TW200926338A - End effector with sensing capabilities - Google Patents
End effector with sensing capabilities Download PDFInfo
- Publication number
- TW200926338A TW200926338A TW097138151A TW97138151A TW200926338A TW 200926338 A TW200926338 A TW 200926338A TW 097138151 A TW097138151 A TW 097138151A TW 97138151 A TW97138151 A TW 97138151A TW 200926338 A TW200926338 A TW 200926338A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- support
- arm
- substrate
- sensor
- end effector
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68707—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade, or gripped by a gripper for conveyance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Robotics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
200926338 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 ^ 執行^發明係關於—末端執行11,尤有關於具有感測能力之末端 ❹ 〇 【先前技術】 ^了良率與潔淨度目的’半導體構件的製造係依賴於自動 之間二出?圓ΐ送ΐifr〇nt〇peningunifledpod)和處理工具 ’係以基板損壞或_基板之末端執行器損壞之形式 Ξ之ίίΐ ϊ-當,系統無法決定被轉移基板與提供轉移機 _ Μ而執仃态的相關位置。因此,沒有機制決定是否誃 灯益具有合適間隙,以從载體或晶圓傳 = 壞^如,介於末端執^ ,銘叙、隹田對準夺,如末端執行器係“高速率和高加速 :間隙典型地為非常大。用於末端執行器 對於一個邊緣續末端誤差空間。 容差。另外,當_基板被破 度、以及其他機械 基板。 職庋展初貝害可被轉移至載體中所有的 的^此需要進仃改善以偵測任何可能的不當對準和預防基板 【發明内容】 之結構,以滿足備内提供用於-運送系統 包含像是-種方法二U瞭=能以許多方式實行本發明, 造實施例將於下面描述。、’或疋一種設備 數個本發明之創 在-實施例中,設置—末端執4 行器,其具有從一末端執行 器 200926338 區域的支承延伸部,其中該;1以J有周圍 二=太=越;;,支承延伸部,座 第二手臂的末梢端。在一實施例中,該“ -容器之支承手臂是否在末端執行_’用於 器可整合在用於運送基板的-系統内。、 望中。該末端執行 從以下的詳細描述、與伴隨圖示的 , 發明原理,本發明的其他觀點與優點將變得明^。歹,s ❹ 【實施方式】 半導和包含在半導體製造操作中用於處理 藝者,在^有__於熟悉本技 描述熟知的要地使本發明難以理解,則不詳細 描述的實施例設置具有_能力的—末 中支ίΓ,相對於基板的位置。在二實施例 ❹ :b將细;====支 壁以内日設於該容_基板顯以外與該容器 基板ί末端執ί:: ί I由末端執行器擷取雜板,支撐該 的存在 的支承缝也可包含_器,用讀測基板 圖1Α係細本發明之—實補,_介於末端執行器與支承 200926338 Ο ❹ 座之間關係之一簡化概要圖。末端執行器1〇〇包含具有突出 承夾子102a和l〇2b之一雙手臂。感測器1〇如與1〇牝也如 ^明的’包含或整合於末端執行器1〇〇内。支承晶圓座廳 曰圓108。在一實施例中,晶圓座1〇6包含隙槽凹口 11〇3與 ^以容納末端執行器100的垂直移動,以及更具體地,容納 夹=102a和l〇2b的垂直移動。隙槽凹口 11〇&與u〇b使該末 态支承夾子l〇2a和102b能夠通過該支承晶圓座,如此一 端執行器可落下以將晶圓轉移至支承晶圓座觸的頂部。 施例中’隙槽凹口舰與隱一直延伸至晶圓座1〇6的 一 #表面,以使末端執行器1〇〇可接近和離開晶圓108。 在另一實施例中,該晶圓座可具有定義環繞於周圍的狹縫和 ,—旦晶圓垂直落下放置於晶圓座娜上後,使該末端 旎夠被水平地收回。當然,在此實施例中,該周圍狹縫也 端執行器能夠獲得晶圓。應該瞭解到支承晶圓座106可被 在半導體製造、平面面板顯示器製造、或其他合適製程中所 ^用的任何合適的處理機器或量測設備。在一實施例中,為了運 引導晶圓108嵌進容器内,感測器104&與104b可位於 k行器夾子前方的延伸部上,將會於下面描述的更詳細。' 1B依照本發明的一實施例,說明與晶圓座一起操作之末端 的另—種實施例。特別地,該晶酿包含兩對隙槽通 曰a與+11%。校準每一隙槽通道,如此該末端執行器100可使 =⑽落於晶圓座1〇6上’並且晶圓座1〇6與末端執行器之間 可;,觸 旦§亥晶圓108置於晶圓座106上,末端執行器手臂 曰圓座1〇6往方向32橫向移開,而之後從晶圓座106往方向 。在一實施例中,晶圓座106也包含凹口 65以容納支柱 检夾子24。熟悉本技藝者將瞭解到晶圓座1〇6可包含 圖槽凹口,用以容納末端執行H的支承延伸部。另外,在晶 延= 包含定義於環繞晶圓座周圍之狹缝的情況下,每一支承 支承t忐Ϊ相同的平面裡,如此一來單一狹縫提供通道予全部的 200926338 端勃本發明之一實施例,說明具有預先感測能力之末 部^^行器綱在其支撐晶圓108的頂 、承丰If伸°P 末端執行器100也包含延伸越過支 .測L叮\的田一延伸部手臂,其中該延伸部包含感測器104。感 導一晶圓進入一容器内,如關於美國專利? 工3=8^36^所描述的容器,其為所有目的併人本文中。
Hi”,感測器1〇4可被定位於沿著與晶®應_的移 相實,定位感測器1〇4以便跟隨末端執行 ΐίίί日 下面所討論的,感測器104依據所應用可 ❹ 被疋位於日日圓1〇8之移動平面的上方或下方。如 ,是於一容器中,晶圓108相對於ϋ手臂二 裝感測器觸發-緊急停止。=以= 和晶圓/容器的相關定位,以便不要引起任何損宝或 置資料,以中裝的掃描而記錄該位 以々棘β回熟悉本技藝者將瞭解到,具有用 的2ΐΐ料末端執行器的位置之軟體 感』瞭解======= ,感测器104類取影像資料處,為了提供的/像 =置在過與一感測器通訊 ,責科在另-實施例中,可能包含定位於末 夕數感測1§。例如,於末端執行器100之 ^ π 二亥ΐ 器陣列可被利用以勘測容器内-晶圓的傾ί或: :及Γΐ 5ίϊ,其他空間特徵包含2軸位置、γ軸G、 一個封閉容器内。例如,於該開放結射,將^晶圓支座固定ί 200926338 從-暴部支柱延伸出的-金屬支柱。另外,該開放結構可被利用 作為-運送容器’其中該開放結構也被放置於一運 • 一封閉體設置於開放結構周圍。 ° ^ 的车位置(位置a和位置b)說明末端執行器_ t在Γ實财’在末端執行11將晶®從該容ϋ移除的情 況下’感測器104可被用於檢測是否正確地定位末端執行 以便不要與μ支承手臂150碰撞。例如,透過一截斷光束作讀妝 beam)感測器,如果不正確地定位末端執行器1〇〇,則來自 104,束會被支承手臂15〇_。固定於末端執行器相^ ❹ 應手#喊測||接收該光束或得知該光束的缺漏。如上 、 的,-計算裝置接收來自制H的訊號,而能終 行器100的移動以避免碰撞。 入n P本細執 圊3為依照本發明之一實施例的簡化概要圖,說明在末 行器上的-滑動體延伸部’其中一感測器裝設在固定於滑動體 延伸部上。在-實施例中,滑動體2〇〇 ^受讓人之spartan ΓΓ?=ΙΝΕ的滑動體。在此實施例中,為了提供關於晶圓的 位,和角度方位的詳細資訊,可使用感測器或影像擷取裝置1〇4, ί Ϊίΐίΐί,部分或區域。在另一實施例中’該影像操取 a置可娜S曰圓204表面上的記號。例如,當晶圓一 2〇2經過 ❹ 端執行器移動時’感測裝置可對於下一個被移動的晶圓二綱 2資料。當然’該影像擷取裝置可娜在晶圓—或晶圓二上 #',並且此榻取的資料可被使用以收集資訊,如在美國專二 ΐί,,196號中所解釋的,此處其就全部目的而言併入參二 ^本^藝者將瞭透過影賴取裝置或翻韻取的 可被一處理工具所利用,而隨後晶圓將被傳送至該處理工具。° 圖4為依照本發明之一實施例的簡化概要圖,說明用ς移動 基板,具有影像感測能力之一末端執行器之側立面圖 麵支撐於一容器之晶圓支座上。末端執行器^曰〇包 3疋位的感測器1G4’以檢測該容器之支承結構特徵。末端執行 可包含另外的感測器,其可被使用於勘測在容器内或處理晶^ 200926338 ^ 士晶圓的位置’或者甚至可檢測晶圓的存在 在"他資訊中,這些另外的感測器也可提 4c。 '估計晶圓支撐位置的視線。如圖ft圓平面或用於 面。C-C和E_E為感測平面,而D_ =期間日日圓的平 =°末端執行器和晶圓支座的接觸點时的 Ϊ;=分別地用以支撐該晶圓。在-實 G和Η整合至相對應的末端執行器或晶圓支 =觸點 了使晶圓接觸位置一致,接觸點g*h可在—羞 ,為 ❹ 接觸該晶圓表面。 在疋義的周圍區域内 P if實施例中,對於圖4之接觸點G和Η,槿心Μ * ί =擦,合成橡膠材料。為了適用於4 具 他熱相容的合適材料構成,則將; 木曰日圓。在另—實施例中,感測器(例如感 或污 接觸點内以感測晶圓的取得,而取代真可整δ進入 測器顺e能包含感測電導率、電容、重控。=’感 示晶圓被放於接觸點上的適當變數, 真工度或一些其他顯 ο 晶圓的移動。在一實施例中,咸、、制t來末&執仃器可控制 號的計算裝置通訊。該計算襄i處理接收訊 透過is工具,判斷末端執行器是否取Sr的訊號,以 述該容器與該末端執行器的設計。在將會更詳細地敘 伸進入此間隙ΐ;^請之手臂延 夾也可二 n 4之_晶圓外部周圍。沿著與末 200926338 端執行器相對應支承夾子連 =容器外殼,係設置以下結ί 的中心區域移 ' ,、—末端執行㈣絲夾^、_ =支承手#、—基板外部 , 在了實施例中’感測器UH替合於末二:上及之後的容器壁4。 2係自末端執行器支承體延伸中’支承手 ^行器手臂和末端執行器手臂運動平 ο 器'的圖^有滾動控制之一末端執行 旋轉手臂300透過已—可旋轉手臂支撐。可 感測器之-,指出需要^ a 。如此,如果此處描述的 感測狀況時,支撐一 F〇up ^ I 在回應而要調節滾動之 ο ,二有 ㈣圖本發明之一實施例’具有可縮回支承延伸部之末 蒋5仃=一簡化概要圖。末端執行器、100包含垂直轉移的能力(z =於圖5所討論控制滾動的能力,以及如圖示為 (也執彳ί_包含可縮回支承延伸部聲和侧 為支支承延伸部、或支核子)。在—實施例中, 行号:相對S :2a和402b織軸枢轉動地固定於末端執 =100相對應手臂的下面。在一示範實施例中,軸器· 或=ΐ ΐ輪Γ·動刻度盤4G4a和4G4b,以圍繞—軸分別地轉i 或疑轉支承延伸部402a和402b。當如6所說明在一縮回的位置 200926338 二4G2b將輕晶圓平面。應該注意到替 被設置於縮回支承延伸部術和402b,並丄, -能提供該已知的機械工具, '=回支承延伸部使末端執行器ίο:二動= 所r:積最小化。應二= ❹ 為具有料構件之_整舰塊。; ί端執行器切㈣立構件賴倾塊觸立齡 應瞭解到此處描述之示範實施例並不關以 =種=器變=ί:=—ΐ= :與?=來:ΐ ’該容器與系統也可“以二 =23 板:或被用來在半導體製造設備中與其他配備連結 很夕上述的發明觀念’將同樣地可應用於非半導體到 Ζ與半導f相關的製造應用。本發明觀念的示範應 ❹ 電池製造與相關的製造技術中,例如:單“,多ΐ石:於ί 臈,以及有機製程等。 7多日日矽,溥 本二ίΐ=ίί=部分的任何操作係有用的機械操作。 ,以依照此她爾地, 盗’或者^方便地建構—個更專業化的設備 、 雖然為了理解清楚的目的,已、纟纽—些細軒^作。 ,,但顯而易見的,某種程度的修改與變化係可在申^ J圍的範_實行。因此,本實施例應被視為舉 者,並且本發明並不被此處給予之細節所限制,而是可在^附^ 200926338 與範圍内修改。在此申請專利範圍内,除非 .作的任3:|内明確地指示,否則元件和/或步驛並未暗示操 【圖式簡單說明】 明原ΐ以ΐΐ詳細贿、並結合伴麵示,14由實關說明本發 原理本發明的觀點將變得明顯: 圖1Α為依照本發明之一實施例,說明—末 圓座之間關係的-簡化概要圖; 執心#支承曰曰 〇離的為 實實施例,說明與晶圓座一起操作之末 端執_具有m感測能力之末 圖3為依照本發明之一實施例的簡化概要圖 :滑動體延伸部,其中一感測器褒設在固 圖4為依照本發明之一實施例的簡化概要圖,說明用於移動 —基板,具有影像感測能力之一末端執行器之側立面圖; 〇〇圖5為依照本發明之一實施例,具有滾動控制之一末端執行 Q 器的一簡化概要圖; 圖6為依照本發明之一實施例,具有可縮回支承延伸部之末 端執行器的一簡化概要圖。 【主要元件符號說明】 100末端執行器 102a > l〇2b 支承夾子 104、104a、104b、104c 感測器 106支承晶圓座 108、108a、108b 晶圓 110a、110b 隙槽凹口 200926338 32、34方向 22支柱 65凹口 24支柱夾子 ' 112a 支承延伸部 150支承手臂 200滑動體 202晶圓一 204 晶圓二 4容器壁 ^ 300可旋轉手臂 402a、402b 可縮回支承延伸部 4〇4a、404b 刻度盤 R、R1、R2、Z 方向 G、H接觸點 平面 A_A、B-B、C-C、D-D、E-E、F_
12
Claims (1)
- 200926338 七、τ靖專利範圍: 1. 一種末端執行器,包含: 從一末端執行器支承體延伸出的一 ^ 執行器支承體延伸出的-第二手臂、,從該末蠕 ^ —個都具有用於讀-基板之-周Itlii 和該第二手臂每 中該第二手臂和該第一手臂包含對J支承延伸部,其 越過該對應支承延伸部,座落於該 2. 如申請專利範圍第i項之末端 ' 梢端。 將該第一和第二手臂固定於末端執 一疑轉機構 〇 端執行器支承體之一平面方位。°支承體,俾此夠調節該末 隨軸樞轉動末端執行器,其中該支承延伸部能 以二=^^^器,其中該感測器係定位 3申山請專利範圍第1項之末端執行器,進-步包含: 從末知執行器支承體延伸出的—第三 體可滑動地延㈣,其“第:手= 〇 丰劈6卜=请,專利範圍第5項之末端執行器’*中在該第-和第二 線—感測線係正交於該第三手臂上的感測器之; 承J二:c,ji二圍第1項之末端執行器,其中該末端執行器支 承體糸了=疋轉以_該感測器檢測到的該基板的任何偏度。支 入用inti利範m 1項之末端執行器,其中該支承延伸部包 撲ί基板巧―底面之支承襯塾,該支承襯墊具有嵌進其 、士承襯塾感測器,該支承襯塾感測器係用 、^ 量、電容、或真空度之一。 子午董 9.一種用於運送一基板的系統,包含: 14士ΐίΐ容器’具有裝設於一外罩總成内之一支承結構,該支 承、、,口構具有被個延伸進域外罩總成内部區域之支承延伸部, 13 200926338 ~ 端執行器’適於在支撑該基板容器内所存放的-基板的 •=千ΐ面對組以外支撐該基板的-周圍區域;該末端執行器且 ΐΐίΐ執1器支承體延伸出的一第一手臂、以及從該末“ it, 臂包含整合於其上之感測器;以及 之訊號4 通訊之計轉置,該計算裝置接收來自該感測器 ❹ 料利^圍第9項之用於運送一基板的系統,其中連 二手臂之一平面的傾斜量’係由該計算裝置基於 ,第9項之用於運送一基板的系統,其中將 地:申請專利範圍第11項之用於運ΐ一基二統,進-步 固找手臂聯結之驅動機構,該驅動機構_ 驅動該軸樞 ❹ 該支祕統,其中將 ^^==^-祕統,其中該 的支承襯墊,該支承錄具有包含=驗支_基板一底面 支承襯塾感測器與該計算裝置通訊:、之支承襯塾感測器’該 支承襯墊感^ 一基板的系統,其中該 16.如申請專利範圍第14項 =。 支承襯塾感測器係用以感測電導^ j送一基板的系統’其中該 17·如申請專咖㈣度^ 14 200926338 舰贿應的支承延伸部,聽於鄕—和 —個以=端,如此—來感測器係於複數個容器支承延伸ί的每- '末=彳於奴-練的祕,其中該 19·如申請專利範圍第9項之用於 =:Γ檢測該支承延伸部是否在該第二手= 20.如申請專利範圍第9項之用於運 ο ΐ+^£4:^ ^ 從一末端執行器支承體延伸出的— 端執行器支承體延伸出的第二手臂’ =一從該末 -個都具有用於支撐—基板手#和韻二手臂每 其中該第二手臂和該第一手臂包支承延伸部, 器座落於相對應的支承延伸部之前第其=測$ ’該感測 末端。 j弟—和忒第二手臂的鄰近 22. 如申請專利範圍第21項之末 ❹ 二手臂透過—旋轉機構固餅該末端執行將fir和第 端執行器支承體之一平面方位。 丁器支承體,俾凋郎該末 23. 如申請專利範圍第22項之末 部能軸樞轉動地固定於相對應之手臂。丁益’,、中將該支承延伸 24. 如申請專利範圍第21項之末 以檢測不同於該基板之移動平面的一平,其中疋位該感測器 25. 如申請專利範圍第21 用以執行器支承體延伸出的第ΐ臂進^地 末梢端包含一感測器。 甲而出,其中該第三手臂的一 26. 如申請專利範圍第25項 二手臂上上的感·之__線,第 15 200926338 之一感測線正交。 27.如申請專利範圍第21項之末端執行器,其中該支承延伸部 、包含用於支撐該基板之一底面的支承襯墊,該支承襯墊具有嵌進 其中的支承襯墊感測器,該支承襯墊感測器係用以感測電導率、 •重量、電容、或真空度之一。 八、圖式·16
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US97735707P | 2007-10-03 | 2007-10-03 | |
US12/244,693 US20090092470A1 (en) | 2007-10-03 | 2008-10-02 | End effector with sensing capabilities |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200926338A true TW200926338A (en) | 2009-06-16 |
Family
ID=40523378
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW097138151A TW200926338A (en) | 2007-10-03 | 2008-10-03 | End effector with sensing capabilities |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090092470A1 (zh) |
TW (1) | TW200926338A (zh) |
WO (1) | WO2009046380A2 (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108155143A (zh) * | 2016-12-06 | 2018-06-12 | 捷普有限公司 | 用于提供末端执行器的装置、系统和方法 |
TWI674420B (zh) * | 2017-10-30 | 2019-10-11 | 台灣積體電路製造股份有限公司 | 偵測晶圓損害之裝置與系統 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110610894B (zh) * | 2012-11-27 | 2023-08-04 | 盛美半导体设备(上海)股份有限公司 | 使用基板支撑装置清洗基板背面的方法 |
KR102063322B1 (ko) * | 2016-05-27 | 2020-01-08 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
US11121019B2 (en) * | 2018-06-19 | 2021-09-14 | Kla Corporation | Slotted electrostatic chuck |
EP4104207A4 (en) * | 2020-02-12 | 2024-03-20 | Jabil Inc. | DEVICE, SYSTEM AND METHOD FOR PRODUCING A DISTANCE SENSOR FOR MANUFACTURING SUBSTRATES |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3915038A1 (de) * | 1989-05-08 | 1990-11-22 | Balzers Hochvakuum | Halte- und transportvorrichtung fuer eine scheibe |
US5700046A (en) * | 1995-09-13 | 1997-12-23 | Silicon Valley Group, Inc. | Wafer gripper |
US5988971A (en) * | 1997-07-09 | 1999-11-23 | Ade Optical Systems Corporation | Wafer transfer robot |
JPH11165864A (ja) * | 1997-12-03 | 1999-06-22 | Nikon Corp | 基板搬送装置及び基板処理装置 |
US6113165A (en) * | 1998-10-02 | 2000-09-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Self-sensing wafer holder and method of using |
CN1238882C (zh) * | 1998-12-02 | 2006-01-25 | 纽波特公司 | 试片夹持机械手末端执行器 |
JP2001225292A (ja) * | 2000-02-15 | 2001-08-21 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ワークグリップ機構 |
DE10121115A1 (de) * | 2001-04-28 | 2002-10-31 | Leica Microsystems | Haltevorrichtung für Wafer |
US6964276B2 (en) * | 2002-09-03 | 2005-11-15 | Nova Measuring Instruments Ltd. | Wafer monitoring system |
US6752585B2 (en) * | 2001-06-13 | 2004-06-22 | Applied Materials Inc | Method and apparatus for transferring a semiconductor substrate |
JP4276440B2 (ja) * | 2003-01-06 | 2009-06-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板検出方法及び装置並びに基板処理装置 |
KR20050045339A (ko) * | 2003-11-11 | 2005-05-17 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 이송장치 |
KR20060124440A (ko) * | 2005-05-31 | 2006-12-05 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 이송 장치 |
JP4439464B2 (ja) * | 2005-12-06 | 2010-03-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送方法及び基板搬送装置 |
KR20070059722A (ko) * | 2005-12-07 | 2007-06-12 | 세메스 주식회사 | 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 반도체 소자 제조용 장비 |
-
2008
- 2008-10-02 US US12/244,693 patent/US20090092470A1/en not_active Abandoned
- 2008-10-03 WO PCT/US2008/078856 patent/WO2009046380A2/en active Application Filing
- 2008-10-03 TW TW097138151A patent/TW200926338A/zh unknown
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108155143A (zh) * | 2016-12-06 | 2018-06-12 | 捷普有限公司 | 用于提供末端执行器的装置、系统和方法 |
CN108155143B (zh) * | 2016-12-06 | 2023-08-01 | 捷普有限公司 | 用于提供末端执行器的装置、系统和方法 |
TWI674420B (zh) * | 2017-10-30 | 2019-10-11 | 台灣積體電路製造股份有限公司 | 偵測晶圓損害之裝置與系統 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090092470A1 (en) | 2009-04-09 |
WO2009046380A3 (en) | 2009-08-06 |
WO2009046380A2 (en) | 2009-04-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW200926338A (en) | End effector with sensing capabilities | |
TWI463587B (zh) | 工件支撐結構及使用該結構之裝置 | |
TWI306827B (en) | Methods and apparatus for repositioning support for a substrate carrier | |
US9929029B2 (en) | Substrate carrier system | |
CN110504190A (zh) | 输送方法和输送装置 | |
KR20230145534A (ko) | 온 더 플라이 자동 웨이퍼 센터링 방법 및 장치 | |
KR20140051044A (ko) | 클램프 장치 및 워크 반송 로봇 | |
KR20150074084A (ko) | 기판 위치 맞춤 장치, 기판 접합 장치, 기판 위치 맞춤 방법, 적층 반도체 장치의 제조 방법, 및 기판 접합 방법 | |
JP2016529691A (ja) | 複数の基板を位置合わせする装置及び方法 | |
TW200941001A (en) | Probe apparatus, probing method, and storage medium | |
TW201133700A (en) | Pair of substrate holders, method for manufacturing device, separation device, method for separating substrates, substrate holder, and device for positioning substrate | |
TW200941627A (en) | Substrate holder, substrate conveying device and substrate processing system | |
JP2004515073A5 (zh) | ||
TW201029097A (en) | Substrate transport apparatus and substrate transport method | |
CN106104787B (zh) | 末端执行器装置 | |
TWI716570B (zh) | 用於翻轉及多次檢測電子裝置的轉送系統 | |
TW201245696A (en) | Image creation method, substrate inspection method, storage medium storing program for executing image creation method or substrate inspection method, and substrate inspection device | |
CN1935480A (zh) | 分割装置及晶片的对准方法 | |
JP2015032617A (ja) | 搬送ロボットの教示データ補正方法、および搬送システム | |
TW200931556A (en) | Probe apparatus and probing method | |
TW201707900A (zh) | 同步自動晶圓定心方法及設備 | |
TW201104781A (en) | Apparatus for containing packaged chip, test tray including the same, and test handler using the same | |
TW200929431A (en) | Method and apparatus for wafer support | |
KR950007012A (ko) | 반도체 처리 시스템 및 그 실어옮김기구를 위한 위치맞춤방법 및 장치 | |
JP5476705B2 (ja) | 積層半導体製造装置、積層半導体製造方法および基板ホルダラック |