TW200922473A - Novel herbicides - Google Patents

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TW200922473A
TW200922473A TW097128786A TW97128786A TW200922473A TW 200922473 A TW200922473 A TW 200922473A TW 097128786 A TW097128786 A TW 097128786A TW 97128786 A TW97128786 A TW 97128786A TW 200922473 A TW200922473 A TW 200922473A
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alkyl
hydrogen
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Stephane Andre Marie Jeanmart
John Benjamin Taylor
Christopher John Mathews
Steve Smith
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Syngenta Ltd
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Description

200922473 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明關於新穎的除草活性環二酮類及其衍生物，复 製備方法，包含蜂^卜入札>/ ' 在^^ 成物及其在控制雜草，尤其 【先前技術】 次㈣植物生長中的用途。 具有除草作用的環二 US 4,2〇9,532中。 】類敛述在例如US 4，175，135及 【發明内容】 現在已發現具有昤曾 承草及生長抑制性皙 酮類及其衍生物。 寶之新頜的雙環二 本發明因此關於式I化合物
其中 R及R彼此獨立為梟 虱、C1-C6烷基、C2-C熵| 基、CVC6鹵烷基、c r卜 2^6歸基、C2-C6炔 乳基、c3-c6鹵烯氧義、 6沉虱基、c3-c6烯 炫基—氧基Cl.c4貌氧 =氧… 4烷氧基cvc4烷氧 200922473
基C1-C4烧基、Ci-C6烧硫基、C1-C4烧硫基C1-C4烧基、C1-C4 烷基亞磺醯基、C^-C*烷基亞磺醯基Crq烷基、Ci-C^烷基 石黃酿基、C 1 - C 4炫> 基續酿基C 1 - C 4烧基、經基-C 1 - C 4烧基、 C!-C6 i烧氧基C1-C4烧基、C3_C6稀乳基C1-C4烧基、C3-C6 鹵稀氧基C1-C4烧基、C3-C6快氧基C1-C4貌基、Ci_C6氰烧 基、（VC6氰烷氧基、CVC4氰烷氧基CVC4烷基、羥基、(^-(：6 烷基羰基、羧基、CrCe烷氧基羰基、CrCe烷胺基羰基、 二-c丨-C6烷胺基羰基、三（CVC4烷基）矽烷基或三（C丨-c4烷 基）矽烷氧基， D為視需要經取代之CrCs伸烷基， E為視需要經取代之C!-C3伸烧基或視需要經取代之c2-C3 伸烯基，
Het為視需要經取代之單環或雙環雜芳族環；及 G為氫、鹼金屬、鹼土金屬、鏟、銨或潛伏化基團（ group) ° 在式I化合物的取代基定義中，具有丨至6個碳原子之 烧基，及烧氧基、烧基4醯基等之烧基部分較佳地為甲基、 乙基以及丙基、丁基、戊基及己基’具有其直鏈及支鍵異 構物形式。 具有2至6個石炭原子之稀基及炔基可為直鍵或支鍵， 且可包括1個以上的雙鍵或參鍵。實例為乙烯基、烯丙基、 丙炔基、丁浠基、丁炔基、戊稀基及戊块基。 較佳的鹵素為氟、氯及溴。 經取代之伸料或經取代之以3㈣基單元代 200922473 表可被諸如下列之取代基取代一次或一次以上的飽和及不 飽矛厌鍵· CVC6烧基、鹵烧基、c2-c6烯基、c2-C6 鹵烯基、c2-c6炔基、c3_c7環烷基、c3_c7環烷基。-山烷 基、匚5-〇:7環烯基、c5_c7環烯基Ci_C4烷基、苯基d_c4烷 基、經取代之苯基Cl_C4烷基、雜芳基Ci_c4烷基及經取代 之雜^•基Cl_C4娱:基、雜環基Cl_匸4烧基及經取代之雜環基 CVC4烷基、Cl_C6烷氧基、C1_C6鹵烷氧基、Ci_C4烷氧基 c,-c4烷基、Cl_c4烷氧基匕—^烷氧基、Ci_c4烷氧基 烷氧基CVC4烷基、Cl_C6烷硫基、Ci_C4烷硫基Ci_c4烷基、 CVC4烷基亞磺醯基、Ci_C4烷基亞磺醯基烷基' q·山 烷基磺醯基、c^-c：4烷基磺醯基Ci_C4烷基、鹵基、氰基、 硝基、CrC6氰烷基、Cl_C6氰烷氧基、羥基、匕—匕烯氧基、 CyC6鹵烯氧基、C：3_C6炔氧基、苯氧基、經取代之苯氧基、 雜芳氧基、經取代之雜芳氧基、雜環氧基、經取代之雜環 氧基、苯基CrC4烷氧基、經取代之苯基Ci_C4烷氧基、雜 芳基CrC4烷氧基、經取代之雜芳基Ci_C4烷氧基、雜環基 G-C4烷氧基、經取代之雜環基Ci_C4烷氧基、羥基 1 V-/ 4 烷基、C丨-C6鹵烷氧基C丨-C；4烷基、C3_C0烯氧基C〗_C4烷基、 c3-c6鹵烯氧基CVC4烷基、C3-C6炔氧基CVCU烷基、c ·Γ 烷基羰氧基CrC4烷基、CVCU烷氧基羰基¢^-(^4烷基、Ci_c 烷胺基羰氧基Ci-C4烷基、二_Cl_C4烷胺基羰氧基Ci_C4烷 基、苯氧基C^-C：4烷基、經取代之苯氧基C]_C4烷基、雜芳 氧基C〗-C4烷基、經取代之雜芳氧基Ci_C4烷基、雜環氧基 CVC4烷基、經取代之雜環氧基κ4烷基、苯基ei_C4 = 200922473 氧基烷基、經取代之苯基C「C4烷氧基CVC4烷基、 雜方基C1-C4烧氧基C1-C4烧基、經取代之雜芳基Ci-C*燒 氧基Ci-C；4烧基、雜環基C「C4烧氧基Ci-C：4燒基、經取代 之雜環基CVC4烧氧基Ci-C4烧基、Ci-C6氰烧氧基 烷基、三（(VC4烷基）矽烷氧基Ci-C4烷基、羧基、CVC4烧 基羰基、CrC：4烷氧基羰基、醯胺基羰基、C/C6烷胺基幾 基、二烷胺基羰基、苯胺基羰基、經取代之苯胺基幾 基、雜芳基胺基羰基、經取代之雜芳基羰基、Ci-CU烷基徵 氧基、烷氧基羰氧基、（^-(：6烷胺基羰氧基、二Cl-c4 烷胺基羰氧基、烷胺基硫羰氧基、苯基羰氧基、經取 代之苯基羰氧基、雜芳基羰氧基、經取代之雜芳基羰氧基、 雜環基羰氧基、經取代之雜環基羰氧基、胺基、Ci-C^烷基 羰基胺基、CVC4烷氧基羰基胺基、（C!-^烷硫基）羰基胺 基、（VC4烷氧基硫羰基胺基、CVC4烷基（硫羰基）胺基、（VC4 烷胺基羰基胺基、二烷胺基羰基胺基、苯基羰基胺 基、經取代之苯基羰基胺基、雜芳基羰基胺基、經取代之 雜芳基羰基胺基、苯氧基羰基胺基、經取代之苯氧基羰基 胺基、苯胺基羰基胺基、經取代之苯胺基羰基胺基、Cl-c4 烧基確醯基胺基、Ci-q鹵烷基磺醯基胺基、苯基磺醯基胺 基、經取代之苯基磺醯基胺基、Cl-C4烷基羰基胺基 烧基、CVC4烷氧基羰基胺基Cl-c4烷基、（CVC4烷硫基）羰 基胺基CrC4烷基、Cl_c4烷氧基硫羰基胺基Cl_c4烷基、 CrC4院基（硫羰基）胺基Cl_c4烷基、（^-(^烷胺基羰基胺基 CVC4烧基 '二_Ci_c4烷胺基羰基胺基Cl_c4烷基、苯基羰 200922473 基胺基Crq烷基、經取代之苯基羰基胺基烷基、雜 芳基羰基胺基Ci-C*烷基、經取代之雜芳基羰基胺基 烷基、苯氧基羰基胺基CrCU烷基、經取代之苯氧基羰基胺 基烷基、苯胺基羰基胺基烷基、經取代之苯胺 基羰基胺基Ci-q烷基、Ci-C*烷基磺醯基胺基c!-c4烷基、 Ci-C：4鹵烷基磺醯基胺基Cl_c4烷基、苯基磺醯基胺基（^-(：4 炫基、經取代之苯基磺醯基胺基烷基、三（CrC^烷基） 石夕烧基、三（Ci-C4烷基）矽烷氧基、苯基及經取代之苯基、 雜芳基及經取代之雜芳基、雜環基及經取代之雜環基。較 佳地’ C!-C3伸烷基及CrC3伸烯基D及E未經取代，或被 CVC4烷基、Cl_c4烷氧基、Cl_c4烷氧基Cl_c4烷基、鹵素 或輕基取代一次或兩次。 較佳地’有兩個相鄰之取代基存在於Cl-C3伸烷基及 CrC3伸烯基上時，則該等取代基可另外連結在一起形成3_7 員飽和環，其可視需要包括一或多個選自氧、硫或氮之雜 原子，或可形成5-7員不飽和環，其可視需要包括一或多個 遥自氧、硫或氮之雜原子。所形成之較佳的環為二氧戊環， 其視禹要被C1-C3烷基取代一或兩次。適合的雜芳族環實例 為例如噻吩基、呋喃基、吡咯基、異聘唑基、聘唑基、異 噻唑基、噻唑基、吡唑基、咪唑基、三唑基、四唑基、吡 啶基、嘧啶基、吡啡基、嗒畊基、三畊基、聘二唑基及噻 —11坐基’以及在適當時，其N-氧化物及鹽類。 該等雜芳族環可被一或多個取代基取代，其中較佳的 代基可選自c!-c4烧基、C2-C4稀基、C2-C4炔基、c^_c4 200922473 鹵烷基、C3-C7環烷基、C3-C7鹵環烷基、C5-C7環烯基、CVC4 烷氧基、CVC4鹵烷氧基、CVCU烷硫基、CVC4鹵烷硫基、 Ci-C#烷基亞磺醯基、鹵烷基亞磺醯基、Ci-C^烷基磺 醯基、鹵烷基磺醯基、氟、氯、溴、碘、氰基、硝基、 羥基-CVC4烷基、曱醯基、羧基、CVC4烷基羰基、CVC4 烷氧基羰基、醯胺基羰基、烷胺基羰基、二-Ci-Q烷 胺基羰基、胺基、Ci-CU烷基羰基胺基、Ci-C^烷氧基羰基 胺基、CVC4烷胺基羰基胺基、二Cl_c4烷胺基羰基胺基、 C〗-C4烷基磺醯基胺基、Cl-c4鹵烷基磺醯基胺基、（^-(：4烷 基磺醯氧基及Ci-C4鹵烷基磺醯氧基，且較佳地選自c^-CU 烧基、CVC4烷氧基、Cl_c4鹵烷氧基、鹵基、氰基及硝基， 尤其為（VC2烷基' CVC2烷氧基、（VC2鹵烷氧基、氟、氣 及氰基。 基團G代表氫、鹼金屬陽離子如鈉或鉀、鹼土金屬陽 離子如鈣、銃陽離子（較佳地為_s(Ci_C6烷基）3+)或銨陽離 子（較佳地為-NH4+或-N(Cl_c6烷基）4+)，或Cl-C6烷基、 C3_C：6烯基或cs-C6炔基，或潛伏化基團。潛伏化基團G較 佳地選自Cl-Cs烷基、CVC：8鹵烷基、苯基CVCs烷基（其 中笨基可視需要被C1-C3烧基、Ci-C3鹵院基烧氧基、 Ci-c〗i院氧基、Ci_C3燒硫基、Ci_C3烧基亞磺醯基、Ci_C3 炫基續酿基、鹵素、氰基或硝基取代）、雜芳基C1_C8烷基 (其中雜芳基可視需要被Cl-c3烷基、CVC3鹵烷基、CVC3 燒氧基、CVC3鹵烷氧基、Cl-C3烷硫基、CVC3烷基亞磺醯 基、C1-C3烷基磺醯基、鹵素、氰基或硝基取代）、c3_c8 200922473 烯基、c3-c8 鹵烯基、c3-c8 炔基、C(Xa)_Ra、、 C(Xd)-N(Rc)-Rd、_S〇2-Re、-P(xe)(Rf)_Rg 或 CH2_xf_Rh，其 中xa、xb、Xc、xd、Xe及Xf彼此獨立為氧或硫；
Ra 為 Η、C^-Cu 烧:基、C2-C18 烯基、C2-C18 块基、Ci_Ci〇 鹵 烷基、Ci-Cw氰烷基、硝烷基、even)胺烷基、Ci_C5 烷胺基CVC5烷基、c2-c8二烷胺基CVC5烷基、c3_c7環烧 基C 1 - C 5烧基、C丨-C 5炫乳基c 1 - C 5烧基、C 3 - C 5烯氧基C 1 - C 5 烧基、C 3 - C 5块氧基C 1 - C 5院基、C i - C 5烧硫基C i - c 5炫•基、 C1-C5烧基亞項醯基C1-C5烧基、C1-C5烧基續酿基（^-(^烧 基、C2-C8亞烧基胺氧基CVC5烧基、Ci-Cs烧基叛基 烧基、CVC5烧氧基羰基CVC5烧基、胺羰基CVC5烧基、 Cj-Cs烷胺基羰基CrC5烷基、C2-C8二烷胺基羰基CVC5烷 基、（VC5烷基羰基胺基CVC5烷基、N-CVC5烷基羰基 -N-C〗-C5烷胺基CVCs烷基、c3-c6三烷基矽烷基CVC5烷 基、苯基CrCs烷基（其中苯基可視需要被Cl-c3烷基、CVC3 鹵烷基'Ci-C：3烷氧基鹵烷氧基、（VC3烷硫基'CVC3 烷基亞磺醯基、CrC3烷基磺醯基、鹵素、氰基或硝基取代）、 雜芳基C「C5院基（其中雜芳基可視需要被Cl_C3烷基、 CVC3鹵炫基、（^-(：3烷氧基、Cl_c3鹵烷氧基、CVC3烷硫 基、（^-C3烷基亞磺醯基、Cl_c3烷基磺醯基、鹵素、氰基 或硝基取代）、C2-Cs鹵烯基、c3_c8環烷基、苯基或被CkCs 烧基、C1-C3鹵烧基、（^-(1：3貌氧基、C!-C3鹵烧氧基、鹵素、 氰基或硝基取代之笨基、雜芳基或被Cl-C3烷基、Crq鹵 烷基、Ci-C：3烷氧基、鹵烷氧基、鹵素、氰基或硝基 11 200922473 ' 取代之雜芳基，
Rb 為 Ci-Ci8 烧基、C3_Ci8 稀基、C3-C18 快基、C2_C 丨 Q _燒 基、CVCw氰烷基、Ci-Cw硝烷基、c2-C1G胺烷基、CVc5 烷胺基CVC5烷基、c2-c8二烷胺基CrCs烷基、c3-c7環烷 基Ci-Cs烷基、CVC5烷氧基C「C5烷基、c3-c5烯氧基（Vq 烧基、C3_C5快氧基C1-C5烧基、C1-C5烧硫基C1-C5烧基、 CVC5烷基亞磺醯基C!-C5烷基、CrCs烷基磺醯基CVC5烷 基、C2-C8亞烷基胺氧基CVC5烷基、CVC5烷基羰基Κ5 烷基、CVC5烷氧基羰基CVC5烷基、胺羰基Ci-Cs烷基、 CVCs烷胺基羰基CVC5烷基、c2-c8二烷胺基羰基 基、C1-C5烧基敷基胺基C1-C5烧基、N-C1-C5烧基幾基 -N-C]-C5烧胺基C!-Cs烧基、C3-C6三烧基碎炫基Ci-C5燒 基、苯基Ci-Cs烷基（其中苯基可視需要被Cl_c3烷基、Ci_c3 鹵烷基、CVC3烷氧基、CVC3鹵烷氧基、CVC3烷硫基、（ν(：3 烧基亞績醯基'Ci-C3烧基確醯基、鹵素、氰基或X肖基取代）、 雜芳基CrC：5烷基（其中雜芳基可視需要被Cl_c3烷基、 I; CVC3鹵烧基、CVC3烧氧基、CVC3鹵烧氧基、CVC3燒硫 基、c「C3貌基亞續醯基、cvc：3烧基續醯基、鹵素、氰基 或硝基取代）、Cs-C：5鹵烯基、c3-c8環烷基、苯基或被Cl-c3 烧基、Ci-C3鹵烧基燒氧基鹵燒氧基、鹵素、 氰基或硝基取代之苯基、雜芳基或被Cl_C3烷基、Cl-C3鹵 烧基、CrC3烧氧基、（:^C：3鹵烧氧基、鹵素、氰基或硝基 取代之雜芳基， RC及Rd彼此獨立為氫、（：！-(：〗(）烷基、c3-c1(3烯基、c3-c10 12 200922473 块基、C2-C10鹵燒基、Ci-Ci〇氰烧基、Ci-C!〇石肖烧基、Ci-Ci〇 胺烷基、C「C5烷胺基CVC5烷基、C2-C8二烷胺基Ci-Cs烷 基、C3-C7環烷基Ci-Cs烷基、CVC5烷氧基CVC5烷基、c3-c5 烯氧基（VC5烷基、C3-C5炔氧基CVCs烷基、C^-Cs烷硫基 cvc5烷基、CVC5烷基亞磺醯基CrCs烷基、CVC5烷基磺 醯基CVC5烷基、C2-C8亞烷基胺氧基CVC5烷基、CVC5烷 基羰基Ci-Cs烷基、CrCs烷氧基羰基Ci-Cs烷基、胺羰基 CrCs烷基、cvc5烷胺基羰基CrCs烷基、c2-c8二烷胺基 f 羰基C^-Cs烷基、Ci-Cs烷基羰基胺基CVC5烷基、N-CrCs 烷基羰基-N-C2_c5烷胺基烷基、C3-C6三烷基矽烷基Ci-Cs 烷基、苯基Ci-Cs烷基（其中苯基可視需要被Cl-C3烷基、 (^-〇3鹵烧基、C!-C3烧氧基、C!-C3鹵烧氧基、C1-C3烧硫 基、C1-C3烧基亞績酿基、C1-C3烧基確酿基、鹵素、氰基 或硝基取代）、雜芳基C^-Cs烷基（其中雜芳基可視需要被 CVC3烧基、CVC3鹵烷基、CVC3烧氧基、CVC3鹵烧氧基、 , C〗-C3烷硫基、Ci-C3烷基亞磺醯基、CrCs烷基磺醯基、鹵 I 素、氰基或硝基取代）、CVC5鹵烯基、c3-c8環烷基、苯 基或被CVC3院基、鹵烧基、院氧基、Ci-C^鹵 烧氧基、鹵素、氰基或頌基取代之苯基、雜芳基或被Ci_C3 烷基、烷基、Cl_C3烷氧基、Ci_c3鹵烷氧基、鹵素、 氰基或硝基取代之雜芳基、雜芳胺基或被Ci_c3烷基、Ci_c3 鹵烷基、Ci-C：3烷氧基、Ci_c3鹵烷氧基、鹵素、氰基或硝 基取代之雜芳胺基、二雜芳胺基或被Ci_c3烷基、Ci_c3鹵 ’兀基Ci C3院氧基、q-C3鹵烧氧基、鹵素、氰基或石肖基 13 200922473 取代之二雜芳胺基、苯胺基或被CKC3烷基、C^-Cs鹵烷基、 CVC3烷氧基、CVC3鹵烷氧基、鹵素、氰基或硝基取代之 苯胺基、二苯胺基或被CVC3烷基、CVC3鹵烷基、 烧氧基、（^-(:3鹵烧氧基、鹵素、氰基或石肖基取代之二苯胺 基，Ci-Cs烷胺基、CVC3二烷胺基、CVC3烷氧基或C3-C7 環烷胺基、二-C3-C7環烷胺基或（：3-(：7環烷氧基，或Rc與 Rd可連結在一起形成3-7員環，其視需要含有一個選自〇 或S之雜原子且視需要被i或2個（^-(：3烷基取代， R為Ci-Ci〇烧基、C2-C10稀基、C2-C10快基、Ci-Ci〇鹵烧基、 Cl-Cl〇亂烧基、Cl_Cl〇石肖烧基、Cl-Cl〇胺烧基、C1-C5烧胺 基CrCs烷基、c2-c8二烷胺基CVC5烷基、c3-c7環烷基 Ci-Cs烷基、（VC5烷氧基CVC5烷基、C3-C5烯氧基CVC5 烷基、C3-C5炔氧基Ci-Cs烷基、CVC5烷硫基CVCs烷基、 Ci_C5烷基亞磺醯基CrCs烷基、CVC5烷基磺醯基CVC5烷 基、c2-c8亞烷基胺氧基Ci-Cs烷基、CVC5烷基羰基（VC5 烷基、Ci-C5烷氧基羰基CVC5烷基、胺羰基CVC5烷基、 ^ } CVC5烷胺基羰基CrCs烷基、c2-c8二烷胺基羰基Ci-Cs烷 基、C丨-C5烷基羰基胺基Ci-C5烷基、N-Ci-C5烷基羰基 -N-CrCs烷胺基CrCs烷基、C3-C6三烷基矽烷基Ci-Cs烷 基、苯基C〗-C5烷基（其中苯基可視需要被Cl-C3烷基、CVC3 齒烧基、烷氧基、（VC3鹵烷氧基、Ci-C^烷硫基、CrCs 烷基亞磺醯基、C^-C3烷基磺醯基、鹵素、氰基或硝基取代广 雜芳基Ci-Cs烷基（其中雜芳基可視需要被Cl-C3烷基、 CVC3鹵烷基、CVC3烷氧基、Cl-C3鹵烷氧基、Cl-c3烷硫 14 200922473 基、C^-C3烷基亞磺醯基、c^-C^烷基磺醯基、鹵素、氰基 或硝基取代）、C2-CS鹵烯基、c3-C8環烷基、苯基或被Cl_c3 烷基、（：「(：3鹵烷基、CVC3烷氧基、（VC3鹵烷氧基、鹵素、 氰基或硝基取代之苯基、雜芳基或被C^-Cs烷基、Ci-h鹵 烧基、C1-C3览氧基、Ci-c3鹵烧氧基、鹵素、氰基或确基 取代之雜芳基、雜芳胺基或被（^-(:3烷基、（^-(:3鹵烷基、 Ci-C3烷氧基、CVC3鹵烷氧基、鹵素、氰基或靖基取代之 雜芳胺基、二雜芳胺基或被烷基、Ci-q鹵烷基、Ci-Cs 烷氧基、Ci-C：3鹵烷氧基、鹵素、氰基或硝基取代之二雜芳 胺基、苯胺基或被C^-C^烷基、Ci-C^鹵烷基、Ci-Cs烷氧基、 Ci-Cs鹵烧氧基、鹵素、氰基或硝基取代之苯胺基、二苯胺 基或被CVC3烷基、（VC3鹵烷基、CVCs烷氧基、鹵 烷氧基、鹵素、氰基或硝基取代之二苯胺基、或C3_c7環烷 胺基、二C3-C7環烷胺基或C3-C7環烷氧基、CrCw烷氧基、 Ci-C10鹵烧氧基、Ci-C5烧胺基或C2-C8>r_烧胺基， “及Rg彼此獨立為c丨-c1()烷基、c2-c1()烯基、c2-c1G炔基、 Ci-Ci〇烧氧基、鹵烧基、（^-(^氰烧基、Ci-Cio石肖烧 基、CVCw胺烷基、CVC5烷胺基CrCs烷基、C2-C8二烷胺 基C「C5烷基、c3-c7環烷基Ci-Cs烷基、CVC5烷氧基CVC5 烧基、C3-C5烯氧基Ci-Cs烧基、C3-C5炔氧基CVC5院基、 Ci-C5烷硫基CVC5烷基、CrCs烷基亞確醯基Ci-Cs烷基、 C1-C5烧基續醯基C^-C5烧基、C2-C8亞烧基胺氧基Ci-C5烧 基、（VC5烷基羰基CVC5烷基、CrCs烷氧基羰基Ci-Cs烷 基、胺羰基CVC5烷基、CrCs烷胺基羰基Cl-C5烷基、c2-c8 15 200922473 二炫胺基羰基CrCs烷基、CrCs烷基羰基胺基CrCs烷基、 N-CVC5烷基羰基-N_C2-C5烷胺基烷基、g-C6三烷基矽境 基CVC5院基、苯基Cl-C5烷基（其中苯基可視需要被 烧基、cvc3鹵烷基、Cl_C3烷氧基、Cl_C3鹵烷氧基、Cl_C3 烧硫基、CrC3烷基亞磺醯基、（^-Cs烷基磺醯基、鹵素、 氰基或硝基取代）、雜芳基CrCs烷基（其中雜芳基可視需 要被C「C3烷基、CVC3鹵烷基、CVC3烷氧基、CVC3鹵烷 氧基、C】-C3烷硫基、Cl-(：3烷基亞磺醯基、Cl-C3烷基磺醯 基、鹵素、氰基或硝基取代）、C2_C5鹵烯基、C3-C8環烷 基、本基或被Ci-Cg烧基、C1-C3鹵烧基、Ci-C3烧氧基、Ci-C3 鹵烷氧基、鹵素、氰基或硝基取代之苯基、雜芳基或被Cl-c3 烷基、CVC3鹵烷基、CVC3烷氧基、CVC3鹵烷氧基、鹵素、 氰基或硝基取代之雜芳基、雜芳胺基或被烷基、 鹵烷基、CrC3烷氧基、C^-C：3鹵烷氧基、鹵素、氰基或硝 基取代之雜芳胺基、二雜芳胺基或被Ci-C^烷基、齒 烧基、Ci-C3烧氧基、Ci-C3鹵烧氧基、鹵素、氰基或石肖基 取代之二雜芳胺基、苯胺基或被CrC3烷基、鹵烷基、 Ci-C3烧氧基、C!-C3鹵烧氧基、鹵素、氰基或硝基取代之 苯胺基、二苯胺基或被（^-(：3烷基、C丨-C3鹵烷基、（：丨-(：3 炫·氧基、C1-C3鹵烧氧基、鹵素、氰基或石肖基取代之二苯胺 基、或C3-C·/環烧胺基、二C3_C·/環烧胺基或c3-C7環烧氧 基、CVCm鹵烷氧基、CVC5烷胺基或c2-c8二烷胺基、苯 曱氧基或苯氧基’其中笨曱基及苯基可依次被Cl-C3烷基、 CVC3鹵烷基、cvc3烷氧基、CVC3鹵烷氧基、鹵素、氰基 16 200922473 或硝基取代，及 h R為CrCio烷基、c3-C10烯基、c3-c10炔基、（VCw鹵烷 基、C1-C1()氰烷基、CrCM硝烷基、c2-C1Q胺烷基、CVC5 烧胺基（VC5烷基、C2-C8二烷胺基Ci-Cs烷基、c3-c7環烷 基C「c5燒基、Cl_c5烷氧基Cl-c5烷基、c3-C5烯氧基CVC5 烧基、c3-c5炔氧基CVC5烷基、CrCs烷硫基CVC5烷基、 CrC5院基亞磺醯基Ci_c5烷基、Cl_c5烷基磺醯基Cl-c5烷 基、c2-c8亞烷基胺氧基Cl_c5烷基、Cl_c5烷基羰基d-Cs .f 烧基、CVC5烷氧基羰基Cl_c5烷基、胺羰基Cl-c5烷基、 CrCs烧胺基羰基GVCs烷基、C2-C8二烷胺基羰基CVCs烷 基、CVC5烷基羰基胺基Cl-C5烷基、N-CrCs烷基羰基 -N-C】-C5烷胺基Ci-Cs烷基' C3-C6三烷基矽烷基CVC5烷 基、苯基C「C5烷基（其中苯基可視需要被Cl-C3烷基、C^-Cs 鹵烷基、Ci-Cs烷氧基、CVC3鹵烷氧基、CVC3烷硫基、CVC3 烷基亞磺醯基、Ci-Cs烷基磺醯基、_素、氰基或硝基取代）、 雜芳基C^-Cs烷基（其中雜芳基可視需要被烷基、 > - 、 Ci-C3鹵烧基、CVC3烧氧基、（VC3鹵烧氧基、CVC3烧硫 基、CrC3院基亞石黃醯基、Ci-C〗烧基確醯基、鹵素、氰基 或硝基取代）、苯氧基Ci-Cs烷基（其中苯基可視需要被 烷基、CVC3鹵烷基、CVC3烷氧基、CVC3鹵烷氧基、 Ci-c3烷硫基、C「C3烷基亞磺醢基、CVC3烷基磺醯基、_ 素、氰基或硝基取代）、雜芳氧基C^-C5烷基（其中雜芳基 可視需要被CrCs烷基、CVC3鹵烷基、CVC3烷氧基、CVc3 鹵烷氧基、CrC3烷硫基、（VC3烷基亞磺醯基、CVC3貌基 17 200922473 磺醯基、齒素、氰基或硝基取代）、c3_c5 _烯基、 環烷基、苯基或被Cl_C：3烷基、Ci_c3函烷基、Ci_c3烷氧基、 G-C3鹵烷氧基、画素或硝基取代之苯基、雜芳基或被d—q 烷基、CVC3鹵烷基、Cl_Cs烷氧基、Ci_c3鹵烷氧基、鹵素、 氰基或硝基取代之雜芳基。 特別地，潛伏化基團G為基團_c(xa)_Ra或 -C(Xb)-XC-Rb，且Xa、Ra、Xb、Xc及Rb之意義如上述所定 義。
較‘地G代表虱、驗金屬或驗土金屬，其中以氫特別 佳0 旧，八π丞图u係經選擇以允許其在施予處理之區域或 植物之别、期間或之後以生化、化學或物理法中之一者或 :合來移除’以供給式！中〇為狀化合物。該等方法的 灵例包括酵素裂解法、化學水解法及光分H攜帶該等 土團G之化合物可提供某些優點，諸如被處理之植物經改 良之角質層穿it ;增加作物耐受性；在含有其他除草劑、 除草劑安全劑、植物生長調節劑、殺真菌劑或殺昆蟲劑之 為配處合物中的經改良之相容性或穩定性；或減少在土壤 中的瀝濾。 較佳地，R1為氫、Cl_C4烷基或Ci_C4烷氧基，且更佳 地’ R〗為氫或甲基。 較佳地，R2為氫或甲基，且更佳地，R2為氫。 〃較佳地，D為Cl-C2伸烧基或被Ci_C3燒基或Ci_C3貌 虱基Ci-C3烷基取代之Cl_C2伸烷基，特別為亞甲基或伸乙 18 200922473 基。 n取代之Cl_c2伸烷基或視需要經 取代之a伸烯基。更佳 β甘 地Ε為CVC2伸烷基或被齒素、 羥基、鼠基、c,-c3烷基、c Γ h — ^ ^ ^ 〇 ]_C3烷氧基或CVC3烷氧基CVC3 烷基取代之〇:丨-(：2伸烷基， 3 基、氰基、CVC3烧基、c ；： 4 c2伸烯基或被齒素、經 烧基取代之C2 ”基，心3/"1基或CA絲基
Het較佳地為視需^別地’ £為伸乙基或伸乙稀基。 含硫或較佳地含氮之 # 早衣6_貝或較佳地5-員 硫及含氮之雜芳族環， 更佳地，Het為單環5_員含 之基團： 又 至更佳地，Het為式Ri至Rl2 19 200922473
其中 A標示與酮烯醇部份之連接點， W1 為 N 或 CR6， W2及W3彼此獨立為N或CR4， W4 為 N 或 CR7， 其先決條件係W1、W2、W3或W4中之至少一者為N， X 為 0、S、Se 或 NR9， Z 為 N 或 CR10， 其中 20 200922473 R3為氳、鹵素、Ci-C4烷基、Ct-c*鹵烷基、c3-C6環烧基、 C3-C6-鹵環烧基、C2-C4烯基、C2-C4齒烯基、c2-C4炔基、 Ci-C4烷氧基、CVC4 _炫氧基、CVC4烷硫基、c!-C4烧基 亞磺醯基、CrC4烷基磺醯基、硝基或氰基，較佳地為鹵素、 C!-C2烷基、C!-C2鹵烷基、乙烯基、乙炔基或甲氧基，且 甚至更佳地為甲基或乙基， f
R為氫、CVC6院基、鹵烷基、c2_c6烯基、C2_C6函 烯基、c2-c6炔基、c3-c6環烷基、c5_c6環烯基、鹵素、Ci_c6 烷氧基、C^-C：6烷氧基-C^-C6烷基、Ci_c6鹵烷氧基、視需要 經取代之芳基、視需要經取代之芳氧基、視需要經取代之 雜芳基或視需要經取代之雜芳氧基’較佳地為視需要經取 代之芳基或視需要經取代之雜芳基’其中取代基係選自_ 素、CVC2-烧基、CVC2-烧氧基、Ci_c2 _烧基、Ci_c2鹵烷 氧基、氰基或硝基，且甚至更佳地為被鹵素、Ci_C2_烷基、
Ci-CV烷氧基、Cl_C2鹵烷基、Ci_C2鹵烷氧基或氰基取代一 次、兩次或三次之苯基， R為氫、Ci-C4烧基、c2-c3烯基、c2-c3炔基、CVCU i烷 基或c^-c:3鹵烯基，較佳地為曱基或乙基， \為氫、甲基、鹵甲基或鹵素，較佳地為氫， R為氫、鹵素'CVC4烷基、C]_C4鹵烷基、C2_C4烯基、c2_c4 鹵烯基、CVC4炔基、CVC4烷氧基、Cl_c4鹵烷氧基、（VC4 垸硫基、Cl_C4烷基亞磺醯基、Ci_C4烷基磺醯基或氰基， 車父佳地為氫、鹵素、甲基或乙基， 甲基、乙基、幽甲基、_乙基、視需要經取代之 21 200922473 芳基或視需要經取代之雜芳基，較佳地為視需要經取代之 芳基或視需要經取代之雜芳基，其中取代基係選自鹵素、
Cl_Cr烧基、Cl_C2·燒氧基、<VC2鹵烷基、CVC2鹵烷氧基、 氰基或硝基，甚至更佳地為被鹵素、Ci_C2_烷基、Ci_Cr烷 氧基、Cl-C2鹵烷基、Ci-C2鹵烷氧基或氰基取代一次、雨 次或三次之苯基， R為氫、甲基、乙基或鹵甲基，及 R為氫、甲基、乙基、齒甲基、i乙基、幽素、氰基戒石肖 基。 更佳地，Het為式（Rz)之基團，其中又為8及乙為^^或 CR10，且R3、尺4及Ri〇如上述所定義。 本發明亦關於式I化合物能夠與胺、鹼金屬及鹼土金屬 鹼或四級銨鹼形成之鹽類。在作為鹽形成劑之鹼金屬及鹼 土金屬氫氧化物之中，尤其應該述及鋰、鈉、鉀、鎖及妈 之氫氧化物，但是尤其為鈉及鉀之氫氧化物。根據本發明 之式I化合物亦包括可在鹽形成期間形成之水合物。 適合於銨鹽形成之胺的實例包括氨，以及一級、二級 及三級CVCu烷胺、CVC4羥基烷胺及q-C4烷氡基烧胺， 例如甲胺、乙胺、正-丙胺、異丙胺、四種丁胺異構物、正-戊胺、異戊胺、己胺、庚胺、辛胺、壬胺、癸胺、十五烧 胺、十六烷胺、十七烷胺、十八烧胺、曱基乙胺、曱美異 丙胺、甲基己胺、甲基壬胺、甲基十五烷胺、甲基十八产 胺、乙基丁胺、乙基庚胺、乙基辛胺、己基庚胺、己其辛 胺、二甲胺、二乙胺、二·正-丙胺、二異丙胺、二_正_ 丁：辛 22 200922473 二-正-戊胺、二異戊胺、二己胺、二庚胺、二辛胺、乙醇胺、 正-丙醇胺、異丙醇胺、N，N-二乙醇胺、N-乙基丙醇胺、N-丁基乙醇胺、烯丙胺、正-丁-2-烯胺、正-戊-2-烯胺、2,3_ 二曱基丁-2-烯胺、二丁-2-烯胺、正-己-2-烯胺、丙烯二胺、 三甲胺、三乙胺、三-正-丙胺、三異丙胺、三-正-丁胺、三 異丁胺、三-第二丁胺、三-正-戊胺、甲氧基乙胺及乙氧基 乙胺；雜環胺，例如吡啶、喹啉、異喹啉、嗎啉、n底咬、 。比咯啶、吲哚啉、奎寧環及氮D平；一級芳胺，例如苯胺、 曱氧基苯胺、乙氧基苯胺、鄰-、間-和對-甲苯胺、伸苯二 胺、聯苯胺、萘胺及鄰-、間-和對-氯苯胺；但是尤其為三 乙胺、異丙胺及二異丙胺。 適合於鹽形成之較佳的四級銨鹼對應於例如式 [N(R，aR，bR，cR，d)]0H，其中 R’a、R，b、尺％及 r、彼此獨立 為Crh烷基。具有其他陰離子的更多適合的四烷基銨鹼可 例如藉由陰離子交換反應而獲得。 依據取代基的本性而定’式！化合物可以不同的異構物 型式存在。舉例而言，# G為氫時，式“匕合物可以不同 ::變異構物形式存在。本發明涵蓋呈所有比例的所有該 =物及其互變異構物與混合物。而且，當取代基包括 二1，：順式-及反式異構物可能存在。該等異構物亦在 明求之式I化合物的範圍内。 其，式1 : 〇為Cl·。烷基、C2-C8齒烷基、苯基l 基（其中苯基可視需要姑 ^ 燒氧A、C C内 基、Cl·03南貌基、c】戈 】“心基、CVC3燒硫基、Ci_C3貌基亞續酿 23 200922473 基、c^-c：3烷基磺醯基、鹵素、氰基或硝基取代）、雜芳基 CVC8烧基（其中雜芳基可視需要被Cl_c3烷基、Cl-c3鹵烷 基、CVC3烷氧基、（VC3鹵烷氧基、Cl-C3烷硫基、（VC3 烧基亞項醯基、C「C3烷基磺醯基、鹵素、氰基或硝基取代）、 C3-C8 稀基、C3-C8 鹵稀基、C3-C8 快基、C(Xa)-Ra、 C(X )-X -Rb、c(Xd)-N(Re)-Rd、_s〇2-Re、_p(xe)(Rf)_Rg 或 CH2-Xf-Rh 之化合物’其中 γ、χΐ)、xc、χ£ΐ、、χί·、Ra、 厂R、R、Rd、Re、Rf、Rg及Rh如上述所定義者，可藉由將 式（A)化合物（其為式I中G為Η之化合物）以試劑G_z處 理，其中G-Z為烷基化劑，諸如烷基_ (烷基函之定義包 括簡單的CrC8烷基i，諸如甲基碘及乙基碘；經取代之烷 基鹵，諸如氣甲基烷基醚cl_CH2_xf_Rh (其中xf為氧）及 氯甲基烷基硫cl-CH2_XLRh(其中xf為硫））、磺酸ci_c8 烷酯或硫酸二-Ci-Cs烷酯；或以C3_C8烯基函處理；或以 CVC8炔基_處理；或以醯化劑處理，諸如羧酸H〇_c(xa)Ra ((其中Xa為氧）、醯基氣Cl-C(Xa)Ra (其中Xa為氧）、或 酉夂酐[R C(x )]20 (其中Xa為氧）、或異氛酸醋= 〇、 或胺甲醯基氯a-c(x Vwrw (其中xd為氧，且其先決 條件係R 4 R巾之任一者為氯）、或硫代胺甲酿基氯 (其中xd為硫，且其先決條件係^或 '中之任一者為氫）、或氯甲酸酉旨cl_c(xb)_xc_Rb (其中 Xb及Xc為氧）、或氯硫代甲酸醋cl_c(xb)_xc_Rb (其中y 為氧及XC為硫）、或氯二硫代甲酸酯Cl-C(Xb)-Xc-Rb (其 中Xb及XI硫）、或異硫代氛酸醋RCn=c=s;或以二硫 24 200922473 化碳及烧基化劑；或以磷酸化劑，諸如磷醯氣 cl-P(xe)(Rf)-Rg;或以磺醯化劑，諸如磺醯氯cl_s〇2_Re相 繼處理而製備，較佳地該處理係在至少1當量驗的存在下。 在取代基R1及R2不同時，該等反應除了式I化合物之 外，還可產生第二種式IA化合物。本發明涵蓋式丨化合物 及式IA化合物，連同該等化合物以任何比之混合物。
%•狀1，3-二嗣類之〇-烧基化反應為已知反應，適合的 方法敘述在例如US 4436666中。可替換之程序已由M. Pizzorno 及 S. M. Albonico 於 Chem. Ind.(倫敦），（1972)， 425-426;Η· Born 等人於 J. Chem. Soc.，（1953)，1779-1782; Μ· G· Constantino 等人於 Synth. Commun.，（1992), 22 (19)， 2859-2864 ; Y. Tian 等人於 Synth. Commun.，（1997)，27 (9)， 1577-1582; S· Chandra Roy 等人於 Chem. Letters, (2006)，35 (1), 16-17;及 P. K. Zubaidha 等人於 Tetrahedron Lett·， (2004), 45, 7187-7188 所記述。 環狀1,3-二酮類之O-醯化反應可由類似於例如在US 4175135、US 4422870、US4659372 及 US4436666 中所敘述 之程序完成。典型地，可將式（A)之二酮類以醯化劑在至少 25 200922473 1當量適合的鹼存在下處理，視需要在適合的溶劑存在下。 該驗可為無機驗，諸如驗金屬礙酸鹽或氫氧化物，或金屬 氫化物，或有機鹼，諸如三級胺或金屬烷醇化物。適合的 無機驗之實例包括錢鈉、氫氧化鈉或_、氫化鈉，且適 合的有機驗包括三院基胺，諸如三甲胺及三乙胺…比咬或 其他月女驗類’諸^^ 1 4 — g@ 柯如1，4-一氮雜雙裱[2.2.2]辛烷及二氮雜
又晨[ ]十烯。較佳的驗包括三乙胺及《比β定。適合 於4反應之/谷劑係選自與試劑相容者，且包括趟類，諸如 四虱夫南及1，2 - 一甲氧基乙烧；及_化溶劑，諸如二氯甲烧 及亂仿°某些驗類，諸如Κ及三乙胺可成功地用作驗及 溶劑二者。關於其中醯化劑為羧酸的例子，醯化反應較佳 地在偶合劑（諸如碘化2_氣_1_曱基吡錠、Ν,Ν，_二環己基碳 化二醯亞胺、1_(3_二曱胺基丙基）_3_乙基碳化二醯亞胺及 Ν，Ν’-碳化二咪唑）及視需要在鹼（諸如三乙胺或吡啶）的 存在下於適合的溶劑中（諸如四氫呋喃、二氣甲烷或乙腈） 7L成。適合的程序例如由w zhang和G. Pugh於Tetrahedr〇n Lett·，（1999)，40 (43)，7595_7598 ; T is〇be 和 τ ㈣土㈣ 於 J_ Org. Chem. (1999)，64 (19)，6984 所敘述。 環狀1，3-二酮類的磷酸化反應可使用磷醯齒或硫代磷 醯鹵及鹼以類似於那些在US 4409153中所敘述之程序完 成。 式（A)化合物之磺醯化反應可使用烷基或芳基磺醯鹵， 較佳地在至少1當量驗的存在下’例如以C· J. Kowalski和 K. W. Fields 於 J. 〇rg· chem·，（1981)，46，197 之程序而達 26 200922473 成。 之環化反應，較佳地在 式（A)化合物可經由式（B)化合物 酸或驗的存在下及視需要在適合的溶劑存在下，以類似於 該等在US 4208532中所敘述之方法而製備。特別設計式⑻ 化合物作為合成式I化合物的中間物。其中r為氫之式（b) 化合物可在酸性條件下環化，較佳地在強酸的存在下，諸 如硫酸、聚填酸或伊頓氏（EatQn)試劑，視需要在適合的 溶劑存在下，諸如乙酸、甲苯或二氯甲烧。
U在酸性或驗性條件下環化，較佳地在至少1當量強鹼的存 t下，諸如第三丁醇鉀、二異丙基醯胺鋰或氫化鈉，且在 溶劑中，諸如四氫咬_、甲苯、：曱基亞碾或N,N_二甲基 曱醯胺。 式（B)中R為Η之化合物可藉由在標準條件下皂化式 為烷基（較佳地為甲基或乙基）之化合物，接著藉由 :似於該等例如在US42G9532中所敘述之方法酸化反應混 合物’以完成去羧基化反應而製備： 27 200922473
Het 驗，溶劑 接著酸 式(B) 式（B)中R為Η之化合物可在择進槐姓τ 隹稞旱條件下酯化成式（Β) 中R為烷基之化合物。 f- 式（C)中R為烷基之化合物可藉由在鹼性條件下以適合 的式（Ε)之羧酸氯處理式（D)化合物而製備。適合的鹼包括^ 二丁醇鉀、雙（三甲基石夕烧基）酿胺鈉及__里兩盆减^ w久—兵丙基醯胺鋰，且 反應較佳地在適合的溶劑中（諸如四氯呋喃或曱苯）在介 於-80°C與3 0°C之間的溫度下進行：
驗 — 1 1 ,Ο CF
C02R 式¢) 式(D)
另一選擇地，其式（C)R為Η之化合物可藉由在適合的 溶劑中（諸如四氫呋喃或甲苯）及在適合的溫度下（介於_8〇 c與0°c之間）以適合的鹼（諸如第三丁醇鉀、雙（三甲基 矽烷基）醯胺鈉及二異丙基醯胺鋰）處理式（D)化合物及將所 得陰離子與適合的式（F)之酐反應而製備： 28 200922473
R2 式(F) 式（D)化合物為已知的化合物，或可從已知的化合物以 已知的方法製得（參見例如E· Bellur和P. Langer於 Synthesis (2006), 3, 480-488 ; E. Bellur 和 P. Langer 於 Eur. J. Org. Chem·，（2005)，10, 2074-2090; G. Bartolo 等人於 Org. Chem.，（1999)，64 (21)，7693-7699 ; R. Kranich 等人於 J. Med· Chem·，（2007)，50 (6)，1101-1115 ; I· Freifeld 等人於 J. Org. Chem.， （2006) 71 (13), 4965-4968 ; S. Hermann 等 人於 WO 2006/087120 ; R. Fischer 等人於 WO 96/16061 ; H· A. Staab 和 G. A. Schwalbach 於 Justus Liebigs Annalen der Chemie，（1968)，715, 128-34 ; J-L Brayer 等人於
EP402246 ; P. Chemla 等人於 WO 99/32464 ; A. Dornow 和 G. Petsch 於 Chem. Berichte, (1953)，86，1404-1407; Ε· Y-H Chao 等人於 WO 2001/000606 ; D. B. Lowe 等人於 WO 2003/01 1842 ; R. Fischer 等人於 WO 2001/096333 ; J. Ackermann 等人於 WO 2005/049572 ; B. Li 等人於則〇〇^吕· Med. Chem. Lett·, (2002)，12, 2141-2144 ; G. P. Rizzi 於厂 Org. Chem., (1968), 33 (4)，13333-13337 ; M. Okitsu 和 Y. Yoshid 於 JP63230670 ; F. Bohlmann 等人於 Chem. Ber·, (1955), 88, 1831-1838 ； R. Fischer 等人於 WO 29 200922473 2003/03 5463; R. Fischer 等人於 w〇 2005/005428; D. O’Mant 於 GB1226984 )。 式（E)及式（F)化合物為已知的化合物（參見例如K. Crowley 於 J. Am· Chem· Soc·，（1964)，Vol.86，Νο.24, 5692-5693; Ε. Bercot 和 Τ· R〇vis 於 J. Am. Chem. Soc·，2005, 127, 247-254; R. McDonald 和 R· Reitz 於 J. Am. Chem. Soc.， (1976)，Vol. 98, No. 25, 8144-8155 ; A. Smith III 等人於 J.
Org. Chem., (1974), Vol. 39, No. 12, 1607-1612 ； J. Baldwin
和 M. Lusch 於 J. Org. Chem., (1979), Vol. 44, No. 12, 1923-1927 ; R. Carlson 和 K. May 於 Tetrahedron Lett., (1975)，V〇l_ 16，No. n，947_95〇 ; A B0ner 等人於 Tetrahedron Asymmetry (2002)，13, 1615_i62〇)，或可從市 售可取得的原料以類似的方法製得。 在得到式⑷化合物之另外的方法中，式⑹化合物 為式⑷中Het為⑹（當R、CH2R，，時，，為氫、Μ 〇燒基（較佳地為氫、甲基或三氟甲基）之化合物！^ 化合物之熱重排而製備，視需要在適合的溶劑中 及視而要在微波照射下。
式(G) 30 200922473 較佳地，重排係藉由在介於120-3 00°C之間的溫度下加 熱式（H)化合物而完成，視需要在適合的溶劑中，諸如ι，2-—甲氧基乙炫*、—乙*一酵··一甲峻、二乙二醇二甲謎、四乙 二醇二甲鰱、二甲苯、三甲苯或Dowtherm®，且視需要在 微波照射下。 同樣地’式（J)化合物，其為式（A)中Het為（R3)(當R3 為CH2R”時）及R”為氫、烧基或鹵烧基（較佳地為氫、曱 基或三氟曱基）之化合物，可從式（K)化合物使用類似的方 法製備。
式(K)
A 溶劑
式(J) 式化合物可從式（L)化合物藉由與式（M)中L為適合 的脫離基（諸如_素或烷基或芳基磺酸酯）之化合物的烷 基化反應而製備，視需要在適合的鹼存在下及視需要在適 合的溶劑中，如以上就式（A)化合物之烷基化反應所敘述者： 31 200922473
Ό
式(Η) 同樣地，式（Κ)化合物可從式（L)化合物藉由與式⑺）中 為適合的脫離基（諸如鹵素或烷基或芳基續酸醋）之 ^ 物在類似條件下的烷基化反應而製備。 σ
式(Κ) 在可替換的方法中，式（Η)化合物可從式化合物藉由 /、式（Ο)之醇的縮合反應而製備，視需要在適合的酸催化劑 存在下（諸如對-甲苯磺酸或路易士酸催化劑，例如三氟曱 只酉欠鏡（Ιπ)、二氟甲烧石黃酸鑭（III)、四氣金（III)酸鈉二 =σ物、氯化鈦（IV)、氣化銦（IV)或氯化鋁）及視需要在適 σ的Α劑中。適合的溶劑係選擇與所使用之試劑相容者， 32 200922473 .且包括例如甲苯、乙醇或乙腈。類似的方法由例如M. Curini F. Epifano，S. Genovese 於 Tetrahedron Lett·，（2006)，47
4697-700 ; a
Marinelli 於 Green Chemistry，（2003)，5, 64_7 所敘述。
另一選擇地，縮合反應可在適合的偶合劑，諸如職化 2-氯-1-甲基吡錠、N，N’-二環己基碳化二醯亞胺、^(弘二曱 胺基丙基）-3-乙基碳化二醯亞胺及n，N-碳化二咪唑，及視需 要在適合的鹼’諸如三乙胺或吡啶存在下於適合的溶劑 中，諸如四氫呋喃、乙腈或二氯曱烷中完成，或在三芳膦 如三苯膦及疊氮二羧酸二烷酯，較佳地為疊氮二羧酸二乙 醋或疊氮一缓酸一異丙醋的存在下及在適合的溶劑中，諸 如二乙醚、四氫吱喃或1，4-二聘烷中完成，如例如由〇.
Mitsunobu 於 Synthesis (1981), 1, 1-28 所敘述。 式（K)化合物可藉由式（L)化合物與式（p)化合物使用類 似的方法反應而製備。 33 200922473 H〇
式(P)
式(L)
催化劑 溶劑 式(H)中R4為芳族或雜芳族部分 基之額外的化合物可藉由弋。刀，或為烷基、烯基或炔 反應之原子或基團(例如，;為 諸如三氟甲烧橫酸S^R 'G ^豳烧基續酸酯’ ^ ^ ^ ΛΑ 就式（G)化合物所定義之化合 s一的偶S伙伴在鈴木-宮浦(S_-Miyaura)、菌頭 ::slilra)、史提利（StiUe)及相關的交叉偶合反應 之文獻中所敘述之條件下反應而製備。
鈐木-宮浦，史提利 菌頭或類似反應 式(Q)
例如’式（Q)化合物可在適合的鈀催化劑、適合的配位 基及適合的鹼存在下，在適合的溶劑存在下及在鈴木-宮浦 條件下以芳基-、雜芳基-、烷基·、烯基-或炔基硼酸 34 200922473 r4-b(oh)2、硼酸酯 R4_B(〇R，，，）2(其中尺，’，為 Ci_c6 烷基或 R -B(OR ’’）2代表從c〗-(：6二醇所衍生之環狀硼酸酯，尤其 較佳的是從頻哪醇所衍生之環狀硼酸酯）或金屬（尤其為 斜）^基_、雜芳基_、院基_、烯基-及炔基三氟硼酸鹽 M [R -BF3]處理（參見例如 κ. Billingsley 和 S. Buchwald 於 J· Am. Chem. Soc·，（2007)，129, 3358-3366; Η· Stefani, R. Celia 和 A. Vieira 於 Tetrahedron, (2007)，63, 3623-3658 ; N. Kudo, M. Perseghini 和 G. Fu 於 Angew. Chem. Int. Ed.， (2006)，106，4622-4643 ; J-H Li，Q-M Zhu 和 Y-X Xie 於 Tetrahedron (2006)，10888-10895 ; S· Nolan 等人於 J. 〇rg. Chem·，（2006)，71, 685-692 ; M. Lys6n 和 K. Kohler 於 Synthesis，（2006)，4, 692-698 ; K. Anderson 和 S. Buchwald 於 Angew. Chem. Int. Ed”（2005), 44，6173-6177 ; Y. Wang 和 D. Sauer 於 Organic Lett.，（2004)，6 (16)，2793-2796 ; I. Kondolff，H. Doucet 和 M_ Santelli 於 Tetrahedron, (2004)， 60，3813-381 8 ; F. Beilina, A. Carpita 和 R. Rossi 於 Synthesis (2004), 15, 2419-2440 ； H. Stefani, G. Molander, C-S Yun, M. Ribagorda 和 B. Biolatto 於 J. Org. Chem·， (2003), 68， 5534-5539 ; A. Suzuki 於 Journal of Organometallic Chemistry, (2002)，653，83 ; G. Molander 和 C-S Yun 於 Tetrahedron, (2002)，58，1465-1470 ; G. Zou，Y. K. Reddy 和 J. Falck 於 Tetrahedron Lett”（2001)，42, 4213-7215 ; S. Darses，G. Michaud 和 J-P· GenSt 於 Eur. J. Org. Chem_, (1999), 1877-1883)。 35 200922473
R2 R^BiOH^ R4-B(〇r -). 或 m+[r4-bf3]· 催化劑，驗，溶劑 式(Q)
另一選擇地’式（H)中R4為視需要經取代之乙炔的化合 物可從式（Q)化合物藉由與末端炔烴r4_H在適合的|巴催化 劑存在下及視需要在適合的銅共催化劑、適合的配位基、 適合的鹼及適合的添加劑存在下在已知完成菌頭偶合的條 件下反應而製備（參見例如U. Sorenson和E. Pombo-Villar 於 Tetrahedron，（2005)，2697-2703 ; Ν· Leadbeater 和 Β·
Tominack 於 Tetrahedron Lett., (2003), 44，8563-8656 ； K.
Sonogashira 於 J· Organomet. Chem_，（2002)，653, 46-49 ) ° 在另外的方法中，式（H)中R4為烷基、視需要經取代之 乙烯基、視需要經取代之乙炔基、視需要經取代之芳基或 視需要經取代之雜芳基的化合物可從式（Q)化合物藉由適合 的有機錫烷在史提利條件下反應而製備（參見例如R.
Bedford，C· Cazin 和 S. Hazlewood, (2002),22，2608-2609 ; S. Ley 等人於 Chem. Commun.，（2002)，10，1 134-1 135 ; G. Grasa 和 S. Nolan 於 Org_ Lett·, (2001)，3 (1)，119-122 ; T. Weskamp, V. Boehm 於 J. Organomet. Chem·, (1999)，585 (2)，348-352 ; A. Littke 和 G. Fu 於 Angew. Chem. Int. Ed·， (1999)，38 (16), 241-2413 ; J. Stille 等人於 Org. Synth.， 36 200922473 (1992), 71，97)。 式（K)化合物可從其中q及R，’如就式（q)化合物所定義 之式（R)化合物以類似的方法使用適當的原料而製備。
鈴木-宮浦，®頭 史提利或相關反應
綱 式(K) 式Q化合物可從式（L)化合物藉由與式（8)中[為適合的 脫離基（諸如_素或烷基或芳基磺酸酯）之化合物反應而 製備，其係藉由類似於該等從式（L)化合物製備式（H)化合物 之上述方法。另一選擇地，式（Q)化合物可藉由式（l)化合物 與式（T)化合物反應而製備，其係藉由類似於該等從式斤）化 合物製備式（H)化合物之上述方法。 37 200922473 式(s) 鹼，溶劑
式（R)化合物可從式（L)化合物藉由與式（U)中L為適合 的脫離基（諸如鹵素或烷基或芳基磺酸酯）之化合物的烷 基化反應，或與式（V)化合物以類似於該等上述方法之烷基 化反應而製備。 38 200922473
催化劑，溶剌 在可替換的方、表 酶氯、五氣化磷、五 ⑻化合物可以齒化劑（諸如碟 處理，視需要n 4化磷、磷醯填、草醯氣或草醯漠） 要在適合的彡容齋j中（諸士 烷）及視雲d 1渚如甲笨、氯仿、二氯甲 (w_ 要在N，N'二曱基曱醯胺的存在下，並且所#1 (W)中Hal為顏赤％ r兀且所侍式 :H臭之乙稀基鹵可藉由與式⑼、或式 一式（T)或式（V)之醇視需要在適合的驗 鈉、第二化 一醇鈉'第三丁醇鉀）及視需要在適合的溶劑中， 化八β夫喃、I4·二腭烷、二乙二醇二甲醚令反應而轉 ’分別得到式（H)、式（K)、式（Q)及式（R)化合物。 39 200922473
式α)
式（l)化合物為已知的化合物，或可以類似於該等文獻 中所欽述之途控製備（參見例如s· Spessard和B. St〇ha於 Organic Letters, (2002), V〇l. 4, No. 1 1, 1943-1946 ； F.
Effenberger 等人於 Chem· Ber·, (1984)，117，3280-3296 ; W· Childers, Jr.等人於 Tetrahedron Lett., (2006)， 2217-2218 ； H. Schneider 和 C. Luethy 於 EP1352890 ； D.
Jackson, A. Edmunds, M. Bowden 和 B. Brockbank 於 WO 2005 105745 及 WO 2005105717; R· Beaudegnies，C. Luethy, A. Edmunds，J. Schaetzer 和 S. Wendeborn 於 WO 2005123667，J-C. Beloeil，J-Y. Lallemand，T· Prange 於 Tetrahedron，（1986)，Vol. 42，Ν〇· Ϊ3，3491-3502)。 式（Μ)、式（N)、式（Ο)、式（P)、式（S)、式（T)、式（U) 40 200922473 及式（v)化合物為已知的化合物，或可從已知的化合物以已 知的方法製備（參見例如Τ. T. Denton，X. Zhang, J. R. Cashman 於 J· Med. Chem·，（2005)，48, 224-239; J. Reinhard， W. E. Hull, C.-W. von der Lieth, U. Eichhorn, H.-C. Kliem 於 J. Med· Chem.，（2001)，44，4050-4061 ; H. Kraus 和 H. Fiege MDE19547076;M_L_Boys，L.A.Schretzman,N.S·
Chandrakumar, Μ. B. Tollefson, S. B. Mohler, V. L. Downs, T. D. Penning, M. A. Russell, J. A. Wendt, B. B. Chen, H. G. Stenmark, H. Wu, D. P. Spangler, M. Clare, B. N. Desai, I. K. Khanna, Μ. N. Nguyen, T. Duffin, V. W. Engleman, Μ. B. Finn, S. K. Freeman, M. L. Hanneke, J. L. Keene, J. A. Klover, G. A. Nickols, M. A. Nickols, C. N. Steininger, M. Westlin, W. Westlin, Y. X. Yu, Y. Wang, C. R. Dalton, S. A. Norring 於 Bioorg· Med. Chem· Ltt.，（2006)，16，839-844 ; A. Silberg，A. Benko，G. Csavassy 於 Chem. Ber·, (1964)，97, 1684-1687 ; K. Brown 和 R· Newbury 於 Tetrahedron Lett·， (1969), 2797 ; A. Jansen 和 M. Szelke 於 J. Chem. Soc·, (1961)，405 ; R. Diaz-Cortes, A· Silva 和 L. Maldonado 於 Tetrahedron Lett., (1997), 38 (13), 2007-2210； M. Friedrich, A. Waechtler 和 A De Meijure 於 Synlett·，（2002), 4， 619-621 ; F. Kerdesky 和 L. Seif 於 Synth. Commun.，（1995), 25 (17), 2639-2645 ; Z. Zhao, G. Scarlato 和 R. Armstron 於 Tetrahedron Lett., (1991), 32 (13), 1609-1612 ； K-T. Kang 和 S· Jong 於 Synth. Commun. (1995)，25 (17)，2647-2653 ; 41 200922473 M. Altamura 和 E. Perrotta 於 J. Org. Chem”（1993)，58 (l) 272-274 )。 在另外的方法中，式（A)化合物可藉由式（l)化合物與三 叛酸雜芳基鉛在文獻中所敘述之條件下反應而製備（例如 參見 J. T· Pinhey，B· A. Rowe 於 Aust. J· Chem.，（1972)，32 1561-6 ; J. Morgan，J. T. Pinhey 於 J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1, (1990), 3, 715-20 ; J. T. Pinhey, Roche，E· G.於 J.
Chem· Soc_ Perkin Trans. 1，（1988)，2415-21)。較佳地，三 幾酸雜芳基鉛為式（χ)之三乙酸雜芳酯，且反應係在適合的 配位基存在下（例如，N，N_二甲胺基吡啶、吡啶、β米唾、 聯吡啶及1，10-二氮雜啡，較佳地以關於化合物（1^計丨至 1 0當量之Ν，Ν-二甲胺基吡啶）及在適合的溶劑中（例如， 氯仿、二氯甲烷及甲苯，較佳地為氯仿，且視需要在共溶 劑的存在下，諸如甲苯）於25。(：至1〇(rc下（較佳地為6〇_9〇 c )進行。
OH
'0 + 〇Ac Ac〇——Het OAc 配位基，溶劑 Η、 式(X)
0 25°C 至 100°C
Het 式（X)化合物可藉由以四乙酸鉛在適合的溶劑中（例 如，氣仿）於25°C至1〇(rc下（較佳地為25_5〇£>c )處理式 (Y)化合物而製備，視需要在催化劑的存在下，諸如二乙酸 42 200922473 • 汞，其係根據在文獻中所敘述之程序（例如參見K. Shimi, G. Boyer, J-P. Finet 和 J-P. Galy 於 Letters in Organic Chemistry, (2005)，2，407-409 ; J. Morgan 和 J. T. Pinhey 於 J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1. (1990), 3, 715-20)。 HO \ B一H©t ho"
Pb(OAc)4
AcO
Hg(OAc)2,溶劑 ~~Het OAc 式(x) 式⑺ 適合的硼酸包括雜芳基硼酸（Y!)至（Y8)，其中R3、R4、 R5、R6、R7、R8、χ、W1、W2、W3、W4 及 Z 如上述所定義。
式（Y)之雜芳基硼酸為已知的化合物，或可從已知的化 合物以已知的方法製備（參見例如Α· v〇isin等人於 43 200922473 'Tetrahedron (2005), 1417-1421 ; A. Thompson 等人於
Tetrahedron (2005)，61-5131-5135 ; K. Billingsley 和 S. Buchwald 於 J. Am. Chem. Soc.，（2007)，129，3358-3366 ; N. Kudo, M. Pauro 和 G. Fu 於 Angew. Chem. Int. Ed·，（2006)， 45, 1282-1284 ; A. Lvachtchenko 等人於 J. Heterocyclic Chem., (2004), 41 (6), 931-939 ; H. Matondo 等人於 Synth. Commun., (2003)，33 (5) 795-800 ; A. Bouillon 等人於 Tetrahedron, (2003)，59, 10043-10049; W. Li 等人於 J· Org. Chem”（2002)，67，5394-5397 ; C. Enguehard 等人於 J. 〇rg. Chem. (2000)，65, 6582-6575 ; H-N Nugyen，X. Huang 和 S. Buchwald 於 J. Am. Chem. Soc.，（2003), 125，11818-11819 ; 及其中的參考文獻）。 在另外的方法中，式（A)化合物可從式（Z)化合物藉由與 式（Y)之雜芳基蝴酸在適合的把催化劑及驗的存在下及較佳 地在適合的溶劑中反應而製備。
HO、肩 f OH
44 200922473 適合的鈀催化劑通常為鈀（II)或鈀（0)錯合物，例如二齒 化鈀（II)、乙酸鈀（II)、硫酸鈀（11)、二氯化雙（三苯膦）鈀⑴）、 二氣化雙（三環戊膦）鈀（11)、二氯化雙（三環己膦）鈀（11)、雙 (二亞苯甲基丙酮）⑽）或肆（三苯膦）㈣）。婦化劑亦可從 鈀（Π)或鈀（〇)化合物藉由與所欲之配位基錯合而、、當場夕製 備，例如藉由將欲錯合之鈀（11)鹽（例如，二氯化鈀（11) (PdCl2)或乙酸把（II)(Pd(OAc)2))與所欲之配位基（例 士一 ¥膦（PPh3 )、=環戊膦或三環己膦）及所選擇之溶 劑與式（Z)化合物、式（Y)之雜芳族硼酸及鹼組合在一起。雙 牙配位基亦適合， (二苯膦基）乙烷。 例如1，1，·雙（二苯膦基）二茂鐵或丨，2_雙 C-C偶合反應所欲之鈀（π)錯合物或鈀（〇) 錯合物係藉由加熱反應介質而因此、、當場〃形成，並接著 開始C-C偶合反應。鈀催化劑係以式（ζ)化合物為基準計從 0.001至5〇莫耳％之董被使用，較佳地從0.1至15莫耳％ 之里更佳地，叙來源為乙酸把，驗為氫氧化链及溶劑為 1，2_二甲氧基乙烷與水以4: !至j : 4之比的混合物。反應 亦可在其他的添加劑存在下進行，諸如四烷基銨鹽，例如 溴化四丁基銨。 式（Z)化合物可藉由以（二乙醯氧基）碘苯處理式（L)化合 物而製備，其係根據K. Schank和c. Lick於Synthesis， ()’ 392 ’ 或 Z. Yang 等人於 〇rg· Lett· (2002)，4 (19), 3 3 3 3之程序。 45 200922473
式(z) 中Λ另C外的方法中’式⑷化合物可從式1或1A化合物（其
存在、K4烷基）藉由水解而製備，較佳地在酸催化劑的 子下（諸如氫氯酸）及視需要在適合的溶劑存在下 氫夫南）。式1化合物（其中G為Cm烷基）可藉由 式（AA)化合物（其中G為Ci-4烷基及Hal為鹵素，較佳地 為或碘）與式（Y)之雜芳基硼酸Het-B(OH)2在適合的鈀催 化劑（例如，關於化合物（AA)計0.001-50%之乙酸鈀（11)) 及鹼（例如，關於化合物（AA)計！至1〇當量之磷酸鉀）的 存在下’且較佳地在適合的配位基存在下（例如，關於化 合物（AA)計0.001_50%之（2_二環己膦基）_2，，6，_二曱氧基聯 苯）及在適合的溶劑中（例如，甲苯）反應而製備，較佳 地在介於25T：與200。(：之間反應。類似的偶合已知於文獻 中（參見例如 Y. S. Song，Β· T. Kim 和 j._n_ Heo 於 Tetrahedron Letters (2005), 46 (36), 5987-5990 )。
46 200922473 - 式（AA)化合物可藉由齒化式（L)化合物，接著藉由所得 式（BB)之鹵化物與Ci4烧基南或原甲酸三* 一以旨在已知 條件下的烷基化反應而製備’例如藉由R. G· Shepherd和 A. C. White ( J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1 (1987) 2153-2155 )及 Y.-L· Lin 等人（Bioorg· Med. Chem. (2002)， 10，685-690 )之程序。另一選擇地，式（AA)化合物可藉由 式（L)化合物與Cw烷基鹵或原甲酸三-C,-4烷酯的烷基化反 應及在已知的條件下鹵化所得式（CC)之烯酮而製備（參見 例如 Y. S. Song, B. T· Kin 和 J.-N. Heo 於 Tetrahedron Letters (2005), 46 (36), 5987-5990 )。
烷基化
式(CC) 47 200922473 在另外的方法中’式（A)化合物可藉由式（L)化合物與適 合的雜芳基鹵（諸如碘或溴）Het-hal在適合的鈀催化劑（例 如’關於化合物（L)計0.001-50%之乙酸鈀（π))及鹼（例如， 關於化合物（L)計1至1〇當量之磷酸鉀）的存在下，且較佳 地在適合的配位基存在下（例如，關於化合物（L)計〇 〇〇1_5〇 %之（2_二環己膦基）-2’，4’，6’-三異丙基聯苯）及在適合的溶 刎中（例如’二聘烧）反應而製備，較佳地在介於2 5與 200 C之間反應。類似的偶合已知於文獻中（參見例如j. m. F〇x，X. Huang, A· ChiefTi 和 S. L. Buchwald 於 J. Am_ Chem. S〇c. (2000)，122，1360-1370 ; B. Hong 等人於 w〇 20〇5/0〇〇233 )。另一選擇地，式（A)化合物可藉由式（^化 合物與適合的雜芳基豳（諸如碘或溴）Het_ha丨在適合的銅 催化劑（例如，關於化合物（L)計0.001-50%之碘化亞銅（1)) 及鹼（例如，關於化合物（L)計丨至1〇當量之碳酸鉀）的存 在下，且較佳地在適合的配位基存在下（例如，關於化合 物（L)計〇.001_5〇%之L_脯胺酸）及在適合的溶劑中（例如， 曱基亞碼）反應而製備，較佳地在介於25〇c與2〇〇。〇之 間反應。類似的偶合已知於文獻中（參見例如Y. Jiang, N Wu，H. Wu 和 M, He 於 Synleu (2〇〇5), 18, 273 i 274
48 200922473 熟習所屬技術領域者應認知式i化合物可包括攜帶一 或多個能夠在已知的條件下轉變成可替換的取代基之取代 基的雜芳族部分，且該等化合物本身可充當製備額外的式Σ 化合物之中間物。例如，式（G)中R4為烯基或炔基的之雜環 可在已知的條件下還原成式中R4為烷基的化合物。
R2 式(G) 其中R4為烷基或烯基 R2 式(G) 其中R4為烷基 此外’式（EE)中Q為適合於交叉偶合化學的原子或美 團（諸如豳素或函烷磺酸酯）之化合物可在已知的條件下 進行鈴木-宮浦、史提利、蘭頭及相關反應，得到額外的式 G化合物。式（EE)化合物可藉由在類似於式（H)化合物轉化 成式（D)化合物所使用的該等條件下重排式（q)化合物而製 備。 49 200922473
式(Q) 式(EE) 鈴木-宮浦，簡頭， 史提利或相關反應 R"
R4 式(G) 其中R4為芳基，雜芳基， 稀基，块基或類似物 熟習所屬技術領域者應認知該類型的轉變不限於弋 (EE)化合物，但是通常可適用於任何式j中1^(為被適合^ 進一步衍化之原子或基團取代之雜環的化合物。 在得到式（A)中Het為式（I)之基團’ χ為8及γ為 之化合物的另外的方法中，式⑽中L為適合的脫離基（諸 如齒素或烧基或鹵縣韻醋）之化合物可根據已知 序以式㈣化合物處理，視需要在適合的驗存在下（諸如 三乙胺或吼幻及視需要在適合的溶劑中（諸如水、甲苯 50 200922473 丙酮、乙醇或異丙醇）（參見例如Ε· Kn〇tt於J. Chem. Soc.， (1945)，455; H. Brederick，R, G〇mpper 於 chem. Ber. (I960)， 93，723 ; B. Friedman，M. Sparks 和 R· Adamas 於 J. Am. Chem. Soc.，（1937)，59, 2262 )。
式(FF)
式(A) 其中Het為(¾} X為S及Z為N 另一選擇地，式（FF)化合物以硫脲以已知的程序處理 (參見例如 V. Pshenichniya，〇· Gulyakevich 和 V. Kripach 於 Chemistry of Heterocyclic Compounds, (1990), 1〇, 1409-1412)，且所得式（HH)產物可在山德邁耳（Sandmeyer) 條件下藉由轉化成式（Π)中Hal為氯、漠或埃的之_化物而 轉化成額外的式（A)化合物，且式（11)化合物可在用於鈐木_ 宮浦、菌頭、史提利及相關反應的已知條件下藉由交叉偶 合而轉化成式（A)化合物，如先前所敘述。 51 200922473
L 1 NH2 式(GG) 驗，溶剤
山德邁耳
交叉偶合
其中Het為（RJ X為S及Z為N 式（FF)化合物可從式（L)化合物在已知的條件下製備 (參見例如 V. Pshenichniya，0· Gulyakevich 和 V. Kripach 於 Chemistry of Heterocyclic Compounds, (199〇) \ q 1409-1412 ; V· Pshenichniya，0· Gulyakevich 和 V. Kripach 於 Russian Journal of Organic Chemistry，（1989)，25 (9) 1882-1888) 。 5 …，u叹你τ 獲侍的未 經L改之形式用作除草劑，但是彼等通常使用調配佐劑， 1物載：:1及表面活性物質以各種方式調配成除草組 。配了具有各種物理形式，例如具有撒布劑、凝 52 200922473 膠、可濕性粉劑、水分散性顆粒、水分散性錠劑、泡騰壓 製錠劑、可乳化濃縮劑、可微乳化濃縮劑、水包油塑乳液、 油懸劑、水性分散劑、油性分散劑、懸乳劑、膠囊懸浮劑、 可乳化顆粒、可溶性液體、水溶性濃縮劑（以水或與水混 浴之有機溶劑作為載劑）、浸潰型聚合物膜的形式或例如 從1 999年的第5版植物保護產品之FAO規格的發展及使用
手冊（Manual on Development and Use of FAO
Specificati〇ns for PIant Pr〇tecti〇n pr〇ducts )已知的其他形 式。該等調配物可直接使用或在使用之前稀釋。稀釋之調 配物可例如以水、液體肥料、微營養素、生物有機體、油 或溶劑而製備。
V 調配物可例如藉由活性成分與調配佐劑混合而製備， 以便獲得具有細碎的㈣、顆粒、溶液、分散液或乳液形 式之組成物。活性成分亦可與其他佐劑調配，例如細碎的 固體、礦物質油、植物油、修改之植物油、有機溶劑、水、 表面活性物質或其組合。活性成分亦可包括在由聚合物所 組成之非常細的微膠囊中。微膠囊包括在多孔載劑中的、、舌 性成分。該载劑能夠使活性成分以受控制的量釋放至其周 圍中（例如，、緩慢釋放）。微膠囊經常具有從〇 米之直徑。微膠囊包括具有以膠囊重量計約從Μ至 量％之量的活性成分。活性成分可以整塊固體形式 體或液體分散液φ &么# ^ 膠…人式或適合的溶液形式存在。包 膝缚膜包3例如天然及合成膠、纖維素、苯乙稀·丁 聚物、聚两烯腈、$丙烯酸酯、聚酯、聚酿胺、聚尿素： 53 200922473 聚胺基甲酸酯或以化學修 >文之聚合物及黃原酸澱粉或 所屬相關技術領域者已知 物… 的其他聚合物。另一選擇地，. 可能形成非常細的微膠囊中活性成分係以細碎的粒子 形式存在於基底物f的固體基質巾，但是在該例 將微膠囊包膠。 木 〆 適合於製備根據本發明之組成物的調配佐劑就其本身 而言為已知的。可使用下列者作為液體載劑：纟、甲苯、 二甲苯、石油醚、植物油、丙嗣、甲基乙酮、環己酮、酸 酐、乙腈、乙醯苯、乙酸戊酯、2_丁酮、碳酸丁烯醋、氯笨、 環己烷、ί衣己醇、乙酸之烷酯、二丙酮醇、I〗·二氯丙烷、 一乙醇胺對-一乙苯、二乙二醇、：乙二醇松脂酸酯、二 乙一醇丁醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇曱醚、Ν,Ν_二甲基 曱酉5&胺一甲基亞石風、I，4 -二聘烧、二丙二醇、二丙二醇曱 、二丙二醇二苯甲酸酯、二普西托（dipr〇xh〇1 )、烷基 吡咯啶酮、乙酸乙酯、2·乙基己醇、碳酸乙烯酯、^，卜三 氯乙炫、2-庚酮、α _蒎烯、d-葶、乳酸乙酯、乙二醇、乙 二醇丁醚、乙二醇甲醚、丁内酯、甘油、乙酸甘油酯、
一乙酸甘油酯、三乙酸甘油酯、十六院、己二醇、乙酸異 戊酯、乙酸異莰酯、異辛烷、異佛酮、異丙苯、肉豆蔻酸 異丙酯、乳酸、月桂胺、亞異丙基丙酮、甲氧基丙醇、曱 基異戊酮、甲基異丁酮、月桂酸曱酯、辛酸曱酯、油酸甲 酉曰、二氣甲烧、間-二甲苯、正-己烧、正-辛胺、十八烧酸、 辛胺乙酸酯、油酸、油胺、鄰-二甲苯、酚、聚乙二醇（PEG 400 )、丙酸、乳酸丙酯、碳酸丙烯酯、丙二醇、丙二酵甲 54 200922473 縫、對-二甲苯、甲苯、磷酸三乙醋、三 一 酸、石蠟、礦物質油、三氯 一醇、一曱本石頁 7 ^ ,t r ^ τ m 、 、乂氣乙烯、乙酸乙酯、 乙西文戊§曰、乙酸丁 S曰、丙二醇甲醚、二 乙醇、異丙醇及高分子量醇類，諸；二二醇甲醚、甲醇、 醇、辛醇、乙二醇、丙二醇、甘油、N\V氣糖醇、己 -氧化碎、鎂 碳酸鈣、膨土、鈣蒙脫 粉、浮石、木粉、研磨之核桃 iSO.lOOl. (c) & (d) 類似物。水通常是稀釋濃縮劑之載劑選摆…略咬酮與 劑為例如滑石粉、二氧化鈦、葉合的固« 鋁海泡石黏土、矽藻土、石灰石、 石、綿籽殼、小麥粉、大豆 殼、木質素及類似材料，如例如在 中所敘述。 大多數表面活性物質可右剎从 有矛〗地用於固體及液體調配物 一者中，尤其在可於使用之益丨、；甚杰丨 1之用之則以載劑稀釋的該等調配物 中。表面活性物質可為陰離子、陽齙 丁險離子、非離子或聚合物， 且可用作乳化、濕潤或懸浮劑或用於其他目的。典型的表 面活性物質包括例如烧基硫酸之鹽類，諸如月桂基硫酸二 乙醇銨；烷芳基磺酸之鹽類，諸如十二烷基苯磺酸鈣；烷 酚-環氧烷烴加成產物，諸如壬酚乙氧基化物；醇_環氧烷烴 加成產物’諸如三癸醇乙氧基化物；肥皂，諸如硬脂酸鈉； 烷萘磺酸之鹽類，諸如二丁萘磺酸鈉；磺基丁二酸鹽之二 烧醋’諸如二（2 -乙己基）續基丁二酸鈉；山梨醇g旨，如油酸 山梨醇酯；四級胺，諸如氯化月桂基三甲基銨；脂肪酸之 艰乙一醇自旨’諸如聚硬脂酸乙一醇醋，壤氧乙烧與環氧丙 烷之嵌段共聚物；及單-及二-烷基磷酸酯之鹽類；及亦有更 55 200922473 多例如在紐澤西州Ridgewood之MC出版公司於1981年 的’’McCutcheon’s Detergents and Emulsifiers Annuals” 中所 敛述之物質。 可經常用在殺害蟲調配物中的更多佐劑包括結晶抑制 劑、黏度修改物質、懸浮劑、染料、抗氧化劑、起泡劑、 光吸收劑、混合輔助劑、除泡劑、複合劑、中和或pH_修改 物質與緩衝劑、腐蝕抑制劑、香料、濕潤劑、吸收改良劑、 微營養素、增塑劑、助滑劑、潤滑劑、分散劑、增稠劑、 抗冷凝劑、殺微生物劑及亦包括液體與固體肥料。 調配物亦可包含額外的活性物質，例如更多的除草 劑、除草劑安全劑、植物生長調節劑、殺真菌劑或殺昆 劑。 根據本發明之組成物可另外包括添加劑，其包含植物 或動物來源之油、礦物質油、該等油之貌醋或該等油之混 合物W生物。在根據本發明之組成物中所使用之油添 Μ的量通常係以喷霧混合物為基準計從⑽至ι〇%。例 :’在已製備好喷霧混合物之後，可將油添加劑以所欲之 :度加入噴霧槽中。較佳的油添加劑包含礦物質油或植物 二源之油，例如油菜軒油、撖欖油或向曰葵油；乳化之植 ^由，諸如鑛〇⑽㈤糾〇uleneC繼daIn〇 ;植物 备源之油的烧醋，例如甲基衍生物；或動物來源之油如 :油或牛肉脂。較佳的添加劑包括例如基本上80重量％之 ::的烷酯及15重量％之甲基化油菜籽油作為活性組份， ”包括5重量％之習知的乳化劑及PH修改齊卜尤其較佳 56 200922473 的油添加劑包含C^C：22脂肪酸之烷酯，尤其為Ci2_Ci8脂肪 酸之甲基衍生物，例如月桂酸、棕櫚酸及油酸之甲酯為重 要的添加劑。該等酯類已知為月桂酸甲酯（CAS_丨i丨_82_0)、 棕櫚酸甲酯（CAS-112-39-0)及油酸甲酯（CAS_U2_62_9)。 較佳的脂肪酸甲酯衍生物為Emery® 2230及2231 ( Cognis
GmbH )。該等及其他的油衍生物亦從南伊利諾大學於卯 年的第 5 版 Compendium 〇f Herbicide Adjuvants 已知。另— 較佳的佐劑為Adigor㊣（Syngenta AG)，其為甲基化油菜 籽油為主之佐劑。 油添加劑的施予及作用可藉由將其與表面活性物質， 如非離+、陰料或陽離子界面活性劑組合而進一步改 良。適合的陰離子、非離子及陽離子界面活性劑之實例陳 列在WO 97/34485的第7及8頁中。較佳的表面活性物質 為十二烷基苯磺酸鹽類型，尤其為其鈣鹽之陰離子界面活 f生劑1亦為脂肪醇乙氧基化物類型之非離子界面活性 劑。特別優先選擇具有從5至4〇之乙氧基化程度之乙氧基 化CwC22脂肪醇。市售可取得的界面活性劑之實例為 G嶋㈣自型（clariantAG)。亦較佳的是聚石夕氧界面活性 劑’尤其為聚烷基化氧修改之七甲基三矽氧烷，其以例如 77®於市；^上取得，且亦為全I化界面活性劑。盘 總添加劑有關的表面活性物質之濃度通常從】1 %重量 由油或礦物質油或其衍生物與界面活性劑之混合物所 組成之油添加劑的實例為⑽耐ME咖、Turbocharge⑧
Snygenta AG，CH)及 ActiPron® (BP Oil UK Limited, 57 200922473 ；GB )。 此表面活性物質亦可單獨用在調配物中，換言之，沒 有油添加劑。 此外，加入油添加劑/界面活性劑混合物中的有機溶劑 可致力於進一步增強作用。適合的溶劑為例如s〇ivess〇⑧ (ESSO )及 Aromatic Solvent® ( Exxon 公司）。該等溶劑 的濃度可以總重量計從1〇至8〇重量％。可與溶劑摻合的 該等油添加劑敘述在例如US-A-4 834 908中。在本文所揭 f 示之市售可取得的油添加劑已知名為MERGE@ ( BASF公 司）者。根據本發明較佳的另一油添加劑為sc〇RE⑧ (Syngenta Crop Protection Canada)。 除了上述所列之油添加劑之外，為了增強根據本發明 之組成物的活性，亦有可能將烷基吡咯啶酮之調配物（例 如，Agrimax® )加入噴霧混合物中。亦可使用合成乳膠之 調配物，如例聚丙烯醯胺、聚乙烯基化合物或聚_丨_對-薄荷 稀（例如，Bond®、Courier®或Emerald®)。包括丙酸之 ^ / 、，六 洛液’例如Eurogkem Pen-e-trate®亦可混入喷霧混合物中， 作為活性增強劑。 除草調配物通常包括從0.1至99重量％，尤其從〇1 至95重量％之式I化合物及從1至99.9重量％之調配佐 劑’其較佳地包括從0至25重量％之表面活性物質。反之， 市售產品較佳地被調配成濃縮劑，而最終使用者一般係使 用稀釋的調配物。 式I化合物之施予率可在寬廣的限度内改變，且依據土 58 200922473 •壤本性、施予方法（萌芽前或後、種子彼覆、施予種溝、 非耕地施予等）、作物植物、欲控制之雜草或草坪、當時 的氣候條件及由施予方法、施予時間與標的作物所支配的 其他因素而定。根據本發明之式I化合物通常以丨至 么克/公頃之施予率施予’尤其從5至1 000公克/八t 佳的調配物尤其具有下列組成物： 員。較 (%=重量百分比） 11 活性成分： 表面活性劑： 液體載劑： 活性成分： 固體載劑： 遷浮濃縮倒二 活性成分： U 水： 表面活性劑： 31摄性粉齊丨二 活性成分： 表面活性劑： 固體載劑： 顆粒： 活性成分： 1至95% ’較佳地為60至 1至30%，較佳地為5至2〇% 1至80%，較佳地為1至35% (M至10% ’較佳地為（M至％
99.9至90%，較佳地為99 Q 至 5至75% ’較佳地為1〇至 94至24% ’較佳地為88至 足3〇% 1至40%，較佳地為2至3〇% 0.5至90% ’較佳地為i至8〇私 0.5至20% ’較佳地為1至15% 5至95% ’較佳地為15至 (Μ至30% ’較佳地為〇」 59 15% 200922473 \ 固體載劑： 5至70%，較佳地為97至 下列的實施例進一 步說明但不限制本發明 F 1.可釓化濃縮劑 a) b) c) 活性成分 5% 10% 25% 十二烷基苯磺酸鈣 6% 8% 6% 蓖麻油聚乙二醇趟 (36莫耳之環氧乙烷） 4% - 4% 辛酚聚乙二醇醚 _ (7-8莫耳之環氧乙烷） NMP . 4% 10% 方族烴混合物C9-C12 85% 78% 55% 任何所欲濃度之乳劑可從該等濃 製備。 縮劑藉由 IZJ容液 a) b) c) 活性成分 U甲氧基-3-(3-甲氧 5% 10% 50% 1丙氧基）-丙烷 20% 20% 1 乙二醇 MW 400 20% 10% 20% 16% 水稀釋而 d) 90% 30% 85%d) 50%8% 4%2% 芳族烴混合物C9-C12 75% 6〇% 該溶液適合以微滴形式施予。 £^3：濕性粉劑 a) 活性成分 5 % 木質續酸鈉 4 % 10% b) 25% c) 50% 3% d)80% 60 200922473 月桂基硫酸納 2% 一異丁基萘續酸鈉 _ 辛酚聚乙二醇醚 (7-8莫耳之環氧乙烷） 高分散性石夕酸 1% 高嶺土 88% 將活性成分與佐 劑徹底混 機中徹底研磨，得到可濕性粉 何所欲濃度之懸浮劑 〇 £4.包膜顆舱 a) 活性成分 0.1% 高分散性石夕酸 0.9% 無機載劑 (直徑0.1-1毫米） 例如CaC03或Si02 99.0% 將活性成分溶解在二氣曱 及接著將溶劑在真空 中蒸發。 F5.包膜顆齟 a) 活性成分 0.1% 聚乙二醇MW 200 1.0% 高分散性碎酸 0.9% 無機載劑 (直徑0.1-1毫米） 例如CaC03或Si02 98.0% 3% - 4% 6% 5% 6% 1% 2% - 3% 5% 62% 35% » 及將混合物在適 合的磨碎 ，其可以水稀釋 ，得到任 b) c) 5% 15% 2% 2% 93% 83% 中， 將溶液喷霧在載劑上 b) c) 5% 15% 2% 3% 1% 2% 92% 80% 200922473 將細研磨之活性成分在混合器中均 勻地塗覆 於以聚乙 二酵弄濕的載劑上。以該方式獲得無粉塵之包膜顆粒。 F6.擠壓器顆Μ a) b) c) d) 活性成分 0.1% 3% 5% 15% 木質續酸納 1.5% 2% 3% 4% 羧曱基纖維素 1.4% 2% 2% 2% 南嶺土 97.0% 93% 90% 79% 將活性成分與佐劑混合及研磨，並將混合物以水弄 濕。將所得混合物擠壓 及接著在空氣流中乾燥。 F 7.粉劑 a) b) c) 活性成分 0.1% 1% 5% 滑石 39.9% 49% 35% 1¾嶺土 60.0% 50% 60% 即用型粉劑係藉由將活性成分與載劑混合及將混合物 在適合的磨碎機中研磨而獲得。 F 8.懸浮濃縮冑|丨 a) b) c) d) 活性成分 3% 10% 25% 50% 乙二醇 5% 5% 5% 5% 辛紛聚乙二醇喊 - 1% 2% - (15莫耳之環氧乙烷） 木質磺酸鈉 3% 3% 4% 5% 羧曱基纖維素 1% 1% 1% 1% 3 7 %甲酸水溶液 0.2% 0.2% 0.2% 0.2% 聚矽氧油乳液 0.8% 0.8% 0.8% 0.8% 62 200922473 水 劑， 浮劑 87% 79% 將研磨之活性成分與佐劑緊密混告 可藉由以水稀釋而從該濃縮劑製備^ 〇 62% 38% ’得到懸浮濃縮 何所欲濃度之懸 本發明亦關於一種選擇性控 草坪及雜草之方法，其包含以戈二有用植物之作物中的 其㈣… 合物處理有用植物或在 其栽種下的面積或所在地。 其中可使用根據本發明之組成物
的有用植物之作物尤 八匕括孝又類、棉、大豆、甜菜 未甘庶、農園作物、油菜、 米及稻米，且用於非選擇性雜草控制。應瞭解術語、、作 "包括由於習知的繁殖或基因工程方法而成為耐受於 除草劑或除草劑類別（例如，ALS、Gs、Epsps、pp〇、ACC· 及hppd抑制劑）之作物。已藉由習知的繁殖方法而成為耐 受於例如咪唑啉酮，諸如甲氧咪草煙（imazamox)之作物 的實例為Ciearfield·日油菜（c_la)。已藉由基因工 程方法而成為而ί受於除草劑之作物的實γ列包括例如抗嘉碟 塞（glyphosate )及抗固殺草（gluf〇sinate )之粟米變種， 其以商標名稱RoundupReady®及LibertyLink®於市場上取 得。欲控制之雜草可為單子葉及雙子葉雜草二者，如例繁 縷屬（Stellaria)、豆瓣菜屬（Nasturtium )、剪股穎屬 (Agrostis)、馬唐屬（Digitaria)、燕麥屬（Avena)、狗尾草 屬（Setaria)、白芥屬（Sinapis)、黑麥草屬（Lolium )、茄屬 (Solatium)、稗屬（Echinochloa)、蘼草屬（Scirpus)、雨久花屬 (Monochoria)、慈姑屬（Sagittaria)、麥屬（Bromus)、看麥 63 200922473 • 娘屬（Al〇pecurus)、蜀黍屬（Sorghum)、羅氏草屬 (Rottboellia )、莎草屬（Cyperus)、白麻屬（Abutil〇n)、黃 花稔屬（Sida)、蒼耳屬（Xanthium)、莧屬（Amaranthus)、 藜屬（Chenopodimn)、番薯屬（Ip〇m〇ea)、菊屬 (Chrysanthemum )、豬殃殃屬（Galium)、堇菜屬（Vi〇⑷及 婆婆納屬（Veronica)。 亦應瞭解作物為那些藉由基因工程法而成為對抗有害 昆蟲的作物，例如，Bt粟米（對抗歐洲玉米螟（c〇rn b〇rer ))、
Bt棉（對抗棉鈐象鼻蟲（b〇u weevil ))及亦為馬鈴薯 (對抗科羅拉多甲蟲（C〇lorad〇 beetle ))。Bt粟米之實例 為NK㊣之Bt-1 76粟米混種（Syngenta Seeds ) 。Bt毒素為 以蘇力菌（Bacillus thuringiensis) 土壤細菌天然形成之蛋 白質。毒素及能夠合成該等毒素之轉基因植物的實例敘述 在 EP-A-451 878、EP-A-374 753、WO 93/07278、W0 95/34656、WO 03/052073 及 EP-A-427 529 中。包括一或多 種編碼殺昆蟲抗性及表現一或多料素的基因之轉基因植 物的實例為Kn〇ck0麟（粟米）、YieldGard⑧（粟米）、 NuCOTIN33B® (棉）、B〇Ugard⑧（棉）、⑧（馬 鈐薯）、NatureGard®及protexcta®。植物作物及其種子可 對抗除草劑，且同時亦可對抗昆蟲取食（、、堆疊式〃轉基 因品項）。種子可以例如具有表現殺昆蟲活性Cry3蛋白的 此力，且同時耐觉於嘉磷塞。應瞭解術語、、作物〃亦包括 由於絮知的繁殖或基因工程方法（包括所謂的出產特性之 方法例如經改良之氣味、貯存穩定性、營養素含量）所 64 200922473 - 獲得之作物。 應瞭解在栽種下的面積包括作物植物已生長之土地， 以及意欲栽種該等作物植物之土地。 根據本發明之式1化合物亦可與其他的除草劑組合使 式化δ物的下列混合物尤其重要。較佳地，在這些混 合物中’式I化合物為下列表！至2〇4中所列之該等化合物 中之一者： 〆 式I化合物+乙草胺（acetochlor)、式I化合物+三氟羧 草醚（acifluorfen)、式I化合物+三氟羧草醚-鈉、式；[化 合物+苯草醚（acl〇nifen)、式j化合物+丙烯醛（acr〇lein)、 式I化合物+拉草（alachlor )、式I化合物+枯殺達 (alloxydim )、式I化合物+烯丙醇、式[化合物+草殺淨 (ametryn)、式 I化合物 + 胺 β坐草酮（amicarbazone )、式 I化合物+續胺績隆（ami do sulfur on )、式I化合物+二氣 胺基°比咬酸（aminopyralid )、式ι化合物+阿米托 (amitrole )、式I化合物+胺基磺酸銨、式I化合物+莎 稗鱗（anilofos)、式I化合物+亞速爛（asulam)、式I 化合物+草脫淨（atrazine )、式I化合物+艾維激素 (aviglycine )、式 I 化合物 + 草芬定（azafenidin )、式 I 化合物+阿日姆沙風（azimsulfurone )、式I化合物+ BCPC、 式I化合物+畢氟布它密德（beflubutamid)、式I化合物 +草除靈（benazolin )、式 Ϊ化合物+倍卡貝容 (bencarbazone)、式 I 化合物 + 倍尼芬（benfluralin)、 式I化合物+倍氟沙特（benfuresate )、式1化合物+免速 65 200922473 隆（bensulfuron)、式I化合物+免速隆-甲基、式I化合 物+地散構（bensulide )、式I化合物+滅草松（bentazone )、 式I化合物+雙苯嘧草酮（benzfendizone )、式I化合物+ 倍柔畢塞隆（benzobicyclon)、式I化合物+倍柔分奈普 (benzofenap)、式I化合物+必芬諾（bifenox)、式I化 合物+雙丙胺膦（bilanafos )、式I化合物+雙草謎 (bispyribac )、式I化合物+雙草醚-鈉、式I化合物+硼 砂（borax)、式I化合物+克草（bromacil )、式I化合物 f +溴丁草胺（bromobutide )、式I化合物+溴分諾希姆 (bromofenoxim )、式 I 化合物+溴苯亞硝酸鹽 (bromoxynil )、式 I 化合物 + 丁 基拉草（butachlor )、式 I化合物+布它分奈希爾（butafenacil )、式I化合物+布 它密服斯（butamifos )、式I化合物+ 丁樂靈（butralin )、 式I化合物+布托西定（butroxydim )、式I化合物+ 丁草 特（butylate )、式 I 化合物 + 二曱基肺酸（cacodylic acid )、 式Ϊ化合物+氯酸#5、式I化合物+饥分司托爾 (cafenstrole )、式 I 化合物 + 雙酿草胺（carbetamide )、 式Ϊ化合物+克繁草（carfentrazone )、式I化合物+克繁 草-乙基、式I化合物+ CDEA、式I化合物+ CEPC、式I 化合物+整形醇（chlorflurenol )、式I化合物+整形醇-曱基、式I化合物+克洛達柔（chloridazon )、式I化合物 +氣嘴績隆（chlorimuron )、式I化合物+氣η密績隆-乙基、 式I化合物+氯乙酸、式I化合物+綠麥隆（chl〇r〇toluron )、 式I化合物+氯苯胺靈（chlorpropham )、式I化合物+綠 66 200922473 磺隆（chlorsulfuron )、式I化合物+二曱基氯酞酸 (chlorthal)、式I化合物+二甲基氣酞酸_二甲基、式I 化合物+吲嗓綱草酯（cinidon )-乙基、式I化合物+環庚 草醚（cinmethylin )、式 I 化合物 + 西速隆（cinosulfuron )、 式I化合物+洛草隆（cisanilide)、式I化合物+勉草同 (clethodim )、式 I 化合物 + 可洛丁 那福普（ci〇dinafop )、 式I化合物+可洛丁那福普-丙炔基、式I化合物+異惡草 酮（Clomazone)、式I化合物+克普草（clomeprop )、式 ί I化合物+畢克草（clopyralid )、式I化合物+可洛拉蘇蘭 (cloransulam )、式I化合物+可洛拉蘇蘭-甲基、式I化 合物+ CMA、式I化合物+ 4-CPB、式I化合物+ CPMF、 式I化合物+ 4-CPP、式I化合物+ CPPC、式I化合物+甲 酌·、式I化合物+庫密路若（cumyluron )、式I化合物+ 氰胺（cyanamide )、式I化合物+氰乃淨（ cyanazine)、 式I化合物+ ¾草特（cycloate)、式I化合物+環丙癌確 隆（cyclosulfamuron )、式 I 化合物 + 環殺草（cycloxydim )、 | 式I化合物+賽伏草（cyhalofop )、式I化合物+賽伏草-丁基、式I化合物+ 2,4-D、式I化合物+ 3,4-DA、式I化合 物+殺草隆（daimuron )、式I化合物+得拉本（dalapon )、 式I化合物+邁隆（dazomet)、式I化合物+ 2,4-DB、式I 化合物+ 3,4-DB、式I化合物+ 2,4-DEB、式I化合物+甜 菜安（desmedipham )、式 I化合物+狄斯密退恩 (desmetryn )、式I化合物+殺草畏（dicamba)、式I化 合物+二氯苯睛（dichlobenil )、式I化合物+鄰-二氯苯、 67 200922473 式i化合物+對-二氯苯、式I化合物+滴丙酸 (dichlorprop)、式I化合物+滴丙酸-P、式！化合物+禾 草靈（diclofop )、式I化合物+禾草靈-曱基、式I化合物 +雙氣磺草胺（diclosulam )、式I化合物+野燕枯 (difenzoquat )、式 I 化合物+ 甲硫野燕枯 (difenzoquat-metilsulfate )、式 I 化合物 + 她》比草胺 (diflufenican )、式 I 化合物+狄氟陸分柔皮 (diflufenzopyr)、式 I 化合物 + 惡唑隆（dimefur〇n)、式
I化合物+哌草丹（dimepiperate )、式I化合物+狄麥賽可 樂（dimethachlor )、式 I化合物+狄麥赛密退恩 (dimethametryn )、式 I 化合物 + 汰草滅（dimethenamid )、 式I化合物+汰草滅-P、式I化合物+穫萎得（dirnethipin )、 式I化合物+二甲基胂酸、式I化合物+撻乃安 (dinitramine)、式 I 化合物 + 狄諾特伯（dinoterb )、式 I 化合物+大芬滅（diphenamid )、式ι化合物+異丙淨 (dipropetryn )、式I化合物+敵草快（diquat )、式I化 合物+敵草快二溴化物、式I化合物+汰硫草（dithiopyr )、 式I化合物+達有龍（diuron )、式I化合物+ DNOC、式I 化合物+ 3,4-DP、式I化合物+ DSMA、式I化合物+ EBEP、 式I化合物+草多索（endothal )、式I化合物+ EPTC、式 I化合物+抑死夫（esprocarb )、式I化合物+伊賽氟拉林 (ethalfluralin )、式 I 化合物+胺苯磺隆 (ethametsulfuron)、式I化合物+胺苯磺隆_甲基、式j 化合物+益收生長素（ethephon )、式ι化合物+益覆滅 68 200922473 . (ethofumesate )、式 I 化合物 + 氯氣苯謎（ethoxyfen )、 式I化合物+亞速隆（ethoxysulfuron )、式I化合物+伊 托班尚尼德（etobenzanid )、式I化合物+芬殺草 (fenoxaprop ) -P、式I化合物+芬殺草-P_乙基、式I化合 物+四唑草胺（fentrazamide )、式I化合物+硫酸亞鐵、 式I化合物+氟燕靈（flamprop ) -M、式I化合物+伏速隆 (flazasulfuron)、式 I 化合物 + 麥喜為（fl〇rasulam )、式 I化合物+伏寄普（fluazifop )、式I化合物+伏寄普-丁基、 式I化合物+伏寄普-P、式I化合物+伏寄普·ρ_ 丁基、式I 化合物屮異丙吡草酯（fluazolate )、式I化合物+氟酮磺 隆（flucarbazone )、式I化合物+氟酮磺隆-鈉、式I化合 物+氟°定乙石黃隆（flucetosulfuron )、式I化合物+氟消草 (fluchloralin)、式 I 化合物 + 氟噻草胺（flufenacet)、 式I化合物+氟噠嗓草_ ( flufenpyr )、式I化合物+氟噠 嗪草酯-乙基、式I化合物+氟節胺（fluinetralin )、式I化 合物+氟滅索侖（flumetsulam)、式I化合物+氟米克拉 l ( flumiclorac )、式I化合物+氟米克拉戊基、式I化合物 +氟米沙立（flumioxazin )、式I化合物+氟米羅必 (flumipropin )、式 I 化合物 + 伏草隆（fluometuron )、式 I化合物+敦羅格賴可芬（fluoroglycofen )、式I化合物+ 氟羅格賴可务-乙基、式I化合物+氟杉普（fluoxapr〇p )、 式I化合物+弗拉頗沙（flupoxam )、式I化合物+ |t普帕 希耳（flupropacil )、式 I化合物+氟普洛奈特 (fluproanate )、式 I 化合物 + 氣咬嘴續隆（fiupyrsulfuron )、 69 200922473 式i化合物+氟啶嘧磺隆-曱基-鈉、式i化合物+芴丁醋 (flurenol)、式I化合物+氟立得酮（fiuridone)、式I 化合物+氟氯得酮（flurochloridone )、式I化合物+氟氣 比（fluroxypyr )、式 I 化合物 + 呋草酮（flurtamone )、式 I化合物+氟嗔乙草酯（Huthiacet)、式I化合物+氟嗟乙 草S旨甲基、式I化合物+福美沙芬（fomesafen )、式I化 合物+醯胺確隆（foramsulfuron)、式I化合物+福殺胺 (fosamine)、式 I 化合物 + 固殺草（glufosinate)、式 I 化合物+固殺草-錢、式I化合物+嘉鱗塞（glyphosate )、 式I化合物+鹵殺福隆（halosulfuron)、式I化合物+ _ 殺福隆-曱基、式I化合物+鹵斯弗（haloxyfop )、式I化 合物+鹵斯弗-P、式I化合物+ HC-252、式I化合物+環己 基二曱胺基曱基三拼二_ ( hexazinone )、式I化合物+依 馬扎沙苯（imazamethabenz )、式I化合物+依馬扎沙苯_ 甲基、式Ϊ化合物+甲氧味草煙（imazamox )、式I化合物 +甲咪唑煙酸（imazapic )、式I化合物+依滅草 ( imazapyr)、式 I 化合物 + 嗎紮奎（imazaquin)、式 I 化 合物+嗎茲紮比（imazethapyr)、式I化合物+嗎殺福隆 (imazosulfuron )、式 I 化合物 + 茚草酮（indanofan )、式 I化合物+破曱烧、式I化合物+破曱石黃隆（i〇d〇suifuron )、 式I化合物+填甲績隆-甲基-鈉、式I化合物+埃苯亞硝酸 鹽（ioxynil )、式I化合物+異丙土隆（isoprotur〇n )、式 I化合物+依索隆（isouron )、式I化合物+依索苯 (isoxaben )、式 I 化合物 + 異号氯托（isoxachlortole )、 200922473 . 式I化合物+異咢氟草（isoxaflutole )、式I化合物+依索 比立福（isoxapyrifop )、式 I 化合物 + 卡靈草（karbutilate )、 式I化合物+累托芬（lactofen)、式I化合物+環草定 (lenacil )、式I化合物+利倫（linuron )、式I化合物+ MAA、式I化合物+ MAMA、式I化合物+ MCPA、式I化 合物+ MCPA-硫乙基、式I化合物+ MCPB、式I化合物+ 曱氯丙酸（mecoprop )、式I化合物+甲氯丙酸-p、式I化 合物+美芬司特（mefenacet )、式I化合物+氟草續 (mefluidid)、式 I 化合物 + 石黃胺績隆（mesosulfuron)、 式I化合物+磺胺磺隆-曱基、式I化合物+曱基磺草_ (mesotrione )、式I化合物+米塔姆（metam )、式I化合 物+咢唑醯草胺（metamifop )、式I化合物+滅得群 (metamitron )、式 I 化合物 + 美他佐克羅（metazachlor )、 式I化合物+甲基苯售隆（methabenzthi azuron)、式 I 化 合物+滅草唑（methazole)、式I化合物+甲基肺酸、式夏 化合物+曱基代隆（methyldymron )、式I化合物+異硫代 SL酸甲酉日、式I化合物+美他苯隆（metabenzuron )、式I 化合物+秀谷隆（metobromuron )、式I化合物+美托克羅 (metolachlor)、式I化合物+ S-美托克羅、式I化合物+ 美托沙泣（metosulam )、式I化合物+美牦斯隆 (metoxuron)、式 I 化合物 + 赛克津（metribuzin)、式！ 化合物+美殺福隆（metsulfuron )、式I化合物+美殺福隆 -甲基、式I化合物+ MK-616、式j化合物+莫立那特 (molinate)、式I化合物+莫那立得（m〇nalide)、式工 71 200922473 , 化合物+ MSMA、式I化合物+那普苯胺（naproanilide )、 式I化合物+那普酿胺（napropamide )、式I化合物+抑 草生（naptalam )、式I化合物+ NDA-402989、式I化合物 +草不隆（neburon )、式 I化合物+尼可殺福隆 (nicosulfuron )、式 I 化合物+尼比拉西芬 (nipyraciophen )、式I化合物+正-甲基嘉填塞、式I化 合物+壬酸、式I化合物+達草滅（norflurazon )、式I化 合物+油酸（脂肪酸）、式I化合物+奥貝卡（orbencarb )、 式I化合物+歐索績目洛（othosulfamuron )、式I化合物 +黃草消（oryzalin )、式I化合物+奥沙地奇（oxadiargyl )、 式I化合物+惡草靈（oxadiazon )、式I化合物+環氧嘴石黃 隆 （oxasulfuron )、式 I 化合物+ 号嗪草酮 (oxaziclomefone )、式 I 化合物 + 奥氟芬（oxyfluorfen )、 式I化合物+巴拉刈（paraquat )、式I化合物+巴拉刈二 氯化物、式I化合物+克草敵（pebulate )、式I化合物+ 培那西林（pendimethalin )、式I化合物+磺醯脲 V. 、 (penoxulam)、式I化合物+五氣酚、式I化合物+曱氯 草胺（pentanochlor )、式 I化合物+環戊咢草酮 (pentoxazone)、式 I 化合物 + 烯草胺（peth〇xamid)、式 I化合物+石油、式Ϊ化合物+甜菜寧（phenmedipham )、 式I化合物+甜菜寧-乙基、式I化合物+毒莠定 (picloram)、式I化合物+吡氟酰草胺（pic〇linafen)、 式I化合物+ °比諾山登（pinoxaden )、式I化合物+派羅福 (piperophos)、式I化合物+亞胂酸鉀、式ι化合物+疊 72 200922473 氮化鉀、式I化合物+普立拉克（pretilachlor )、式I化合 物+撲滅磺甲酯（primisulfuron )、式I化合物+撲滅磺甲 西旨··甲基v式I化合物+普魯二胺（prodiamine )、式I化合 物+普氟13坐（profluazol )、式I化合物+環苯草酮 (profoxydim )、式 I 化合物 + 調環酸（prohexadione ) -#5、 式I化合物+撲滅通（prometon)、式I化合物+撲草淨 (prometryn )、式 I 化合物 + 毒草安（propachlor)、式 I 化合物+敵裨（propanil )、式 I化合物+西帕奎 ’ （propaquizafop )、式 I 化合物 + 撲滅津（propazine )、式 I化合物+苯胺靈（propham)、式I化合物+普羅比索克 (propisochlor ) 、式 I 化合物 + 丙苯磺隆 (propoxycarbazone )、式I 4匕合物+丙苯石黃隆-納、式I ^ 合物+氯甲丙诀基苯曱酿胺（propyzamide )、式I化合物 +撲沙福卡（prosulfocarb )、式I化合物+撲沙殺福隆 (prosulfuron)、式 I 化合物 + 雙唑草腈（pyraci〇nii)、式 I化合物+。比草謎（pyraflufen )、式I化合物比草醚-乙 、 基、式I化合物+ °比拉蘇福托（pyrasulfotole )、式I化合 物+ °比唑林特（pyraz〇linate )、式I化合物+必拉若殺福 隆（pyrazosulfuron )、式I化合物+必拉若殺福隆乙基、 式I化合物+比拉若西芬（pyrazoxyfen )、式I化合物+嘧 啶肟草醚（pyribenzoxim )、式I化合物+稗草畏 (pyributicarb)、式 I 化合物 + 吡達夫醇（pyridaf〇1)、式 I化合物+吡達特（pyridate )、式I化合物+環酯草醚 (pyriftalid )、式！化合物 + 吡嘧多巴克（pyrimid〇bac )、 73 200922473 式i化合物+ °比嘧多巴克-曱基、式i化合物+吡嘧蘇發 (pyrimisulfan )、式 I 化合物 + 比立塞巴克（pyrithiobac )、 式I化合物+比立塞巴克-鈉、式I化合物+吡洛山蘇風 (pyroxasulfone ) ( KIH-485 )、式 I 化合物 + D比洛殊蘭 (pyroxulam )、式I化合物+昆多拉克（quindorac )、式 I化合物+昆美拉克（quinmerac )、式ι化合物+滅藻 (quinoclamine)、式 I 化合物 + 奎拉弗（quizalofop)、式 I化合物+奎拉弗-P、式I化合物+力殺福隆（rimsulfuron)、 式I化合物+稀禾定（sethoxydim )、式I化合物+環草隆 (siduron )、式I化合物+西瑪三拼（simazine )、式I化 合物+西草淨（simetryn )、式I化合物+ SMA、式I化合 物+亞胂酸鈉、式I化合物+疊氮化鈉、式I化合物+氣酸 納、式I化合物+確草酮（sulcotrione )、式I化合物+沙 芬曲諾（sulfentrazon )、式 I化合物+殺福美隆 (sulfometuron )、式I化合物+殺福美隆-甲基、式I化合 物+沙弗司特（sulfosate )、式I化合物+續醢續隆 (sulfosulfuron )、式I化合物+硫酸、式I化合物+焦油、 式I化合物+ 2,3,6-TBA、式I化合物+ TCA、式I化合物+ TC A-納、式I化合物+替布他（tebutam )、式I化合物+ 替布塞隆（tebuthiuron )、式 I化合物+替0夫退酮 (tefuryltrione)、式 I 化合物 + 提波退酮（tembotrione)、 式I化合物+得殺草（tepraloxydim )、式I化合物+特草 定（terbacil )、式I化合物+甲氧去草淨（terbumeton )、 式I化合物+特丁津（terbuthylazine )、式I化合物+去草 74 200922473 •淨（terbutryn)、式 I 化合物 + 西尼克羅（thenylchlor)、 式I化合物+雀殺福隆（thiazaHuron )、式I化合物+ β塞諾 比（thiazopyr )、式 I 化合物 + 嗟吩殺福隆（thifensulfuron )、 式I化合物+ °塞卡倍容（thiencarbazone)、式I化合物+
°塞吩殺福隆-曱基、式I化合物+嘆歐苯卡（thiobencarb )、 式I化合物+替歐卡巴力（tiocarbazil)、式I化合物+托 普米容 （topramezone )、式 I 化合物+曲考昔地 (tralkoxydim)、式 I 化合物 + 野麥畏（triallate)、式 I 化合物+三阿蘇殺福隆（triasulfuron )、式I化合物+三胖 氟草胺（triaziHam )、式I化合物+三苯那隆（tribenuron )、 式I化合物+三苯那隆-甲基、式I化合物+殺草畏 (tricamba)、式I化合物+定草酯（triclopyr)、式I化 合物+草達津（trietazine)、式I化合物+三氟氧殺福隆 (trifloxysulfuron)、式I化合物+三氟氧殺福隆-鈉、式I 化合物+氟樂靈（trifluralin )、式I化合物+三氟殺福隆 (triflusulfuron )、式I化合物+三氟殺福隆-甲基、式I
J 化合物+二經基二啡、式I化合物+抗倒醋（trineXapaC ) _ 乙基、式I化合物+三氟甲石黃隆（tritosulfur〇n)、式I化 合物+ [3-[2-氯-4-氟-5-(1-甲基-6·三氟甲基-2,4-二側氧基 -1，2,3,4-四氫嘧啶-3-基）苯氧基]_2_ 〇比〇定氧基]乙酸乙酯 (CAS RN 353292-3 1-6 )、式 I 化合物 + 4-羥基-3-[[2-[(2- 甲氧基乙氧基）甲基]_6-(三氟甲基）_3_。比啶基]羰基]雙環 [3.2.1]辛-3-烯-2-酮（CAS RN 372010-68-5 )及式 I 化合物 + 4-羥基-3·[[2-(3-甲氧基丙基）_6_(二氟曱基）_3_吼啶基]羰 75 200922473 基]雙環[3 ·2· 1]辛-3-烯-2-酮。 式1化合物的混合伙伴也可具有酯類或鹽類形式，如例 如在央國作物保護委員會（British Crop Protection Council ) 於2000年的第12版殺蟲劑手冊中（The Pesticide Manual ) 中所述及者。 式Ϊ化合物對混合伙伴之混合比較佳地從1 : 1〇〇至 1000 ： 1 ° 合物可有利地用於上述之調配物中（在該例子中， 活性成分〃係關於式1化合物與混合伙伴的各個混合物）。 根據本發明之式1化合物亦可與安全劑組合使用。較佳 地’在這些混合物中，式I化合物為那些在下列表1至2〇4 中所列之化合物中之一者。尤其考慮下列具有安全劑之混 合物： 式I化合物+解毒噎（cl〇qUint〇cet_methyi )、式I化合物 +解毒喹酸及其鹽類、式I化合物+解草唑 (fenchlorazole-ethyl )、式I化合物+解草唑酸及其鹽類、 v"'" 式I化合物+ π比唾解草醋（mefenpyr-diethyl )、式I化合物 +。比嗤解草酯二酸、式I化合物+雙苯噁唑酸 (isoxadifen-ethyl )、式 I化合物+雙苯噁唑酸 (isoxadifen-acid )、式 I 化合物 + 解草噁唑（furilaz〇le )、 式I化合物+解草噁唑r異構物、式〗化合物+解草嗪 (benoxacor)、式 I 化合物 + 二氯丙稀胺（dichlormid)、 式I化合物+ AD-67、式I化合物+解草腈（〇xabetrinil )、 式I化合物+解草胺腈（cyometrinil )、式I化合物+解草 76 200922473 猜Z異構物、式i化合物+解草咬（fenCi〇rim)、式i 匕&物+赛、g蘇法麥得（cyprosulfamide )、式I化合物+ 蔡酉文肝式1化合物+解草安（flurazole )、式I化合物+ 5 式I化合物+二賽可羅諾（dicyclonon)、式 1化σ物+敗草肟（fluxofenim )、式I化合物+ DKA-24、 式I化合物+R-29148及式I化合物+ ppg-1292。安全化效 果亦了於式I化合物+汰草龍（)、式I化合物+ MCPA式1化合物+米可迫普（mecoprop )及式I化合物 +米可迫普-P之混合物觀察到。 上述安全劑及除草劑敘述在例如英國作物保護委員會 於2000年的第12版殺蟲劑手冊中。R-29148例如由p. B. Goldsbrough 等人於 Plant physi〇1〇gy，（2〇〇2)，v〇1 13〇,沖 497 1505及其中的參考文獻所敘述，且ppG_i292係從w〇 0921 Π61 已知。 與除草劑有關的安全劑之施予率主要係依據施予模式 而疋。在田地處理的例子中，通常施予從〇 〇〇丨至5 〇公斤 安全劑/公頃，較佳地從〇〇〇1至〇5公斤安全劑/公頃，且 通常施予從0.001至2公斤除草劑/公頃，但是較佳地從 0.005至1公斤/公頃。 根據本發明之除草組成物適合於所有在農業中習知的 施予方法，如例萌芽前施予、萌芽後施予及種子披覆。依 據思欲的用途而定，安全劑可用於預處理作物植物之種子 (披覆種子或幼苗）或在播種之前或之後引入土壤中，接 著施予（未安全化）式I化合物，視需要與共用除草劑組合。 77 200922473 然而’安全劑亦可在植物 草劑-起施予。之：或之後單獨施予或與除 時間原則上與除草劑關全劑處:植物或種子的 同時施予之植物處理(例Γ時除草劑與安全劑 /、有桶混合物形式）通堂赫 佳。與除草劑有關的安全劑 t丁午王要係依據施予模式 而疋。在田地處理的例子中， 通书施予從0.001至5 0公斤 安全劑/公頃，較佳地從〇.〇〇1 主0.5公斤安全劑/公頃。 種子披覆的例子中，通常施予從〇 〇〇1至 f、'
KJ U A斤女全劑/公 頃，較佳地從0.05至2公斤安全劍/八洛 丄 _ 女王劑/公頃。當安全劑於播種 之刚旋即以種子浸泡的液體形式施 卞子則有利於使用包 括k度從1至10000 ppm，較佳地從 v王ιυυο ppm之活 性成分的安全劑溶液。 混合物可有利地用於上述之調配物中（在該例子中， 、、活性成分"係關於式“匕合物與混合伙伴的各個混合物)。 【實施方式】 下列的實施例進-步說明本發明，但不限制本發明。 製備實施例_: 實施例氣苯基）-5-甲^^唑j m ^ ^ ^ ^ 環 Γ3·2.1·ϋ 烷-2,4·二酮一之芻備 78 200922473
步驟1 : 2-(4-顏苹某U西唑-5-甲醛之製備 0
V-H
將碳酸鎂（42毫克，0.5毫莫耳）加入4-氯砸基苯曱龜 胺（219毫克，！毫莫耳）與2-氣丙二醛（16〇毫克，μ 毫莫耳）在1,2-二甲氧基乙烷（1.5毫升）中之懸浮液中， 並將所得混合物在60X：及氮氣下攪拌3小時。接著將粗反 應混合物經由二氧化矽填充塞過濾及以乙酸乙酯清洗，並 將濾液濃縮，得到棕色固體。將粗產物在矽膠上以快速層 析法純化，得到2-(4-氯苯基）硒唑_5_甲醛（162毫' 童驟2 : f2-(4-氣^唑_5_甚】甲岬二 79 200922473
將硼氫化鈉（19毫克，0.5毫莫耳、Α 夭斗）在〇C下加入2彳心 氯苯基）硒唑-5-曱醛（130毫克，〇 48喜苗甘、 笔旲耳）在甲醇（5 毫升）中之懸浮液中。將反應混合物在〇 〇C下^摔^ 0 將反應混合物以飽和氣化銨水溶液f】Λ *立、 J'B' %、1 υ笔升）淬滅及以二 氣甲烧（3 X 25毫升）萃取。將合併的有機萃取物經無水琉 酸鎂脫水，過濾及將濾液蒸發至乾燥，得到[2_(4•氯苯基） 硒唑-5-基]甲醇（127毫克）。 ' 土 步屋3 : 4-「2-(4-氯苯基）硒唓氧基]替璁二二 嬌-2-酮之製備 ,
將氫化鈉（在礦物質油中的60%分散液，44毫克，[】 毫莫耳）以一份加入[2_(4_氯苯基）硒唑·5_基]甲醇〇〇〇毫 克’ 1.1毫莫耳）在無水四氫呋喃（5毫升）中之溶液中。 將反應混合物在室溫下攪拌5分鐘及加入一》扣氯雙環 200922473 • [3_2·1]辛_3_烯-2-酮（172毫克，1.1毫莫耳）。將反應混合 物在室溫下攪拌隔夜。將矽膠加入粗反應混合物中，將溶 劑在減壓下蒸發及將殘餘物在矽膠上以快速層析法純化， 得到4-[2_(4-氯苯基）砸唑-5-基甲氧基]雙環[3.2.1.]辛-3-烯 -2-酮（275毫克）。 1^~^~^1111丄-氣苯基）-5-甲某硒衅-4-甚1嬤環「3.2.11辛烷 -ΑΛι^Μ
f 將4_[2_(4-氯苯基）砸唑-5-基曱氧基]雙環[3.2·1]辛-3- 稀-2-酮（ 260毫克’ 0.66毫莫耳）放入微波小瓶中及溶解 在二乙二醇二甲醚（8毫升）中。加入雙（三氟曱基磺醯基） 酿亞胺1 _ 丁基-3-曱基咪銼（〇· 1毫升）及將反應混合物在微 波照射下以21 〇它加熱3 〇分鐘。將矽膠加入粗反應混合物 中將溶劑在減壓下蒸發及將殘餘物在矽膠上以快速層析 法純化，得到3-[2-(4-氯苯基）_5_甲基硒唑-4-基]雙環[3.2.1] 辛烷-2,4-二酮（108毫克）。 甲美二g_-(4-三蠢，甲 y 其笑某）噻唑-4二 81 200922473 「3.2_1~|辛益-2.4-二綱之制備
F
噻唑-5-基甲氣基）雙環丨3.2·1丄免__3-、输_2_酮之 製備
Br
將氫化鈉（在油中的60%分散液，1 .〇〇公克，25毫莫 耳）在〇°C下以小份加入（2-溴噻唑-5-基）甲醇（4 85公克， 25耄莫耳）及4-氯雙環[3.2_1]辛-3-烯-2-酮（3.92公克，25 毫莫耳）在無水四氫呋喃（1〇〇毫升）中之溶液中。將反應 此合物攪拌隔夜及允許溫熱至室溫。將矽膠加入粗反應混 口物中，將溶劑在減壓下蒸發及將殘餘物在矽膠上以快速 層析法純化，得到4-(2-溴噻唑_5-基曱氧基）雙環[3.2.1]辛-3- 82 200922473 烯-2-酮（6.43公克）。 步騍2 : 3-Γ5-甲基-2-1_4-1氩_甲氣某芏其、唸唑-4-^1镂援 「3.2.11辛烷-2.4-二酮之 iji-
F
將4-(2-溴噻唑-5-基甲氧基）雙環[3,2·1]辛-3-烯-2-酮 (157毫克，0.5毫莫耳）、4-三氟甲氧基苯基硼酸（2〇6 毫克，1毫莫耳）、甲苯（2毫升）、碳酸鉋（183毫克， 0.6毫莫耳）及PEPPSITM催化劑（51毫克，〇.15毫莫耳） 一起混合在微波小瓶中及在微波照射下加熱至1 5 01歷經 3 0分鐘。將粗產物過滤及將遽液在減壓下蒸發。將殘餘物 溶解在二甘二甲醚（5毫升）中’加入雙（三氟甲基磺醯基） 醯亞胺1-丁基-3-甲基咪銼（〇.1毫升）及將反應混合物在微 波照射下以230°C加熱30分鐘。將矽膠加入粗反應混合物 中將溶劑在減壓下療發及將殘餘物在石夕勝上以快速層析 法純化，仟到3-[5-甲基-2-(4-三氟甲氧基苯基）噻唑_4_基] 雙環[3.2.1]辛烷-2,4-二酮（84毫克）。 童^例3: 辛-3-基、5-甲基嚓略 83 200922473 -2-基1苯甲酸之製備
羥甲基噻吩-2-基）笨
Ο i 將硼氫化鈉（155毫克，4.1毫莫耳）加入4_(5_曱醯基 噻吩基）苯甲酸甲酯（1.01公克，4.丨毫莫耳）在甲醇 氯甲燒（16毫升/4毫升）中之溶液中’並將所得溶液在室 溫下攪拌90分鐘。反應係藉由加入飽和氯化銨水溶液（1 〇〇 毫升）而淬滅及以二氣甲烷（1〇〇毫升）萃取。將有機層以 食鹽水清洗，經硫酸鎂脫水，過濾及在真空中濃縮，得到 84 200922473 4-(5-經甲基。塞吩·2技、# 基）本甲酸甲酯（800毫克）。 步驟2 · 4-f5_(4^gij轰餹樓r, 辛-2-烯-2-1其甲篡）噻吩 基1本甲酸甲酷之y __
β將虱化納（在礦物質油中的㈣分散液，Μ毫克，〇·9 毫莫耳）以一份加入4-(5_羥甲基噻吩-2-基）苯甲酸曱酯（223 毫克，0.9毫莫耳^ J在無水四虱呋喃（5毫升）中之溶液中。 將反應此合物在室溫下料5分鐘及接著加人—份4_氯雙 環[3'2_1]辛’3_稀·2,（157毫克，u毫莫耳）。將反應混 合物在室溫下擔拄眩& ^仪。將矽膠加入粗反應混合物中，將 〉谷劑在減麗下藏& 、 θ …&及將殘餘物在矽膠上以快速層析法純 化’仔到4·[5-(4-側氧雙環[3.2.1]辛_2务2·氧基甲基）售吩 -2-基]苯甲酸甲輯（264毫幻。 步驟 3 : Α _ , ~~—二Α 氣雒擐 Lmi 辛·3_ 某 85 200922473
r 將4-[5-(4-側氧雙環[3幻]辛-2-烯I氧基甲基）嗔吩I 基]苯甲酸"旨（ 264毫克，0.71毫莫耳）放入微波小瓶中 及溶解在二乙二醇二甲醚（3毫升）中。加入雙（三氟甲基 磺醯基）醯亞胺1-丁基-3-甲基咪銼（〇1毫升）及將反應混 合物在微波照射下以19(TC加熱30分鐘。將矽膠加入粗反 應混合物中’將溶劑在減壓下蒸發及將殘餘物在矽膠上以 快速層析法純化，得到4-[4-(2,4-二侧氧雙環[3.2.1]辛_3_ 基）-5_甲基嗔吩-2-基]苯甲酸甲酯（213毫克）。 。倾辛-3-篡 甲基嚏 ^ 基甲酸之備 86 200922473 ο
OH f 將IN氫氧化鋰水溶液（2毫升）加入4-[4-(2,4-二側氧 雙環[3.2.1]辛-3-基）-5-曱基噻吩-2-基]苯甲酸甲酯（60毫 克，0.16毫莫耳）在甲醇（2毫升）中之溶液中，並將反應 在室溫下攪拌72小時。將反應以2N氫氯酸水溶液（25毫 升）酸化及以二氯甲烷（25毫升）萃取。將有機層以食鹽 水清洗，經硫酸鎂脫水，過濾及將濾液在真空中濃縮，得 到4-[4-(2,4-二側氧雙環[3.2.1]辛-3-基）-5-甲基噻吩-2-基] 苯甲酸（44毫克）。 ί 實施例4 : 342-(4-氣笨基）-5-乙基噻唑-4-基1雙環Π.2.11辛 烷-2,4-二酮之製備
CI
87 200922473
將硼氫化鈉（832毫克，22毫莫耳）在宮、、θ τ丄 Α芏，皿卜加入 1-[2-(4 -氯苯基）嗟吩-5-基]乙酮（5公克，21奎苴甘、丄 石夫斗j在甲 醇（1 00毫升）中之懸浮液中。將反應混合物在室溫下授摔 1小時。將反應混合物以飽和氯化銨水溶液（丨00毫升）、、卒 滅及以二氯甲烷（2x1 50毫升）萃取。將合併的有機萃取 物經無水硫酸鎂脫水，過濾及蒸發至乾燥，得到丨^^^-氣 苯基）噻吩-5-基]乙醇（4.88公克）。 ~~4-Π-Γ2-(4-氧苯某V塞吩-5-基1乙氣某}螓環「3 2 ] | tlr烯-2-酮之芻堉 4.6赛
將氮化納（在礦物質油中的60%分散液，184毫克， 毫莫耳）以一 公克’ 4.6毫草：i )以一份加入^244-氯苯基;I噻吩_5_基]乙醇（M 宅莫耳）在無水四氫呋喃（20毫升）中之溶液中。 88 200922473 將反應混合物在室溫下攪拌5分鐘及加入一份4-氯雙環 [3.2.1]辛-3-烯-2-酮（720毫克，4.6毫莫斗）。將反應混合 物在室溫下攪拌隔夜。將矽膠加入粗反應混合物中’將溶 劑在減壓下蒸發及將殘餘物在矽膠上以快速層析法純化， 得到4-{1-[2-(4-氯苯基）噻吩_5_基]乙氧基}雙環[3.2.1]辛-3- 烯-2-酮（1.24公克）。 步驟3:3-1^(11_&笨基）-5-匕基噻吩-4-基1俸環『3.2.11辛烷 -2,4-二酮之贺埤
將4-{1-[2-(4-氯苯基）噻吩_5·基]乙氧基}雙環[3.2.1]辛 -3-稀-2-嗣（i.25公克，3·47毫莫耳）放入微波小瓶中及溶 解在二乙二醇二甲醚（15毫升）中。加入雙（三氟甲基磺醯 基）at亞胺1-丁基_3_曱基咪銼（〇.1毫升）及將反應混合物 在微波照射下以23(TC加熱30分鐘。將矽膠加入粗反應混 β #中’將溶劑在減壓下蒸發及將殘餘物在矽膠上以快速 層析法純化’得到3-[2-(4-氯苯基）-5-乙基噻吩-4-基]雙環 [3.2.1]辛烷_2,4_二酮（66〇毫克）。 實座.例5乂！^·甲基_2_甲碚篡嘧啶_4•基彆環Γ3211辛烷 -2，4 二綱 89 200922473
將4-氯-2-甲基-6-硫甲基嘧啶（174毫克，1毫莫耳）、 2,2,6,6-四甲基吡喃-3,5-二酮（170毫克，1毫莫耳）、乙酸 鈀（12毫克，0.05毫莫耳）、X-Phos ( 48毫克，（M毫莫 耳）及磷酸鉀（424毫克，2毫莫耳）裝入微波小瓶中。加 入1,2-二甲氧基乙烷（3毫升）及將反應以攪拌加熱至14〇 °C歷經3 0分鐘。將矽膠加入粗反應混合物中，將溶劑在減 壓下蒸發及將殘餘物在；5夕膠上以快速層析法純化，得到 3-(6-曱基-2-甲硫基嘧啶_4_基雙環[3.2.1]辛烷_2,4_二酮 (191毫克）。 例 § 氯笨某 W 岫 _4_基1 雙^[3_2.11 辛桉 ^ 二酮之製備
步驟1 :氯 90 200922473
將無水二氯甲烷（100毫升）及吡啶（6 28公克，87 毫莫耳）加入含有雙環[3.2.1]辛烧-2,4_二酮（10公克，72 毫莫耳）的250毫升圓底燒瓶中。將稀釋在二氣甲烷（1〇〇 毫升）中的氯乙醯氯（9.82公克，72毫莫耳）經15分鐘期 間逐滴加入攪拌的混合物中。將反應混合物因此在室溫下 攪拌2小時。將反應混合物因此倒入1 〇〇毫升2N HC1水溶 液中及以乙酸乙酯（2x100毫升）萃取。將合併的有機萃 取物經硫酸鎂脫水，過濾及在減壓下蒸發，得到橘色油。 將粗產物在減壓下蒸餾，得到氯乙酸4-側氧雙環[3.2.1]辛 -2-烯-2-酿（13.4 公克）。 步驟2 : 3-(2-氢乙醯基）雙環『3.2.11辛烷-2,4-二酮之Μ備
將稀釋在1,2-二氯乙烷（20毫升）中的氣乙酸4-側氧 雙環[3 ·2·1]辛-2-烯-2-酯（6公克，28毫莫耳）經20分鐘逐 滴加入含有無水氯化鋁（10公克，75毫莫耳）在1，2-二氯 乙烷（80毫升）中之懸浮液的250毫升圓底燒瓶中。將所 得反應混合物在室溫下攪拌隔夜。將反應因此倒入冰與2Ν HC1水溶液之混合物（100毫升）中及以二氯曱烧（3 X 50 毫升）萃取。將合併的有機層經硫酸鎂脫水，過濾及在減 91 200922473 壓下蒸發，得到粗混合物3-(2-氯乙醯基）雙環[3·2.ι]辛烷 -2,4-二酮（4.2公克）。 兀 步輝3 : 3-f2-(4-氣」^基）〇塞峻-4-基1贊釋η 〇 二酮 之製備
— 將3-(2-氯乙醯基）雙環[3·2.1]辛烷_2,4_二酮（3 i6公 克，U.7毫莫耳）與4_氯硫代苯甲醯胺（2 53公克，Μ ? 毫莫耳）一起混合在甲苯（50毫升）中及在回流下加熱隔 夜。因此將反應混合物蒸發成黑色膠及將膠吸收在二氧化 矽上’並以己炫/乙酸乙醋梯度溶離之快速層析法純化，得 公克）。 "在下Μ表T1中額外的化合物係藉由類似的方法使用適 當的原料而製備。 一個以上的互變異構物戒 之數據為異構物與構象異 當在質子NMR光譜中觀察出 旋轉構象異構物時，則下列所示 構物之混合物。 92 200922473 表τι
93 200922473 /
94 200922473
95 200922473 T13
δ ppm 1.61 (m, 1H), 1.85 (m, 2H)S 2.0? - 2,22 (m( 3H), 2.47 {s, 3H), 3,02 -3.12 {m, 2H)a 7.20 - 729 (m, 2H)a 7J1 -7,99 (m,1H) 丁 14
δ ppm 1.64 (m( 1H), 1.87 {m, 2H), 2.14-2,21 (m, 3H), 2.52 (s3 3H), 2.S8 (s, 3H), 3,10 (m, 2H), 7.29 (dd, 1H), 7,35 (df1H), 7,61 (d, 1H) T15
S ppm 1.60 {m, 1H), 1,81 -1,90 (m, 2H), 2,08 - 2.22 (m, 3H), 2,45 (s, 3H)( 3,02 - 3.14 {m, 2H), 7.53 - 7.82 (m, 2H), 7.65 - 7.73 (m, 2H) T16
δ 卯〇11.36-1.67(1^3的，2.08 -2,23 (m, 3H), 2.47 (s, 3H), 3.03 - 3.13 (m, 2H), 7.42 (dd, 1H), 8,06 (dd, 1H)T 8,82 (d^lH) 96 200922473
97 200922473 下21
δ ppm 1,3 (t, 3H)? 1.6 1,85 (m,2H), 2.18 2.3 (s*3H), 2.4 {S,3H), 2.84 (q,2H), 3,10 {m,2H), 7.1 (d»2H) 7,20 (d, 1H), 7,30 (d, 1H)T 7.4 (dt 1H), 7.68 (d,1H}, 7,7 (s,1H) T22
8 ppm 1.3 (t, 3H), 1.60 (m, 1H), 1.85 (m, 2H), 2.15 (m, 3H), 2.88 (m, 2H), 3.05 <m, 2H), 7,50 (d, 1H), 7.65 桃 1H), 7,9(s, 1H). T23 了 24
(CD3OD).6 ppm 1.71 {m, 1H), 1.84 {d, 2H), 2.20 (Ss 3H), 2.15 - 2.30 (m, 3H), 2,98 - 3.07 (m, 2H), 7.01 (s, 1H), 7.35 (d, 2H)t 7.55 (d, 2H)
(CD3〇D) β ppm 1.70 {m, 1H), 1.85 (m, 2H), 2.23 (m, 6H) 3.03 (m, 2H), 7.16 (s, 1H), 7.67 (d, 2H), 8.00 (d, 2H) 98 200922473
99 200922473
100 200922473
101 200922473
102 200922473
103 200922473
104 200922473 I_..... T49 C δ ppm 1.55 (m, 1H), 1J0 (m, 1H), 1,75 (mf 1H)S 2,00 (m, 1H), 2.15 (m( 2H}r 3,05 (mf 2hf), 7.40 {d, 2H), 7.70 (d, 2H), 11.0(s, 1H) T50 s 、Br Γ〇 δ ppm 1.71 (m, 1H), 1.93 (m, 2H), 2.16 (m, 3H), 2.28 (d, 3H), 3.06 (mt 2H), S.77(d,1H), 7,16 (d,1H) 151 。古。 δ ppm 1.33 (t, 3H), 1,60 (m, 1H) 1.83 {m, 2H), 2.14 (m, 3H), 2.91 (qt 2H), 3.06 (m, 2H), 7.38 (ddt 1H), 7,73 {m,; 2H) TS2 ο： s ：〇 & ppm 1.56 (m, 1H), 1.79 (m, 2H), 2.11 (m, 3H), 2.44 (s, 3H), 3.03 (q, 2H), 8.63 (s, 1H) T53 c ί t Cl :於 yN T δ ppm 1.33 (t, 3H), 1.61 {m, 1H), 1.97 (nn, 2H)( 2.14 (m, 3H), 2 J1 (q, 2H), 3.07 (m, 2H), 7.58 (df 1H)S 7M (d, 1H) 105 200922473
106 200922473
107 200922473
108 200922473
109 200922473
110 200922473
111 200922473
112 200922473
T83 °υ° a ppm 1,30 {t, 3H), 1.59 (dt, 1H), 1,84 (m, 2H), 2,14 {m, 3H), 2.52 (s, 3H), 2.88 (q, 2H), 3.06 (m, 2H), 7.27 (m, 2H), 7.74 (m, 2H) T84 δ ppm 1.60 (dt, 1H), 1.86 (m, 1H), F 2,15 (m, $H), 2.49 (s, 3H), 3.06 - 3,09 w (m, 2H), 6.57 (t, tH), 7.14 (dd, 1H)( c, 古 7,30(d, 1H),7J3(d, 1H) T8S N"^YC, δ ppm 1,66 (mt 1H), 1.89 (m, 2H), y 2,19 (mt 3H), 3,09 (m, 2H), 7.84 (m, °u 1H), 8.13 (m, 1H), 8.37 (m, 1H) 丁 86 δ ppm 1.61 (m, 1H)t 1,90 (m, 2H), 2.17 (m, 3H)S 2.37 (s, 3H), 3.07 (m, IX 2H), 7.19 (m, 2H), 7.35 (m, 2H), 8,15 Ογ^γΟ \^J (m, 1H), 8.31 (m, 1H), 8.59 (mt 1H) 113 200922473
丁 87 W δ ppm 1.27 (d, 6H), 1 m (m, 1H), 1.84 (m, 2H), 2.14 (mf 3H), 2,45 (s, 3H), 2.95 (sept, 1H), 3.05 (q, 2H), 7,29 (d, 2H)t 7.73 (d, 2H) T88 ,j〇rC! χτ^ δ ppm 1.6e (dt, 1H), 1.87 (m, 2H), 2.19 {m, 3H), 2.24 (s, 3H), 3.05 (m, 2H)f 7.51 (m, 2H), 8.20 (m, 2H), 8,57 (S,1H) T89 Cl νΛ^心〇- 〇γ^γ° w S ppm 130 (t, 3H), 1.90 (m, 2,05 {m, 3H)t 3,00 (qs 2H), 3.30 (m 2H), 7.40 (d, 2H), 7 JO (d, 2H) T90 Cf 。戶 Λν δ ppm 1.57 (m, 1H), 1.82 (ms 2H), 2.10-2J0 (ms 3H)t 2.94 (t, 1H), 3,30 (s, 3H), 3.42 ft 1H), 7,64 (dt 2H), 7.94 (d, 2H) 丁91 y 6 ppm 1,90 (d, 2H), 2.20 (s, 3H), 3.00 (s, 2H)( 3,56 (d, 2H), 3.63 (ύ, 2H), 7.30 (d, 2H), 7,40 (d, 2H) 114 200922473
115 200922473
116 200922473 f.
117 200922473 T104
δ ppm 1,35 (t, 3H), 1.60 (m, 1H), 1.90 (m, 2H)r 2.20 {m, 3H), 2.90 (q, 2H), 3.10 (m, 2H)r 7.00 (m, 2H), 8,0 (m( 1H) T105
δ ppm 1,10 {m, 2H), 1.20 (cf, 2H), 1.30 (t, 3HX160 (m,1H), 1.85 (m, 2H)4 2.20 (m· 2.40 <m, 1H), 2.80 (q, 2H), 3.05 (mt 2H) T106
δ ppm 140 (t, 3H)( 1.60 (m, 1H), 1,80 (ms 2H), 2.20 (m, 3H), 2,90 (q, 2H), 3.05 {m, 2H), 7.40 {m, 2H), 7,55 {m, 1H),7J5(m, 1H} T107
5 ppm 1.35 {t, 3H), 1J0 (m, 1H), 1.80 (m, 2H), 2,20 (m, 3H), 2.90 (q, 2H), 3.05 (m, 2H), 4.00 (s, 3H), 7.90 (d, 2H), 8.10 (d, 2H) T108
δ ppm 1.30 (t, 3H), 1.60 (m, 1H), 1,85 (mt 2H), 2.20 (m, 3H)f 2.90 (q, 2H), 3.10 (mT 2H), 7.30 (d, 1H), 7,4 (ds 1H), 7.90 (d, 1H) 118 200922473
119 200922473
T113 T114 T115 T116 T117
δ ppm 1.35 (t, 3H), 1.65 (m, 1H) 1.80 (m, 2H)( 2.20 {m, 3H), 2,90 (q, 2H), 3,10 (m, 2H), 5.40 (d, 1H), 5.90 {d, 1H), 6,80 (m, 1H), 7.50 (d, 2H), 7,80 (4 2H)
δ ppm 130 (t, 3H), 1.40 (s, 6H), 1,60 (m, 1H), 1.8S (m, 2H), 2,10 (m, 3H), 2,90 (q, 2H), 3.05 (m, 2H), 4.60 (mT 1H), 6,90 (d, 1H), 7.60 (d, 1H)S 7.S0 {S, 1H) δ ppm 0.30 (s( 9H), 1,30 (t, 3H), 1.60 (m, 1H)_ (in, 2H);10 (m, 3H) 2.90 (q, 2H), 3.05 (m, 2H), 7.60 2H), 7.80 (d, 2H) (CD3〇I>) θ ppm 1.68 (m, 1H), 1.76 (ddd, 2H), 2.13 (m, 3H)t 2,45 (S, 3H), 2,68 (s, 3H), 2,92 (dti, 2H)S 8,34 (s, 1H) S ppm 1.63 (dt, 1HX 1J3 (m, 2H), 2.14 (m, 6H), 2,68 (s, 3H), 2.Θ9 {dd, 2H), 8.46 (sJH) 120 200922473 T118 ,^0C， Jy 。亡。 δ ppm 1,68 (dt, 1H), 1S9 {m, 2H), 2.20 (mf 3H), 2.79 (s, 3H), 3,11 (m, 2H), 7.35 (d, 2H), 7.53 (d, 2H)S 8.13 (d, 1H), 8.62(^, 1H) T119 I fya S ppm 1.70 (m, fH), 1.90 (m, 2H), 2.14 (m, 3H), 2,63 (s, 3H}, 3,10 {m, 2H), 7.37 (m, 2H), 7.80 (d, 1H)( 8,68 °w Ccf, 1H) 了 120 WCI S ppm 1,15 (s, 3H), 1.55 (s, 3H)t 2.30 f) (d, 1H), 2.55 (s, 3H), 2,72 (d, 1H), ^〇r 。令。 2,8S (ms 1H), 2,92 (m, 1H), 7.40 (d. 2H), 7.70 (d, 2H} T121 wBr δ ppm 1.18 (s, 3H), Ϊ .57 (s, 3H), 2.30 〇 (d, 1H), 2.55 (s, 3叫 2J2 (d, 1H), 2.88 {m, 1H), 2.92 (m, 1H), 7,58 (d, 3 。令。 2H), 7.68 (dT 2H) 實施例7 : 2,2-二甲基丙酸3-『2-(4-氯笨基）-5-乙基噻唑-4-某1-4-侧氣替環「3.2.11辛-2-熵-2-酷之製備 121 200922473
Cl
將新戊醯氣（123微升，1亳莫耳）在官、、田 他至z皿下加入3-[2-(4- 氣苯基）-5-乙基噻唑-4-基]雙環[3.2 n辛护 < L 二ij 肀烷 _2,4_ 二酮（1〇〇 毫 克U毫莫耳）在二氯甲貌（5毫升）及三乙胺（"Ο微 升，1毫莫耳）中之溶液中。將反應混合物在室溫下攪拌隔 夜。將石夕膠加入粗反應混合物中，I容劑在減壓下蒸發及 將殘餘物在矽膠上以快速層析法純化，得' J ,z~一 基丙酸 3-[2-(4-氯苯基）_5_乙基噻唑_4_基]_4_侧氧雙環[3 2 1]辛_2· 烯-2-酯（ιοί毫克）。 在下列表Ρ1中額外的化合物係藉由類似的方法使用適 當的原料而製備。 當在質子NMR光譜中觀察出一個以上的互變異構物或 旋轉構象異構物時，則下列所示之數據為異構物與構象異 構物之混合物。 表Ρ1 化合物編號 結構 hnmr (CDCh，除非另有敘述）或其他 物理數攄 Ρ1 WCI 0 <5ppm 0.81 (m,3H), 0.94 (m,lH), 1.25 (t,3H), 1.56 (m,lH), 1.73 (m,lH), 1.81 (m,lH), 2.07 (m,lH), 2.21 (m,2H), 2.42 (d,lH), 2.56 (m,2H), 3.15-3.08 (m,2H), 7.35 (m,2H), 7.81 (m,2H) ^ Δ 122 200922473
Cl
P2 δ ppm 1.02 (s, 9H)t 1,24 (t, 3H}( 1.73 (m, 1H)t 1,82 (m, 1H), 2.D7 (m, 1H), 2,24 (m, 2H), 2.45 {m, 1H), 2.57 (q, 2H), 3.03 (m, 1H), 3.14 (m, 1H), 7.36 (m, 2H), 7.77 (m, 2H)
P3
Cl O
P4 δ ppm 1,05 (s, 9H), 1.60 (m, 1H), 1.8S (m, 2H), 2.15 (m, 3H)t 2.45 (s, 3H), 3.05 (mf2H), 7.50 (d, 1H), 7.60 (d, 1H),7.89 (s, 1H) δ ppm 1.05 (s, 9H), 1,72 (m,1H), 1,85 (m, 2H)t 2.15 (m, 3H), 2.30 (s, 3H), 3.05 (m4 2H), 7,50 (d, 1H), 7.90 (d, 1H), 8.15 (S, 1H) P5
Cl
δ ppm 1,10 (t, 3H>, 1,30 (t, 3H)t 180 (di, 1H}, 1.91 (m, 1H), 2.07 (m, 1H)t 2.18-2.38 (m, 3H), 2.59 {q, 2H)f 3,20 (m, 2H), 4.01 (m, 2H), 5.47 (d, 1H), 7.36 (cf, 1H), 7.40 (d, 2H), 7.S3 (d, 2H) 123 200922473 P6 Br 0 S ppm 1,74 (m, 1H)· 1.82 (m，1H>， 2.01 (s, 3H), 2.08 (m, 1H), 2.15-2,30 (mt 5H)t 2,43 (d, 1H), 3.09 (t 1Ή), 3.15 (t, 1H), 7M (dd, 1H), 7.98 (d, 1H), 8.60 (d, 1H) P7 Br 0 S-r( m δ ppm 0J7-1.00 (m, 4H), 1.43 (m, 1H) 1.73 (dt, 1H), f ,82 {mt 1Ή}, 2M (m, 1H)t 2,15-2.30 (m, 5H), 2.41 (d, 1H), 3,10 (t, 1H), 3.15 (t, 1H), 7.S4 <dd, 1H),8,01 (cl, 1H), 8.60 (d,fH) P8 Br 0 j^rN 〇yy〇y° W Λ 5 ppm 1.03 (mt 9H)t 1,74 (m, 1H), 1.82 (m, W)t 2M (m, 1H), 2.15-2,30 (m, 5H), 2.43 (d, 1H), 3,09 (t, 1H), 3.15 (t, 1H), 7,84 (Μ, 1H), 7.98 (d, 1H), 8.60 {d, 1H) P9 Cl d s-^ φΗ W Sppm 1.33 (t, 3H), 1,63 (m, 1H), 1,86 (m, 2H), 2,17 (m, 2H)t 2.45 (m, 1H), 2,84 (q, 2H), 3.0S {m, 2H)S 7,47 (dr 2H)a 7.77 (d, 2H) 124 200922473
P10 b δ ppm 1,10 (s, 9H), 1.72 (m, 1H), 1.85 (m, 2N}, 2.15 (m, 3H), 2.30 (s, 3H), 3,05 (m, 2H), 7.40 (d, 2H), 7.80 (d, m Ciw S ppm 1*30 (t 3H), 1.72 (m, 1H), 1.86 Q (m, 2H), 2.15 (m, 3H), 2,30 (s, 3H), 3.00 (m, 2H)a 4.2Q (q, 2H), 4.60 (s, 2H), 7M (d, 2H), 7,80 (d, 2H) P11 bd wBr §ppm 1.72 (m, 1H), 1.81 (m, 1H), f5 2,02 (s, 3H), 2.07 1H), 2.15-2.30 sVK (m, 5H), 2.42 (d, 1H), 2.51 (s, 3H), 3.07 (t, 1H), 3.14 (t, 1H), 7.34 <dd, °γίγ°γ° 1H),7‘4〇(d, 1H),7,51(d,1H) P12 \^l wBf δ ppm 0.8-1,0 1.59 (m ,1H), 〇 1J3 (m, tH), 1,82 (m, 1H), 2,07 (m, s-T< 1H), 2.15-2,30 (m, 5H), 2A0 (d, tH), /飞 2.53 (s, 3H), 3.09 (t, 1H), 3.14 (t 1H), 〇 丫。 7.34 (dd, 1H), 7.40 (dJH), 7.51 (d, 1H) 1 P13 Γ^Ί △ 125 200922473
Br
δ ppm 1.05 (s, 9H) ,1J4 (mT 1H)( 1,84 (m, 1 H)T 2,08 (m, 1H), 2.15-2.30 (m, 5H)t 2,44 {d, 1K), 2.S1 (S, 3H), 3.03 {t, 1H)a 3.14 (t, 1H), 7.34 (<id, 1H), 7.40 (d, 1H}f 7.52 (d, 1H) P14
PIS P16
δ ppm 1*30 (t, 3H), 1.33 {s, 3H), 1.60 (m, 1H), 1.82 (m, 1H), 2.20 (m, 1H)t 2.24 (m, 2H), 2,40 (st 3H)t 245 (m, 1H), 2.9 (q, 2H), 3,05 (m, 1H)( 3.14 {m, 1H}* 7.20 (m, 2H}, 7.70 (m, 2H)
FF-(
Cl δ ppm 1.30 (t 3H), 1.33 (s, 3H) 1.60 (mf 1H)t 1,82 (m, 1H), 2.20 (m, 1H), 2,24 (m, 2H), 2,45 <mf 1H), 2.90 (q, 2H), 3.05 (m, 1H), 3,14 (m, 1H), 7.40 (m, 2H), 7.80 (m, 2H), 8.3 (s, 1H)
O
δ ppm 1,03 (s, 9H), 1.57 (m, 1H), 1.74 (m, 1H), 1.84 (m, 1H), 2,08 (mt 1H), 2.21-2.31 (m, 1H), 2,45 (m, 1H), 3.02 (m, 1H), 3,16 6,54 (t,1H), 7.07(^, 1H), 7.23 (d, 1H)S 8.18 (d, 1H) 126 200922473
P18 χγαα 。☆丫 δ ppm 1J5-1J6 (mf 5H), 2,05-2.56 (m, 7H)t 3,15 (m, 2H), 7.42 (d, 2H), 8.33 (d, 2H), 8.58 {s, 1H) P19 Λγα01 〇ψϊ 5 ppm 1.58 (s, 3H), 1,62 (s, 3H), 1.98 (S, 3H), 2,17-2.30 (m, 4H), 2.84 (dt, 2H), 3,04 {m, 1H), 7.42 (d, 2H)t 8.33 (¢1,2^8,58 0,1H) P20 °ry°Y y 0 δ ppm 1.57 (s, 3H), 1.62 (m, 1H), 177 (m, 1H), 1.87 (m, 1H)t 2,46 (S, 3H), 2.66 (s, 3H), 2.98 (m, 2H), 8,40 (s, 1H) P21 y ° δ ppm 0,88 (t, 3H)t 1.25 (m, 4H), 1.52-1.63 (m, 5H), 1.17 (m, 1H), 1.79 (m, 1H), 2.03-2.23 (m, 3H)t 2.36 (m, 2H)i 2.45 (s, 3H), 2.51 (st 3H), 3,03 (m, 1H),3,l4(m, 1H), 6.81 (s, 1H) P22 C( γΜ 5 ppm 110 (s, 9H), 1.72 (m, 1H), 1.85 (m, 2H), 2.15 (m, 3H), 3.05 (m, 2H), 7.40 (d, 2H), 7.80 (dt 2H), 8,4 (s, 1H) 127 200922473 S ppm 1.10 (s, 9H), 1.72 (m, 1H), 1.85 戶0 (m, 2H), 2.15 (m, 3H), 2.30 (s, 3H), 3.05 (m, 1H), 3.15 (m, 1H), 7,90 {d, 2H)T &.0(d,2H), 10.0 (s, 1H) -Vn P23 水卜"1 HO p S ppm 1.10 {s( 9H), 1.72 (m, 1H), 1,85 (m, 2H), 2.00 (m, 2H), 2.15 <mf 3H), 2.30 (s, 3H), 3.05 (mt 2H), 7.40 (d, s-/ 2H)t 7,80 (d, 2H) °T°rr〇 P24 本發明之化合物的特殊實例包括在表1至204中詳述 之化合物。 此表涵蓋結構類型τ-1的1 80個化合物： 3
128 200922473 ； 其中X為S，Z為C-H，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1 及R2為氫，且R3及R4如下述所定義： 化合物編號 R3 R4 1.001 ch3 H 1.002 ch3 ch3 1.003 ch3 CH3CH2 1.004 ch3 (ch3)2ch 1.005 ch3 (CH3)3C 1.006 CH3CH2 H 1.007 CH3CH2 ch3 1.008 ch3ch2 ch3ch2 1.009 CH3CH2 (ch3)2ch 1.010 ch3ch2 (CH3)3c 1.011 ch3 苯基 1.012 ch3 2-氟苯基 1.013 ch3 3-氟苯基 1.014 ch3 4-氟苯基 1.015 ch3 2-氯苯基 1.016 ch3 3-氯苯基 1.017 ch3 4-氯苯基 1.018 ch3 2-溴苯基 1.019 ch3 3-溴苯基 1.020 ch3 4->臭苯基 1.021 ch3 2-破苯基 129 200922473 化合物編號 R3 R4 1.022 ch3 3_礎苯基 1.023 ch3 4-埃苯基 1.024 ch3 2-甲基苯基 1.025 ch3 3-甲基苯基 1.026 ch3 4-甲基苯基 1.027 ch3 2-氰苯基 1.028 ch3 3-氰苯基 1.029 ch3 4-氧苯基 1.030 ch3 2-曱氧基苯基 1.031 ch3 3-曱氧基苯基 1.032 ch3 4-曱氧基苯基 1.033 ch3 2-三氟甲基苯基 1.034 ch3 3-三氟甲基苯基 1.035 ch3 4-三說甲基苯基 1.036 ch3 4-三氟曱氧基苯基 1.037 ch3 4-二氟甲氧基苯基 1.038 ch3 4-曱硫基苯基 1.039 ch3 4-曱基亞磺醯基苯基 1.040 ch3 4-甲基磺醯基苯基 1.041 ch3 4-三氟甲硫基苯基 1.042 ch3 4·二氣曱基亞績酿基苯基 1.043 ch3 4-二氣甲基績酿基苯基 1.044 ch3 2,3-二氟苯基 130 200922473 化合物編號 R3 R4 1.045 ch3 2,4-二氟苯基 1.046 ch3 2,5-二氟苯基 1.047 ch3 2,6-二氟苯基 1.048 ch3 3,4-二氟苯基 1.049 ch3 3,5-二氟苯基 1.050 ch3 2,3-二氯苯基 1.051 ch3 2,4-二氯苯基 1.052 ch3 2,5-二氯苯基 1.053 ch3 2,6-二氯苯基 1.054 ch3 3,4-二氣苯基 1.055 ch3 3,5-二氯苯基 1.056 ch3 4-潰-2-氟苯基 1.057 ch3 4->臭-3-氟苯基 1.058 ch3 4- >臭-2-氯苯基 1.059 ch3 4-漠-3-氯苯基 1.060 ch3 4-氣·2·鼠苯基 1.061 ch3 4-氣-3-氣苯基 1.062 ch3 4-氯-2-氟苯基 1.063 ch3 4-氯-3-氟苯基 1.064 ch3 4-氯-2·曱氧基苯基 1.065 ch3 4-氯-3-甲氧基苯基 1.066 ch3 4-氯-2-曱基苯基 1.067 ch3 4-氯-3-曱基苯基 131 200922473 化合物編號 R3 R4 1.068 ch3 4-氯-2-三氟甲基苯基 1.069 ch3 4-氯-3-三氟甲基苯基 1.070 ch3 2-氯-4-甲氧基苯基 1.071 ch3 3-氯-4-曱氧基苯基 1.072 ch3 2-氣-4-曱基苯基 1.073 ch3 3-氯-4-甲基苯基 1.074 ch3 2-氟-4-甲氧基苯基 1.075 ch3 3-氟-4-甲氧基苯基 1.076 ch3 2-氣-4-甲基苯基 1.077 ch3 3-氟-4-甲基苯基 1.078 ch3 2-氟-4-二氟甲基苯基 1.079 ch3 3-氟-4-二氟甲基苯基 1.080 ch3 2-氣。比。定-5 -基 1.081 ch3 基 1.082 ch3 2-甲乳基11比17定-5-基 1.083 ch3 3_曱乳基°比°定-5•基 1.084 ch3 2-甲基。比啶-5-基 1.085 ch3 3-甲基吡啶-5-基 1.086 ch3 2-二氣曱基°比°定-5·基 1.087 ch3 3-三氟曱基吡啶-5-基 1.088 ch3 2,6-二氣吡啶-3-基 1.089 ch3 4-氯°比唾-1-基 1.090 ch3 2-噻吩基 132 200922473 化合物編號 R3 R4 1.091 ch3 5 -氣嗔吩-2-基 1.092 ch3 5-溴噻吩-2-基 1.093 ch3 3-噻吩基 1.094 ch3 5-氣13塞吩-3-基 1.095 ch3 5 - >臭σ塞吩-3 -基 1.096 ch3ch2 苯基 1.097 ch3ch2 2-氟苯基 1.098 ch3ch2 3-氟苯基 1.099 CH3CH2 4-氟苯基 1.100 ch3ch2 2-氯苯基 1.101 CH3CH2 3-氯苯基 1.102 ch3ch2 4-氯苯基 1.103 ch3ch2 2-溴苯基 1.104 ch3ch2 3-溴苯基 1.105 CH3CH2 臭苯基 1.106 CH3CH2 2-換苯基 1.107 ch3ch2 3-破苯基 1.108 ch3ch2 4-磁苯基 1.109 ch3ch2 2-曱基苯基 1.110 ch3ch2 3-甲基苯基 1.111 ch3ch2 4-甲基苯基 1.112 ch3ch2 2-氰苯基 1.113 ch3ch2 3-氧苯基 133 200922473 化合物編號 R3 R4 1.114 CH3CH2 4-氰苯基 1.115 ch3ch2 2-曱氧基苯基 1.116 ch3ch2 3-甲氧基苯基 1.117 ch3ch2 4-甲氧基苯基 1.118 ch3ch2 2-三氣甲基苯基 1.119 ch3ch2 3-三氟甲基苯基 1.120 CH3CH2 4-三氟曱基苯基 1.121 CH3CH2 4-三氟曱氧基苯基 1.122 ch3ch2 4-二氟曱氧基苯基 1.123 CH3CH2 4-甲硫基苯基 1.124 ch3ch2 4-甲基亞磺醯基苯基 1.125 ch3ch2 4-甲基磺醯基苯基 1.126 ch3ch2 4-三氟甲硫基苯基 1.127 CH3CH2 4-三氟甲基亞磺醯基苯基 1.128 CH3CH2 4-三氟曱基磺醯基苯基 1.129 CH3CH2 2,3-二氣苯基 1.130 CH3CH2 2,4-二氟苯基 1.131 ch3ch2 2,5-二氟苯基 1.132 CH3CH2 2,6-二氟苯基 1.133 ch3ch2 3,4-二氟苯基 1.134 ch3ch2 3,5-二氟苯基 1.135 ch3ch2 2,3-二氯苯基 1.136 ch3ch2 2,4-二氯苯基 134 200922473 化合物編號 R3 R4 1.137 CH3CH2 2,5-二氯苯基 1.138 CH3CH2 2,6-二氯苯基 1.139 CH3CH2 3,4-二氯苯基 1.140 ch3ch2 3,5-二氯苯基 1.141 CH3CH2 4-漠-2-氟苯基 1.142 CH3CH2 4-漠-3-敗苯基 1.143 CH3CH2 4- >臭-2-氯苯基 1.144 CH3CH2 4->臭-3-氯苯基 1.145 ch3ch2 4-氣-2-亂苯基 1.146 ch3ch2 4-氣-3-亂苯基 1.147 ch3ch2 4-氯-2-氣苯基 1.148 CH3CH2 4-風-3-鼠苯基 1.149 ch3ch2 4-氯-2-甲氧基苯基 1.150 CH3CH2 4-氯-3-甲氧基苯基 1.151 CH3CH2 4-氯-2-甲基苯基 1.152 ch3ch2 4-氯-3-曱基苯基 1.153 CH3CH2 4-氯-2-二敦甲基苯基 1.154 CH3CH2 4-氯-3-二獻^甲基苯基 1.155 CH3CH2 2-氯-4-曱氧基苯基 1.156 ch3ch2 3-氯-4-甲氧基苯基 1.157 ch3ch2 2-氯-4-甲基苯基 1.158 CH3CH2 3-氯-4-甲基苯基 1.159 ch3ch2 2-氟-4-甲氧基苯基 135 200922473 化合物編號 R3 R4 1.160 CH3CH2 3-氟-4-曱氧基苯基 1.161 CH3CH2 2-氣-4-甲基苯基 1.162 CH3CH2 3-氟-4-甲基苯基 1.163 CH3CH2 2-氟-4-三氟甲基苯基 1.164 CH3CH2 3-敗-4-三氟甲基苯基 1.165 CH3CH2 2-氣°比°定_5-基 1.166 CH3CH2 基 1.167 ch3ch2 2-甲氧基吡啶-5-基 1.168 CH3CH2 3-曱氧基。比啶-5-基 1.169 CH3CH2 2-曱基吡啶-5-基 1.170 ch3ch2 3-甲基°比°定-5-基 1.171 CH3CH2 2-三氟甲基吼啶-5-基 1.172 ch3ch2 3-三氟甲基吡啶-5-基 1.173 ch3ch2 2,6-二氣吼。定-3-基 1.174 ch3ch2 4-氯11比唾-1-基 1.175 CH3CH2 2-噻吩基 1.176 CH3CH2 5-氣σ塞吩-2-基 1.177 ch3ch2 5-'/臭嗟吩-2-基 1.178 CH3CH2 3-噻吩基 1.179 CH3CH2 5_載/塞吩-3-基 1.180 ch3ch2 5->臭。塞吩-3-基 | 136 200922473 ' 表2 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為 CH(CH3)，G 為氫，I 且R3及R4如表1中所定義。 表3 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為 C(CH3)2，G 為氳，F 且R3及R4如表1中所定義。 f 表4 : 此表涵蓋結構類型T- 1的1 80個化合物， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為 CH2，G 為氳，R1 基，且R3及R4如表1中所定義。 表5 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為 CH2，G 為氫，R1 / 且R3及R4如表1中所定義。 、 表6 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，F 且R3及R4如表1中所定義。 表7 : 此表涵蓋結構類型T- 1的1 80個化合物， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為 |[ 氫，且R3及R4如表1中所定義。 其中X為S， 1及R2為氫， 其中X為S， 1及R2為氳， 其中X為S， I；氫，R2為甲 其中X為S， L R2為甲基， 其中X為S， 1及R2為氫， 其中X為S， ，Ri及R2為 137 200922473 : 表8 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表9 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 ( 表 10 : 此表涵蓋結構類型T-1的180個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 為氫，R2 為甲基，且R3及R4如表1中所定義。 表11 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 為氫， R2為甲基，且R3及R4如表1中所定義。 I 表 12 : 此表涵蓋結構類型T-1的180個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為曱 基，且R3及R4如表1中所定義。 表13 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為 曱基，且R3及R4如表1中所定義。 138 200922473 • 表 14 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 為甲 基，R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表15 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 為甲 基，R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表16 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為-CH2CH2-，E 為-CH=CH-，G 為氳，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表17 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為-CH2-CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 18 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z為N，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1及R2為氫，且 R3及R4如表1中所定義。 表19 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z為N，D為CH2，E為CH(CH3)，G為氫，R1及R2為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 139 200922473 表20 : 此表涵蓋結構類型T-1的180個化合物，其中X為S， Z為N，D為CH2，E為C(CH3)2，G為氫，R1及R2為氳， 且R3及R4如表1中所定義。 表21 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z為N，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1為氫，R2為曱基， 且R3及R4如表1中所定義。 ί ' 表 22 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的180個化合物，其中X為S， Ζ為Ν，D為CH2，Ε為CH2，G為氳，R1及R2為曱基，且 R3及R4如表1中所定義。 表23 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z為N，D為CH2，E為-CH=CH-，G為氫，R1及R2為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 I， 表 24 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為氳， 且R3及R4如表1中所定義。 表25 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為 氫，且R3及R4如表1中所定義。 140 200922473 表 26 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表27 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z為N，D為CH2，E為-CH=CH-，G為氫，R1為氫，R2為 曱基，且R3及R4如表1中所定義。 表28 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 為氳，R2 為甲基，且R3及R4如表1中所定義。 表29 : 此表涵蓋結構類型T-1的180個化合物，其中X為S， Z為N，D為CH2，E為-CH=CH-，G為氫，R1及R2為甲基， 且R3及R4如表1中所定義。 表 3 0 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物，其中X為S， Ζ 為 Ν，D 為 CH2，Ε 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為甲 基，且R3及R4如表1中所定義。 表31 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 為曱基， R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 141 200922473 . 表 32 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氳，R1 為曱基， R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表33 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為-CH2CH2-，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 I 表 3 4 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為-CH2-CH2-，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表35 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物：
其中X為S，Z為C-H，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1 及R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 142 200922473 ； 表 36 : 此表涵蓋結構類型T-2的180個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為 CH(CH3)，G 為氫，R1 及 R2 為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 表37 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為 C(CH3)2，G 為氳，R1 及 R2 為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 ί、 表 38 : 此表涵蓋結構類型Τ-2的1 80個化合物，其中X為S， Ζ為C-H，D為CH2，Ε為CH2，G為氫，R1為氳，R2為甲 基，且R3及R4如表1中所定義。 表39 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z為C-H，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1及R2為曱基， 且R3及R4如表1中所定義。 ^ 表 40 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 表41 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2·，G 為氫，R1 及 R2 為 氫，且R3及R4如表1中所定義。 143 200922473 表42 : 此表涵蓋結構類型T-2的180個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氳，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表43 : 此表涵蓋結構類型T-2的180個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表44 : 此表涵蓋結構類型T-2的180個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 為氫，R2 為甲基，且R3及R4如表1中所定義。 表45 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 為氫， R2為甲基，且R3及R4如表1中所定義。 表46 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為曱 基，且R3及R4如表1中所定義。 表47 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為 甲基，且R3及R4如表1中所定義。 144 200922473 . 表 48 : 此表涵蓋結構類型T-2的180個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氳，R1 為甲 基，R2為氳，且R3及R4如表1中所定義。 表49 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 為甲 基，R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 " 表 50 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為-CH2CH2-，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表51 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 C-H，D 為-CH2-CH2-，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 k ’ 表 5 2 : 此表涵蓋結構類型T-2的180個化合物，其中X為S， Z為N，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1及R2為氫，且 R3及R4如表1中所定義。 表53 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z為N，D為CH2，E為CH(CH3)，G為氫，R1及R2為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 145 200922473 . 表 54 : 此表涵蓋結構類型T-2的180個化合物，其中X為S， Z為N，D為CH2，E為C(CH3)2，G為氫，R1及R2為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 表55 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z為N，D為CH2，E為CH2，G為氳，R1為氫，R2為甲基， 且R3及R4如表1中所定義。 ” 表 56 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z為N，D為CH2，E為CH2，G為氳，R1及R2為甲基，且 R3及R4如表1中所定義。 表57 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z為N，D為CH2，E為-CH = CH-，G為氫，R1及R2為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 I 表 58 : 此表涵蓋結構類型T-2的180個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 表59 : 此表涵蓋結構類型T-2的180個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氳，R1 及 R2 為 氫，且R3及R4如表1中所定義。 146 200922473 表60 : 此表涵蓋結構類型T-2的180個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表61 : 此表涵蓋結構類型T-2的180個化合物，其中X為S， Z為N，D為CH2，E為-CH=CH-，G為氫，R1為氫，R2為 甲基，且R3及R4如表1中所定義。 表62 : 此表涵蓋結構類型T-2的180個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 為氫，R2 為曱基，且R3及R4如表1中所定義。 表6 3 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z為N，D為CH2，E為-CH=CH-，G為氫，R1及R2為甲基， 且R3及R4如表1中所定義。 表64 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為甲 基，且R3及R4如表1中所定義。 表65 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 為甲基， R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 147 200922473 表66 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 為曱基， R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表67 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為-CH2CH2-，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 Γ 表 68 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為S， Z 為 N，D 為-CH2-CH2-，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表69 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物：
其中X為Se，Z為C-H，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1 及R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 148 200922473 表70 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為 CH(CH3)，G 為氳，R1 及 R2 為氳， 且R3及R4如表1中所定義。 表71 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為 C(CH3)2，G 為氫，R1 及 R2 為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 表72 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z為C-H，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1為氳，R2為甲 基，且R3及R4如表1中所定義。 表73 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z為C-H，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1及R2為甲基， 且R3及R4如表1中所定義。 表74 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氳，R1 及 R2 為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 表75 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氳，R1 及 R2 為 氫，且R3及R4如表1中所定義。 149 200922473 ， 表 76 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氳，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表77 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 C 表 78 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氳，R1 為氫，R2 為曱基，且R3及R4如表1中所定義。 表79 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 為氫， R2為甲基，且R3及R4如表1中所定義。 ( 表 80 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氳，R1 及 R2 為曱 基，且R3及R4如表1中所定義。 表81 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氩，R1 及 R2 為 曱基，且R3及R4如表1中所定義。 150 200922473 表82 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫 基，R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表83 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫 基，R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表84 : 此表涵蓋結構類型T-1的180個化合物，其中 Z 為 C-H，D 為-CH2CH2-，E 為-CH=CH-，G 為氳 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表85 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 C-H，D 為-CH2-CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為 R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表86 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 CH2，E 為 CH2，G 為氫，R1 及 R2 R3及R4如表1中所定義。 表87 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 CH2，E 為 CH(CH3)，G 為氫，R1 及 且R3及R4如表1中所定義。 X 為 Se， ，R1為甲 X 為 Se， ，R1為甲 X 為 Se， ，R1 及 R2 X 為 Se， 氫，R1及 X 為 Se， 為氫，且 X 為 Se， R2為氫， 151 200922473 表 88 : Μ 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z為N，D為CH2，E為C(CH3)2，G為氫，R1及R2為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 表89 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z為N，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1為氫，R2為甲基， 且R3及R4如表1中所定義。 (: 表 90 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z為N，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1及R2為曱基，且 R3及R4如表1中所定義。 表91 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z為N，D為CH2，E為-CH=CH-，G為氫，R1及R2為氳， 且R3及R4如表1中所定義。 t 表 92 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為氳， 且R3及R4如表1中所定義。 表93 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為 氳，且R3及R4如表1中所定義。 152 200922473 表94 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表95 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 為 曱基，且R3及R4如表1中所定義。 表96 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 為甲基，且R3及R4如表1中所定義。 表97 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R: 且R3及R4如表1中所定義。 表98 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 2 基，且R3及R4如表1中所定義。 表99 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 X 為 Se， ，R1 及 R2 X 為 Se， 氫，R2為 X 為 Se， 為氫，R2 X 為 Se， 1為甲基， X 為 Se， 之R2為甲 X 為 Se， 為甲基， 153 200922473 表 100 : 此表涵蓋結構類型τ-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 為甲基， R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 101 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 N，D 為-CH2CH2-，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 ί 表 102 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 N，D 為-CH2-CH2-，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 103 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物：
其中X為Se，Z為C-H，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1 及R2為氳，且R3及R4如表1中所定義。 154 200922473 表 104 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為 CH(CH3)，G 為氫，R1 及 R2 為氳， 且R3及R4如表1中所定義。 表 105 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為 C(CH3)2，G 為氫，R1 及 R2 為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 ί 表 106 : 此表涵蓋結構類型Τ-2的1 80個化合物，其中X為Se， Z為C-H，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1為氫，R2為甲 基，且R3及R4如表1中所定義。 表 107 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Se， Z為C-H，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1及R2為甲基， 且R3及R4如表1中所定義。 f - 、 表 108 : 此表涵蓋結構類型T-2的180個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氳，R1 及 R2 為氳， 且R3及R4如表1中所定義。 表 109 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為 氫，且R3及R4如表1中所定義。 155 200922473 . 表 110 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其4 Ζ 為 C-H，D 為 C(CH3)2，Ε 為-CH=CH-，G 為氫 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 111 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其_ Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為 R2為氳，且R3及R4如表1中所定義。 Γ 表 1 12 : 此表涵蓋結構類型Τ-2的1 80個化合物，其寸 Ζ 為 C-H，D 為 CH2，Ε 為-CH=CH-，G 為氫，R 為曱基，且R3及R4如表1中所定義。 表 113 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其寸 Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氩， R2為曱基，且R3及R4如表1中所定義。 、 表 1 1 4 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其寸 Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 基，且R3及R4如表1中所定義。 表 115 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其_ Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，] 曱基，且R3及R4如表1中所定義。 ，X 為 Se， ，R1 及 R2 7 X 為 Se， 氳，R1及 ，X 為 Se， 1為氳，R2 1 X 為 Se， R1為氫， ，X 為 Se， 及R2為甲 ，X 為 Se， El1及R2為 156 200922473 . 表 1 16 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 為曱 基，R2為氳，且R3及R4如表1中所定義。 表 117 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氳，R1 為曱 基，R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 ’' 表 118 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為-CH2CH2-，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 119 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 C-H，D 為-CH2-CH2-，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 ( 表 120 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Se， Z為N，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1及R2為氫，且 R3及R4如表1中所定義。 表 121 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Se， Z為N，D為CH2，E為CH(CH3)，G為氫，R1及R2為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 157 200922473 , 表 122 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X Ζ 為 Ν，D 為 CH2，Ε 為 C(CH3)2，G 為氫，R1 及 R2 且R3及R4如表1中所定義。 表 123 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X Z為N，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1為氫，R2為 且R3及R4如表1中所定義。 ί 表 124 : 此表涵蓋結構類型Τ-2的1 80個化合物，其中X Ζ為Ν，D為CH2，Ε為CH2，G為氫，R1及R2為甲 R3及R4如表1中所定義。 表 125 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 且R3及R4如表1中所定義。 I 表 126 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氳，R1 及 R2 且R3及R4如表1中所定義。 表 127 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 石 氫，且R3及R4如表1中所定義。 為Se， 為氳， 為Se， 曱基， 為Se ’ 基，且 為S e ’ 為氫， 為Se， 為氫， 為S e ’ l R2為 158 200922473 表 128 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫 為氳，且R3及R4如表1中所定義。 表 129 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 為 曱基，且R3及R4如表1中所定義。 f - 表 130 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氳，R1 為曱基，且R3及R4如表1中所定義。 表 131 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 且R3及R4如表1中所定義。 U 表 132 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 2 基，且R3及R4如表1中所定義。 表 133 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 X 為 Se， ，R1 及 R2 X 為 Se， 氫，R2為 X 為 Se， 為氫，R2 X 為 Se， ^為甲基， X 為 Se， I R2為甲 X 為 Se’ 為曱基， 159 200922473 . 表 134 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氳，R1 為甲基， R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 135 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 N，D 為-CH2CH2-，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 f 表 136 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Se， Z 為 N，D 為-CH2-CH2-，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 137 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物：
其中X為Ο，Z為C-H，D為CH2，E為CH2，G為氳，R1 及R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 160 200922473 . 表 138 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物， Ζ 為 C-H，D 為 CH2，Ε 為 CH(CH3)，G 為氫，] 且R3及R4如表1中所定義。 表 139 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為 C(CH3)2，G 為氫，ί 且R3及R4如表1中所定義。 C 表 140 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物， Ζ 為 C-H，D 為 CH2，Ε 為 CH2，G 為氫，R1 基，且R3及R4如表1中所定義。 表 141 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為 CH2，G 為氳，R1 , 且R3及R4如表1中所定義。 f 表 142 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，I 且R3及R4如表1中所定義。 表 143 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為崖 氫，且R3及R4如表1中所定義。 其中X為Ο， .1及R2為氫， 其中X為Ο， 1及R2為氫， 其中X為Ο， 每氳，R2為甲 其中X為〇， L R2為甲基， 其中X為〇， 1及R2為氫， 其中X為〇， ，Ri及R2為 161 200922473 , 表 144 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Ο， Ζ 為 C-H，D 為 C(CH3)2，Ε 為-CH=CH-，G 為氳，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 145 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 f 表 146 : 此表涵蓋結構類型T-1的180個化合物，其中X為Ο， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 為氳，R2 為曱基，且R3及R4如表1中所定義。 表 147 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 為氳， R2為甲基，且R3及R4如表1中所定義。 表 148 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為曱 基，且R3及R4如表1中所定義。 表 149 : 此表涵蓋結構類型τ-1的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為 曱基，且R3及R4如表1中所定義。 162 200922473 表 150 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫 基，R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 151 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫 基，R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 Γ- 表 152 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 C-H，D 為-CH2CH2-，E 為-CH=CH-，G 為氫， 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 153 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 C-H，D 為-CH2-CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為 i R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 I 表 1 5 4 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 CH2，E 為 CH2，G 為氫，R1 及 R2 , R3及R4如表1中所定義。 表 155 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 CH2，E 為 CH(CH3)，G 為氫，R1 及] 且R3及R4如表1中所定義。 X為Ο， ，R1為曱 X為Ο， ，R1為曱 X為0， R1 及 R2 X為〇， I，R1 及 X為0， 岛氳，且 X為〇， 0為氫， 163 200922473 , 表 156 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X Ζ 為 Ν，D 為 CH2，Ε 為 C(CH3)2，G 為氫，R1 及 R2 且R3及R4如表1中所定義。 表 157 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X Z為N，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1為氫，R2為 且R3及R4如表1中所定義。 表 158 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X Z為N，D為CH2，E為CH2，G為氳，R1及R2為甲； R3及R4如表1中所定義。 表 159 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 且R3及R4如表1中所定義。 1 表 160 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 且R3及R4如表1中所定義。 表 161 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 氫，且R3及R4如表1中所定義。 為Ο， 為氳， 為〇， 甲基， 為0， 基，且 為〇， 為氳， 為0， 為氮， 為0， R2為 164 200922473 疇 、 表 162 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 163 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Ο， Z為N，D為CH2，E為-CH=CH-，G為氫，R1為氫，R2為 曱基，且R3及R4如表1中所定義。 f 表 164 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氳，R1 為氫，R2 為甲基，且R3及R4如表1中所定義。 表 165 : 此表涵蓋結構類型τ-1的1 80個化合物，其中X為Ο， Z為N，D為CH2，E為-CH=CH-，G為氫，R1及R2為甲基， 且R3及R4如表1中所定義。 I 表 166 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為曱 基，且R3及R4如表1中所定義。 表 167 : 此表涵蓋結構類型Τ-1的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 為甲基， R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 165 200922473 -4 〜 表168 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氳，R1 為甲基， R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 169 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 N，D 為-CH2CH2-，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 ( 表 170 : 此表涵蓋結構類型T-1的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 N，D 為-CH2-CH2-，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 171 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物：
其中X為Ο，Z為C-H，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1 及R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 166 200922473 _ 表 172 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Ζ 為 C-H，D 為 CH2，Ε 為 CH(CH3)，G 為氫，R1 及 R2 為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 表 173 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為〇， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為 C(CH3)2，G 為氫，R1 及 R2 為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 f 表 174 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為〇， Z為C-H，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1為氫，R2為甲 基，且R3及R4如表1中所定義。 表 175 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Z為C-H，D為CH2，E為CH2，G為氳，R1及R2為曱基， 且R3及R4如表1中所定義。 1 表 176 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氳，R1 及 R2 為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 表 177 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為 氫，且R3及R4如表1中所定義。 167 200922473 . 表 178 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Ζ 為 C-H，D 為 C(CH3)2，Ε 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 179 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 180 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 為氫，R2 為甲基，且R3及R4如表1中所定義。 表 181 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氳，R1 為氳， R2為甲基，且R3及R4如表1中所定義。 、表 182 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為甲 基，且R3及R4如表1中所定義。 表 183 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 C-H，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為 甲基，且R3及R4如表1中所定義。 168 200922473 . 表 184 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Ζ 為 C-H，D 為 C(CH3)2，Ε 為-CH=CH-，G 為氫，R1 為甲 基，R2為氳，且R3及R4如表1中所定義。 表 185 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為〇， Z 為 C-H，D 為 C(CH3)2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 為曱 基，R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 ^ 表 186 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為〇， Z 為 C-H，D 為-CH2CH2-，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為氳，且R3及R4如表1中所定義。 表 187 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為〇， Z 為 C-H，D 為-CH2-CH2-，E 為-CH2-CH2-，G 為氳，R1 及 R2為氳，且R3及R4如表1中所定義。 表 188 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Z為N，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1及R2為氫，且 R3及R4如表1中所定義。 表 189 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為〇， Z為N，D為CH2，E為CH(CH3)，G為氫，R1及R2為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 169 200922473 * . 表 190 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Ζ為Ν，D為CH2，Ε為C(CH3)2，G為氫，R1及R2為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 表 191 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Z為N，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1為氫，R2為曱基， 且R3及R4如表1中所定義。 C 1 表 192 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Z為N，D為CH2，E為CH2，G為氫，R1及R2為曱基，且 R3及R4如表1中所定義。 表 193 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Z為N，D為CH2，E為-CH=CH-，G為氫，R1及R2為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 1 表 194 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氫，R1 及 R2 為氫， 且R3及R4如表1中所定義。 表 195 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中X為Ο， Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 及 R2 為 氫，且R3及R4如表1中所定義。 170 200922473 , 表 196 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中 Ζ 為 Ν，D 為 C(CH3)2，Ε 為-CH2-CH2-，G 為氫， 為氫，且R3及R4如表1中所定義。 表 197 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中 Z為N，D為CH2，E為-CH=CH-，G為氫，R1為」 甲基，且R3及R4如表1中所定義。 (表 198 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氳，R1 為曱基，且R3及R4如表1中所定義。 表 199 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH=CH-，G 為氳，R1 及 R2 且R3及R4如表1中所定義。 表 200 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 CH2，E 為-CH2-CH2-，G 為氳，R1 及 基，且R3及R4如表1中所定義。 表 201 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中 Z 為 N，D 為 C(CH3)2，E 為-CH=CH-，G 為氫，R1 R2為氫，且R3及R4如表1中所定義。 X為Ο， R1 及 R2 X為Ο， I，R2 為 X為0， 為氫，R2 X為0， 為曱基， X為0， .R2為曱 X為Ο， 為曱基， 171 200922473 、 表 202 : 此表涵蓋結構類型T_2的180個化合物，其中χ為〇, Ζ 為 Ν ’ 〇 為 C(CH3)2，Ε 為 _Ch2_CH2_，G 為氳，Rl 為甲基， R2為氫，且R3及R4如表i中所定義。 土 表 203 : 此表涵蓋結構類型τ_2的18〇個化合物，其中X為〇, Ζ 為 N，D 為-CH2Ch2_’ Ε 為<11=〇11_，G 為氫，…及 為氫’且R3及R4如表1中所定義。 f 表 204 : 此表涵蓋結構類型T-2的1 80個化合物，其中χ為〇 , Ζ 為 Ν，D 為 _CH2-CH2- ’ Ε 為-CH2-CH2-，G 為氫，Ri 及 R: 為虱’且R3及R4如表1中所定義。
生物實施例 實施例A 將各種試驗物種之種子播種在罐子內的標準土壤中。 在溫室内受控制的條件下栽種丨天之後（萌芽前）或在栽 " 種10天之後（萌芽後），將植物以技術活性成分在0 6毫 升丙酮及含有10.6 % Emulsogen EL (登錄號碼 61791-12-6) 、42.2 % N_甲基吡咯啶酮、42.2%二丙二醇單 曱醚（登錄號碼34590-94-8 )及0.2% X-77 (登錄號碼 1 1 097-66-8 )之45毫升調配溶液中之調配物所得到的水性 喷霧溶液喷霧。接著使試驗植物在溫室中於適宜的條件下 生長，直到萌芽後之後14或15天及萌芽前之後19或20 天為止，評估試驗（100=對植物完全損害；〇=對植物沒有 172 200922473 . 任何損害）。 試驗植物： 大穗看麥娘（Alopecurusmyosuroides) (ALOMY)、燕麥 草（Avenafatua) ( AVEFA )、黑麥草（Lolium perenne ) (LOLPE )、大狗尾草（Setaria faberi) ( SETFA )、雞窩 草（Digitariasanguinalis) ( DIGS A)、稗草（Eehinochloa crus-galli ) ( ECHCG) 萌芽前活性 化合物 編號 施予率 公克/公頃 ALOMY AVEFA LOLPE SETFA DIGSA ECHCG —T1 250 60 20 80 70 60 60 T15 __T16 250 90 _ 100 100 100 100 250 10 20 20 80 80 70 _T17 250 100 100 100 100 100 100 _T18 250 0 0 0 20 30 20 _119 250 --------- 100 100 100 100 100 100 123 250 ----- 30 50 0 0 0 0 piL芽後 活性 _ ^-- 化合物 施予率 公克/公fcs ALOMY AVEFA LOLPE SETFA DIGSA ECHCG 125 70 70 30 90 80 100 125 ---- 90 90 50 100 100 70 __T16 125 ---- 20 40 20 60 70 50 -_T17 125 -- -------- 70 50 40 80 80 90 --T19 125 - 40 30 20 60 60 50 125 100 100 80 100 100 100 L_T23 125^^ --- 80 70 70 100 90 90
實施例B 將驗物種之種子播種在罐子内的標準土壤中。 在溫室内受控制的條件下（在24°C /16。(3之日間/夜間；14 小時光照；65%濕度）栽種1天之後（萌芽前）或在栽種8 173 200922473 . 天之後（萌芽後），將植物以技術活性成分在含有0.5% Tween 20 (聚氧乙烯山梨醇酐單月桂酸酯，CAS RN 9005-64-5 )之丙酮/水（50 : 50 )溶液中之調配物所得到的 水性喷霧溶液噴霧。 接著使試驗植物在溫室中於溫室内受控制的條件下 (在24°C /16°C之曰間/夜間；14小時光照；65%濕度）生 長及每天供水兩次。在萌芽前及萌芽後1 3天之後評估試驗 (1 00 =對植物完全損害；0 =對植物沒有任何損害）。 試驗植物· 大穗看麥娘（Alopecurusmyosuroides) (ALOMY)、燕麥 草（Avena fatua) ( AVEFA )、大狗尾草（Set aria fab eri) (SETFA)、稗草（Echinochloa crus-galli ) ( ECHCG )、 龍葵（Solatium nigrum ) ( SOLNI )及刺宽草（Amaranthus retoflexus) ( AMARE ) 萌芽前活性 化合物編號 施予率 公克/公頃 AMARE SETFA ALOMY ECHOG AVEFA T2 250 0 50 0 0 0 Τ3 250 0 90 60 80 0 Τ4 250 0 30 50 60 0 Τ5 250 0 90 50 80 0 T9 250 0 50 30 50 0 Τ10 250 0 20 20 60 0 τη 250 0 0 40 70 0 Τ13 250 0 100 90 100 40 Τ14 250 0 70 30 90 80 Τ20 250 0 40 50 70 0 Τ22 250 20 100 70 80 20 Τ26 250 0 100 90 100 60 Τ27 250 0 100 90 100 90 174 200922473 化合物編號 施予率 公克/公頃 AMARE SETFA ALOMY ECHOG AVEFA T28 250 0 100 80 100 90 T29 250 20 100 90 100 90 T30 250 20 100 90 100 100 T32 250 0 100 90 100 80 T33 250 0 100 90 100 50 T34 250 0 20 20 20 0 T35 250 0 100 30 90 0 T36 250 0 70 60 60 20 T37 250 0 90 30 60 30 T38 250 0 100 60 70 50 T39 250 0 90 90 100 0 T40 250 0 100 100 100 100 T41 250 0 40 80 100 0 T42 250 0 100 100 100 0 T44 250 0 100 90 100 60 T45 250 0 100 90 100 30 T46 250 0 90 60 100 30 T49 250 0 100 100 100 100 T51 250 0 100 80 100 20 T53 250 0 100 90 100 80 T54 250 0 60 90 100 70 T55 250 0 100 100 100 100 T56 250 0 0 0 40 0 T57 250 0 90 60 90 20 T58 250 0 60 60 100 60 T59 250 0 100 80 90 70 T63 250 0 90 90 100 90 T64 250 0 0 20 0 0 T65 250 20 100 50 100 20 T66 250 0 30 10 30 0 T68 250 0 80 60 0 70 T70 250 100 100 70 60 30 T73 250 0 0 0 0 50 T74 250 100 40 30 20 0 T75 250 0 90 0 40 20 T76 250 0 70 0 50 0 175 200922473 化合物編號 施予率 公克/公頃 AMARE SETFA ALOMY ECHOG AVEFA T77 250 50 0 0 0 0 T78 250 0 0 0 0 90 T81 250 0 100 50 100 40 T82 250 0 80 0 40 0 T83 250 0 90 50 100 0 T84 250 0 100 70 100 40 T85 250 30 0 0 0 0 T87 250 20 60 20 60 50 T88 250 0 80 0 60 0 T92 250 0 100 70 100 90 T93 250 0 20 20 40 0 T96 250 0 100 80 100 100 T99 250 20 60 50 60 30 T102 250 0 50 50 70 30 T104 250 0 50 70 100 20 T106 250 0 20 0 10 0 T110 250 20 100 30 60 30 Till 250 0 80 50 100 90 PI 250 0 100 80 100 0 P2 250 0 100 80 100 40 P3 250 0 100 20 80 0 P4 250 40 90 0 0 0 P5 250 0 100 100 40 30 P6 250 0 100 20 20 0 P7 250 0 90 30 20 0 P8 250 0 100 20 50 0 P9 250 0 100 90 90 100 Pll 250 0 80 0 0 0 P12 250 0 100 30 20 20 P13 250 0 100 70 50 100 P14 250 0 100 70 100 100 P15 250 0 90 90 100 60 P17 250 0 100 80 100 50 P18 250 0 60 20 70 0 P19 250 0 90 10 20 0 P22 250 0 30 0 0 0 176 200922473 萌芽後活性 化合物編號 施予率 公克/公頃 AMARE SETFA ALOMY ECHOG AVEFA T2 250 0 70 0 30 0 T3 250 0 100 90 100 60 T4 250 0 80 60 100 0 T5 250 0 100 70 100 0 T6 250 0 50 0 40 0 T9 250 0 100 60 70 0 T10 250 0 70 20 70 0 T11 250 0 80 90 100 40 T13 250 0 100 100 100 90 T14 1000 20 100 90 100 90 T20 250 0 90 90 100 90 T22 250 0 90 90 90 90 T24 250 0 30 0 0 0 T25 1000 0 30 20 10 0 T26 250 40 100 100 100 100 T27 250 0 100 100 100 100 T28 250 0 100 100 100 100 T29 250 0 100 100 100 100 T30 250 0 100 100 100 100 T31 250 0 80 0 60 0 T32 250 0 100 100 100 90 T33 250 0 100 100 100 100 T34 250 0 90 70 80 0 T35 250 0 100 100 100 80 T36 250 0 100 90 100 20 T37 250 0 100 100 100 90 T38 250 0 100 100 100 100 T39 250 0 100 100 100 100 T40 250 0 100 100 100 100 T41 250 0 100 100 100 70 T42 250 0 100 100 100 70 T43 250 0 60 20 20 0 T44 250 0 100 100 100 100 T45 250 0 100 100 100 100 T46 250 0 100 100 100 90 177 200922473 化合物編號 施予率 公克/公頃 AMARE SETFA ALOMY ECHOG AVEFA T47 250 0 90 30 80 0 T48 250 0 80 20 80 0 T49 250 0 100 90 100 90 T51 250 0 100 100 100 100 T52 250 0 0 0 0 0 T53 250 0 100 100 100 100 T54 250 30 100 100 100 90 T55 250 0 100 100 100 100 T56 250 0 70 0 60 0 T57 250 0 100 70 100 60 T58 250 0 100 90 100 80 T59 250 0 100 100 100 80 T60 250 0 60 0 50 0 T61 250 0 20 0 0 0 T62 250 0 60 0 0 0 T63 250 0 100 60 100 70 T64 250 0 70 0 50 0 T65 250 70 100 50 100 70 T66 250 0 70 10 70 0 T68 250 0 100 70 100 90 T70 250 40 100 90 100 50 T71 250 0 50 0 20 0 T73 250 0 30 0 20 0 T74 250 0 90 50 70 0 T75 250 0 90 20 70 0 T76 250 0 80 70 90 50 T77 250 0 70 0 60 0 T78 250 0 80 60 70 0 T79 250 0 10 0 0 0 T81 250 0 100 50 100 50 T82 250 30 100 20 100 0 T83 250 0 100 60 100 100 T84 250 40 100 90 100 70 T87 250 0 90 50 90 60 T88 250 0 70 10 90 0 T89 250 0 80 0 30 0 178 200922473 化合物編號 施予率 公克/公頃 AMARE SETFA ALOMY ECHOG AVEFA T90 250 0 40 0 30 0 T92 250 10 100 100 100 100 T93 250 0 70 30 70 0 T95 250 0 80 80 70 30 T96 250 30 100 100 100 100 T97 250 0 70 0 70 0 T98 250 0 70 20 70 0 T99 250 0 100 100 100 100 T102 250 0 100 100 100 100 T104 250 0 100 100 100 90 T106 250 0 70 10 30 0 T107 250 0 0 0 60 0 T110 250 0 100 60 90 70 Till 250 0 100 100 100 100 T112 250 0 100 70 100 80 T113 250 0 90 90 100 100 T114 250 0 90 10 60 0 T118 250 0 80 60 60 80 T120 250 0 90 40 100 60 T121 250 0 90 70 100 80 PI 250 0 100 100 100 100 P2 250 0 100 100 100 100 P3 250 0 100 60 80 0 P4 250 0 80 20 80 0 P5 250 0 100 100 100 90 P6 250 0 100 90 100 80 P7 250 0 100 90 100 90 P8 250 0 100 70 0 80 P9 250 0 100 100 100 100 Pll 250 0 80 20 80 20 P12 250 0 100 100 100 90 P13 250 0 100 90 100 90 P14 250 0 100 100 100 90 P15 250 0 100 100 100 90 P17 250 0 100 90 100 80 P18 250 40 90 10 80 0 179 200922473 化合物編號 施予率 公克/公頃 AMARE SETFA ALOMY ECHOG AVEFA P19 250 0 90 20 90 0 P22 250 0 70 0 20 0 P23 250 0 30 0 20 0 【圖式簡單說明】 無 【主要元件符號說明】 無 180

Claims (1)

  1. 0 200922473 .十、申請專利範圍： 1. 一種式I化合物：
    (丨)· 其中 R1及R2彼此獨立為氫、CVC6烷基、C2-C6烯基、C2-C6 炔基、CVC6鹵烷基、C2-C6鹵烯基、CVCe烷氧基、C3-C6 烯氧基、C3-C6鹵烯氧基、C3-C6炔氧基、CVC4烷氧基Ci-C^ 烷基、烷氧基CVC4烷氧基、CVC4烷氧基CVC4烷氧 基CVC4烷基、CVC6烷硫基烷硫基CVC4烷基、CVC4 烧基亞續酿基、C 1 - C 4烧基亞續基C 1 - C 4烧基、C 1 - C 4烧基 磺醯基、Ci-C^烷基磺醯基CVC4烷基、羥基-CVC4烷基、 Ci_C6 ί炫氧基C1-C4烧基、C3-C6細乳基C1-C4烧基、C3-C6 鹵烯氧基CVC4烷基、C3-C6炔氧基CVC4烷基、CVC6氰烷 基、CVC6氰烷氧基、CVC4氰烷氧基CVC4烷基、羥基'Ci-G 烷基羰基、羧基、CrCe烷氧基羰基、CrG烷胺基羰基、 二-CVC6烷胺基羰基、三（Ci-C^烷基）矽烷基或三（CVC4烷 基）矽烷氧基， D為視需要經取代之C1 - C 3伸烧基’ 181 200922473 E為視需要經取代之Cl_C3伸烷基或視需要經取代之 C2-C3伸烯基， ~ Het為視需要經取代之單環或雙環雜芳族環.及 G為氫、鹼金屬、鹼土金屬、錡、銨或潛伏化基團 (latentiating group ) 〇 2.根據申請專利範圍第1項之化合物， 再中R1為氫、 CVC4烧基或CVC4烷氧基。
    3 .根據申請專利範圍第1項之化合物， ^ 再中R為氫或 ’其中D為CVC2 Cl'c3烷基取代之 4·根據申請專利範圍第1項之化合物 伸烧基或被Cl_C3烷基或Cl_c3烷氧基 C 1 - C 2伸院基。 5·根據申請專利範圍第1項之化合物， 經取代夕再中Ε為視需要 、 Ci-C2伸烷基或視需要經取代之 6 i±i 2 伸稀基。 •據申請專利範圍第1項之化合物， 要經取代之gg iro 異中Het為視需 代之早％ 5-或6_員含氮或硫之雜芳 申印專利範圍第6項之化合物， Rl至R]2之基K : W 其中Het為式 182 200922473
    (Rn)
    (R,2) 其中 A標示與酮烯醇部份之連接點， W1 為 N 或 CR6， W2及W3彼此獨立為N或CR4， W4 為 N 或 CR7， 其先決條件係W1、W2、W3或W4中之至少一者為N， X 為 0、S、Se 或 NR9， Z 為 N 或 CR10， 其中 R3為氫、鹵素、CVC4烷基、CVCU鹵烷基、C3-C6環烷 183 200922473 -基、C3-C6-卤環烷基、c2-C4烯基、C2-C4鹵烯基、C2-C4炔 基、烷氧基、d-C4鹵烷氧基、Ci-C4烷硫基、c「c4 烧基亞磺醯基、Cl-c4烷基磺醯基、硝基或氰基， R為氫、C^-Ce烧基、Ci-C6鹵烧基、〇2·〇6稀基、C2-C6 ifi稀基' c2-c6炔基、c3-c6環烷基、c5-c6環烯基、鹵素、 c,-c6燒氧基、Cl_c6烷氧基_Cl_c6烷基、Cl_c6鹵烷氧基、 視需要經取代之芳基、視需要經取代之芳氧基、視需要經 取代之雜芳基或視需要經取代之雜芳氧基， R為氫、CVC4烷基、C2-C3烯基、c2-C3炔基、 函烧基或Ca-C：3鹵烯基’較佳地為曱基或乙基， R6為氫、曱基、鹵甲基或鹵素， R為氫、鹵素、c丨-c4烷基、鹵烷基、c:2_c4烯基、 2 c4鹵烯基、C2_C4炔基、（^匕烷氧基、鹵烷氧基、 1 4烷硫基、Cl_C4烷基亞磺醯基、C广c4烷基磺醢基或氰 基， 乙基、視需要經取 R為氫、曱基、乙基、鹵甲基、 代之芳基或視需要經取代之雜芳基， 乙基或_甲基，及 乙基、鹵甲基、鹵乙基、鹵素、氰基 R為氫、甲基、 R1G為氫、甲基、 或確基。 8·根據申請專利範圍第 R2之基團： 7項之化合物，其中Het為式 184 200922473 A (R2), 其中X為硫，z為氮或CRl。，且r3、尺4及Rl0具有申請專 利範圍第13中就彼等所指定之意義。 9·種装備式I中G為氫之化合物的方法，其包含式（H) 中R1、R2、E及D具有申請專利範圍第i項中就彼等所指 疋之意義且R4為氫、C丨_C6烷基、CA鹵烷基、烯 基、c2-c6鹵稀基、cvC6炔基、C3_C6環烧基、環稀 基、画素、c丨-c6烷氧基、c丨·C6烷氧基_Ci_C6烷基、q_C6 鹵烷氧基、視需要經取代之芳基、視需要經取代之芳氧基、 視需要經取代之雜芳基或視需要經取代之雜芳氧基之化合 物視需要在適合的溶劑存在下及視需要在微波照射下熱重 排成式（G)化合物，其為式Γ中G為氫，Het為（R2)(當R3 為CHaR”時）及R”為氫、烷基或鹵烷基之化合物：
    式(H) 式(G) —種製備 冼，其包含式 (Κ)中R、r2、ead具有中請專利範圍第i項中就彼等所 185 200922473 -指定之意義且R4為氫、C〗-C6烷基、CrQ _烷基、c2-c6 烯基、c2-c6鹵烯基、c2_c6炔基、c3-c6環烷基、c5-c6環 稀基、鹵素、CVC6烷氧基、Cl_c6烷氧基-(VC6烷基、CVC6 鹵烧氧基、視需要經取代之芳基、視需要經取代之芳氧基、 視需要經取代之雜芳基或視需要經取代之雜芳氧基之化合 物視需要在適合的溶劑存在下及視需要在微波照射下熱重 排成式（J)化合物，其為式I中G為氫，Het為（R3)(當R3 為C&R”時）及R”為氫、烷基或_烷基之化合物
    式(K) 式(J) 11· 一種控制在有用植物之作物中的草坪及雜草之方 法，其包含將除草有效量之式〗化合物或含有該等化合物之 組成物施予植物或其所在地。 12. —種除草組成物，其除了包含調配佐劑之外，還包 含除草有效量之式I化合物。 13. 根據申請專利範圍第12項之組成物，其除了包含式 I化合物之外，還包含另外的除草劑作為混合伙伴。 14. 根據申請專利範圍第12項之組成物，其除了包含式 I化合物之外，還包含安全劑。 186 200922473 15.根據申請專利範圍第12項之組成物，其除了包含式 I化合物之外，還包含另外的除草劑作為混合伙伴及安全 劑。 Η*一、圖式： 無 187
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