金屬引腳，又或者如第3圖所示，晶片30可進一步具有複數 個導電球36,而導電球36也可排列為一球柵陣列（Ball Grid Array, BGA)，並設置於晶片30之第二表面35，用以與導電通 200948052 道33之另一端電性連接。導電球36可藉由習知之植球技術將 導電球36設置於晶片30之第二表面35,而使得影像感測模組 封裝結構2 0可具有的良好散熱性質。 如第2圖所示’支撐件4〇，其係為一平板，並具有—開口 41、一第一結合面42及一第二結合面43’而支撐件4〇之材質 係可以為一塑膠材質或一金屬材質。開口 41係位於支撐件4〇 中央，並且對應於晶片30之感光區，而使得感光區可裸露於 支撐件40外，以使得光線入射至影像感測模組封裝結構 ®時，感光區可完全地接收到入射之光線。 如第3圖所示’第一結合面42係為支撐件4〇之下表面， 而第二結合面43則為支撐件4〇之上表面。第一結合面42可 藉由一接著劑61，例如一熱固化接著劑或一紫外光固化接著 劑…等，與晶片30之第一表面34結合，而使得支撐件4〇設 置於晶片30上。 透光件50 ’其材質可以為一樹酯材質或—塑膠材質，又戋 ❹者透光件50可以為一光學玻璃，並可藉由接著劑⑽，例如熱 固化接著劑或紫外光固化接著劑…等，與支携件4〇之第二^ 合面43結合，而使得透光件5〇設置於支撐件4〇上。一、 為了使影像感測模組封裝結構2〇可獲得較佳 結果，當使用光學破璃作為透光件5〇時，透光件盆：、 一表面紅外截止遽光層。更佳的是，為了能獲得: 之影像感測、、，。果，也可於透光件5〇 矣 止濾光層。 料5〇之上下表面皆鍍上紅外截 如第4圖所示 為了使透光件50可更精準地與支撐件40 11 200948052 結合，支撐件40可進-步具有一凸出部44，凸出部44係由支 撐件40之外側端向上突出而形成。如第5圖所示，支撐件40 之凸出部44可設置於透光件5〇之側邊位置，龙用以固定透光 件50的設置位置。 藉由本實施例之實施，由於透光件5〇係設置於支撐件40 上，所以可使得透光件5G與晶片3G之感光元件31相距一適 當距離’進而提高影像感測模組封裝結構如之影像感測正確 度及靈敏度，並且藉由使用具有導電通道Μ之晶片30，可節 省打線之空間並有效縮小影像感賴㈣I結構20之體積。 此外’由於透光件50可在徹底詳細檢查後，再結合於支 撐件40之第二結合面43上，所以可避免具有缺陷或是瑕巍之 透光件50被結合於支樓件4〇之第二結合面^上，因此可提 高影像感測模組封裝結構2〇之生產良率。 惟上述各實施例係用以說明本發明之特點，其目的在使孰 習該技術者能瞭解本發明之内容並據以實施，而非限定本發明 ❹之專利範圍，故凡其他未脫離本發明所揭示之精神而完成之 效修飾或修改，仍應包含在以下所述之申請專利範圍中。’ 【圖式簡單說明】 第1圖係為習知之影像感測模組封裝結構之剖視圖。 第2圖係為本發明之一種影像感測模組封裝結構之立體八 施例圖一。 刀胖1 第3圖係為本發明之一種影像感測模組封裝結構之剖視實施例 12 200948052 第4圖係為本發明之一種影像感測模組封裝結構之立體分解實 施例圖二。 第5圖係為本發明之一種影像感測模組封裝結構之剖視實施例 圖二。 【主要元件符號說明】 10........ ........習知之影像感測模組封裝結構 11........ ........透光層 ❹12........ ........膠體層 13........ 14........ ........光感測元件 15........ ........導電接點 16........ ........導電通道 20........ ........具支撐件之影像感測模組封裝結構 30........ m 31........ ........感光元件 32........ ........第一導電接點 33........ ........導電通道 34........ ........第一表面 35........ ........第二表面 36........ ........導電球 40........ 41......... ........開口 42......... 13 200948052 43 ................第二結合面 44 ................凸出部 50................透光件 61、62........接著劑
14

Claims (1)

  1. 200948052 十、申請專利範圍： 1· 一種具支撐件之影像感測模組封裝結構，其包括： 一晶片’其具有：複數個感光元件，設置於該晶片之一第 一表面之—感光區上；複數個第一導電接點，電性連接 於該些感光元件；以及至少一導電通道，穿透該晶片且 其一端電性連接於該些第一導電接點； 一支撐件’其係為一平板，並具有一開口、一第一結合面 及一第二結合面，其中該開口係對應於該感光區，又該 〇 第一結合面係結合於該第一表面；以及 一透光件’其係結合於該第二結合面。 2. 如申請專利範圍第1項所述之影像感測模組封裝結構，其 中該晶片係為一互補式金氧半導體影像感測晶片 (Complementary Metal Oxide Semiconductor, CMOS)。 3. 如申請專利範圍第1項所述之影像感測模組封裝結構’其 中該晶片進一步具有複數個第二導電接點或導電球，設置 ❹ 於該晶片之一第二表面，且電性連接於該導電通道。 4. 如申請專利範圍第1項所述之影像感測模組封裝結構，其 中該晶片進一步具有一球栅陣列，設置於該晶片之一第二 表面’且電性連接於該導電通道。 5·如申請專利範圍第1項所述之影像感測模組封裝結構’其 中該些第一導電接點係圍繞設置於該感光區。 6.如申請專利範圍第1項所述之影像感測模組封裝結構’其 中該支擇件進一步具有一凸出部，設置於該透光件之側邊 位置。 15 200948052 7. 如申請專利範圍第1項所述之影像感測模組封裝結構，其 中該支撐件之材質係為一塑膠材質或一金屬材質。 8. 如申請專利範圍第1項所述之影像感測模組封裝結構，其 中該第一結合面係藉由一接著劑與該第一表面結合。 9. 如申請專利範圍第1項所述之影像感測模組封裝結構，其 中該第一結合面係藉由一紫外光固化接著劑與該第一表面 結合。 10. 如申請專利範圍第1項所述之影像感測模組封裝結構，其 ® 中該透光件藉由一接著劑與該第二結合面結合。 11. 如申請專利範圍第1項所述之影像感測模組封裝結構，其 中該透光件藉由一紫外光固化接著劑與該第二結合面結 合。 12. 如申請專利範圍第1項所述之影像感測模組封裝結構，其 中該透光件係為一光學玻璃。 13. 如申請專利範圍第1項所述之影像感測模組封裝結構，其 _ 中該透光件係為一光學玻璃，且該透光件之其中之一表面 係鑛有一紅外截止濾光層。 14. 如申請專利範圍第1項所述之影像感測模組封裝結構，其 中該透光件係為一光學玻璃，且該透光件之上下表面皆鍍 有一紅外截止濾光層。 15. 如申請專利範圍第1項所述之影像感測模組封裝結構，其 中該透光件之材質係為一樹酯材質或一塑膠材質。 16
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI466278B (zh) * 2010-04-06 2014-12-21 Kingpak Tech Inc 晶圓級影像感測器構裝結構及其製造方法
TWI495097B (zh) * 2012-02-02 2015-08-01 Kingpak Tech Inc 降低光學單元傾斜度之影像感測器製造方法
US9711425B2 (en) 2015-08-20 2017-07-18 Xintec Inc. Sensing module and method for forming the same
TWI595606B (zh) * 2015-11-23 2017-08-11 精材科技股份有限公司 晶片封裝體及其製造方法
TWI624039B (zh) * 2015-05-28 2018-05-11 精材科技股份有限公司 晶片封裝體及其製造方法

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101405872B (zh) * 2006-03-22 2011-04-20 株式会社村田制作所 红外传感器及其制造方法
JP2009272789A (ja) * 2008-05-02 2009-11-19 Olympus Corp 固体撮像装置
JP5418044B2 (ja) * 2009-07-30 2014-02-19 ソニー株式会社 固体撮像装置およびその製造方法
TWI546910B (zh) * 2010-02-26 2016-08-21 精材科技股份有限公司 晶片封裝體及其製造方法
US8674518B2 (en) * 2011-01-03 2014-03-18 Shu-Ming Chang Chip package and method for forming the same
CN102610624A (zh) * 2012-03-13 2012-07-25 苏州晶方半导体股份有限公司 半导体封装方法
CN204760384U (zh) * 2015-05-18 2015-11-11 华天科技（昆山）电子有限公司 高像素影像传感芯片的晶圆级封装结构
TW201644016A (zh) * 2015-06-08 2016-12-16 精材科技股份有限公司 晶片封裝體與其製備方法
CN107039286A (zh) * 2015-10-21 2017-08-11 精材科技股份有限公司 感测装置及其制造方法
CN109698894B (zh) * 2017-10-20 2023-06-30 宁波舜宇光电信息有限公司 基于金属支架的感光组件和摄像模组
CN110650267A (zh) * 2018-06-26 2020-01-03 三赢科技（深圳）有限公司 感光芯片封装模组及其形成方法
CN112420753B (zh) * 2019-08-22 2023-10-13 同欣电子工业股份有限公司 感测器封装结构
KR20210080718A (ko) 2019-12-20 2021-07-01 삼성전자주식회사 반도체 패키지

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4198072B2 (ja) * 2004-01-23 2008-12-17 シャープ株式会社 半導体装置、光学装置用モジュール及び半導体装置の製造方法
TW200709444A (en) 2005-08-19 2007-03-01 Sigurd Microelectronics Corp Package structure of photosensing device
US7297918B1 (en) 2006-08-15 2007-11-20 Sigurd Microelectronics Corp. Image sensor package structure and image sensing module

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI466278B (zh) * 2010-04-06 2014-12-21 Kingpak Tech Inc 晶圓級影像感測器構裝結構及其製造方法
TWI495097B (zh) * 2012-02-02 2015-08-01 Kingpak Tech Inc 降低光學單元傾斜度之影像感測器製造方法
TWI624039B (zh) * 2015-05-28 2018-05-11 精材科技股份有限公司 晶片封裝體及其製造方法
US9711425B2 (en) 2015-08-20 2017-07-18 Xintec Inc. Sensing module and method for forming the same
TWI595618B (zh) * 2015-08-20 2017-08-11 精材科技股份有限公司 感測模組及其製造方法
TWI595606B (zh) * 2015-11-23 2017-08-11 精材科技股份有限公司 晶片封裝體及其製造方法
US9947716B2 (en) 2015-11-23 2018-04-17 Xintec Inc. Chip package and manufacturing method thereof

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