200935094 • » 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明大體上是關於一種光擴散板結構，特別是關於 一種具有雷射内雕圖形以改善其輝度與輝度均勻性之擴散 板（diffusion plate)與導光板（light guide plate, LGP)。 【先前技術】 時至今日，薄膜電晶體液晶顯示器（TFT-LCD，thin film transistor liquid crystal displayer)在電腦、通訊與消費性等 ® 3C電子產業中已經大規模地取代了 一般傳統的陰極射線 管顯示器（CRT, cathode-ray tube)。TFT-LCD顯示器與傳統 的CRT顯示器相較之下，其厚度較薄、重量較輕，且具有 低輻射的優點，故TFT-LCD面板可適用時下熱門的電子產 品’如筆記型電腦、個人行動助理（pda)、手機、數位相 機、平面電視、投影機以及數位相框等具商業潛力的3C 電子產品上。受到LCD低價面板的刺激與電子產品對於外 ❹型輕薄可攜的訴求，TFT-LCD已變成近年來世界上主要的 顯示技術。 LCD面板主要是由彩色滤光片、背光模組（backHght module)、驅動 ic、補償膜（c〇mpensate fiim)、偏光片、玻 璃面板、ITO層與控制電路等所組成。在Lcd面板的製作 中’製造商須先將彩色濾光片與玻璃面板組合並填入液晶 材料。其他的元件，如背光模組、驅動1C及控制電路等， 會在之後與該液晶面板組裝成LCD模組再供給下游之筆 記型電腦或LCD顯示器之製造商作進一步的加工。由於液 5 200935094
I 晶面板本身無法自發光，所以需要發光模組提供光源。故 此，TFT-LCD產業的興盛也促進了其相關之背光模組與元 件的發展。 背光模組是LCD面板中的關鍵零組件之一，其重要性 僅次於彩色濾光片。背光模組主要是由光源、燈罩、反射 片、導光板（light guide plate，LGP)、擴散板（diffuser)、增 亮膜（Brightness Enhancement Film, BEF)及外殼所組成，其 中光學層與導光板的製作是其中最重要的技術與成本的所 ®在。受到LCD面板對於外型輕薄與低耗電訴求之影響，開 發新的背光模組與研究新的元件射出成形方法是現今 LCD產業需努力發展的方向。 背光模組的主要功能為提供一均勻、高亮度的光源（即 所謂的平面光源）。平面光源的基本原理為將一般常用的點 光源或線光源轉換為具有rlj贵度與輝度均勻性（luminance uniformity)的平面光。一般而言，背光模組的光源必須具 ❹有高亮度與壽命時間長的特性。現今背光模組所使用的光 源包含有冷陰極螢光燈管（cold cathode fluorescent lamp， CCFL)、發光二極體（light emitting diode，LED)與電致發光 (electro luminescent, EL)，其中CCFL具有高輝度、高發光 效率、使用壽命長以及高演色性等特點，再加上CCFL的 管狀外型易與光反射元件組合形成面板狀的發光裝置。故 CCFL現在已成為LCD面板中所使用的主要光源之一。一 般來說’ CCFL多用於大尺寸的背光模組之中，至於小尺 寸的背光模組（使用在PDA、數位相機、手機等可攜式產 6 200935094 1 « 品）則多使用LED以提供低耗能且體積小的光源。 背光模組的結構依其燈源位置通常可分成兩種類別： 直下式（direct-light)與側光式（edge-light)，如圖一 a與圖二 a所示。在圖一 a中，複數個光源1〇1以相互分隔的方式 配置在直下式背光模組1 〇〇的擴散板丨丨〇下方。從光源1 〇 i 發出的光會往上經過擴散板11〇並被均勻散射以在LCD面 板105上形成平面光。由於擴散板11〇的下方有足夠的空 ❾間供以光源101配置，故依LCD面板1〇5的尺寸大小，直 下式责光模組可具有兩個或兩個以上的燈管（或多個以陣 列方式排列的LED光源），但此作法亦會增加LCD模組整 體的重量、厚度與耗電量。一反射板1〇4配置在光源1〇1 的下方以將光源1〇丨朝下發射的光線反射至擴散板11〇以 提高平面光的輝度及輝度均勻性。直下式背光模組具有高 輝度、高發光效率以及結構簡單等優點，故可適用於大尺 寸的LCD電視或LCD顯示器方面。儘μ前技術中的直 ❿下式背光模組1〇〇使用了擴散板η〇以改善lcd面板ι〇5 中輝度不均的問題，但其輝度表現依然不佳。如圖一匕所 不’擴散板11〇的内部散佈著為數眾多的擴散粒子1〇7。 Γ為透明塑膠材料(如職S，PC，MS，PS等材質)!〇3與擴 政粒子（如PM M A材質）i 〇 7之間折射率不同的關係，擴散 =子107可被用以將從光源ι〇ι處入射的光往各個方向散 …制擴散粒子1〇7在透明塑膠材料103中各個位置 輝二又^佈相當困難’故限制了擴散板110均化LCD面板 又之能力。如圖—b所示，其為普通直下式背光模組中 7 200935094 * f 輝度沿x軸之分佈圖。圖中輝
軸上是與光源101的位置對齊，而艘 max位置在X 在p〜 輝度的最小值U位置 在X軸上則是與兩光源1〇1的中 癥择傲具，… W ?點位置對齊。面板上最大 =與最小輝度之差值即決定了整個咖面板的輝度均 勾性1最大輝度與最小輝度的差值超過1〇〇_(即W釣 時’LCD面板上會產生肉眼可觀察到的亮暗條紋分佈，即 所謂的—m⑽現象（輝度不均）。為此，業界已開發出 鲁:些方法以解決此問題。請參e，其說明了先前技 術中另-改善直下式背光模組之輝度均勾性的方法。如圖 一 c所示，擴散板H0的上表面與下表面上有許多呈特定 圖形分佈的刻點（dot)109。本例中的刻點1〇9可為以油墨 印刷或其他方式所形成的微結構。如圖一 c中所示，入射 光會受到擴散板110上呈特定圖形分佈的刻點1〇9反射， 以此結構方法，通過擴散板1〇9的光所呈現出來的輝度在 不同位置會有一致的表現。如圖中所示，在與光源ι〇ι對 ❹齊的位置處所形成的刻點1〇9較多以反射比其他χ軸位置 處更多的入射光。因為通過的入射光量會受反射而變少， 故對應此光源位置處的輝度會下降使得整體的輝度表現均 化。儘管在擴散板的上表面或下表面形成呈特定圖形分佈 的微結構之方法在輝度均勻性方面較圖一 b中之方法來的 佳（即圖一 c之方法所產生的LCD面板最大輝度與最小輝 度差值會小於圖一 b之差值），但由於其點圖形只能在擴散 板表面以一維方式分佈，故此作法對於輝度均勻性之改盖 仍有一定的極限。再者’入射光被擴散板1〇7與刻點1〇9 8 200935094 * » 吸收亦代表著能通過擴散板110的入射光量較少，而使得 背光模組整體的輝度下降。故此，業界需要開發一種新穎 的方法以改善擴散板的輝度均勻性。 一現在請參閱圖二a，其說明了先前技術中一侧光式背 光模組結構。側光式背光模組2〇〇的光源2〇1是設置在背 光模組的側邊。由於側光式結構之設計能使LCD面板更薄 更輕且耗電量更低，故常被使用在中小尺寸或者具有薄型 ❹化需求的LCD面板上，如手機、pDA、筆記型電腦的顯示 器，作為其光源。導光板203是側光式背光模組中最重要 的το件之一，深深影響背光模組整體的發光效率與輝度均 勻性。導光板203主要的功能為引導從侧邊發出的入射光 以增加LCD面板的輝度並控制其輝度均勻性。如圖二& 所示，從光源201發出的光可藉由内部全反射的方式（TIR， total internal reflection)傳播至導光板之另侧。導光板2〇3 it常是以不具光吸收性質的高折射率材質所製成。導光板 ❹203的底面上具有諸多微結構2〇5形成用以破壞其内部全 反射機制讓光得以從導光板2〇3的上表面導光。隨之，光 會依序行經下擴散膜⑷ffusi〇n film)2〇7、稜鏡片 sheet)209及上擴散膜211到lCD面板213。藉由控制導光 板203下表面的微結構2〇5之密度與大小，lCd面板213 的輝度均勾性可獲得改善。微結構2〇5通常是以油墨印刷 或直接射出成形的方式形成。而v型刻槽(V-cut)是導光板 製作中一種熱門且有效的微結構之一。如圖二b所示，V 型刻槽技術疋在|光板的底面形成多㈤呈規律排列的溝槽 9 200935094 • t 2、15。因為此結構㈣於直接在導光板上形成棱鏡片 ，故可 省略稜鏡層的成本，此結構亦可使lcd面板的輝度增加 30/〇儘g具v型刻槽結構的導光板有上述之優點，其仍 舊存在著輝度均勻性不佳的問題。如圖所示由Μ =溝七215在導光板2〇3上呈規律排列之緣故，導光板2〇3 罪近光源位（圖中的範圍A以⑴的輝度會因為光干涉現 象而呈栅攔分佈，而範圍A以外區域的輝度均勾性亦不 ❹佳一因此’ v型刻槽結構215會在LCD面板上產生與光源 平行j暗相間的條紋，如圖二b所示，^卩_胃# m㈣效應。除了輝度均勻性的問題外，由於具乂型刻槽的 導光板之製造需要開模的步驟，故其開發亦需要花費多餘 的時間與成本。此外，v型刻槽結構215的轉寫 (transcription)也是另一個要考慮的問題。 【發明内容】 本發明揭露了一種以雷射内雕在擴散板與導光板中形 ©成内部圖形/點之方法以改善LCD面板的輝度均勾性 並解決先前技術中kido mura與curtain mura(輝度不均）等 問題。 雷射内雕是一種在基材上產生細微溝槽或裂縫以形成 文字或圖樣的製程。此技術採用具透光性與高折射係數之 材質（如水晶或PMMA)以形成内部圖形或影像。雷射内雕 無表面殘留的問題故後續不需額外的拋光製程。而且，雷 射内雕技術可以簡單的進行二維或三維的操控。因此。刻 點圖形可以準確的分佈在透光材質中。 200935094 ♦ 本發明-實施例中提出了—種以雷射内雕方式在擴散 板中形成内部散射點之方法。該内部散射點之密度是呈高 斯刀佈’其最小值與配置在擴散板下方的光源間中點對 $ ’而其最大值則與光源位置對齊。本實施例中散射點的 密度分佈可抵銷其相對應位置處不均勻的輝度分佈以改善 LCD面板的輝度均勻性並解決iamp 等問題。除此之 外，在導光板内部形成散射點亦可增加LCD面板整體的輝 度。 本發明另一實施例中提出了一種以雷射内雕在一導光 板内部形成内部散射點之方法，以解決一般具乂型刻槽微 結構之導光板中常出現的kid0 mura問題。其内部散射點 會配置在導光板中kido mura所發生的區域以將經過該處 的入射光散射並消除該區域所呈現出來的亮暗條紋。 本發明另一實施例中提出了一種以雷射内雕方式在一 導光板内部形成内部散射點之方法’以解決一般採用複數 ❹LED點光源之導光板中常出現的curtajn mura問題。其内 4散射圖形會配置在導光板中curtain mura發生的區域以 將集中在與LED光源處對齊位置之光線散射以均化導光 板整體的輝度分佈。 在本發明又一實施例中提出了一種以雷射内雕在導光 板内部形成内部散射點之方法，其中該内部散射點可以排 列在複數個相分隔與（或）平行的圖形平面上。該複數個圖 形平面的點密度與平面之間的間距可依導光板原本的輝度 分佈以進行個別或共同的調變。本實施例中散射點的密度 11 200935094 J f生並解決輝度不均的問題。 内2成散射點亦可增加LCD面板整體輝度。導光 *板内部: = 内雕在-導 在複數個沿導光板分佈的正弦曲線平面:内: = =度與周距(即正弦波之二分之一波== ❹中散射二=分佈以進行個別或共同的調變。本實施例 改1=的二度分佈可緩和其相對應位置處的輝度分佈以 之^在導^的輝度Μ性並解決輝度不均的問題。除此 輝度卜在導先板内部形成散射點亦可增加咖面板整體的 擴散板與導光板 以改善擴散板與 本發明之一觀點為以雷射内雕方法在 中形成内部散射點。 本發明之另一目的為以雷射内雕方法 ❿導光板的輝度均勻性。 本發明中所提之雷射内雕方法可使用在直下式背光模 組或側光式背光模組的製作中。其所述之散射點亦可刻在 擴散板與導光板的上表面與下表面上。 本發明中所述之雷射内雕方法亦可與業界其他擴散技 術（如油墨印刷、擴散粒子及微結構等）配合以進一步改善 LCD面板的輝度均勻性。 本發明刖述之形式、目的、觀點、特徵及優點將隨著 以下較佳實⑯例中詳細的描述及其伴隨之圖式而愈見明 12 200935094 細節描述與圖式僅^述明本發明。*本發 疇將由隨附之專利請求項來定義。 把 【實施方式】 本發明將針對較佳實施例及其觀點加以詳細敘述 此類敘述為解釋本發明之結構及程序，係用 以限制本發明之申請專利範圍。 叩非用 圍目此’除說明書中之較佳 實施^之外，本發明亦可廣泛實行於其他實施例。 ，其說明了本發明實施例中-具有¥型 d槽微4與雷射内雕刻點之導光板截面圖。在圖中，一 導光板203的底面上有V型刻槽微結構215。-光源201 配置在導光板203的侧面。圖二〇中的區域A與圖二4 的區域A相同，其表示了一般v型刻槽導光板中會發生 =d〇 mura的區域。許多刻點214被刻在導光板2们内部的 區域A中以將從光源2〇1處發出的入射光散射。在本發明 的實施例中，經由刻點2 i 4散射的光線會均化區域a中因 © v型刻槽微結構產生的亮暗條紋並解決kidQ丽&問題。 如圖一 C中的曲線C所示’其為本實施例中沿導光板203 的輝度刀佈，可注意到原本圖二b區域A内所產生的柵攔 圖=圖二e的曲線c上已不見’而呈—平緩的曲線分佈。 °月參閱圖二a，其說明了本發明實施例中一擴散板的 貝視圖與其内部刻點（或裂縫）沿χ軸的密度分佈。在圖 中，區塊301代表了一背光模組中常用之擴散板結構。複 數個光源（如CCFL燈管）3〇5沿X軸以相分隔且平行的方 式°又置在擴散板3〇1的下方。在圖三a中，座標軸310描 13 200935094 繪了擴散板3 01中刻點3 〇 3沿χ軸的密度分佈。如座標軸 310所示，擴散板3〇1中刻點3〇3沿χ軸的密度是呈高斯 分佈（Gaussian distribution)。座標轴310中刻點密度311 的最大值位置（Dmax)與最小值位置（Dmin)是視其光源3〇5的 排列與擴散板301中的刻點303數目而定。一般而言，本 發明實施例中的刻點密度311沿χ軸的最大值位置 處是與光源305的位置對齊（與垂直虛線3〇7對齊）， ❾點密度311沿X軸的最小值位置（Dmin)處則是與兩光源 間的中點位置對齊。在本發明中，之所以形成呈高斯分佈 之刻點圖形以及將刻點密度之最大值與最小值對齊某特定 位置是因為擴散板301上表面的輝度並非均勻分佈，而是 呈現如圖一 b所示之輝度曲線分佈。舉例而言，在直下式 背光模組結構中，因為其光源（如光源或LED點 光源）並非真正的平面光源，故在擴散板3〇1上表面所測量 到的輝度亦是呈高斯分佈而非一平緩的線性分佈。如圖一 ©b所描述的，擴散板11〇上在χ軸上的最大輝度值位置是 與配置在其下每個光源1G1的位置對齊，而最小輝度值位 置則是與其下兩光源1〇1間的中點位置對齊。如圖一匕與 圖一 c所示，利用擴散粒子或底部圖形印刷以將入射光散 射之作法僅能使|Lmax - Lmin|的值些微降低。故此，本發明 實施例中使用呈高斯分佈的内部刻點以緩和其輝度起伏。 由於LCD面板光源位置正上方的輝度值是最大值（及圖一 b t的Ι^3Χ)，故在此位置處形成的雷射刻點密度（即圖三玨 中的Dmax)要比χ轴上其他位置來的大，以散射或抑制此 200935094 處過多的光線，使得整體的輝度分佈均化。相反地在兩 光源中點上方的雷射刻點密度須是χ軸位置上之最小值以 讓更多的光線忐穿透擴散板301。該刻點密度3 i丨分佈配 合原本擴散板301沿χ軸所對應之輝度表現可獲得一較佳 的輝度均勻性。須注意在圖三a中，每個配置在擴散板 下方的CCFL燈管之間的距離a並不—^要相同，且ccfl 燈管彼此之間亦不一定平行。擴散板3〇1中刻點3〇3的分 ❹佈實質上是由其中光源設置之位置而定。 須庄思者’圖二a的實施例係供以說明之用。此實施 例中CCFL燈官的設置僅為本發明中—種光源排列方式。 就直下式背光模組而言，請參閱圖三b，其說明了 一平面 上的光源排列。多個LED光源以陣列方式排列在一平面 上，每個LED都可作為擴散板上獨立的點光源，而所有χ 方向與Y方向上的LED光源在擴散板刻點密度分佈的計 算當中都須加以考慮。總而言之，不論採用何種光源，抑 ❹或其點光源是呈何種形式排列，直下式背光模組結構中刻 點圖形的密度是以光源為中心作高斯曲線分佈。 現在請參照圖四’其分別說明了本發明實施例中一導 光板的頂視圖與其刻點沿χ軸與γ軸的密度分佈。在圖 中，區塊421代表了侧光式背光模組中常用的一導光板結 構（頂視圖）。在圖中’複數個光源（如LEd光源）425沿X 轴以相互分隔的方式配置在導光板421的側面。如圖四所 不，導光板421中有多個刻點423呈特定圖形排列。每個 刻點423都作為一用來破壞導光板421中内部全反射（TIR) 15 200935094 的微結構以讓光線能反射出導光板421。在此實施例中， 導光板421中與光源425對齊的位置處所分佈的刻點423 最少，而與兩光源425中點對齊處（與垂直虛線429對齊） 所分佈的刻點423則最多。這是因為靠近或對齊光源425 位置處的輝度較其他位置來的高，會在LCD面板上產生一 條條平行的亮紋，即所謂的curtain mura效應，如圖四下
方所示。故此’較少的刻點423被形成在此導光板位置以 ❹獲得平緩的X軸輝度分佈。圖形427描繪了導光板421中 刻點沿X軸分佈之戴面圖。同樣地，圖形427中與光源對 齊之位置處所分佈的刻點423最少。座標軸420說明了導 光板421中刻點423沿Y軸的密度分佈。如圖四所示，導 光板421中大部分的刻點423是分佈在γ軸上的區域B ^。圖四中的區域B代表著採用複數LED光源的導光板 結構中會發生cumin削以現象的區域。本發明實施例中 的刻點分佈可提高LED光源間位置的輝度〖Hurtain ❹聰a效應並改善其輝度均勻性。須注意圖四中每個光源 ;距離不一定要相同，且導光板421與每個光源間 明實施例中，導光板421内部的 刀佈疋視其光源425的配置位置而定。 配置中所示，側光式背光模組的光源201是 在導光板邊。本發明揭露了-種以雷射内雕 形（如料t 部散射圖形之新穎方法。内部散射圖 一 x點或微裂縫之群隼;)可將經門Μ Λ U 至各個方向。現在其1的八射光散射 在吻參閱圖五a，其說明了本發明實施例 16 200935094
I 中使用於側光式背光模組的導光板中的一種雷射内雕圖形 與其相關的刻點密度分佈。在圖中，一光源5〇1配置在j 導光板503的側邊，該導光板内部有複數個斜面5〇2。導 光板503中每個斜面（L1，L2, L3)502都是與頁面垂直的圖 形平面504之截面。實施例中的斜線表示了呈3D刻點分 佈的截面圖形。如圖五a中所示，圖形平面5〇4上散佈^ 許多刻點508。其沿X軸上不同位置處的圖形密度被標示 ❹為LI、L2與L3(以二維截面的觀點來說即為線密度）。另 外圖中亦定義了每個具有不同刻點密度的圖形平面間的間 2 A1，A2, A3以供後續描述之用。本發明實施財的圖形 畨度L1，L2，L3與間距A1，A2，A3可在雷射内雕過程中調 變以使導光板503中所產生的圖形密度沿χ轴呈一梯产分 佈（如圖中的曲線〇。纟L1位置處的圖形平面5〇4密度必 須比其他位置處⑹與⑼來的低以抑制過高的輝度。同樣 地，此位置處的間距A1必須大於其他位置處（A2與幻） ©的間距，因為較寬的間距即代表與圖中γ_ζ平面相交的圖 2平面504較少’故此位置處刻點5(^目的總和亦較少。 虽導光板5〇3中内部刻點駕的密度呈現如圖五a中曲線 ^刀佈時，其所產生的輝度分佈就像本圖中的曲線卜明 在導光板5〇3内部形成刻點密度圖形分佈可大幅增 的IS源較遠位置處的輝度’亦可改善導光板503整體 盥Ή性。須注意本實施例中所引用斜面LI, L2, L3 - 内4實質存在著複數個斜面與間距，而導光板503内 200935094 的每個斜面5〇2亦不一定要相同。圖形平面504密度斑間 距之概念係為了說明-種以調變參數 的線密度）與A1,A2, A3(每個圖η二 （等九板中 式以在導光板⑽中形成Χ軸==丨5G4間的間距）的方 取入釉方向的刻點密度梯度分佈之 方法。本發明實施例中間距與圖形平面5〇4的數目並未受 到限制。反而，它們可以在導光板503中的X軸方向上呈 現連續或是不連續的分佈。再者，本實施例中每個斜面的 〇 = Μ θ與刻點密度（Dl，D2)亦可調變以在導光板5〇3 —传理想的刻點密度分佈。各圖形平面5()4上的刻點不 y定要呈規律分佈。事實上，刻點通在圖形平面5〇4上 以隨機的方式配置可獲得比規律分佈更佳的輝度表現。除 此之外，控制刻點508的大小亦能影響整體的輝度表現。 概括而言，在本發明實施例中，要在LCD面板上達到理想 的輝度分佈（即如曲’線c 一般的刻點密度分佈），一些參數， 如線密度L1，L2，L3、斜面的傾斜角度θ、平面間距Ai，A2, © A3、刻點密度D1，D2及刻點大小’都可被調變以獲得所 需的刻點分佈。 另一方面，本發明實施例中的雷射内雕方法可與其他 傳統的擴散技術，如油墨印刷、擴散粒子、微結構等先前 技術配合使用以得到更佳的輝度均勻性。再者，刻點圖形 亦可以雷射内雕方法形成在導光板或擴散板的上表面與下 表面上以進一步提升導光板503的輝度均勻性。本發明中 的雷射内雕方法可用於透明或半透明的材質，其擴散板之 材質包括聚碳酸酯（PC，Polycarbonate)、聚甲基丙婦酸甲酯 18 200935094 (PMMA，p〇iymethylmethacrylate)、曱基苯乙烯（ms， methyl- styrene)及玻璃等。 在本發明一實施例中提出了另一種用於侧光式背光模 組的導光板結構中的刻點圖形密度分佈。現在請參閱圖五 b ’在圖中’ 一光源5〇5配置在一導光板5〇7的侧邊，該導 光板507内部具有複數個正弦曲線。導光板507中的每一 正弦曲線平面（Cl, C2，C3)都是與頁面垂直的刻點圖形平 ❹面506之截面。本實施例中的正弦曲線平面表示了刻點5〇8 二維分佈之截面圖形。如圖五b所示，圖形平面5〇6中有 許多刻點散佈著。正弦曲線沿χ軸的密度被標示為C1, C2 與C3(以二維截面圖的觀點來看即為曲線密度）。另一方 面，X軸上波峰與波谷之間的距離則被標示為B1，B2與 B3(即周距）以供後續描述之用。與圖五a之實施例類似， 為了要緩和側光式背光模組中輝度不均的問題，其内部之 刻點密度必須要呈一梯度分佈。導光板5〇7中沿χ軸的刻 ❹點數目必須隨著與光源5〇5距離之增加而逐漸增加，就如 同圖五b中曲線c之刻點密度分佈。要達到此目的，本發 明實施例中的曲線密度C1C2，C3與周距b1B2 b3可於 雷射内雕的過程中被調變以形成一圖形密度沿χ轴的梯度 分佈。同樣地’此位置處之周距Β1必須大於其他位置的 周距（Β2與Β3)，這是因為較寬之周距代表著χ轴上每單 位長度下所分佈的正弦曲線長數量愈少，也因此，分佈在 此區域的刻點亦愈少。舉例而言，假設圖五b中的B1 = 2*B2 = 4*B3，那麼在同樣的m長度下，第一正弦波〇 200935094 會有一半波長落在此長度内，而第二正弦波與第三正弦波 則分別有一個波長與兩個波長落在此長度内。正弦曲線的 數量較少亦表示配置在此位置上的刻點較少。故此，藉由 調變X軸上周距m，B2, B3 &大小可控制擴散板5〇^刻 點密度之分佈。當導光板507内部的刻點密度呈如圖五c 中曲線C之分佈時，其所產生之輝度就會像是圖中的曲線 b分佈1顯地’在導光板5G7内部形成刻點密度圖形分 ❹佈可大幅增加距離光源505較遠位置處的輝度，亦可改善 導光板507整體的輝度均勻性。須注意本實施例中所引; 的正弦曲線C1，C2, C3與周距B1，B2, B3係作為描述之 用，其並非表示導光板507内部實質存在著複數個正弦虛 線與周距。正弦曲線密度與周距之概念係為了說明一種以 調變參數C1，C2, C3(曲線平面上的刻點密度）與B1 B2 B3(每-正弦曲線之周距）的方式以在導光板撕中形成χ ^方向的刻點密度梯度分佈之方法。本發明實施例中周距 ❿與曲線平面之數目並未受到限制。反而，它們可以 ^们中的X軸方向上呈現連續或是不連續的分佈。再 者，本實施例中每個圖形平面5〇6的刻點密度⑼，叫亦 可調變以在導光板507中獲得理 形平面-上的刻…一定要呈==圓 刻點5〇8 ^圖形平面506上以隨機的方式配置可獲得比規 =佈=的輝度表現。除此之外，控制刻點·的大小 要It⑶整面體板的上輝金度表現。概括而言，在本發明實施例中， 在 面板上達到理想的輝度分佈（即如曲線e -般的 20 200935094 刻點密度分佈），一些參數，如曲線密度C1，c2，c3、周距 1 ’ B2, B3、刻點岔度D丨，及刻點大小，都可被調變以 獲得所需的刻點分佈。 另方面’本發明實施例中的雷射内雕方法可與其他 傳統的擴散技術，如油墨印刷、擴散粒子、微結構等先前 技術配合使用以得到更佳的輝度均勻性。再者，刻點圖形 亦了以雷射内雕方法形成在導光板或擴散板的上表面與下 ❹表面上以進一步提升導光板507的輝度均勻性。本發明中 的雷射内雕方法可用於透明或半透明的材質，其擴散板之 材質包括聚碳酸g旨（PC，P〇lycarb〇nate)、聚甲基丙婦酸甲醋 (PMMA, polymethylmethacrylate) ^ f 1. ^ 6 ^ (MS, methyl- styrene)及玻璃等。 上述敘述係為本發明之較佳實施例。此領域之技藝者 應得以領會其係用以說明本發明而非用以限定本發明所主 張之專利權利範圍。其專利保護範圍當視後附之申請專利 ❹範圍及其等同領域而定。凡熟悉此領域之技藝者，在不脫 離本專利精神或範圍内，所作之更動或潤飾，均屬於本發 明所揭示精神下所完成之等效改變或設計，且應包含在下 述之申請專利範圍内。 【圖式簡單說明】 本發明可藉由說明書中若干較佳實施例及詳細敘述以 及後附圖式得以瞭解。然而，此領域之技藝者應得以領會 所有本發明之較佳實施例係用以說明而非用以限制本發明 之申請專利範圍，其中： 21 200935094 圖一 a說明了先前技術中傳統的直下式背光模組結構 之截面圖； 圖一 b說明了先前技術中一直下式背光模組之擴散板 結構與其相關之輝度分佈； 圖一 c說明了先前技術中另一直下式背光模組之擴散 板結構與其相關之輝度分佈； 圖一 a說明了先前技術中一般的側光式背光模組結構 之截面圖； ❹ 圖二 b說明了先前技術的侧光式背光模組中一具有v 型刻槽微結構之導光板截面圖與其相關之輝度分佈； 圖二c說明了本發明實施例的側光式背光模組中一具 之微結構與内部散射點之導光板截面圖與其相關 I輝度分佈； 有内㈣了本發明實施例的直下式背光模組中一具 有内《射點之擴散板結構圖與其相關之輝度分
®光源圖三b說明了本發明實施例中以陣列形^配置的LED 實施例的側光式背光模組中-具有 LED先源之導光板結構圖與其相關之輝度 、有 有平：二SI本發明實施例的側光式背光模組中-且 結構與其相關之輝度分佈；' 圖五b說月了本發明實施例的側光一 有正弦曲線分佈之導光板結構與其 ^且中一具 【主要元件符號說明】 冑之輝度为佈。 22 200935094 100 直下式背光模組 305 光源 101 光源 307 虛線 103 透明塑膠材料 310 座標轴 104 反射板 311 刻點密度 105 LCD面板 420 座標軸 107 擴散粒子 421 導光板 109 刻點 423 刻點 200 側光式背光模組 425 光源 ❿201 光源 427 圖形 203 導光板 428 虛線 205 微結構 429 虛線 207 下擴散膜 501 光源 209 稜鏡片 502 斜面 211 上擴散膜 503 導光板 213 LCD面板 504 圖形平面 φ 214 刻點 505 光源 215 V型刻槽 506 圖形平面 301 區塊 507 導光板 303 刻點 508 刻點 23