KR20100040902A - 신규한 제초제 - Google Patents

신규한 제초제 Download PDF

Info

Publication number
KR20100040902A
KR20100040902A KR1020107002347A KR20107002347A KR20100040902A KR 20100040902 A KR20100040902 A KR 20100040902A KR 1020107002347 A KR1020107002347 A KR 1020107002347A KR 20107002347 A KR20107002347 A KR 20107002347A KR 20100040902 A KR20100040902 A KR 20100040902A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
compound
alkyl
hydrogen
compounds
Prior art date
Application number
KR1020107002347A
Other languages
English (en)
Inventor
스테판 안드레 마리 장마르트
존 제이. 테일러
크리스토퍼 존 매튜스
스티븐 크리스토퍼 스미스
Original Assignee
신젠타 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 신젠타 리미티드 filed Critical 신젠타 리미티드
Publication of KR20100040902A publication Critical patent/KR20100040902A/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D293/00—Heterocyclic compounds containing rings having nitrogen and selenium or nitrogen and tellurium, with or without oxygen or sulfur atoms, as the ring hetero atoms
    • C07D293/02—Heterocyclic compounds containing rings having nitrogen and selenium or nitrogen and tellurium, with or without oxygen or sulfur atoms, as the ring hetero atoms not condensed with other rings
    • C07D293/04—Five-membered rings
    • C07D293/06—Selenazoles; Hydrogenated selenazoles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N35/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom having two bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. aldehyde radical
    • A01N35/06—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom having two bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. aldehyde radical containing keto or thioketo groups as part of a ring, e.g. cyclohexanone, quinone; Derivatives thereof, e.g. ketals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
    • C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
    • C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D239/32—One oxygen, sulfur or nitrogen atom
    • C07D239/38—One sulfur atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D261/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings
    • C07D261/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings
    • C07D261/06—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings having two or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D261/08—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings having two or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D263/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
    • C07D263/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings
    • C07D263/30—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D263/32—Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D277/22—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D277/24—Radicals substituted by oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D277/22—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D277/30—Radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D333/24—Radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Zoology (AREA)
  • Plant Pathology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Dentistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Agronomy & Crop Science (AREA)
  • Environmental Sciences (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)

Abstract

본 발명은 제초제로서 사용하기에 적합한 화학식 I의 바이사이클릭 디온 화합물 및 이들의 유도체에 관한 것이다.

Description

신규한 제초제{Novel herbicides}
본 발명은 신규한 제초 활성의 사이클릭 디온 및 이들의 유도체, 이들의 제조 방법, 이들 화합물을 포함하는 조성물, 및 잡초, 특히 유용 식물의 작물에서의 잡초의 방제, 또는 식물 성장의 억제를 위한 이들의 용도에 관한 것이다.
제초 작용을 갖는 사이클릭 디온은 예를 들면 미국 특허 US 제4,175,135호 및 미국 특허 US 제4,209,532호에 개시되어 있다.
본 발명에 이르러, 제초 및 성장-억제 특성을 갖는 신규한 바이사이클릭 디온 및 이들의 유도체를 밝혀내었다.
따라서, 본 발명은 화학식 I의 화합물에 관한 것이다.
화학식 I
Figure pct00001
위 화학식 I에서,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, C1-C6알킬, C2-C6알케닐, C2-C6알키닐, C1-C6할로알킬, C2-C6할로알케닐, C1-C6알콕시, C3-C6알케닐옥시, C3-C6할로알케닐옥시, C3-C6알키닐옥시, C1-C4알콕시C1-C4알킬, C1-C4알콕시C1-C4알콕시, C1-C4알콕시C1-C4알콕시C1-C4알킬, C1-C6알킬티오, C1-C4알킬티오C1-C4알킬, C1-C4알킬설피닐, C1-C4알킬설피닐C1-C4알킬, C1-C4알킬설포닐, C1-C4알킬설포닐C1-C4알킬, 하이드록시-C1-C4알킬, C1-C6할로알콕시C1-C4알킬, C3-C6알케닐옥시C1-C4알킬, C3-C6할로알케닐옥시C1-C4알킬, C3-C6알키닐옥시C1-C4알킬, C1-C6시아노알킬, C1-C6시아노알콕시, C1-C4시아노알콕시C1-C4알킬, 하이드록시, C1-C6알킬카보닐, 카복시, C1-C6알콕시카보닐, C1-C6알킬아미노카보닐, 디-C1-C6알킬아미노카보닐, 트리(C1-C4알킬)실릴 또는 트리(C1-C4알킬)실릴옥시이고,
D는 임의로 치환된 C1-C3알킬렌이고,
E는 임의로 치환된 C1-C3알킬렌 또는 임의로 치환된 C2-C3알케닐렌이고,
Het는 임의로 치환된 모노사이클릭 또는 바이사이클릭 헤테로방향족 고리이고,
G는 수소, 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 설포늄, 암모늄 또는 잠복 그룹이다.
화학식 I의 화합물의 치환체 정의에서, 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬 라디칼, 및 알콕시, 알킬설포닐 등의 알킬 잔기는 바람직하게는 메틸, 에틸, 및 선형 및 분지형 이성질체 형태의 프로필, 부틸, 펜틸 및 헥실이다.
2 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알케닐 및 알키닐 라디칼은 선형 또는 분지형일 수 있고 1개 이상의 이중 또는 삼중 결합을 함유할 수 있다. 그 예로는 비닐, 알릴, 프로파르길, 부테닐, 부티닐, 펜테닐 및 펜티닐이 있다.
바람직한 할로겐은 불소, 염소 및 브롬이다.
치환된 C1-C3알킬렌 및 치환된 C2-C3알케닐렌 단위는 C1-C6알킬, C1-C6할로알킬, C2-C6알케닐, C2-C6할로알케닐, C2-C6알키닐, C3-C7사이클로알킬, C3-C7사이클로알킬C1-C4알킬, C5-C7사이클로알케닐, C5-C7사이클로알케닐C1-C4알킬, 페닐C1-C4알킬, 치환된 페닐C1-C4알킬, 헤테로아릴C1-C4알킬 및 치환된 헤테로아릴C1-C4알킬, 헤테로사이클릴C1-C4알킬 및 치환된 헤테로사이클릴C1-C4알킬, C1-C6알콕시, C1-C6할로알콕시, C1-C4알콕시C1-C4알킬, C1-C4알콕시C1-C4알콕시, C1-C4알콕시C1-C4알콕시C1-C4알킬, C1-C6알킬티오, C1-C4알킬티오C1-C4알킬, C1-C4알킬설피닐, C1-C4알킬설피닐C1-C4알킬, C1-C4알킬설포닐, C1-C4알킬설포닐C1-C4알킬, 할로, 시아노, 니트로, C1-C6시아노알킬, C1-C6시아노알콕시, 하이드록시, C3-C6알케닐옥시, C3-C6할로알케닐옥시, C3-C6알키닐옥시, 페녹시, 치환된 페녹시, 헤테로아릴옥시, 치환된 헤테로아릴옥시, 헤테로사이클릴옥시, 치환된 헤테로사이클릴옥시, 페닐C1-C4알콕시, 치환된 페닐C1-C4알콕시, 헤테로아릴C1-C4알콕시, 치환된 헤테로아릴C1-C4알콕시, 헤테로사이클릴C1-C4알콕시, 치환된 헤테로사이클릴C1-C4알콕시, 하이드록시-C1-C4알킬, C1-C6할로알콕시C1-C4알킬, C3-C6알케닐옥시C1-C4알킬, C3-C6할로알케닐옥시C1-C4알킬, C3-C6알키닐옥시C1-C4알킬, C1-C4알킬카보닐옥시C1-C4알킬, C1-C4알콕시카보닐C1-C4알킬, C1-C4알킬아미노카보닐옥시C1-C4알킬, 디-C1-C4알킬아미노카보닐옥시C1-C4알킬, 페녹시C1-C4알킬, 치환된 페녹시C1-C4알킬, 헤테로아릴옥시C1-C4알킬, 치환된 헤테로아릴옥시C1-C4알킬, 헤테로사이클릴옥시C1-C4알킬, 치환된 헤테로사이클릴옥시C1-C4알킬, 페닐C1-C4알콕시C1-C4알킬, 치환된 페닐C1-C4알콕시C1-C4알킬, 헤테로아릴C1-C4알콕시C1-C4알킬, 치환된 헤테로아릴C1-C4알콕시C1-C4알킬, 헤테로사이클릴C1-C4알콕시C1-C4알킬, 치환된 헤테로사이클릴C1-C4알콕시C1-C4알킬, C1-C6시아노알콕시C1-C4알킬, 트리(C1-C4알킬)실릴옥시C1-C4알킬, 카복시, C1-C4알킬카보닐, C1-C4알콕시카보닐, 아미도카보닐, C1-C4알킬아미노카보닐, 디-C1-C4알킬아미노카보닐, 페닐아미노카보닐, 치환된 페닐아미노카보닐, 헤테로아릴아미노카보닐, 치환된 헤테로아릴카보닐, C1-C4알킬카보닐옥시, C1-C4알콕시카보닐옥시, C1-C6알킬아미노카보닐옥시, 디C1-C4알킬아미노카보닐옥시, C1-C6알킬아미노티오카보닐옥시, 페닐카보닐옥시, 치환된 페닐카보닐옥시, 헤테로아릴카보닐옥시, 치환된 헤테로아릴카보닐옥시, 헤테로사이클릴카보닐옥시, 치환된 헤테로사이클릴카보닐옥시, 아미노, C1-C4알킬카보닐아미노, C1-C4알콕시카보닐아미노, (C1-C4알킬티오)카보닐아미노, C1-C4알콕시티오카보닐아미노, C1-C4알킬(티오카보닐)아미노, C1-C4알킬아미노카보닐아미노, 디-C1-C4알킬아미노카보닐아미노, 페닐카보닐아미노, 치환된 페닐카보닐아미노, 헤테로아릴카보닐아미노, 치환된 헤테로아릴카보닐아미노, 페녹시카보닐아미노, 치환된 페녹시카보닐아미노, 페닐아미노카보닐아미노, 치환된 페닐아미노카보닐아미노, C1-C4알킬설포닐아미노, C1-C4할로알킬설포닐아미노, 페닐설포닐아미노, 치환된 페닐설포닐아미노, C1-C4알킬카보닐아미노C1-C4알킬, C1-C4알콕시카보닐아미노C1-C4알킬, (C1-C4알킬티오)카보닐아미노C1-C4알킬, C1-C4알콕시티오카보닐아미노C1-C4알킬, C1-C4알킬(티오카보닐)아미노C1-C4알킬, C1-C4알킬아미노카보닐아미노C1-C4알킬, 디-C1-C4알킬아미노카보닐아미노C1-C4알킬, 페닐카보닐아미노C1-C4알킬, 치환된 페닐카보닐아미노C1-C4알킬, 헤테로아릴카보닐아미노C1-C4알킬, 치환된 헤테로아릴카보닐아미노C1-C4알킬, 페녹시카보닐아미노C1-C4알킬, 치환된 페녹시카보닐아미노C1-C4알킬, 페닐아미노카보닐아미노C1-C4알킬, 치환된 페닐아미노카보닐아미노C1-C4알킬, C1-C4알킬설포닐아미노C1-C4알킬, C1-C4할로알킬설포닐아미노C1-C4알킬, 페닐설포닐아미노C1-C4알킬, 치환된 페닐설포닐아미노C1-C4알킬, 트리(C1-C4알킬)실릴, 트리(C1-C4알킬)실릴옥시, 페닐 및 치환된 페닐, 헤테로아릴 및 치환된 헤테로아릴, 헤테로사이클릴 및 치환된 헤테로사이클릴과 같은 치환체에 의해 1회 이상 치환될 수 있는 포화 및 불포화 탄소 사슬을 나타낸다. 바람직하게, C1-C3알킬렌 및 C2-C3알케닐렌 그룹 D 및 E는 치환되지 않거나, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알콕시C1-C4알킬, 할로겐 또는 하이드록시에 의해 1회 또는 2회 치환된다.
C1-C3알킬렌 및 C2-C3알케닐렌 그룹 위에 바람직하게는 인접한 2개의 치환체가 존재하는 경우, 이들 치환체는 함께 결합하여 산소, 황 또는 질소로부터 선택된 1개 이상의 헤테로원자를 임의로 함유할 수 있는 3 내지 7원의 포화 고리를 형성하거나, 산소, 황 또는 질소로부터 선택된 1개 이상의 헤테로원자를 임의로 함유할 수 있는 5 내지 7원의 불포화 고리를 형성할 수도 있다. 형성되는 바람직한 고리는 C1-C3알킬에 의해 임의로 1회 또는 2회 치환되는 디옥솔란 고리이다. 헤테로방향족 고리의 적합한 예는 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 이속사졸릴, 옥사졸릴, 이소티아졸릴, 티아졸릴, 피라졸릴, 이미다졸릴, 트리아졸릴, 테트라졸릴, 피리딜, 피리미디닐, 피라지닐, 피리다지닐, 트리아지닐, 옥사디아졸릴 및 티아디아졸릴과, 적합한 경우 이들의 N-옥사이드 및 염이다.
이들 헤테로방향족 고리는 1개 이상의 치환체로 치환될 수 있으며, 여기서 바람직한 치환체는 C1-C4알킬, C2-C4알케닐, C2-C4알키닐, C1-C4할로알킬, C3-C7사이클로알킬, C3-C7할로사이클로알킬, C5-C7사이클로알케닐, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4알킬티오, C1-C4할로알킬티오, C1-C4알킬설피닐, C1-C4할로알킬설피닐, C1-C4알킬설포닐, C1-C4할로알킬설포닐, 플루오로, 클로로, 브로모, 요오도, 시아노, 니트로, 하이드록시-C1-C4알킬, 포르밀, 카복시, C1-C4알킬카보닐, C1-C4알콕시카보닐, 아미도카보닐, C1-C4알킬아미노카보닐, 디-C1-C4알킬아미노카보닐, 아미노, C1-C4알킬카보닐아미노, C1-C4알콕시카보닐아미노, C1-C4알킬아미노카보닐아미노, 디C1-C4알킬아미노카보닐아미노, C1-C4알킬설포닐아미노, C1-C4할로알킬설포닐아미노, C1-C4알킬설포닐옥시 및 C1-C4할로알킬설포닐옥시로부터 선택될 수 있고, 바람직하게는 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, 할로, 시아노 및 니트로, 특히 C1-C2알킬, C1-C2알콕시, C1-C2할로알콕시, 플루오로, 클로로 및 시아노로부터 선택된다.
그룹 G는 수소, 나트륨 또는 칼륨과 같은 알칼리 금속 양이온, 칼슘과 같은 알칼리 토금속 양이온, 설포늄 양이온(바람직하게는 -S(C1-C6알킬3)+) 또는 암모늄 양이온(바람직하게는 -NH4 + 또는 -N(C1-C6알킬)4 +), 또는 C1-C6알킬, C3-C6알케닐 또는 C3-C6알키닐 또는 잠복 그룹을 나타낸다. 잠복 그룹 G는 바람직하게는 C1-C8알킬, C2-C8할로알킬, 페닐C1-C8알킬(여기서, 페닐은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), 헤테로아릴C1-C8알킬(여기서, 헤테로아릴은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), C3-C8알케닐, C3-C8할로알케닐, C3-C8알키닐, C(Xa)-Ra, C(Xb)-Xc-Rb, C(Xd)-N(Rc)-Rd, -SO2-Re, -P(Xe)(Rf)-Rg 또는 CH2-Xf-Rh로부터 선택되고, 상기 Xa, Xb, Xc, Xd, Xe 및 Xf는 서로 독립적으로 산소 또는 황이고,
Ra는 H, C1-C18알킬, C2-C18알케닐, C2-C18알키닐, C1-C10할로알킬, C1-C10시아노알킬, C1-C10니트로알킬, C1-C10아미노알킬, C1-C5알킬아미노C1-C5알킬, C2-C8디알킬아미노C1-C5알킬, C3-C7사이클로알킬C1-C5알킬, C1-C5알콕시C1-C5알킬, C3-C5알케닐옥시C1-C5알킬, C3-C5알키닐옥시C1-C5알킬, C1-C5알킬티오C1-C5알킬, C1-C5알킬설피닐C1-C5알킬, C1-C5알킬설포닐C1-C5알킬, C2-C8알킬리덴아미녹시C1-C5알킬, C1-C5알킬카보닐C1-C5알킬, C1-C5알콕시카보닐C1-C5알킬, 아미노카보닐C1-C5알킬, C1-C5알킬아미노카보닐C1-C5알킬, C2-C8디알킬아미노카보닐C1-C5알킬, C1-C5알킬카보닐아미노C1-C5알킬, N-C1-C5알킬카보닐-N-C1-C5알킬아미노C1-C5알킬, C3-C6트리알킬실릴C1-C5알킬, 페닐C1-C5알킬(여기서, 페닐은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), 헤테로아릴C1-C5알킬(여기서, 헤테로아릴은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), C2-C5할로알케닐, C3-C8사이클로알킬, 페닐, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 페닐, 헤테로아릴, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 헤테로아릴이고,
Rb는 C1-C18알킬, C3-C18알케닐, C3-C18알키닐, C2-C10할로알킬, C1-C10시아노알킬, C1-C10니트로알킬, C2-C10아미노알킬, C1-C5알킬아미노C1-C5알킬, C2-C8디알킬아미노C1-C5알킬, C3-C7사이클로알킬C1-C5알킬, C1-C5알콕시C1-C5알킬, C3-C5알케닐옥시C1-C5알킬, C3-C5알키닐옥시C1-C5알킬, C1-C5알킬티오C1-C5알킬, C1-C5알킬설피닐C1-C5알킬, C1-C5알킬설포닐C1-C5알킬, C2-C8알킬리덴아미녹시C1-C5알킬, C1-C5알킬카보닐C1-C5알킬, C1-C5알콕시카보닐C1-C5알킬, 아미노카보닐C1-C5알킬, C1-C5알킬아미노카보닐C1-C5알킬, C2-C8디알킬아미노카보닐C1-C5알킬, C1-C5알킬카보닐아미노C1-C5알킬, N-C1-C5알킬카보닐-N-C1-C5알킬아미노C1-C5알킬, C3-C6트리알킬실릴C1-C5알킬, 페닐C1-C5알킬(여기서, 페닐은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), 헤테로아릴C1-C5알킬(여기서, 헤테로아릴은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), C3-C5할로알케닐, C3-C8사이클로알킬, 페닐, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 페닐, 헤테로아릴, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 헤테로아릴이고,
Rc 및 Rd는 서로 독립적으로 수소, C1-C10알킬, C3-C10알케닐, C3-C10알키닐, C2-C10할로알킬, C1-C10시아노알킬, C1-C10니트로알킬, C1-C10아미노알킬, C1-C5알킬아미노C1-C5알킬, C2-C8디알킬아미노C1-C5알킬, C3-C7사이클로알킬C1-C5알킬, C1-C5알콕시C1-C5알킬, C3-C5알케닐옥시C1-C5알킬, C3-C5알키닐옥시C1-C5알킬, C1-C5알킬티오C1-C5알킬, C1-C5알킬설피닐C1-C5알킬, C1-C5알킬설포닐C1-C5알킬, C2-C8알킬리덴아미녹시C1-C5알킬, C1-C5알킬카보닐C1-C5알킬, C1-C5알콕시카보닐C1-C5알킬, 아미노카보닐C1-C5알킬, C1-C5알킬아미노카보닐C1-C5알킬, C2-C8디알킬아미노카보닐C1-C5알킬, C1-C5알킬카보닐아미노C1-C5알킬, N-C1-C5알킬카보닐-N-C2-C5알킬아미노알킬, C3-C6트리알킬실릴C1-C5알킬, 페닐C1-C5알킬(여기서, 페닐은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), 헤테로아릴C1-C5알킬(여기서, 헤테로아릴은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), C2-C5할로알케닐, C3-C8사이클로알킬, 페닐, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 페닐, 헤테로아릴, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 헤테로아릴, 헤테로아릴아미노, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 헤테로아릴아미노, 디헤테로아릴아미노, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 디헤테로아릴아미노, 페닐아미노, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 페닐아미노, 디페닐아미노, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 디페닐아미노, 아미노, C1-C3알킬아미노, C1-C3디알킬아미노, C1-C3알콕시 또는 C3-C7사이클로알킬아미노, 디-C3-C7사이클로알킬아미노 또는 C3-C7사이클로알콕시이거나, Rc와 Rd가 함께 결합하여 O 또는 S로부터 선택된 1개의 헤테로원자를 임의로 함유하고 1 또는 2개의 C1-C3알킬 그룹에 의해 임의로 치환되는 3 내지 7원의 고리를 형성할 수 있고,
Re는 C1-C10알킬, C2-C10알케닐, C2-C10알키닐, C1-C10할로알킬, C1-C10시아노알킬, C1-C10니트로알킬, C1-C10아미노알킬, C1-C5알킬아미노C1-C5알킬, C2-C8디알킬아미노C1-C5알킬, C3-C7사이클로알킬C1-C5알킬, C1-C5알콕시C1-C5알킬, C3-C5알케닐옥시C1-C5알킬, C3-C5알키닐옥시C1-C5알킬, C1-C5알킬티오C1-C5알킬, C1-C5알킬설피닐C1-C5알킬, C1-C5알킬설포닐C1-C5알킬, C2-C8알킬리덴아미녹시C1-C5알킬, C1-C5알킬카보닐C1-C5알킬, C1-C5알콕시카보닐C1-C5알킬, 아미노카보닐C1-C5알킬, C1-C5알킬아미노카보닐C1-C5알킬, C2-C8디알킬아미노카보닐C1-C5알킬, C1-C5알킬카보닐아미노C1-C5알킬, N-C1-C5알킬카보닐-N-C1-C5알킬아미노C1-C5알킬, C3-C6트리알킬실릴C1-C5알킬, 페닐C1-C5알킬(여기서, 페닐은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), 헤테로아릴C1-C5알킬(여기서, 헤테로아릴은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), C2-C5할로알케닐, C3-C8사이클로알킬, 페닐, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 페닐, 헤테로아릴, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 헤테로아릴, 헤테로아릴아미노, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 헤테로아릴아미노, 디헤테로아릴아미노, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 디헤테로아릴아미노, 페닐아미노, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 페닐아미노, 아미노, 디페닐아미노, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 디페닐아미노, 또는 C3-C7사이클로알킬아미노, 디C3-C7사이클로알킬아미노 또는 C3-C7사이클로알콕시, C1-C1O알콕시, C1-C1O할로알콕시, C1-C5알킬아미노 또는 C2-C8디알킬아미노이고,
Rf 및 Rg는 서로 독립적으로 C1-C10알킬, C2-C10알케닐, C2-C10알키닐, C1-C10알콕시, C1-C10할로알킬, C1-C10시아노알킬, C1-C10니트로알킬, C1-C10아미노알킬, C1-C5알킬아미노C1-C5알킬, C2-C8디알킬아미노C1-C5알킬, C3-C7사이클로알킬C1-C5알킬, C1-C5알콕시C1-C5알킬, C3-C5알케닐옥시C1-C5알킬, C3-C5알키닐옥시C1-C5알킬, C1-C5알킬티오C1-C5알킬, C1-C5알킬설피닐C1-C5알킬, C1-C5알킬설포닐C1-C5알킬, C2-C8알킬리덴아미녹시C1-C5알킬, C1-C5알킬카보닐C1-C5알킬, C1-C5알콕시카보닐C1-C5알킬, 아미노카보닐C1-C5알킬, C1-C5알킬아미노카보닐C1-C5알킬, C2-C8디알킬아미노카보닐C1-C5알킬, C1-C5알킬카보닐아미노C1-C5알킬, N-C1-C5알킬카보닐-N-C2-C5알킬아미노알킬, C3-C6트리알킬실릴C1-C5알킬, 페닐C1-C5알킬(여기서, 페닐은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), 헤테로아릴C1-C5알킬(여기서, 헤테로아릴은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), C2-C5할로알케닐, C3-C8사이클로알킬, 페닐, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 페닐, 헤테로아릴, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 헤테로아릴, 헤테로아릴아미노, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 헤테로아릴아미노, 디헤테로아릴아미노, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 디헤테로아릴아미노, 페닐아미노, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 페닐아미노, 아미노, 하이드록실, 디페닐아미노, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 디페닐아미노, 또는 C3-C7사이클로알킬아미노, 디C3-C7사이클로알킬아미노 또는 C3-C7사이클로알콕시, C1-C1O할로알콕시, C1-C5알킬아미노 또는 C2-C8디알킬아미노, 벤질옥시 또는 페녹시(여기서, 벤질 및 페닐 그룹은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환될 수 있다)이고,
Rh는 C1-C10알킬, C3-C10알케닐, C3-C10알키닐, C1-C10할로알킬, C1-C10시아노알킬, C1-C10니트로알킬, C2-C10아미노알킬, C1-C5알킬아미노C1-C5알킬, C2-C8디알킬아미노C1-C5알킬, C3-C7사이클로알킬C1-C5알킬, C1-C5알콕시C1-C5알킬, C3-C5알케닐옥시C1-C5알킬, C3-C5알키닐옥시C1-C5알킬, C1-C5알킬티오C1-C5알킬, C1-C5알킬설피닐C1-C5알킬, C1-C5알킬설포닐C1-C5알킬, C2-C8알킬리덴아미녹시C1-C5알킬, C1-C5알킬카보닐C1-C5알킬, C1-C5알콕시카보닐C1-C5알킬, 아미노카보닐C1-C5알킬, C1-C5알킬아미노카보닐C1-C5알킬, C2-C8디알킬아미노카보닐C1-C5알킬, C1-C5알킬카보닐아미노C1-C5알킬, N-C1-C5알킬카보닐-N-C1-C5알킬아미노C1-C5알킬, C3-C6트리알킬실릴C1-C5알킬, 페닐C1-C5알킬(여기서, 페닐은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), 헤테로아릴C1-C5알킬(여기서, 헤테로아릴은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), 페녹시C1-C5알킬(여기서, 페닐은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), 헤테로아릴옥시C1-C5알킬(여기서, 헤테로아릴은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), C3-C5할로알케닐, C3-C8사이클로알킬, 페닐, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐 또는 니트로에 의해 치환된 페닐, 헤테로아릴, 또는 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 치환된 헤테로아릴이다.
특히, 잠복 그룹 G는 -C(Xa)-Ra 또는 -C(Xb)-Xc-Rb 그룹이며, Xa, Ra, Xb, Xc 및 Rb의 의미는 상기 정의된 바와 같다.
바람직하게, G는 수소, 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속을 의미하며, 수소가 특히 바람직하다.
잠복 그룹 G는 처리하고자 하는 부분 또는 식물에 시용하기 전 또는 후 또는 시용하는 동안에 생화학적, 화학적 또는 물리적 과정 중 어느 하나 또는 이들의 조합에 의해서 제거되어 G가 H인 화학식 I의 화합물을 제공하도록 선택된다. 이러한 과정의 예로는 효소적 분해, 화학적 가수분해 및 광분해가 포함된다. 이러한 그룹 G를 함유하는 화합물은, 처리된 식물의 표피의 개선된 투과성, 작물의 개선된 저항성, 다른 제초제, 제초제 약해 경감제, 식물 성장 조절제, 살진균제 또는 살충제를 함유하는 제형화된 혼합물 중의 개선된 상용성 또는 안정성, 토양으로의 감소된 용출과 같은 특정한 이점들을 제공할 수 있다.
바람직하게, R1은 수소, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시이고, 더욱 바람직하게, R1은 수소 또는 메틸이다.
바람직하게, R2는 수소 또는 메틸이고, 더욱 바람직하게, R2는 수소이다.
바람직하게, D는 C1-C2알킬렌이거나, C1-C3알킬 또는 C1-C3알콕시C1-C3알킬에 의해 치환된 C1-C2알킬렌, 특히 메틸렌 또는 에틸렌이다.
바람직하게, E는 임의로 치환된 C1-C2알킬렌 또는 임의로 치환된 C2알케닐렌이다. 더욱 바람직하게, E는 C1-C2알킬렌, 또는 할로겐, 하이드록실, 시아노, C1-C3알킬, C1-C3알콕시 또는 C1-C3알콕시C1-C3알킬에 의해 치환된 C1-C2알킬렌이거나, E는 C2알케닐렌, 또는 할로겐, 하이드록실, 시아노, C1-C3알킬, C1-C3알콕시 또는 C1-C3알콕시C1-C3알킬에 의해 치환된 C2알케닐렌이고, 특히 E는 에틸렌 또는 에테닐렌이다.
Het는 바람직하게는 임의로 치환된 모노사이클릭 6원 또는 바람직하게는 5원의 황 또는 바람직하게는 질소 함유 헤테로방향족 고리이다. 더욱 바람직하게, Het는 모노사이클릭 5원의 황 및 질소 함유 헤테로방향족 고리이고, 특히 더 바람직하게, Het는 하기 화학식 R1 내지 R12의 그룹이다.
Figure pct00002
위 화학식들에서,
A는 케토에놀 잔기에의 결합점을 나타내고,
W1은 N 또는 CR6이고,
W2 및 W3는 서로 독립적으로 N 또는 CR4이고,
W4는 N 또는 CR7이고,
단, W1, W2, W3 또는 W4 중 적어도 하나는 N이고,
X는 O, S, Se, 또는 NR9이고,
Z는 N 또는 CR10이고,
R3는 수소, 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4할로알킬, C3-C6사이클로알킬, C3-C6-할로사이클로알킬, C2-C4알케닐, C2-C4할로알케닐, C2-C4알키닐, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4알킬티오, C1-C4알킬설피닐, C1-C4알킬설포닐, 니트로 또는 시아노, 바람직하게는 할로겐, C1-C2알킬, C1-C2할로알킬, 비닐, 에티닐 또는 메톡시, 특히 더 바람직하게는 메틸 또는 에틸이고,
R4는 수소, C1-C6알킬, C1-C6할로알킬, C2-C6알케닐, C2-C6할로알케닐, C2-C6알키닐, C3-C6사이클로알킬, C5-C6사이클로알케닐, 할로겐, C1-C6알콕시, C1-C6알콕시-C1-C6알킬, C1-C6할로알콕시, 임의로 치환된 아릴, 임의로 치환된 아릴옥시, 임의로 치환된 헤테로아릴 또는 임의로 치환된 헤테로아릴옥시, 바람직하게는 임의로 치환된 아릴 또는 임의로 치환된 헤테로아릴(여기서, 치환체는 할로겐, C1-C2알킬, C1-C2알콕시, C1-C2할로알킬, C1-C2할로알콕시, 시아노 또는 니트로로부터 선택된다), 특히 더 바람직하게는 할로겐, C1-C2알킬, C1-C2알콕시, C1-C2할로알킬, C1-C2할로알콕시 또는 시아노에 의해 1회, 2회 또는 3회 치환된 페닐이고,
R5는 수소, C1-C4알킬, C2-C3알케닐, C2-C3알키닐, C1-C4할로알킬 또는 C2-C3할로알케닐, 바람직하게는 메틸 또는 에틸이고,
R6는 수소, 메틸, 할로메틸 또는 할로겐, 바람직하게 수소이고,
R7은 수소, 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4할로알킬, C2-C4알케닐, C2-C4할로알케닐, C2-C4알키닐, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4알킬티오, C1-C4알킬설피닐, C1-C4알킬설포닐 또는 시아노, 바람직하게는 수소, 할로겐, 메틸 또는 에틸이고,
R8은 수소, 메틸, 에틸, 할로메틸, 할로에틸, 임의로 치환된 아릴 또는 임의로 치환된 헤테로아릴, 바람직하게는 임의로 치환된 아릴 또는 임의로 치환된 헤테로아릴(여기서, 치환체는 할로겐, C1-C2알킬, C1-C2알콕시, C1-C2할로알킬, C1-C2할로알콕시, 시아노 또는 니트로로부터 선택된다), 특히 더 바람직하게는 할로겐, C1-C2알킬, C1-C2알콕시, C1-C2할로알킬, C1-C2할로알콕시 또는 시아노에 의해 1회, 2회 또는 3회 치환된 페닐이고,
R9은 수소, 메틸, 에틸 또는 할로메틸이고,
R10은 수소, 메틸, 에틸, 할로메틸, 할로에틸, 할로겐, 시아노 또는 니트로이다.
더욱 바람직하게, Het는 X가 S이고 Z가 N 또는 CR10이며 R3, R4 및 R10이 상기 정의된 바와 같은 화학식 (R2)의 그룹이다.
본 발명은 또한 화학식 I의 화합물이 아민, 알칼리 금속 및 알칼리 토금속 염기 또는 4급 암모늄 염기와 함께 형성할 수 있는 염에 관한 것이다. 염 형성제로서의 알칼리 금속 및 알칼리 토금속 하이드록사이드 중에서는 특히 리튬, 나트륨, 칼륨, 마그네슘 및 칼슘의 하이드록사이드가 있으며 나트륨 및 칼륨의 하이드록사이드가 특히 바람직하다. 본 발명에 따른 화학식 I의 화합물은 염 형성 중에 형성될 수 있는 수화물도 포함한다.
암모늄 염 형성에 적합한 아민의 예로는 암모니아, 1급, 2급 및 3급 C1-C18알킬아민, C1-C4하이드록시알킬아민 및 C2-C4알콕시알킬아민, 예를 들면 메틸아민, 에틸아민, n-프로필아민, 이소프로필아민, 4개의 부틸아민 이성질체, n-아밀아민, 이소아밀아민, 헥실아민, 헵틸아민, 옥틸아민, 노닐아민, 데실아민, 펜타데실아민, 헥사데실아민, 헵타데실아민, 옥타데실아민, 메틸에틸아민, 메틸이소프로필아민, 메틸헥실아민, 메틸노닐아민, 메틸펜타데실아민, 메틸옥타데실아민, 에틸부틸아민, 에틸헵틸아민, 에틸옥틸아민, 헥실헵틸아민, 헥실옥틸아민, 디메틸아민, 디에틸아민, 디-n-프로필아민, 디이소프로필아민, 디-n-부틸아민, 디-n-아밀아민, 디이소아밀아민, 디헥실아민, 디헵틸아민, 디옥틸아민, 에탄올아민, n-프로판올아민, 이소프로판올아민, N,N-디에탄올아민, N-에틸프로판올아민, N-부틸에탄올아민, 알릴아민, n-부트-2-에닐아민, n-펜트-2-에닐아민, 2,3-디메틸부트-2-에닐아민, 디부트-2-에닐아민, n-헥스-2-에닐아민, 프로필렌디아민, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리이소프로필아민, 트리-n-부틸아민, 트리이소부틸아민, 트리-2급-부틸아민, 트리-n-아밀아민, 메톡시에틸아민 및 에톡시에틸아민; 헤테로사이클릭 아민, 예를 들면 피리딘, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 모르폴린, 피페리딘, 피롤리딘, 인돌린, 퀴누클리딘 및 아제핀; 1급 아릴아민, 예를 들면 아닐린, 메톡시아닐린, 에톡시아닐린, o-, m- 및 p-톨루이딘, 페닐렌디아민, 벤지딘, 나프틸아민 및 o-, m- 및 p-클로로아닐린; 특히 트리에틸아민, 이소프로필아민 및 디이소프로필아민이 포함된다.
염 형성에 적합한 바람직한 4급 암모늄 염기는 예를 들면 화학식 [N(R'aR'bR'cR'd)]OH(여기서, R'a, R'b, R'c 및 R'd는 서로 독립적으로 C1-C4알킬이다)에 상응한다. 다른 음이온을 갖는 추가의 적합한 테트라알킬암모늄 염기가 예를 들면 음이온 교환 반응에 의해 수득될 수 있다.
치환체의 성질에 따라서 화학식 I의 화합물은 다양한 이성질체 형태로 존재할 수 있다. 예를 들면, G가 수소인 경우 화학식 I의 화합물은 다양한 토오토머 형태로 존재할 수 있다. 본 발명은 이러한 모든 이성질체와 토오토머 및 모든 비율의 이들의 혼합물을 포함한다. 또한, 치환체가 이중 결합을 함유하는 경우에는 시스- 및 트랜스-이성질체가 존재할 수 있다. 이 이성질체들도 청구된 화학식 I의 화합물의 범위에 속한다.
G가 C1-C8알킬, C2-C8할로알킬, 페닐C1-C8알킬(여기서, 페닐은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), 헤테로아릴C1-C8알킬(여기서, 헤테로아릴은 C1-C3알킬, C1-C3할로알킬, C1-C3알콕시, C1-C3할로알콕시, C1-C3알킬티오, C1-C3알킬설피닐, C1-C3알킬설포닐, 할로겐, 시아노 또는 니트로에 의해 임의로 치환될 수 있다), C3-C8알케닐, C3-C8할로알케닐, C3-C8알키닐, C(Xa)-Ra, C(Xb)-Xc-Rb, C(Xd)-N(Rc)-Rd, -SO2-Re, -P(Xe)(Rf)-Rg 또는 CH2-Xf-Rh(여기서, Xa, Xb, Xc, Xd, Xe, Xf, Ra, Rb, Rc, Rd, Re, Rf, Rg 및 Rh는 상기 정의된 바와 같다)인 화학식 I의 화합물은, G가 H인 화학식 I의 화합물인 화학식 (A)의 화합물을 바람직하게는 1당량 이상의 염기의 존재하에 G-Z 시약[여기서, G-Z는 알킬 할라이드{알킬 할라이드의 정의는 메틸 요오다이드 및 에틸 요오다이드와 같은 단순 C1-C8알킬 할라이드, 클로로메틸 알킬 에테르 Cl-CH2-Xf-Rh(여기서, Xf는 산소이다) 및 클로로메틸 알킬 설파이드 Cl-CH2-Xf-Rh(여기서, Xf는 황이다)와 같은 치환된 알킬 할라이드를 포함한다}, C1-C8알킬 설포네이트, 또는 디-C1-C8-알킬 설페이트와 같은 알킬화제이다], 또는 C3-C8알케닐 할라이드, 또는 C3-C8알키닐 할라이드, 또는 카복실산 HO-C(Xa)Ra(여기서, Xa는 산소이다), 산 클로라이드 Cl-C(Xa)Ra(여기서, Xa는 산소이다), 또는 산 무수물 [RaC(Xa)]2O(여기서, Xa는 산소이다), 또는 이소시아네이트 RcN=C=O, 또는 카바모일 클로라이드 Cl-C(Xd)-N(Rc)-Rd(여기서, Xd는 산소이고, 단, Rc와 Rd는 둘 다 수소가 아니다), 또는 티오카바모일 클로라이드 Cl-C(Xd)-N(RC)-Rd(여기서, Xd는 황이고, 단, Rc와 Rd는 둘 다 수소가 아니다) 또는 클로로포르메이트 Cl-C(Xb)-Xc-Rb(여기서, Xb 및 Xc는 산소이다), 또는 클로로티오포르메이트 Cl-C(Xb)-Xc-Rb(여기서, Xb는 산소이고, Xc는 황이다), 또는 클로로디티오포르메이트 Cl-C(Xb)-Xc-Rb(여기서, Xb 및 Xc는 황이다), 또는 이소티오시아네이트 RcN=C=S와 같은 아실화제로 처리하거나, 카본 디설파이드와 알킬화제로 순차적으로 처리하거나, 포스포릴 클로라이드 Cl-P(Xe)(Rf)-Rg와 같은 포스포릴화제, 또는 설포닐 클로라이드 Cl-SO2-Re와 같은 설포닐화제로 처리함으로써 제조할 수 있다.
R1 및 R2 치환체가 서로 다를 경우, 상기 반응은 화학식 I의 화합물 외에도 화학식 IA의 부차적 화합물을 제공할 수 있다. 본 발명은 화학식 I의 화합물과 화학식 IA의 화합물 및 이들 화합물의 임의의 비율의 혼합물을 모두 포함한다.
Figure pct00003
사이클릭 1,3-디온의 O-알킬화는 공지되어 있으며, 적합한 방법이 예를 들면 미국 특허 US 제4436666호에 기술되어 있다. 하기 참조 문헌에 대체 방법들이 기재되어 있다[참조: M. T. Pizzorno and S. M. Albonico, Chem. Ind. (London), (1972), 425-426; H. Born 외, J. Chem. Soc., (1953), 1779-1782; M. G. Constantino 외, Synth. Commun., (1992), 22 (19), 2859-2864; Y. Tian 외, Synth. Commun., (1997), 27 (9), 1577-1582; S. Chandra Roy 외, Chem. Letters, (2006), 35 (1), 16-17; P. K. Zubaidha 외, Tetrahedron Lett., (2004), 45, 7187-7188].
사이클릭 1,3-디온의 O-아실화는 예를 들면 미국 특허 US 제4175135호, US 제4422870호, US 제4659372호 및 US 제4436666호에 기술된 것과 유사한 방법에 의해 달성될 수 있다. 전형적으로는 화학식 (A)의 디온을 1당량 이상의 적합한 염기의 존재하에 임의로 적합한 용매 중에서 아실화제로 처리할 수 있다. 염기는 알칼리 금속 카보네이트 또는 하이드록사이드, 또는 금속 하이드라이드와 같은 무기 염기, 또는 3급 아민 또는 금속 알콕사이드와 같은 유기 염기일 수 있다. 적합한 무기 염기의 예로는 나트륨 카보네이트, 나트륨 또는 칼륨 하이드록사이드, 나트륨 하이드라이드가 포함되고, 적합한 유기 염기의 예로는 트리메틸아민 및 트리에틸아민과 같은 트리알킬아민, 피리딘, 또는 1,4-디아조바이사이클로[2.2.2]옥탄 및 1,8-디아자바이사이클로[5.4.0]운데크-7-엔과 같은 다른 아민 염기가 포함된다. 바람직한 염기로는 트리에틸아민 및 피리딘이 포함된다. 이 반응에 적합한 용매는 시약들과 상용가능하도록 선택되며, 테트라하이드로푸란 및 1,2-디메톡시에탄과 같은 에테르, 및 디클로로메탄 및 클로로포름과 같은 할로겐화 용매가 포함된다. 피리딘 및 트리에틸아민과 같은 특정한 염기는 염기와 용매 둘 모두로서 성공적으로 사용될 수 있다. 아실화제가 카복실산인 경우, 아실화는 바람직하게는 테트라하이드로푸란, 디클로로메탄 또는 아세토니트릴과 같은 적합한 용매 중에서, 2-클로로-1-메틸피리디늄 요오다이드, N,N'-디사이클로헥실카보디이미드, 1-(3-디메틸아미노프로필)-3-에틸카보디이미드 및 N,N'-카보디이미다졸과 같은 결합제, 및 임의로 트리에틸아민 또는 피리딘과 같은 염기의 존재하에 수행된다. 적합한 방법은 예를 들면 하기 참조 문헌에 설명되어 있다[참조: W. Zhang and G. Pugh, Tetrahedron Lett., (1999), 40 (43), 7595-7598 및 T. Isobe and T. Ishikawa, J. Org. Chem., (1999), 64 (19), 6984].
사이클릭 1,3-디온의 포스포릴화는 미국 특허 US 제4409153호에 기술된 것과 유사한 방법으로 포스포릴 할라이드 또는 티오포스포릴 할라이드 및 염기를 사용하여 달성할 수 있다.
화학식 (A)의 화합물의 설포닐화는 예를 들면 하기 참조 문헌의 방법에 의해 바람직하게는 1당량 이상의 염기의 존재하에 알킬 또는 아릴 설포닐 할라이드를 사용하여 달성할 수 있다[참조: C. J. Kowalski and K. W. Fields, J. Org. Chem., (1981), 46, 197].
화학식 (A)의 화합물은 미국 특허 US 제4209532호에 기술된 것과 유사한 방법에 의해 임의로 적합한 용매 중에서 바람직하게는 산 또는 염기의 존재하에 화학식 (B)의 화합물을 고리화함으로써 제조할 수 있다. 화학식 (B)의 화합물은 화학식 I의 화합물의 합성에서 중간체로서 특별히 설계되고 있다. R이 수소인 화학식 (B)의 화합물을 임의로 아세트산, 톨루엔 또는 디클로로메탄과 같은 적합한 용매 중에서 산성 조건, 바람직하게는 황산, 인산 또는 이튼 시약(Eaton's reagent)과 같은 강산의 존재하에 고리화할 수 있다.
Figure pct00004
R이 알킬(바람직하게는 메틸 또는 에틸)인 화학식 (B)의 화합물은 테트라하이드로푸란, 톨루엔, 디메틸설폭사이드 또는 N,N-디메틸포름아미드와 같은 용매 중에서 산성 또는 염기성 조건, 바람직하게는 1당량 이상의 칼륨 3급-부톡사이드, 리튬 디이소프로필아미드 또는 나트륨 하이드라이드와 같은 강염기의 존재하에 고리화할 수 있다.
R이 H인 화학식 (B)의 화합물은 예를 들면 미국 특허 US 제4209532호에 기술된 것과 유사한 방법에 의해 R'가 알킬(바람직하게는 메틸 또는 에틸)인 화학식 (C)의 화합물을 표준 조건하에서 비누화한 후 반응 혼합물을 산성화하여 탈카복실화를 수행함으로써 제조할 수 있다.
Figure pct00005
R이 H인 화학식 (B)의 화합물을 표준 조건하에서 에스테르화하여 R이 알킬인 화학식 (B)의 화합물을 얻을 수 있다.
R이 알킬인 화학식 (C)의 화합물은 화학식 (D)의 화합물을 염기성 조건하에서 R이 알킬인 화학식 (E)의 적합한 카복실산 클로라이드로 처리함으로써 제조할 수 있다. 적합한 염기로는 칼륨 3급-부톡사이드, 나트륨 비스(트리메틸실릴)아미드 및 리튬 디이소프로필아미드가 포함되며, 상기 반응은 바람직하게는 -80℃ 내지 30℃의 온도에서 적합한 용매(예: 테트라하이드로푸란 또는 톨루엔) 중에 수행한다.
Figure pct00006
달리, R이 H인 화학식 (C)의 화합물은 화학식 (D)의 화합물을 적합한 온도(-80℃ 내지 0℃)에서 적합한 용매(예: 테트라하이드로푸란 또는 톨루엔) 중에 적합한 염기(예: 칼륨 3급-부톡사이드, 나트륨 비스(트리메틸실릴)아미드 및 리튬 디이소프로필아미드)로 처리하고, 생성된 음이온을 화학식 (F)의 적합한 무수물과 반응시켜서 제조할 수 있다.
Figure pct00007
화학식 (D)의 화합물은 공지되어 있거나, 공지된 화합물로부터 공지의 방법으로 제조할 수 있다[참조: E. Bellur and P. Langer, Synthesis (2006), 3, 480-488; E. Bellur and P. Langer, Eur. J. Org. Chem., (2005), 10, 2074-2090; G. Bartolo 외, J. Org. Chem., (1999), 64 (21), 7693-7699; R. Kranich 외, J. Med. Chem., (2007), 50 (6), 1101-1115; I. Freifeld 외, J. Org. Chem., (2006) 71 (13), 4965-4968; S. Hermann 외, WO 제2006/087120호; R. Fischer 외, WO 제96/16061호; H. A. Staab and G. A. Schwalbach, Justus Liebigs Annalen der Chemie, (1968), 715, 128-34; J-L Brayer 외, EP 제402246호; P. Chemla 외, WO 제99/32464호; A. Dornow and G. Petsch, Chem. Berichte, (1953), 86, 1404-1407; E. Y-H Chao 외, WO 제2001/000603호; D. B. Lowe 외, WO 제2003/011842호; R. Fischer 외, WO 제2001/096333호; J. Ackermann 외, WO 제2005/049572호; B. Li 외, Bioorg. Med. Chem. Lett., (2002), 12, 2141-2144, G. P. Rizzi, J. Org. Chem., (1968), 33 (4) 13333-13337; M. Okitsu and K. Yoshid, JP 제63230670호; F. Bohlmann 외, Chem. Ber., (1955), 88, 1831-1838; R. Fischer 외, WO 제2003/035463호; R. Fischer 외, WO 제2005/005428호; D O'Mant, GB 제1226981호].
화학식 (E) 및 화학식 (F)의 화합물은 공지되어 있거나[참조: K. Crowley, J. Am. Chem. Soc, (1964), Vol. 86, No. 24, 5692-5693; E. Bercot and T. Rovis, J. Am. Chem. Soc, (2005), 127, 247-254; R. McDonald and R. Reitz, J. Am. Chem. Soc, (1976), Vol. 98, No. 25, 8144-8155; A. Smith Ⅲ 외, J. Org. Chem., (1974), Vol. 39, No. 12, 1607-1612; J. Baldwin and M. Lusch, J. Org. Chem., (1979), Vol. 44, No. 12, 1923-1927; R. Carlson and K. May, Tetrahedron Lett., (1975), Vol. 16, No. 11, 947-950; A. Borner 외, Tetrahedron Asymmetry (2002), 13, 1615-1620] 시판의 출발 재료로부터 유사한 방법으로 제조할 수 있다.
화학식 (A)의 화합물의 추가의 제조 방법에서, Het가 (R2){여기서, R3는 CH2R"이고 R"는 수소, 알킬 또는 할로게노알킬(바람직하게는 수소, 메틸 또는 트리플루오로메틸)이다}인 화학식 (A)의 화합물인 화학식 (G)의 화합물은 화학식 (H)의 화합물을 임의로 적합한 용매 중에서 임의로 마이크로파 조사하에 열적 재배열시켜서 제조할 수 있다.
Figure pct00008
바람직하게, 재배열은 임의로 1,2-디메톡시에탄, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 트리에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 테트라에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 크실렌, 메시틸렌 또는 Dowtherm®과 같은 적합한 용매 중에서 임의로 마이크로파 조사하에 화학식 (H)의 화합물을 120 내지 300℃의 온도로 가열함으로써 수행한다.
유사하게, Het가 (R3){여기서, R3는 CH2R"이고 R"는 수소, 알킬 또는 할로게노알킬(바람직하게는 수소, 메틸 또는 트리플루오로메틸)이다}인 화학식 (A)의 화합물인 화학식 (J)의 화합물은 화학식 (K)의 화합물로부터 유사한 방법을 사용하여 제조할 수 있다.
Figure pct00009
화학식 (H)의 화합물은 앞서 화학식 (A)의 화합물의 알킬화에 대해 설명한 바와 같이 화학식 (L)의 화합물을 임의로 상기 적합한 용매 중에서 임의로 적합한 염기의 존재하에 화학식 (M)(여기서, L은 할로겐 또는 알킬- 또는 아릴-설포네이트와 같은 적합한 이탈 그룹이다)의 화합물로 알킬화함으로써 제조할 수 있다.
Figure pct00010
유사하게, 화학식 (K)의 화합물은 화학식 (L)의 화합물을 유사한 조건하에 화학식 (N)(여기서, L은 할로겐 또는 알킬- 또는 아릴-설포네이트와 같은 적합한 이탈 그룹이다)의 화합물로 알킬화함으로써 제조할 수 있다.
Figure pct00011
다른 접근법에서, 화학식 (H)의 화합물은 화학식 (L)의 화합물을 임의로 적합한 용매 중에서 임의로 p-톨루엔설폰산과 같은 적합한 산 촉매 또는 루이스산 촉매, 예를 들면 이테르븀(Ⅲ) 트리플루오로메탄설포네이트, 란타늄(Ⅲ) 트리플루오로메탄설포네이트, 나트륨 테트라클로로아우레이트(Ⅲ) 디하이드레이트, 티타늄(Ⅳ) 클로라이드, 인듐(Ⅲ) 클로라이드 또는 알루미늄 클로라이드의 존재하에 화학식 (O)의 알코올과 축합시켜서 제조할 수 있다. 적합한 용매는 사용하는 시약과 상용가능하도록 선택하며 예를 들면 톨루엔, 에탄올 또는 아세토니트릴이 포함된다. 이와 유사한 방법이 하기 참조 문헌에 설명되어 있다[참조: M. Curini; F. Epifano, S. Genovese, Tetrahedron Lett., (2006), 47, 4697-700; A. Arcadi, G. Bianchi, S. Di Giuseppe, and F. Marinelli, Green Chemistry, (2003), 5, 64-7].
Figure pct00012
달리, 축합은 하기 참조 문헌에 설명된 바와 같이, 테트라하이드로푸란, 아세토니트릴 또는 디클로로메탄과 같은 적합한 용매 중에서 2-클로로-1-메틸피리디늄 요오다이드, N,N'-디사이클로헥실카보디이미드, 1,(3-디메틸아미노프로필)-3-에틸카보디이미드 및 N,N-카보디이미다졸과 같은 적합한 결합제 및 임의로 트리에틸아민 또는 피리딘과 같은 염기의 존재하에, 또는 디에틸 에테르, 테트라하이드로푸란 또는 1,4-디옥산과 같은 적합한 용매 중에서 트리아릴포스핀(예: 트리페닐포스핀) 및 디알킬 아지도디카복실레이트(바람직하게는 디에틸 아지도디카복실레이트 또는 디이소프로필 아지도디카복실레이트)의 존재하에 수행할 수도 있다[참조: O. Mitsunobu, Synthesis (1981), 1, 1-28].
유사한 방법을 사용하여, 화학식 (L)의 화합물을 화학식 (P)의 화합물과 반응시킴으로써 화학식 (K)의 화합물을 제조할 수 있다.
Figure pct00013
R4가 방향족 또는 헤테로방향족 잔기이거나 알킬, 알케닐 또는 알키닐 그룹인 화학식 (H)의 추가의 화합물은 화학식 (Q)(여기서, Q는 가교커플링 반응을 일으키기에 적합한 원자 또는 그룹, 예를 들면 염소, 브롬 또는 요오드, 또는 트리플루오로메탄설포네이트와 같은 할로알킬설포네이트이고, R"는 화학식 (G)의 화합물에 대해 정의된 바와 같다)의 화합물을 스즈끼-미야우라(Suzuki-Miyaura), 소노가시라(Sonogashira), 스틸(Stille) 및 관련 가교커플링 반응에 대해 문헌에 설명된 조건하에 적합한 결합 파트너와 반응시켜서 제조할 수 있다.
Figure pct00014
예를 들면, 화학식 (Q)의 화합물을 적합한 용매 중에서 적합한 팔라듐 촉매, 적합한 리간드 및 적합한 염기의 존재하에 스즈끼-미야우라 조건하에서 아릴-, 헤테로아릴-, 알킬-, 알케닐- 또는 알키닐보론산 R4-B(OH)2, 보로네이트 에스테르 R4-B(OR'")2{여기서, R'"는 C1-C6알킬이거나, R4-B(OR'")2는 C1-C6디올로부터 유도된 사이클릭 보로네이트 에스테르, 특히 바람직하게는 피나콜로부터 유도된 사이클릭 보로네이트 에스테르이다}, 또는 금속(특히 칼륨) 아릴-, 헤테로아릴, 알킬-, 알케닐- 및 알키닐트리플루오로보레이트염 M+[R4-BF3]-로 처리할 수 있다[참조: K. Billingsley and S. Buchwald, J. Am. Chem. Soc., (2007), 129, 3358-3366; H. Stefani, R. Cella and A. Vieira, Tetrahedron, (2007), 63, 3623-3658; N. Kudo, M. Perseghini and G. Fu, Angew. Chem. Int. Ed., (2006), 45, 1282-1284; A. Roglans, A. Pla-Quintana and M. Moreno-Manas, Chem. Rev., (2006), 106, 4622-4643; J-H Li, Q-M Zhu and Y-X Xie, Tetrahedron (2006), 10888-10895; S. Nolan 외, J. Org. Chem., (2006), 71, 685-692; M. Lysen and K. Kohler, Synthesis, (2006), 4, 692-698; K. Anderson and S. Buchwald, Angew. Chem. Int. Ed., (2005), 44, 6173-6177; Y. Wang and D. Sauer, Org. Lett., (2004), 6 (16), 2793-2796; I. Kondolff, H. Doucet and M, Santelli, Tetrahedron, (2004), 60, 3813-3818; F. Bellina, A. Carpita and R. Rossi, Synthesis (2004), 15, 2419-2440; H. Stefani, G. Molander, C-S Yun, M. Ribagorda and B. Biolatto, J. Org. Chem., (2003), 68, 5534-5539; A. Suzuki, Journal of Organometallic Chemistry, (2002), 653, 83; G. Molander and C-S Yun, Tetrahedron, (2002), 58, 1465-1470; G. Zou, Y. K. Reddy and J. Falck, Tetrahedron Lett., (2001), 42, 4213-7215; S. Darses, G. Michaud and J-P, Genet, Eur. J. Org. Chem., (1999), 1877-1883].
Figure pct00015
달리, R4가 임의로 치환된 아세틸렌인 화학식 (H)의 화합물은 화학식 (Q)의 화합물을 적합한 팔라듐 촉매 및 임의로 적합한 구리 보조촉매, 적합한 리간드, 적합한 염기 및 적합한 첨가제의 존재하에 소노가시라 결합을 일으키는 것으로 알려진 조건하에서 말단 알킨 R4-H과 반응시켜서 제조할 수 있다[참조: U. Sorenson and E Pombo-Villar, Tetrahedron, (2005), 2697-2703; N. Leadbeater and B. Tominack, Tetrahedron Lett., (2003), 44, 8653-8656; K. Sonogashira, J. Organomet. Chem., (2002), 653, 46-49)].
추가의 접근법에서, R4가 알킬, 임의로 치환된 비닐, 임의로 치환된 에티닐, 임의로 치환된 아릴 또는 임의로 치환된 헤테로아릴인 화학식 (H)의 화합물은 화학식 (Q)의 화합물을 스틸 조건하에 적합한 유기스탄난과 반응시켜서 제조할 수 있다[참조: R. Bedford, C. Cazin and S. Hazlewood, (2002), 22, 2608-2609; S. Ley 외, Chem. Commun., (2002), 10, 1134-1135; G. Grasa and S. Nolan, Org. Lett., (2001), 3 (1), 119-122; T. Weskamp, V. Boehm, J. Organomet. Chem., (1999), 585 (2), 348-352; A. Littke and G. Fu, Angew. Chem. Int. Ed., (1999), 38 (16), 2411-2413; J. Stille 외, Org. Synth., (1992), 71, 97].
화학식 (K)의 화합물은 화학식 (R)(여기서, Q 및 R"는 화학식 (Q)의 화합물에서 정의한 바와 같다)의 화합물로부터 적합한 출발 물질을 사용하여 유사한 방법으로 제조할 수 있다.
Figure pct00016
화학식 (Q)의 화합물은 앞서 화학식 (L)의 화합물로부터 화학식 (H)의 화합물의 제조에 대해 설명한 것과 유사한 방법으로 화학식 (L)의 화합물을 화학식 (S)(여기서, L은 할로겐 또는 알킬- 또는 아릴-설포네이트와 같은 적합한 이탈 그룹이다)의 화합물과 반응시켜서 제조할 수 있다. 달리, 화학식 (Q)의 화합물은 앞서 화학식 (L)의 화합물로부터 화학식 (H)의 화합물의 제조에 대해 설명한 것과 유사한 방법으로 화학식 (L)의 화합물을 화학식 (T)의 화합물과 반응시켜서 제조할 수 있다.
Figure pct00017
상술한 것과 유사한 방법으로 화학식 (L)의 화합물을 화학식 (U)(여기서, L은 할로겐 또는 알킬- 또는 아릴-설포네이트와 같은 적합한 이탈 그룹이다)의 화합물로 알킬화하거나 화학식 (V)의 화합물로 알킬화하여 화학식 (R)의 화합물을 제조할 수 있다.
Figure pct00018
다른 접근법에서, 화학식 (L)의 화합물을 임의로 톨루엔, 클로로포름, 디클로로메탄과 같은 적합한 용매 및 임의로 N,N-디메틸포름아미드의 존재하에 인 옥시클로라이드, 인 펜타클로라이드, 인 펜타브로마이드, 인 옥시브로마이드, 옥살릴 클로라이드 또는 옥살릴 브로마이드와 같은 할로겐화제로 처리하고, 생성된 화학식 (W)(여기서, Hal은 염소 또는 브롬이다)의 비닐 할라이드를 임의로 테트라하이드로푸란, 1,4-디옥산, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르와 같은 적합한 용매 중에서 임의로 나트륨 하이드라이드, 나트륨 3급-부톡사이드, 칼륨 3급-부톡사이드와 같은 적합한 염기의 존재하에 화학식 (O) 또는 화학식 (P) 또는 화학식 (T) 또는 화학식 (V)의 알코올과 반응시켜서 각각 화학식 (H), 화학식 (K), 화학식 (Q) 및 화학식 (R)의 화합물을 수득할 수 있다.
Figure pct00019
화학식 (L)의 화합물은 공지된 화합물이거나, 하기 참조 문헌에 설명된 것과 유사한 경로로 제조할 수 있다[참조: S. Spessard and B. Stoltz, Organic Letters, (2002), Vol. 4, No. 11, 1943-1946; F. Effenberger 외, Chem. Ber., (1984), 117, 3280-3296; W. Childers, Jr. 외, Tetrahedron Lett., (2006), 2217-2218; H. Schneider and C. Luethy, EP 제1352890호; D. Jackson, A. Edmunds, M. Bowden and B. Brockbank, WO 제2005105745호 및 WO 제2005105717호; R. Beaudegnies, C. Luethy, A. Edmunds, J. Schaetzer and S. Wendeborn, WO 제2005123667호; J-C. Beloeil, J-Y. Lallemand, T. Prange, Tetrahedron, (1986), Vol. 42. No.13, 3491-3502].
화학식 (M), 화학식 (N), 화학식 (O), 화학식 (P), 화학식 (S), 화학식 (T), 화학식 (U) 및 화학식 (V)의 화합물은 공지되어 있거나, 공지된 화합물로부터 공지의 방법으로 제조될 수 있다[참조: T. T. Denton, X. Zhang, J. R. Cashman, J. Med. Chem., (2005), 48, 224-239; J. Reinhard, W. E. Hull, C.-W. von der Lieth, U. Eichhorn, H.-C. Kliem, J. Med. Chem., (2001), 44, 4050-4061; H. Kraus and H. Fiege, DE 제19547076호; M. L. Boys, L. A. Schretzman, N. S. Chandrakumar, M. B. Tollefson, S. B. Mohler, V. L. Downs, T. D. Penning, M. A. Russell, J. A. Wendt, B. B. Chen, H. G. Stenmark, H. Wu, D. P. Spangler, M. Clare, B. N. Desai, I. K. Khanna, M. N. Nguyen, T. Duffin, V. W. Engleman, M. B. Finn, S. K. Freeman, M. L. Hanneke, J. L. Keene, J. A. Klover, G. A. Nickols, M. A. Nickols, C. N. Steininger, M. Westlin, W. Westlin, Y. X. Yu, Y. Wang, C. R. Dalton, S. A. Norring, Bioorg. Med. Chem. Lett., (2006), 16, 839-844; A. Silberg, A. Benko, G. Csavassy, Chem. Ber., (1964), 97, 1684-1687; K. Brown and R. Newbury, Tetrahedron Lett., (1969), 2797; A. Jansen and M. Szelke, J. Chem. Soc., (1961), 405; R. Diaz-Cortes, A. Silva and L. Maldonado, Tetrahedron Lett., (1997), 38(13), 2007-2210; M. Friedrich, A. Waechtler and A De Meijure, Synlett., (2002), 4, 619-621; F. Kerdesky and L. Seif, Synth. Commun., (1995), 25 (17), 2639-2645; Z. Zhao, G. Scarlato and R. Armstrong., Tetrahedron Lett., (1991), 32 (13), 1609-1612; K-T. Kang and S. Jong, Synth. Commun. (1995), 25 (17), 2647-2653; M. Altamura and E. Perrotta, J. Org. Chem., (1993), 58 (1), 272-274].
추가의 접근법에서, 화학식 (A)의 화합물은 화학식 (L)의 화합물을 하기 참조 문헌에 설명된 조건하에서 헤테로아릴 납 트리카복실레이트와 반응시켜서 제조할 수 있다[참조: J. T. Pinhey, B. A. Rowe, Aust. J. Chem., (1979), 32, 1561-6; J. Morgan, J. T. Pinhey, J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1, (1990), 3, 715-20; J. T. Pinhey, Roche, E. G. J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1, (1988), 2415-21]. 바람직하게, 헤테로아릴 납 트리카복실레이트는 화학식 (X)의 헤테로아릴 트리아세테이트이고, 반응은 적합한 용매(예: 클로로포름, 디클로로메탄 및 톨루엔, 바람직하게는 클로로포름, 및 임의로 톨루엔과 같은 보조용매) 중에서 적합한 리간드(예: N,N-디메틸아미노피리딘, 피리딘, 이미다졸, 비피리딘, 및 1,10-페난트롤린, 바람직하게는 화합물 (L)에 대해 1 내지 10당량의 N,N-디메틸아미노피리딘)의 존재하에 25℃ 내지 100℃(바람직하게는 60 내지 90℃)에서 수행한다.
Figure pct00020
화학식 (X)의 화합물은 화학식 (Y)의 화합물을 하기 참조 문헌에 설명된 방법에 따라 적합한 용매(예: 클로로포름) 중에서 임의로 수은 디아세테이트와 같은 촉매의 존재하에 25℃ 내지 100℃(바람직하게는 25 내지 50℃)에서 납 테트라아세테이트로 처리함으로써 제조할 수 있다[참조: K. Shimi, G. Boyer, J-P. Finet and J-P. Galy, Letters in Organic Chemistry, (2005), 2, 407-409; J. Morgan and J. T. Pinhey, J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1; (1990), 3, 715-20].
Figure pct00021
적합한 보론산은 헤테로아릴보론산 (Y1) 내지 (Y8)(여기서, R3, R4, R5, R6, R7, R8, X, W1, W2, W3, W4 및 Z는 상기 정의된 바와 같다)를 포함한다.
Figure pct00022
화학식 (Y)의 헤테로아릴보론산은 공지된 화합물이거나, 공지된 화합물로부터 공지의 방법으로 제조될 수 있다[참조: A. Voisin 외, Tetrahedron (2005); 1417-1421; A. Thompson 외, Tetrahedron (2005), 61, 5131-5135; K. Billingsley and S. Buchwald, J. Am. Chem. Soc., (2007), 129, 3358-3366; N. Kudo, M. Pauro and G. Fu, Angew. Chem. Int. Ed., (2006), 45, 1282-1284; A. Ivachtchenko 외, J. Heterocyclic Chem., (2004), 41(6), 931-939; H. Matondo 외, Synth. Commun., (2003), 33 (5) 795-800; A. Bouillon 외, Tetrahedron, (2003), 59, 10043-10049; W. Li 외, J. Org. Chem., (2002), 67, 5394-5397; C. Enguehard 외, J. Org. Chem. (2000), 65, 6572-6575; H-N Nguyen, X. Huang and S. Buchwald, J. Am. Chem. Soc., (2003), 125, 11818-11819, 및 이의 인용 문헌].
추가의 접근법에서, 화학식 (A)의 화합물은 화학식 (Z)의 화합물을 바람직하게는 적합한 용매 중에서 적합한 팔라듐 촉매 및 염기의 존재하에 화학식 (Y)의 헤테로아릴보론산과 반응시켜서 제조할 수 있다.
Figure pct00023
적합한 팔라듐 촉매는 일반적으로 팔라듐(Ⅱ) 또는 팔라듐(O) 착물, 예를 들면 팔라듐(Ⅱ) 디할라이드, 팔라듐(Ⅱ) 아세테이트, 팔라듐(Ⅱ) 설페이트, 비스(트리페닐포스핀)팔라듐(Ⅱ) 디클로라이드, 비스(트리사이클로펜틸포스핀)팔라듐(Ⅱ) 디클로라이드, 비스(트리사이클로헥실포스핀)팔라듐(Ⅱ) 디클로라이드, 비스(디벤질리덴아세톤)팔라듐(0) 또는 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐(0)이다. 팔라듐 촉매는 "동일 반응계에서" 팔라듐(Ⅱ) 또는 팔라듐(O) 화합물을 목적 리간드와 함께 착물화시켜서 제조할 수도 있는데, 예를 들면 착물화될 팔라듐(Ⅱ) 염, 예를 들면 팔라듐(Ⅱ) 디클로라이드(PdCl2) 또는 팔라듐(Ⅱ) 아세테이트(Pd(OAc)2)를 목적 리간드, 예를 들면 트리페닐포스핀(PPh3), 트리사이클로펜틸포스핀 또는 트리사이클로헥실포스핀 및 선택된 용매와 함께 화학식 (Z)의 화합물, 화학식 (Y)의 헤테로방향족 보론산 및 염기와 배합할 수 있다. 두 자리 리간드, 예를 들면 1,1'-비스(디페닐포스피노)페로센 또는 1,2-비스(디페닐포스피노)에탄도 적합하다. 반응 매질을 가열함으로써 C-C 결합 반응에 필요한 팔라듐(Ⅱ) 착물 또는 팔라듐(O) 착물이 "동일 반응계에서" 형성된 후 C-C 결합 반응을 시작한다. 팔라듐 촉매는 화학식 (Z)의 화합물을 기준으로 0.001 내지 50몰%, 바람직하게는 0.1 내지 15몰%의 양으로 사용한다. 더욱 바람직하게, 팔라듐 공급원은 팔라듐 아세테이트이고, 염기는 리튬 하이드록사이드이며, 용매는 1,2-디메톡시에탄과 물의 4:1 내지 1:4 비율의 혼합물이다. 반응을 테트라알킬암모늄 염, 예를 들면 테트라부틸암모늄 브로마이드와 같은 다른 첨가제의 존재하에 수행할 수도 있다.
화학식 (Z)의 화합물은 화학식 (L)의 화합물을 하기 참조 문헌의 방법에 따라서 (디아세톡시)요오도벤젠으로 처리함으로써 제조할 수 있다[참조: K. Schank and C. Lick, Synthesis, (1983), 392, 또는 Z Yang 외, Org. Lett., (2002), 4 (19), 3333].
Figure pct00024
추가의 접근법에서, 화학식 (A)의 화합물은, G가 C1-4알킬인 화학식 I 또는 화학식 IA의 화합물을 바람직하게는 염화수소산과 같은 산 촉매의 존재하에 임의로 테트라하이드로푸란과 같은 적합한 용매 중에서 가수분해하여 제조할 수 있다. G가 C1-4알킬인 화학식 I의 화합물은, G가 C1-4알킬이고 Hal이 할로겐(바람직하게는 브롬 또는 요오드)인 화학식 (AA)의 화합물을 적합한 용매(예: 톨루엔) 중에서 적합한 팔라듐 촉매(예: 화학식 (AA)의 화합물에 대해 0.001 내지 50%의 팔라듐(Ⅱ) 아세테이트)와 염기(예: 화학식 (AA)의 화합물에 대해 1 내지 10당량의 칼륨 포스페이트) 및 바람직하게는 적합한 리간드(예: 화학식 (AA)의 화합물에 대해 0.001 내지 50%의 (2-디사이클로헥실포스피노)-2',6'-디메톡시비페닐)의 존재하에 바람직하게는 25 내지 200℃에서 화학식 (Y)의 헤테로아릴 보론산 Het-B(OH)2와 반응시켜서 제조할 수 있다. 유사한 결합이 하기 참조 문헌에 공지되어 있다[참조: Y. S. Song, B. T. Kim and J.-N. Heo, Tetrahedron Letters, (2005), 46(36), 5987-5990].
Figure pct00025
화학식 (AA)의 화합물은 화학식 (L)의 화합물을 할로겐화한 후 생성된 화학식 (BB)의 할라이드를 예컨대 하기 참조 문헌의 방법으로 공지의 조건하에서 C1-4알킬 할라이드 또는 트리-C1-4-알킬오르토포르메이트로 알킬화하여 제조할 수 있다[참조: R. G. Shepherd and A. C. White, J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1 (1987), 2153-2155, 및 Y.-L. Lin 외, Bioorg. Med. Chem. (2002), 10, 685-690]. 달리, 화학식 (AA)의 화합물은 화학식 (L)의 화합물을 C1-4알킬 할라이드 또는 트리-C1-4-알킬오르토포르메이트로 알킬화한 후 생성된 화학식 (CC)의 에논을 공지의 조건하에서 할로겐화하여 제조할 수도 있다[참조: Y. S. Song, B. T. Kim and J.-N. Heo, Tetrahedron Letters (2005), 46(36), 5987-5990].
Figure pct00026
추가의 접근법에서, 화학식 (A)의 화합물은 화학식 (L)의 화합물을 적합한 용매(예: 디옥산) 중에서 적합한 팔라듐 촉매(예: 화합물 (L)에 대해 0.001 내지 50%의 팔라듐(Ⅱ) 아세테이트)와 염기(예: 화합물 (L)에 대해 1 내지 10당량의 칼륨 포스페이트) 및 바람직하게는 적합한 리간드(예: 화합물 (L)에 대해 0.001 내지 50%의 (2-디사이클로헥실포스피노)-2',4',6'-트리이소프로필비페닐)의 존재하에 바람직하게는 25 내지 200℃에서 적합한 헤테로아릴 할라이드(예: 요오다이드 또는 브로마이드) Het-hal와 반응시켜서 제조할 수 있다. 유사한 결합이 하기 참조 문헌에 공지되어 있다[참조: J. M. Fox, X. Huang, A. Chieffi, and S. L. Buchwald, J. Am. Chem. Soc. (2000), 122, 1360-1370; B. Hong 외, WO 제2005/000233호]. 달리, 화학식 (A)의 화합물은 화학식 (L)의 화합물을 적합한 구리 촉매(예: 화합물 (L)에 대해 0.001 내지 50%의 구리(I) 요오다이드)와 염기(예: 화합물 (L)에 대해 1 내지 10당량의 칼륨 카보네이트) 및 바람직하게는 적합한 리간드(예: 화합물 (L)에 대해 0.001 내지 50%의 L-프롤린)의 존재하에 바람직하게는 25℃ 내지 200℃에서 적합한 헤테로아릴 할라이드(예: 요오다이드 또는 브로마이드) Het-hal와 반응시켜서 제조할 수도 있다[참조: Y. Jiang, N. Wu, H. Wu, and M. He, Synlett, (2005), 18, 2731-2734].
Figure pct00027
당업자들은 화학식 I의 화합물이 공지의 조건하에서 다른 치환체로 전환될 수 있는 치환체를 하나 이상 갖는 헤테로방향족 잔기를 함유할 수 있고 이러한 화합물은 그 자체로 화학식 I의 추가의 화합물의 제조에서 중간체로 작용할 수 있음을 알 것이다. 예를 들면, R4가 알케닐 또는 알키닐인 화학식 (G)의 헤테로사이클은 공지의 조건하에서 R4가 알킬인 화학식 (G)의 화합물로 환원될 수 있다.
Figure pct00028
추가로, 화학식 (EE)(여기서, Q는 가교커플링 화학에 적합한 원자 또는 그룹, 예를 들면 할로겐 또는 할로알킬설포네이트이다)의 화합물을 공지의 조건하에서 스즈끼-미야우라, 스틸, 소노가시라 및 관련 반응으로 처리하여 화학식 G의 추가의 화합물을 수득할 수 있다. 화학식 (EE)의 화합물은, 화학식 (H)의 화합물을 화학식 (G)의 화합물로 전환시키는 데 사용한 것과 유사한 조건하에서 화학식 (Q)의 화합물을 재배열시켜서 제조할 수 있다.
Figure pct00029
당업자들은 이러한 형태의 전환이 화학식 (EE)의 화합물에 제한되는 것이 아니라 일반적으로 Het가 추가의 유도체화에 적합한 원자 또는 그룹으로 치환된 헤테로사이클인 어떠한 화학식 I의 화합물에도 적용될 수 있음을 알 것이다.
Het가 화학식 (R2)의 그룹이고 X가 S이며 Y가 N인 화학식 (A)의 화합물의 추가의 제조 방법에서는, 화학식 (FF)(여기서, L은 할로겐 또는 알킬- 또는 할로알킬설포네이트와 같은 적합한 이탈 그룹이다)의 화합물을 공지의 방법에 따라 임의로 적합한 용매(예: 물, 톨루엔, 아세톤, 에탄올 또는 이소프로판올) 중에서 임의로 적합한 염기(예: 트리에틸아민 또는 피리딘)의 존재하에 화학식 (GG)의 화합물로 처리할 수 있다[참조: E. Knott, J. Chem. Soc., (1945), 455; H. Brederick, R. Gompper, Chem. Ber. (1960), 93, 723; B. Friedman, M. Sparks and R. Adams, J. Am. Chem. Soc., (1937), 59, 2262].
Figure pct00030
달리, 화학식 (FF)의 화합물을 공지의 방법에 의해 티오우레아로 처리하고[참조: V. Pshenichniya, O. Gulyakevich and V. Kripach, Chemistry of Heterocyclic Compounds, (1990), 10, 1409-1412], 얻어진 화학식 (HH)의 생성물을 샌드메이어(Sandmeyer) 조건하에서 화학식 (Ⅱ)(여기서, Hal은 염소, 브롬 또는 요오드이다)의 할라이드로 전환시키고, 화학식 (Ⅱ)의 화합물을 상술된 바와 같은 스즈끼-미야우라, 소노가시라, 스틸 및 관련 반응을 위한 공지의 조건하에서 가교커플링시켜서 화학식 (A)의 추가의 화합물로 전환시킬 수도 있다.
Figure pct00031
화학식 (FF)의 화합물은 공지의 조건하에서 화학식 (L)의 화합물로부터 제조할 수 있다[참조: V. Pshenichniya, O. Gulyakevich and V. Kripach, Chemistry of Heterocyclic Compounds, (1990), 10, 1409-1412; V. Pshenichniya, O. Gulyakevich and V. Kripach, Russian Journal of Organic Chemistry, (1989), 25 (9), 1882-1888].
본 발명에 따른 화학식 I의 화합물은 합성시 얻어진 대로 비개질된 형태의 제초제로서 사용할 수 있으나, 일반적으로는 담체, 용매 또는 표면-활성 물질과 같은 제형 보조제를 사용하여 다양한 방법으로 제초제 조성물로 제형화한다. 당해 제형은 다양한 물리적 형태, 예를 들면 살포 분말, 겔, 습윤성 분말, 수분산성 과립, 수분산성 정제, 비등성 압축 정제, 유화성 농축물, 미세유화성 농축물, 수중유 유화액, 오일 유동물, 수성 분산액, 유성 분산액, 유현탁액, 캡슐 현탁액, 유화성 과립, 용해성 액체, 수용성 농축물(담체로서 물 또는 수혼화성 유기 용매 함유), 함침 중합체 필름의 형태 또는 예컨대 하기 참조 문헌으로부터 공지된 기타의 형태를 가질 수 있다[참조: Manual on Development and Use of FAO Specifications for Plant Protection Products, 제5판, 1999]. 이러한 제형은 바로 사용되거나 사용 전에 희석될 수 있다. 희석 제형은 예컨대 물, 액상 비료, 미량 영양소, 생물학적 유기체, 오일 또는 용매를 사용하여 제조할 수 있다.
당해 제형은 예를 들면 활성 성분을 제형 보조제와 함께 혼합하여 미분 고체, 과립, 용액, 분산액 또는 유화액 형태의 조성물을 수득함으로써 제조할 수 있다. 활성 성분을 기타의 보조제, 예를 들면 미분 고체, 광물유, 식물성유, 개질 식물성유, 유기 용매, 물, 표면-활성 물질 또는 이들의 배합물과 함께 제형화할 수도 있다. 활성 성분은 중합체로 이루어진 극미세 마이크로캡슐 내에 함유될 수도 있다. 마이크로캡슐은 다공성 담체 내에 활성 성분을 함유한다. 이것은 활성 성분이 조절된 양으로 환경 중에 방출될 수 있게 해준다(예: 서방성 방출). 마이크로캡슐은 일반적으로 0.1 내지 500미크론의 직경을 갖는다. 이들은 활성 성분을 캡슐 중량의 25 내지 95중량%의 양으로 함유한다. 활성 성분은 단일 고체의 형태, 고체 또는 액체 분산액 중의 미립자의 형태 또는 적합한 용액의 형태로 존재할 수 있다. 캡슐화 막은 예컨대 천연 및 합성 검, 셀룰로오스, 스티렌-부타디엔 공중합체, 폴리아크릴로니트릴, 폴리아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리우레아, 폴리우레탄 또는 화학 개질 중합체 및 전분 크산테이트 또는 이와 관련하여 당업자에게 알려진 다른 중합체들을 포함한다. 달리, 활성 성분이 기재 물질의 고체 기질 중에 미분 입자의 형태로 존재하는 극미세 마이크로캡슐을 형성할 수도 있으나 이 경우 마이크로캡슐은 캡슐화되지 않는다.
본 발명에 따른 조성물을 제조하는 데 적합한 제형 보조제는 자체 공지되어 있다. 액상 담체로는 물, 톨루엔, 크실렌, 석유 에테르, 식물성유, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 사이클로헥산온, 산 무수물, 아세토니트릴, 아세토페논, 아밀 아세테이트, 2-부탄온, 부틸렌 카보네이트, 클로로벤젠, 사이클로헥산, 사이클로헥산올, 아세트산의 알킬 에스테르, 디아세톤 알코올, 1,2-디클로로프로판, 디에탄올아민, p-디에틸벤젠, 디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜 아비에테이트, 디에틸렌 글리콜 부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸 에테르, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸 설폭사이드, 1,4-디옥산, 디프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜 메틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 디벤조에이트, 디프록시톨, 알킬피롤리돈, 에틸 아세테이트, 2-에틸 헥산올, 에틸렌 카보네이트, 1,1,1-트리클로로에탄, 2-헵탄온, 알파-피넨, d-리모넨, 에틸 락테이트, 에틸렌 글리콜, 에틸렌 글리콜 부틸 에테르, 에틸렌 글리콜 메틸 에테르, 감마-부티롤락톤, 글리세롤, 글리세롤 아세테이트, 글리세롤 디아세테이트, 글리세롤 트리아세테이트, 헥사데칸, 헥실렌 글리콜, 이소아밀 아세테이트, 이소보르닐 아세테이트, 이소옥탄, 이소포론, 이소프로필벤젠, 이소프로필 미리스테이트, 락트산, 라우릴아민, 메시틸 옥사이드, 메톡시프로판올, 메틸 이소아밀 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 메틸 라우레이트, 메틸 옥타노에이트, 메틸 올레에이트, 메틸렌 클로라이드, m-크실렌, n-헥산, n-옥틸아민, 옥타데카노산, 옥틸아민 아세테이트, 올레산, 올레일아민, o-크실렌, 페놀, 폴리에틸렌 글리콜(PEG 400), 프로피온산, 프로필 락테이트, 프로필렌 카보네이트, 프로필렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르, p-크실렌, 톨루엔, 트리에틸 포스페이트, 트리에틸렌 글리콜, 크실렌설폰산, 파라핀, 광물유, 트리클로로에틸렌, 퍼클로로에틸렌, 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트, 부틸 아세테이트, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸 에테르, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 및 아밀 알코올, 테트라하이드로푸르푸릴 알코올, 헥산올, 옥탄올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 글리세롤, N-메틸-2-피롤리돈 등과 같은 고분자량 알코올을 사용할 수 있다. 농축물의 희석을 위해 일반적으로 선택되는 담체는 물이다. 적합한 고상 담체는 예를 들면 탈크, 티타늄 디옥사이드, 파이로필라이트(pyrophyllite) 점토, 실리카, 애타풀자이트(attapulgite) 점토, 규조토, 석회석, 칼슘 카보네이트, 벤토나이트, 칼슘 몬트모릴로나이트(montmorillonite), 면실피, 전립분, 대두분, 부석, 목분, 분쇄된 호두피, 리그닌, 및 예컨대 CFR 180.1001. (c) & (d)에 설명된 것과 같은 유사한 재료들이다.
고체 및 액체 제형, 특히 사용 전에 담체를 사용하여 희석될 수 있는 제형에는 다수의 표면-활성 물질이 유리하게 사용될 수 있다. 표면-활성 물질은 음이온성, 양이온성, 비이온성 또는 중합체성일 수 있으며, 이들은 유화제, 습윤제 또는 현탁제로서 또는 기타의 목적을 위해 사용될 수 있다. 전형적인 표면-활성 물질로는 예를 들면 디에탄올암모늄 라우릴 설페이트와 같은 알킬 설페이트의 염; 칼슘 도데실벤젠설포네이트와 같은 알킬아릴설포네이트의 염; 노닐페놀 에톡실레이트와 같은 알킬페놀-알킬렌 옥사이드 부가 생성물; 트리데실 알코올 에톡실레이트와 같은 알코올-알킬렌 옥사이드 부가 생성물; 나트륨 스테아레이트와 같은 비누; 나트륨 디부틸나프탈렌설포네이트와 같은 알킬나프탈렌설포네이트의 염; 나트륨 디(2-에틸헥실)설포석시네이트와 같은 설포석시네이트 염의 디알킬 에스테르; 소르비톨 올레에이트와 같은 소르비톨 에스테르; 라우릴 트리메틸암모늄 클로라이드와 같은 4급 아민; 폴리에틸렌 글리콜 스테아레이트와 같은 지방산의 폴리에틸렌 글리콜 에스테르; 에틸렌 옥사이드와 프로필렌 옥사이드의 블록 공중합체; 및 모노- 및 디-알킬 포스페이트 에스테르의 염; 및 예컨대 하기 참조 문헌에 설명된 추가의 물질들이 포함된다[참조: "McCutcheon's Detergents and Emulsifiers Annual", MC Publishing Corp., Ridgewood, New Jersey, 1981].
농약 제형에 일반적으로 사용되는 추가의 보조제로는 결정화 억제제, 점도-개선 물질, 현탁제, 염료, 산화 방지제, 발포제, 광 흡수제, 혼합 보조제, 소포제, 착물화제, 중화 또는 pH-개선 물질 및 완충제, 부식 억제제, 향료, 습윤제, 흡수 개선제, 미량 영양소, 가소제, 광택제, 윤활제, 분산제, 증점제, 동결 방지제, 살균제, 및 액체 및 고체 비료가 포함된다.
당해 제형은 추가의 활성 물질, 예를 들면 추가의 제초제, 제초제 약해 경감제, 식물 성장 조절제, 살진균제 또는 살충제를 포함할 수도 있다.
본 발명에 따른 조성물은 식물 또는 동물 기원의 오일, 광물유, 이러한 오일 또는 오일 혼합물의 알킬 에스테르 및 오일 유도체를 포함하는 첨가물을 추가로 함유할 수 있다. 본 발명에 따른 조성물에 사용되는 오일 첨가물의 양은 일반적으로 분무 혼합물을 기준으로 0.01 내지 10%이다. 예컨대, 오일 첨가물은 분무 혼합물을 제조한 후 목적하는 농도로 분무 탱크에 첨가될 수 있다. 바람직한 오일 첨가물은 광물유, 또는 평지씨유, 올리브유 또는 해바라기유와 같은 식물 기원의 오일, AMIGO®(Rhone-Poulenc Canada Inc.)와 같은 유화 식물성유, 메틸 유도체와 같은 식물 기원의 오일의 알킬 에스테르, 또는 어유 또는 우지와 같은 동물 기원의 오일을 포함한다. 바람직한 첨가물은 예컨대 활성 성분으로서 본질적으로는 어유의 알킬 에스테르 80중량%, 메틸화 평지씨유 15중량%, 및 통상의 유화제 및 pH 조절제 5중량%를 함유한다. 특히 바람직한 오일 첨가물은 C8-C22 지방산의 알킬 에스테르를 포함하며, 특히 C12-C18 지방산의 메틸 유도체, 예를 들면 라우르산, 팔미트산 및 올레산의 메틸 에스테르가 중요하다. 이들 에스테르는 메틸 라우레이트(CAS-111-82-0), 메틸 팔미테이트(CAS-112-39-0) 및 메틸 올레에이트(CAS-112-62-9)로서 알려져 있다. 바람직한 지방산 메틸 에스테르 유도체는 Emery® 2230 및 2231(Cognis GmbH)이다. 이들 및 기타의 오일 유도체는 하기 참조 문헌으로부터도 알려져 있다[참조: Compendium of Herbicide Adjuvants, 제5판, Southern Illinois University, 2000]. 다른 바람직한 보조제는 메틸화 평지씨유 기재의 보조제인 Adigor®(Syngenta AG)이다.
오일 첨가물을 비이온성, 음이온성 또는 양이온성 계면활성제와 같은 표면-활성 물질과 배합함으로써 그들의 이용율 및 활성을 한층 더 개선시킬 수 있다. 적합한 비이온성, 음이온성 또는 양이온성 계면활성제의 예는 국제 공개 WO 제97/34485호 제7 및 8쪽에 열거되어 있다. 바람직한 표면-활성 물질은 도데실벤질설포네이트계, 특히 이의 칼슘 염의 음이온성 계면활성제, 및 지방 알코올 에톡실레이트계의 비이온성 계면활성제이다. 특히 바람직한 것은 5 내지 40의 에톡실화도를 갖는 에톡실화 C12-C22 지방 알코올이다. 시판되는 계면활성제의 예로는 게나폴(Genapol)(Clariant AG) 종류가 있다. 실리콘 계면활성제, 특히 Silwet L-77®로서 시판되는 폴리알킬-옥사이드-개질 헵타메틸트리실록산, 및 퍼플루오르화 계면활성제도 바람직하다. 총 첨가물에 대한 표면-활성 물질의 농도는 일반적으로 1 내지 30중량%이다. 오일 또는 광물유 또는 이들의 유도체와 계면활성제의 혼합물로 이루어진 오일 첨가물의 예로는 Edenor ME SU®, Turbocharge®(Syngenta AG, CH) 및 Actipron®(BP Oil UK Limited, GB)이 있다.
상기 표면-활성 물질은 제형 중에 단독으로, 즉 오일 첨가물 없이 사용될 수도 있다.
추가로, 오일 첨가물/계면활성제 혼합물에 유기 용매를 첨가하면 활성을 한층 더 향상시키는 데 기여할 수 있다. 적합한 용매는 예를 들면 Solvesso®(ESSO) 및 Aromatic Solvent®(Exxon Corporation)이다. 이러한 용매의 농도는 총 중량의 10 내지 80중량%일 수 있다. 용매와 혼합될 수 있는 이러한 오일 첨가물은 예를 들면 미국 특허 출원 제US-A-4 834 908호에 설명되어 있다. 여기에 설명된 시판의 오일 첨가물은 상품명 MERGE®(BASF Corporation)로 공지되어 있다. 본 발명에 바람직한 추가의 오일 첨가물은 SCORE®(Syngenta Crop Protection Canada)이다.
상기 열거된 오일 첨가물 외에, 본 발명에 따른 조성물의 활성을 향상시키기 위하여 알킬피롤리돈의 제형(예: Agrimax®)을 분무 혼합물에 첨가할 수도 있다. 합성 격자, 예컨대 폴리아크릴아미드, 폴리비닐 화합물 또는 폴리-1-p-멘텐의 제형(예: Bond®, Courier® 또는 Emerald®)을 사용할 수도 있다. 프로피온산을 함유하는 용액(예: Eurogkem Pen-e-trate®)을 활성-향상제로서 분무 혼합물 중에 혼합할 수도 있다.
당해 제초제 제형은 일반적으로 0.1 내지 99중량%, 특히 0.1 내지 95중량%의 화학식 I의 화합물과 1 내지 99.9중량%의 제형 보조제(이것은 바람직하게는 0 내지 25중량%의 표면-활성 물질을 포함한다)를 함유한다. 시판 제품은 바람직하게는 농축물로서 제형화될 것이므로 최종 사용자는 보통 희석 제형을 사용하게 될 것이다.
화학식 I의 화합물의 시용량은 광범위한 범위 내에서 달라질 수 있으며, 토양의 성질, 시용 방법(발아전 또는 발아후 처리, 종자 드레싱, 파종골에의 시용, 무경작 시용 등), 재배 식물, 방제하고자 하는 잡초 또는 풀, 보편적 기후 조건, 및 시용 방법에 의해 좌우되는 다른 인자들, 시용 시간 및 표적 작물에 따라 달라진다. 본 발명에 따른 화학식 I의 화합물은 일반적으로 1 내지 4,000g/ha, 특히 5 내지 1,000g/ha의 비율로 시용된다. 바람직한 제형은 특히 다음과 같은 조성을 갖는다(% = 중량 백분율).
유화성 농축물:
활성 성분: 1 내지 95%, 바람직하게는 60 내지 90%
표면-활성제: 1 내지 30%, 바람직하게는 5 내지 20%
액상 담체: 1 내지 80%, 바람직하게는 1 내지 35%
분진:
활성 성분: 0.1 내지 10%, 바람직하게는 0.1 내지 5%
고상 담체: 99.9 내지 90%, 바람직하게는 99.9 내지 99%
현탁 농축물:
활성 성분: 5 내지 75%, 바람직하게는 10 내지 50%
물: 94 내지 24%, 바람직하게는 88 내지 30%
표면-활성제: 1 내지 40%, 바람직하게는 2 내지 30%
습윤성 분말:
활성 성분: 0.5 내지 90%, 바람직하게는 1 내지 80%
표면-활성제: 0.5 내지 20%, 바람직하게는 1 내지 15%
고상 담체: 5 내지 95%, 바람직하게는 15 내지 90%
과립:
활성 성분: 0.1 내지 30%, 바람직하게는 0.1 내지 15%
고상 담체: 99.5 내지 70%, 바람직하게는 97 내지 85%
하기 실시예는 본 발명을 추가로 설명하나 본 발명을 제한하지는 않는다.
F1. 유화성 농축물 a) b) c) d)
활성 성분 5% 10% 25% 50%
칼슘 도데실벤젠설포네이트 6% 8% 6% 8%
피마자유 폴리글리콜 에테르 4% _ 4% 4%
(에틸렌 옥사이드 36몰)
옥틸페놀 폴리글리콜 에테르 - 4% - 2%
(에틸렌 옥사이드 7 내지 8몰)
NMP - - 10% 20%
방향족 탄화수소 혼합물 C9-C12 85% 78% 55% 16%
이러한 농축물을 물로 희석함으로써 임의의 목적 농도의 유화액을 제조할 수 있다.
F2. 용액 a) b) c) d)
활성 성분 5% 10% 50% 90%
1-메톡시-3-(3-메톡시프로폭시)-프로판 - 20% 20% -
폴리에틸렌 글리콜 MW 400 20% 10% - -
NMP - - 30% 10%
방향족 탄화수소 혼합물 C9-C12 75% 60% - -
용액은 미세액적의 형태로 시용하기에 적합하다.
F3. 습윤성 분말 a) b) c) d)
활성 성분 5% 25% 50% 80%
나트륨 리그노설포네이트 4% - 3% -
나트륨 라우릴 설페이트 2% 3% - 4%
나트륨 디이소부틸나프탈렌 설포네이트 - 6% 5% 6%
옥틸페놀 폴리글리콜 에테르 - 1% 2% -
(에틸렌 옥사이드 7 내지 8몰)
고분산성 규산 1% 3% 5% 10%
카올린 88% 62% 35% -
활성 성분을 보조제와 함께 잘 혼합하고 혼합물을 적합한 밀에서 잘 분쇄하여 습윤성 분말을 수득한 후 이것을 물로 희석하여 임의의 목적 농도를 갖는 현탁액을 수득할 수 있다.
F4. 피복 과립 a) b) c)
활성 성분 0.1% 5% 15%
고분산성 규산 0.9% 2% 2%
무기 담체 99.0% 93% 83%
(직경 0.1 내지 1㎜)
예: CaCO3 또는 SiO2
활성 성분을 메틸렌 클로라이드에 용해시키고 용액을 담체 위에 분무한 후 용매를 진공 증발시킨다.
F5. 피복 과립 a) b) c)
활성 성분 0.1% 5% 15%
폴리에틸렌 글리콜 MW 200 1.0% 2% 3%
고분산성 규산 0.9% 1% 2%
무기 담체 98.0% 92% 80%
(직경 0.1 내지 1㎜)
예: CaCO3 또는 SiO2
미분된 활성 성분을 혼합기에서 폴리에틸렌 글리콜로 습윱된 담체에 균일하게 시용한다. 이 방법으로 비-분진형 피복 과립이 얻어진다.
F6. 압출 과립 a) b) c) d)
활성 성분 0.1% 3% 5% 15%
나트륨 리그노설포네이트 1.5% 2% 3% 4%
카복시메틸셀룰로오스 1.4% 2% 2% 2%
카올린 97.0% 93% 90% 79%
활성 성분을 보조제와 함께 혼합 및 분쇄하고 혼합물을 물로 습윤시킨다. 생성된 혼합물을 압출한 후 공기 스트림 중에 건조시킨다.
F7. 분진 a) b) c)
활성 성분 0.1% 1% 5%
탈크 39.9% 49% 35%
카올린 60.0% 50% 60%
활성 성분을 담체와 혼합하고 혼합물을 적합한 밀에서 분쇄함으로써 즉석 사용가능한 분진을 수득한다.
F8. 현탁 농축물 a) b) c) d)
활성 성분 3% 10% 25% 50%
에틸렌 글리콜 5% 5% 5% 5%
노닐페놀 폴리글리콜 에테르 - 1% 2% -
(에틸렌 옥사이드 15몰)
나트륨 리그노설포네이트 3% 3% 4% 5%
카복시메틸셀룰로오스 1% 1% 1% 1%
37% 수성 포름알데하이드 용액 0.2% 0.2% 0.2% 0.2%
실리콘 오일 유화액 0.8% 0.8% 0.8% 0.8%
물 87% 79% 62% 38%
미분된 활성 성분을 보조제와 친밀하게 혼합하여 현탁 농축물을 수득하고 이것을 물로 희석함으로써 임의의 목적 농도를 갖는 현탁액을 제조할 수 있다.
본 발명은 또한 유용 식물 또는 이의 경작지 또는 서식지를 화학식 I의 화합물로 처리하는 단계를 포함하는, 유용 식물의 작물 내의 풀 및 잡초를 선택적으로 방제하는 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 조성물을 사용할 수 있는 유용 식물의 작물로는 특히 곡물, 목화, 대두, 사탕 무우, 사탕 수수, 재배 작물, 평지, 옥수수 및 쌀이 포함되며, 비선택적인 잡초 방제를 목적으로 한다. "작물"의 용어는 통상의 품종 개량 또는 유전 공학적 방법의 결과로서 제초제 또는 제초제 부류(예: ALS, GS, EPSPS, PPO, ACCase 및 HPPD 억제제)에 내성을 갖게 된 작물들도 포함하는 것으로 이해된다. 예컨대 통상의 품종 개량에 의해 이마자목스와 같은 이미다졸리논에 내성을 갖게 된 작물의 예로는 Clearfield® 여름 평지(Canola)가 있다. 유전 공학적 방법에 의해 제초제에 내성을 갖게 된 작물의 예로는 RoundupReady® 및 LibertyLink®의 상품명으로 시판되는 글리포세이트- 및 글루포시네이트-내성 옥수수 품종이 있다. 방제되는 잡초는 외떡잎 및 쌍떡잎 잡초, 예를 들면 스텔라리아(Stellaria), 나스투르티움(Nasturtium), 아그로스티스(Agrostis), 디지타리아(Digitaria), 아베나(Avena), 세타리아(Setaria), 시나피스(Sinapis), 롤리움(Lolium), 솔라눔(Solanum), 에키노클로아(Echinochloa), 시르푸스(Scirpus), 모노코리아(Monochoria), 사지타리아(Sagittaria), 브로무스(Bromus), 알로페쿠루스(Alopecurus), 소르굼(Sorghum), 로트보엘리아(Rottboellia), 시페루스(Cyperus), 아부틸론(Abutilon), 시다(Sida), 크산티움(Xanthium), 아마란투스(Amaranthus), 케노포디움(Chenopodium), 이포모에아(Ipomoea), 크리산테뭄(Chrysanthemum), 갈리움(Galium), 비올라(Viola) 및 베로니카(Veronica)일 수 있다.
작물은 또한 유전 공학적 방법에 의해 유해한 곤충에 내성을 갖게 된 것들, 예를 들면 Bt 옥수수(유럽 조명충나방에 대해 내성), Bt 목화(목화 바구미에 내성) 및 Bt 감자(콜로라도 감자잎벌레에 내성)도 포함하는 것으로 이해된다. Bt 옥수수의 예로는 NK®(Syngenta Seeds)의 Bt-176 잡종 옥수수가 있다. Bt 독소는 바실루스 투린기엔시스(Bacillus thuringiensis) 토양 세균에 의해 자연 발생되는 단백질이다. 이러한 독소를 합성할 수 있는 독소 및 형질전환 식물의 예는 유럽 특허 출원 제EP-A-451 878호, 유럽 특허 출원 제EP-A-374 753호, 국제 공개 WO 제93/07278호, 국제 공개 WO 제95/34656호, 국제 공개 WO 제03/052073호 및 유럽 특허 출원 제EP-A-427 529호에 설명되어 있다. 살충제 내성을 암호화하는 유전자를 하나 이상 함유하고 1종 이상의 독소를 발현하는 형질전환된 식물의 예는 KnockOut®(옥수수), Yield Gard®(옥수수), NuCOTIN33B®(목화), Bollgard®(목화), NewLeaf®(감자), NatureGard® 및 Protexcta®이다. 식물 작물 및 이들의 종자 재료는 제초제에 대한 내성과 동시에 곤충의 먹이가 되는 것에 대해서도 내성을 가질 수 있다("적체된" 형질전환 품종). 종자는 예컨대 살충 활성의 Cry3 단백질을 발현하는 능력과 동시에 글리포세이트-내성을 가질 수 있다. "작물"의 용어는 이른바 품질관련 특성(예: 개선된 풍미, 저장 안정성, 영양 성분)을 함유하는 통상의 품종 개량 또는 유전 공학적 방법의 결과로서 얻어진 작물도 포함하는 것으로 이해된다.
경작지는 작물 식물이 이미 성장하고 있는 땅은 물론 이들 작물 식물의 경작을 예정하고 있는 땅을 포함하는 것으로 이해된다.
본 발명에 따른 화학식 I의 화합물은 다른 제초제와 함께 배합하여 사용될 수도 있다. 화학식 I의 화합물의 다음과 같은 혼합물들이 특히 중요하다. 바람직하게, 이들 혼합물에서 화학식 I의 화합물은 하기 표 1 내지 204에 열거된 화합물들 중 하나이다: 화학식 I의 화합물 + 아세토클로르, 화학식 I의 화합물 + 아시플루오르펜, 화학식 I의 화합물 + 아시플루오르펜-나트륨, 화학식 I의 화합물 + 아클로니펜, 화학식 I의 화합물 + 아크롤레인, 화학식 I의 화합물 + 알라클로르, 화학식 I의 화합물 + 알록시딤, 화학식 I의 화합물 + 알릴 알코올, 화학식 I의 화합물 + 아메트린, 화학식 I의 화합물 + 아미카바존, 화학식 I의 화합물 + 아미도설푸론, 화학식 I의 화합물 + 아미노피랄리드, 화학식 I의 화합물 + 아미트롤, 화학식 I의 화합물 + 암모늄 설파메이트, 화학식 I의 화합물 + 아닐로포스, 화학식 I의 화합물 + 아설람, 화학식 I의 화합물 + 아트라진, 화학식 I의 화합물 + 아비글리신, 화학식 I의 화합물 + 아자페니딘, 화학식 I의 화합물 + 아짐설푸론, 화학식 I의 화합물 + BCPC, 화학식 I의 화합물 + 베플루부타미드, 화학식 I의 화합물 + 베나졸린, 화학식 I의 화합물 + 벤카바존, 화학식 I의 화합물 + 벤플루랄린, 화학식 I의 화합물 + 벤푸레세이트, 화학식 I의 화합물 + 벤설푸론, 화학식 I의 화합물 + 벤설푸론-메틸, 화학식 I의 화합물 + 벤설라이드, 화학식 I의 화합물 + 벤타존, 화학식 I의 화합물 + 벤즈펜디존, 화학식 I의 화합물 + 벤조바이사이클론, 화학식 I의 화합물 + 벤조페납, 화학식 I의 화합물 + 비페녹스, 화학식 I의 화합물 + 빌라나포스, 화학식 I의 화합물 + 비스피리박, 화학식 I의 화합물 + 비스피리박-나트륨, 화학식 I의 화합물 + 보락스, 화학식 I의 화합물 + 브로마실, 화학식 I의 화합물 + 브로모부타이드, 화학식 I의 화합물 + 브로모페녹심, 화학식 I의 화합물 + 브로목시닐, 화학식 I의 화합물 + 부타클로르, 화학식 I의 화합물 + 부타페나실, 화학식 I의 화합물 + 부타미포스, 화학식 I의 화합물 + 부트랄린, 화학식 I의 화합물 + 부트록시딤, 화학식 I의 화합물 + 부틸레이트, 화학식 I의 화합물 + 카코딜산, 화학식 I의 화합물 + 칼슘 클로레이트, 화학식 I의 화합물 + 카펜스트롤, 화학식 I의 화합물 + 카베트아미드, 화학식 I의 화합물 + 카펜트라존, 화학식 I의 화합물 + 카펜트라존-에틸, 화학식 I의 화합물 + CDEA, 화학식 I의 화합물 + CEPC, 화학식 I의 화합물 + 클로르플루레놀, 화학식 I의 화합물 + 클로르플루레놀-메틸, 화학식 I의 화합물 + 클로리다존, 화학식 I의 화합물 + 클로리무론, 화학식 I의 화합물 + 클로리무론-에틸, 화학식 I의 화합물 + 클로로아세트산, 화학식 I의 화합물 + 클로로톨루론, 화학식 I의 화합물 + 클로르프로팜, 화학식 I의 화합물 + 클로르설푸론, 화학식 I의 화합물 + 클로르탈, 화학식 I의 화합물 + 클로르탈-디메틸, 화학식 I의 화합물 + 시니돈-에틸, 화학식 I의 화합물 + 신메틸린, 화학식 I의 화합물 + 시노설푸론, 화학식 I의 화합물 + 시사닐라이드, 화학식 I의 화합물 + 클레토딤, 화학식 I의 화합물 + 클로디나포프, 화학식 I의 화합물 + 클로디나포프-프로파르길, 화학식 I의 화합물 + 클로마존, 화학식 I의 화합물 + 클로메프롭, 화학식 I의 화합물 + 클로피랄리드, 화학식 I의 화합물 + 클로란설람, 화학식 I의 화합물 + 클로란설람-메틸, 화학식 I의 화합물 + CMA, 화학식 I의 화합물 + 4-CPB, 화학식 I의 화합물 + CPMF, 화학식 I의 화합물 + 4-CPP, 화학식 I의 화합물 + CPPC, 화학식 I의 화합물 + 크레솔, 화학식 I의 화합물 + 쿠밀루론, 화학식 I의 화합물 + 시안아미드, 화학식 I의 화합물 + 시안아진, 화학식 I의 화합물 + 사이클로에이트, 화학식 I의 화합물 + 사이클로설파무론, 화학식 I의 화합물 + 사이클록시딤, 화학식 I의 화합물 + 사이할로포프, 화학식 I의 화합물 + 사이할로포프-부틸, 화학식 I의 화합물 + 2,4-D, 화학식 I의 화합물 + 3,4-DA, 화학식 I의 화합물 + 다이무론, 화학식 I의 화합물 + 달라폰, 화학식 I의 화합물 + 다조메트, 화학식 I의 화합물 + 2,4-DB, 화학식 I의 화합물 + 3,4-DB, 화학식 I의 화합물 + 2,4-DEB, 화학식 I의 화합물 + 데스메디팜, 화학식 I의 화합물 + 데스메트린, 화학식 I의 화합물 + 디캄바, 화학식 I의 화합물 + 디클로베닐, 화학식 I의 화합물 + 오르토-디클로로벤젠, 화학식 I의 화합물 + 파라-디클로로벤젠, 화학식 I의 화합물 + 디클로르프롭, 화학식 I의 화합물 + 디클로르프롭-P, 화학식 I의 화합물 + 디클로포프, 화학식 I의 화합물 + 디클로포프-메틸, 화학식 I의 화합물 + 디클로설람, 화학식 I의 화합물 + 디펜조쿼트, 화학식 I의 화합물 + 디펜조쿼트 메틸설페이트, 화학식 I의 화합물 + 디플루페니칸, 화학식 I의 화합물 + 디플루펜조피르, 화학식 I의 화합물 + 디메푸론, 화학식 I의 화합물 + 디메피페레이트, 화학식 I의 화합물 + 디메타클로르, 화학식 I의 화합물 + 디메타메트린, 화학식 I의 화합물 + 디메텐아미드, 화학식 I의 화합물 + 디메텐아미드-P, 화학식 I의 화합물 + 디메티핀, 화학식 I의 화합물 + 디메틸아르신산, 화학식 I의 화합물 + 디니트라민, 화학식 I의 화합물 + 디노텁, 화학식 I의 화합물 + 디펜아미드, 화학식 I의 화합물 + 디프로페트린, 화학식 I의 화합물 + 디쿼트, 화학식 I의 화합물 + 디쿼트 디브로마이드, 화학식 I의 화합물 + 디티오피르, 화학식 I의 화합물 + 디우론, 화학식 I의 화합물 + DNOC, 화학식 I의 화합물 + 3,4-DP, 화학식 I의 화합물 + DSMA, 화학식 I의 화합물 + EBEP, 화학식 I의 화합물 + 엔도탈, 화학식 I의 화합물 + EPTC, 화학식 I의 화합물 + 에스프로캅, 화학식 I의 화합물 + 에탈플루랄린, 화학식 I의 화합물 + 에타메트설푸론, 화학식 I의 화합물 + 에타메트설푸론-메틸, 화학식 I의 화합물 + 에테폰, 화학식 I의 화합물 + 에토푸메세이트, 화학식 I의 화합물 + 에톡시펜, 화학식 I의 화합물 + 에톡시설푸론, 화학식 I의 화합물 + 에토벤자니드, 화학식 I의 화합물 + 페녹사프롭-P, 화학식 I의 화합물 + 페녹사프롭-P-에틸, 화학식 I의 화합물 + 펜트라자미드, 화학식 I의 화합물 + 제1철 설페이트, 화학식 I의 화합물 + 플람프롭-M, 화학식 I의 화합물 + 플라자설푸론, 화학식 I의 화합물 + 플로라설람, 화학식 I의 화합물 + 플루아지포프, 화학식 I의 화합물 + 플루아지포프-부틸, 화학식 I의 화합물 + 플루아지포프-P, 화학식 I의 화합물 + 플루아지포프-P-부틸, 화학식 I의 화합물 + 플루아졸레이트, 화학식 I의 화합물 + 플루카바존, 화학식 I의 화합물 + 플루카바존-나트륨, 화학식 I의 화합물 + 플루세토설푸론, 화학식 I의 화합물 + 플루클로랄린, 화학식 I의 화합물 + 플루페나세트, 화학식 I의 화합물 + 플루펜피르, 화학식 I의 화합물 + 플루펜피르-에틸, 화학식 I의 화합물 + 플루메트랄린, 화학식 I의 화합물 + 플루메트설람, 화학식 I의 화합물 + 플루미클로락, 화학식 I의 화합물 + 플루미클로락-펜틸, 화학식 I의 화합물 + 플루미옥사진, 화학식 I의 화합물 + 플루미프로핀, 화학식 I의 화합물 + 플루오메투론, 화학식 I의 화합물 + 플루오로글리코펜, 화학식 I의 화합물 + 플루오로글리코펜-에틸, 화학식 I의 화합물 + 플루옥사프롭, 화학식 I의 화합물 + 플루폭삼, 화학식 I의 화합물 + 플루프로파실, 화학식 I의 화합물 + 플루프로파네이트, 화학식 I의 화합물 + 플루피르설푸론, 화학식 I의 화합물 + 플루피르설푸론-메틸-나트륨, 화학식 I의 화합물 + 플루레놀, 화학식 I의 화합물 + 플루리돈, 화학식 I의 화합물 + 플루로클로리돈, 화학식 I의 화합물 + 플루록시피르, 화학식 I의 화합물 + 플루르타몬, 화학식 I의 화합물 + 플루티아세트, 화학식 I의 화합물 + 플루티아세트-메틸, 화학식 I의 화합물 + 포메사펜, 화학식 I의 화합물 + 포람설푸론, 화학식 I의 화합물 + 포사민, 화학식 I의 화합물 + 글루포시네이트, 화학식 I의 화합물 + 글루포시네이트-암모늄, 화학식 I의 화합물 + 글리포세이트, 화학식 I의 화합물 + 할로설푸론, 화학식 I의 화합물 + 할로설푸론-메틸, 화학식 I의 화합물 + 할록시포프, 화학식 I의 화합물 + 할록시포프-P, 화학식 I의 화합물 + HC-252, 화학식 I의 화합물 + 헥사지논, 화학식 I의 화합물 + 이마자메타벤즈, 화학식 I의 화합물 + 이마자메타벤즈-메틸, 화학식 I의 화합물 + 이마자목스, 화학식 I의 화합물 + 이마자픽, 화학식 I의 화합물 + 이마자피르, 화학식 I의 화합물 + 이마자퀸, 화학식 I의 화합물 + 이마제타피르, 화학식 I의 화합물 + 이마조설푸론, 화학식 I의 화합물 + 인다노판, 화학식 I의 화합물 + 요오도메탄, 화학식 I의 화합물 + 요오도설푸론, 화학식 I의 화합물 + 요오도설푸론-메틸-나트륨, 화학식 I의 화합물 + 이옥시닐, 화학식 I의 화합물 + 이소프로투론, 화학식 I의 화합물 + 이소우론, 화학식 I의 화합물 + 이속사벤, 화학식 I의 화합물 + 이속사클로르톨, 화학식 I의 화합물 + 이속사플루톨, 화학식 I의 화합물 + 이속사피리포프, 화학식 I의 화합물 + 카르부틸레이트, 화학식 I의 화합물 + 락토펜, 화학식 I의 화합물 + 레나실, 화학식 I의 화합물 + 리누론, 화학식 I의 화합물 + MAA, 화학식 I의 화합물 + MAMA, 화학식 I의 화합물 + MCPA, 화학식 I의 화합물 + MCPA-티오에틸, 화학식 I의 화합물 + MCPB, 화학식 I의 화합물 + 메코프롭, 화학식 I의 화합물 + 메코프롭-P, 화학식 I의 화합물 + 메페나세트, 화학식 I의 화합물 + 메플루이다이드, 화학식 I의 화합물 + 메소설푸론, 화학식 I의 화합물 + 메소설푸론-메틸, 화학식 I의 화합물 + 메소트리온, 화학식 I의 화합물 + 메탐, 화학식 I의 화합물 + 메타미포프, 화학식 I의 화합물 + 메타미트론, 화학식 I의 화합물 + 메타자클로르, 화학식 I의 화합물 + 메타벤즈티아주론, 화학식 I의 화합물 + 메타졸, 화학식 I의 화합물 + 메틸아르손산, 화학식 I의 화합물 + 메틸다임론, 화학식 I의 화합물 + 메틸 이소티오시아네이트, 화학식 I의 화합물 + 메토벤주론, 화학식 I의 화합물 + 메토브로무론, 화학식 I의 화합물 + 메톨라클로르, 화학식 I의 화합물 + S-메톨라클로르, 화학식 I의 화합물 + 메토설람, 화학식 I의 화합물 + 메톡수론, 화학식 I의 화합물 + 메트리부진, 화학식 I의 화합물 + 메트설푸론, 화학식 I의 화합물 + 메트설푸론-메틸, 화학식 I의 화합물 + MK-616, 화학식 I의 화합물 + 몰리네이트, 화학식 I의 화합물 + 모놀리누론, 화학식 I의 화합물 + MSMA, 화학식 I의 화합물 + 나프로아닐라이드, 화학식 I의 화합물 + 나프로파미드, 화학식 I의 화합물 + 나프탈람, 화학식 I의 화합물 + NDA-402989, 화학식 I의 화합물 + 네부론, 화학식 I의 화합물 + 니코설푸론, 화학식 I의 화합물 + 니피라클로펜, 화학식 I의 화합물 + n-메틸 글리포세이트, 화학식 I의 화합물 + 노나논산, 화학식 I의 화합물 + 노르플루라존, 화학식 I의 화합물 + 올레산(지방산), 화학식 I의 화합물 + 오르벤카브, 화학식 I의 화합물 + 오르토설파무론, 화학식 I의 화합물 + 오리잘린, 화학식 I의 화합물 + 옥사디아르길, 화학식 I의 화합물 + 옥사디아존, 화학식 I의 화합물 + 옥사설푸론, 화학식 I의 화합물 + 옥사지클로메폰, 화학식 I의 화합물 + 옥시플루오르펜, 화학식 I의 화합물 + 파라쿼트, 화학식 I의 화합물 + 파라쿼트 디클로라이드, 화학식 I의 화합물 + 페불레이트, 화학식 I의 화합물 + 펜디메탈린, 화학식 I의 화합물 + 페녹술람, 화학식 I의 화합물 + 펜타클로로페놀, 화학식 I의 화합물 + 펜타노클로르, 화학식 I의 화합물 + 펜톡사존, 화학식 I의 화합물 + 페톡사미드, 화학식 I의 화합물 + 석유 오일, 화학식 I의 화합물 + 펜메디팜, 화학식 I의 화합물 + 펜메디팜-에틸, 화학식 I의 화합물 + 피클로람, 화학식 I의 화합물 + 피콜리나펜, 화학식 I의 화합물 + 피녹사덴, 화학식 I의 화합물 + 피페로포스, 화학식 I의 화합물 + 칼륨 아르세나이트, 화학식 I의 화합물 + 칼륨 아지드, 화학식 I의 화합물 + 프레틸라클로르, 화학식 I의 화합물 + 프리미설푸론, 화학식 I의 화합물 + 프리미설푸론-메틸, 화학식 I의 화합물 + 프로디아민, 화학식 I의 화합물 + 프로플루아졸, 화학식 I의 화합물 + 프로폭시딤, 화학식 I의 화합물 + 프로헥사디온-칼슘, 화학식 I의 화합물 + 프로메톤, 화학식 I의 화합물 + 프로메트린, 화학식 I의 화합물 + 프로파클로르, 화학식 I의 화합물 + 프로파닐, 화학식 I의 화합물 + 프로파퀴자포프, 화학식 I의 화합물 + 프로파진, 화학식 I의 화합물 + 프로팜, 화학식 I의 화합물 + 프로피소클로르, 화학식 I의 화합물 + 프로폭시카바존, 화학식 I의 화합물 + 프로폭시카바존-나트륨, 화학식 I의 화합물 + 프로피자미드, 화학식 I의 화합물 + 프로설포카브, 화학식 I의 화합물 + 프로설푸론, 화학식 I의 화합물 + 피라클로닐, 화학식 I의 화합물 + 피라플루펜, 화학식 I의 화합물 + 피라플루펜-에틸, 화학식 I의 화합물 + 피라설포톨, 화학식 I의 화합물 + 피라졸리네이트, 화학식 I의 화합물 + 피라조설푸론, 화학식 I의 화합물 + 피라조설푸론-에틸, 화학식 I의 화합물 + 피라족시펜, 화학식 I의 화합물 + 피리벤족심, 화학식 I의 화합물 + 피리부티카브, 화학식 I의 화합물 + 피리다폴, 화학식 I의 화합물 + 피리데이트, 화학식 I의 화합물 + 피리프탈리드, 화학식 I의 화합물 + 피리미노박, 화학식 I의 화합물 + 피리미노박-메틸, 화학식 I의 화합물 + 피리미설판, 화학식 I의 화합물 + 피리티오박, 화학식 I의 화합물 + 피리티오박-나트륨, 화학식 I의 화합물 + 피록사설폰(KIH-485), 화학식 I의 화합물 + 피록술람, 화학식 I의 화합물 + 퀸클로락, 화학식 I의 화합물 + 퀸메락, 화학식 I의 화합물 + 퀴노클라민, 화학식 I의 화합물 + 퀴잘로포프, 화학식 I의 화합물 + 퀴잘로포프-P, 화학식 I의 화합물 + 림설푸론, 화학식 I의 화합물 + 세톡시딤, 화학식 I의 화합물 + 시두론, 화학식 I의 화합물 + 시마진, 화학식 I의 화합물 + 시메트린, 화학식 I의 화합물 + SMA, 화학식 I의 화합물 + 나트륨 아르세나이트, 화학식 I의 화합물 + 나트륨 아지드, 화학식 I의 화합물 + 나트륨 클로레이트, 화학식 I의 화합물 + 설코트리온, 화학식 I의 화합물 + 설펜트라존, 화학식 I의 화합물 + 설포메투론, 화학식 I의 화합물 + 설포메투론-메틸, 화학식 I의 화합물 + 설포세이트, 화학식 I의 화합물 + 설포설푸론, 화학식 I의 화합물 + 황산, 화학식 I의 화합물 + 타르 오일, 화학식 I의 화합물 + 2,3,6-TBA, 화학식 I의 화합물 + TCA, 화학식 I의 화합물 + TCA-나트륨, 화학식 I의 화합물 + 테부탐, 화학식 I의 화합물 + 테부티우론, 화학식 I의 화합물 + 테푸릴트리온, 화학식 I의 화합물 + 템보트리온, 화학식 I의 화합물 + 테프랄록시딤, 화학식 I의 화합물 + 테르바실, 화학식 I의 화합물 + 테르부메톤, 화학식 I의 화합물 + 테르부틸라진, 화학식 I의 화합물 + 테르부트린, 화학식 I의 화합물 + 테닐클로르, 화학식 I의 화합물 + 티아자플루론, 화학식 I의 화합물 + 티아조피르, 화학식 I의 화합물 + 티펜설푸론, 화학식 I의 화합물 + 티엔카바존, 화학식 I의 화합물 + 티펜설푸론-메틸, 화학식 I의 화합물 + 티오벤카브, 화학식 I의 화합물 + 티오카바질, 화학식 I의 화합물 + 토프라메존, 화학식 I의 화합물 + 트랄콕시딤, 화학식 I의 화합물 + 트리-알레이트, 화학식 I의 화합물 + 트리아설푸론, 화학식 I의 화합물 + 트리아지플람, 화학식 I의 화합물 + 트리베누론, 화학식 I의 화합물 + 트리베누론-메틸, 화학식 I의 화합물 + 트리캄바, 화학식 I의 화합물 + 트리클로피르, 화학식 I의 화합물 + 트리에타진, 화학식 I의 화합물 + 트리플록시설푸론, 화학식 I의 화합물 + 트리플록시설푸론-나트륨, 화학식 I의 화합물 + 트리플루랄린, 화학식 I의 화합물 + 트리플루설푸론, 화학식 I의 화합물 + 트리플루설푸론-메틸, 화학식 I의 화합물 + 트리하이드록시트리아진, 화학식 I의 화합물 + 트리넥사팍-에틸, 화학식 I의 화합물 + 트리토설푸론, 화학식 I의 화합물 + [3-[2-클로로-4-플루오로-5-(1-메틸-6-트리플루오로메틸-2,4-디옥소-1,2,3,4-테트라하이드로피리미딘-3-일)페녹시]-2-피리딜옥시]아세트산 에틸 에스테르(CAS RN 353292-31-6), 화학식 I의 화합물 + 4-하이드록시-3-[[2-[(2-메톡시에톡시)메틸]-6-(트리플루오로메틸)-3-피리디닐]카보닐]-바이사이클로[3.2.1]옥트-3-엔-2-온(CAS RN 352010-68-5), 및 화학식 I의 화합물 + 4-하이드록시-3-[[2-(3-메톡시프로필)-6-(디플루오로메틸)-3-피리디닐]카보닐]바이사이클로[3.2.1]옥트-3-엔-2-온.
화학식 I의 화합물의 혼합 파트너는 예컨대 하기 참조 문헌에 언급된 바와 같은 에스테르 또는 염의 형태를 가질 수도 있다[참조: The Pesticide Manual, 제12판, British Crop Protection Council, 2000].
혼합 파트너에 대한 화학식 I의 화합물의 혼합 비율은 바람직하게는 1:100 내지 1,000:1이다.
혼합물은 유리하게는 앞서 언급된 바와 같은 제형으로 사용될 수 있다(이 경우 "활성 성분"은 화학식 I의 화합물과 혼합 파트너의 각각의 혼합물을 가리킨다).
본 발명에 따른 화학식 I의 화합물은 약해 경감제와 함께 사용될 수도 있다. 바람직하게, 이들 혼합물에서 화학식 I의 화합물은 하기 표 1 내지 204에 열거된 화합물들 중 하나이다. 다음과 같은 약해 경감제와의 혼합물이 특히 중요하다: 화학식 I의 화합물 + 클로퀸토세트-멕실, 화학식 I의 화합물 + 클로퀸토세트 산 및 이의 염, 화학식 I의 화합물 + 펜클로라졸-에틸, 화학식 I의 화합물 + 펜클로라졸 산 및 이의 염, 화학식 I의 화합물 + 메펜피르-디에틸, 화학식 I의 화합물 + 메펜피르 이산, 화학식 I의 화합물 + 이속사디펜-에틸, 화학식 I의 화합물 + 이속사디펜 산, 화학식 I의 화합물 + 푸릴라졸, 화학식 I의 화합물 + 푸릴라졸 R 이성질체, 화학식 I의 화합물 + 베녹사코르, 화학식 I의 화합물 + 디클로르미드, 화학식 I의 화합물 + AD-67, 화학식 I의 화합물 + 옥사베트리닐, 화학식 I의 화합물 + 시오메트리닐, 화학식 I의 화합물 + 시오메트리닐 Z-이성질체, 화학식 I의 화합물 + 펜클로림, 화학식 I의 화합물 + 시프로설파미드, 화학식 I의 화합물 + 나프탈릭 안하이드라이드, 화학식 I의 화합물 + 플루라졸, 화학식 I의 화합물 + CL 304,415, 화학식 I의 화합물 + 디사이클로논, 화학식 I의 화합물 + 플룩소페님, 화학식 I의 화합물 + DKA-24, 화학식 I의 화합물 + R-29148 및 화학식 I의 화합물 + PPG-1292. 약해 경감 효과는 화학식 I의 화합물 + 다임론, 화학식 I의 화합물 + MCPA, 화학식 I의 화합물 + 메코프로프 및 화학식 I의 화합물 + 메코프로프-P의 혼합물에 대해서도 관찰될 수 있다.
상기 언급된 약해 경감제 및 제초제들은 예컨대 하기 참조 문헌에 설명되어 있다[참조: The Pesticide Manual, 제12판, British Crop Protection Council, 2000]. R-29148은 예컨대 참조 문헌[P. B. Goldsbrough 외, Plant Physiology, (2002), Vol. 130, 1497-1505쪽 및 이의 인용 문헌]에 설명되어 있고, PPG-1292는 국제 공개 WO 제09211761호로부터 공지되어 있다.
제초제에 대한 약해 경감제의 시용량은 주로 시용 방식에 따라서 달라진다. 토양 처리의 경우에는 일반적으로 0.001 내지 5.0㎏(약해 경감제)/ha, 바람직하게는 0.001 내지 0.5㎏(약해 경감제)/ha, 및 일반적으로 0.001 내지 2㎏(제초제)/ha, 바람직하게는 0.005 내지 1㎏/ha가 시용된다.
본 발명에 따른 제초제 조성물은 농업에서의 모든 통상적 시용 방식, 예컨대 발아전 시용, 발아후 시용 및 종자 드레싱에 적합하다. 목적 용도에 따라서, 약해 경감제를 작물 식물의 종자 재료에 미리 처리(종자 또는 묘목에 드레싱)하거나 파종 전 또는 후에 토양에 투입한 후, (약해 경감되지 않은) 화학식 I의 화합물을 임의로 보조-제초제와 함께 시용할 수 있다. 그러나 이것은 식물의 발아 전 또는 후에 단독으로 또는 제초제와 함께 시용될 수도 있다. 따라서, 식물 또는 종자 재료의 약해 경감제 처리는 원리적으로는 제초제의 시용과 독립적으로 수행될 수 있다. 일반적으로는 제초제와 약해 경감제를 (예컨대 탱크 혼합물의 형태로) 동시 시용하여 식물을 처리하는 것이 바람직하다. 제초제에 대한 약해 경감제의 시용량은 주로 시용 방식에 따라 달라진다. 토양 처리의 경우에는 일반적으로 0.001 내지 5.0㎏(약해 경감제)/ha, 바람직하게는 0.001 내지 0.5㎏(약해 경감제)/ha가 시용된다. 종자 드레싱의 경우에는 일반적으로 0.001 내지 10g(약해 경감제)/㎏(종자), 바람직하게는 0.05 내지 2g(약해 경감제)/㎏(종자)이 시용된다. 약해 경감제를 파종 직전에 종자 침지에 의해 액체 형태로 시용하는 경우에는, 1 내지 10,000ppm, 바람직하게는 100 내지 1,000ppm 농도의 활성 성분을 함유하는 약해 경감제 용액을 사용하는 것이 유리하다.
혼합물은 유리하게는 앞서 언급된 제형으로 사용될 수 있다(이 경우 "활성 성분"은 화학식 I의 화합물과 혼합 파트너의 각각의 혼합물을 가리킨다).
하기 실시예는 본 발명을 예시할 뿐 본 발명을 제한하지 않는다.
제조 실시예:
실시예 1
3-[2-(4-클로로페닐)-5-메틸셀레나졸-4-일]바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온의 제조
Figure pct00032
단계 1
2-(4-클로로페닐)셀레나졸-5-카브알데하이드의 제조
Figure pct00033
4-클로로셀레노벤즈아미드(219㎎, 1mmol) 및 2-클로로말론알데하이드(160㎎, 1.5mmol)의 1,2-디메톡시에탄(1.5㎖) 중 현탁액에 마그네슘 카보네이트(42㎎, 0.5mmol)를 첨가하고 생성된 혼합물을 60℃에서 질소 분위기하에 3시간 동안 교반한다. 이어서, 조 반응 혼합물을 실리카의 플러그를 통해 여과하고 에틸 아세테이트로 세척하고 여액을 농축하여 갈색 고체를 수득한다. 조 생성물을 실리카겔 상에서 플래쉬 크로마토그래피로 정제하여 2-(4-클로로페닐)셀레나졸-5-카브알데하이드(162㎎)를 수득한다.
단계 2
[2-(4-클로로페닐)셀레나졸-5-일]메탄올의 제조
Figure pct00034
2-(4-클로로페닐)셀레나졸-5-카브알데하이드(130㎎, 0.48mmol)의 메탄올(5㎖) 중 현탁액에 나트륨 보로하이드라이드(19㎎, 0.5mmol)를 0℃에서 첨가한다. 반응 혼합물을 0℃에서 0.5시간 동안 교반한다. 반응 혼합물을 암모늄 클로라이드 포화 수용액(10㎖)으로 켄칭하고 디클로로메탄(3×25㎖)으로 추출한다. 합한 유기 추출물을 무수 마그네슘 설페이트로 건조시키고 여과하고 여액을 증발 건조시켜서 [2-(4-클로로페닐)셀레나졸-5-일]메탄올(127㎎)을 수득한다.
단계 3
4-[2-(4-클로로페닐)셀레나졸-5-일메톡시]바이사이클로[3.2.1]옥트-3-엔-2-온의 제조
Figure pct00035
[2-(4-클로로페닐)셀레나졸-5-일]메탄올(300㎎, 1.1mmol)의 건조 테트라하이드로푸란(5㎖) 중 용액에 나트륨 하이드라이드(광물유 중의 60% 분산액, 44㎎, 1.1mmol)를 한 번에 첨가한다. 반응 혼합물을 실온에서 5분간 교반하고 4-클로로바이사이클로[3.2.1]옥트-3-엔-2-온(172㎎, 1.1mmol)을 한 번에 첨가한다. 반응 혼합물을 실온에서 밤새 교반한다. 조 반응 혼합물에 실리카겔을 첨가하고, 용매를 감압하에 증발시키고, 잔류물을 실리카겔 상에서 플래쉬 크로마토그래피로 정제하여 4-[2-(4-클로로페닐)셀레나졸-5-일메톡시]바이사이클로[3.2.1]옥트-3-엔-2-온(275㎎)을 수득한다.
단계 4
3-[2-(4-클로로페닐)-5-메틸셀레나졸-4-일]바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온의 제조
Figure pct00036
4-[2-(4-클로로페닐)셀레나졸-5-일메톡시]바이사이클로[3.2.1]옥트-3-엔-2-온(260㎎, 0.66mmol)을 마이크로파 바이알에 넣고 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(8㎖)에 용해시킨다. 1-부틸-3-메틸이미다졸륨 비스(트리플루오로메틸설포닐)이미드(0.1㎖)를 첨가하고 반응 혼합물을 마이크로파 조사하에 30분간 210℃로 가열한다. 조 반응 혼합물에 실리카겔을 첨가하고, 용매를 감압하에 증발시키고, 잔류물을 실리카겔 상에서 플래쉬 크로마토그래피로 정제하여 3-[2-(4-클로로페닐)-5-메틸셀레나졸-4-일]바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온(108㎎)을 수득한다.
실시예 2
3-[5-메틸-2-(4-트리플루오로메톡시페닐)티아졸-4-일]바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온의 제조
Figure pct00037
단계 1
4-(2-브로모티아졸-5-일메톡시)바이사이클로[3.2.1]옥트-3-엔-2-온의 제조
Figure pct00038
(2-브로모티아졸-5-일)메탄올(4.85g, 25mmol) 및 4-클로로-바이사이클로[3.2.1]옥트-3-엔-2-온(3.92g, 25mmol)의 무수 테트라하이드로푸란(100㎖) 중 용액에 나트륨 하이드라이드(오일 중의 60% 분산액, 1.00g, 25mmol)를 0℃에서 소량씩 첨가한다. 반응 혼합물을 밤새 교반하고 실온으로 승온시킨다. 조 반응 혼합물에 실리카겔을 첨가하고, 용매를 감압하에 증발시키고, 잔류물을 실리카겔 상에서 플래쉬 크로마토그래피로 정제하여 4-(2-브로모티아졸-5-일메톡시)바이사이클로[3.2.1]옥트-3-엔-2-온(6.43g)을 수득한다.
단계 2
3-[5-메틸-2-(4-트리플루오로메톡시페닐)티아졸-4-일]-바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온의 제조
Figure pct00039
4-(2-브로모티아졸-5-일메톡시)바이사이클로[3.2.1]옥트-3-엔-2-온(157, 0.5mmol), 4-트리플루오로메톡시페닐 보론산(206㎎, 1mmol), 톨루엔(2㎖), 세슘 카보네이트(183㎎, 0.6mmol) 및 PEPPSITM 촉매(51㎎, 0.15mmol)를 마이크로파 바이알 안에서 함께 혼합하고 마이크로파 조사하에 30분간 150℃로 가열한다. 조 생성물을 여과하고, 여액을 감압하에 증발시킨다. 잔류물을 디글라임(5㎖)에 용해시키고, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨 비스(트리플루오로메틸설포닐)이미드(0.1㎖)를 첨가하고 반응 혼합물을 마이크로파 조사하에 30분간 230℃로 가열한다. 조 반응 혼합물에 실리카겔을 첨가하고, 용매를 감압하에 증발시키고 잔류물을 실리카겔 상에서 플래쉬 크로마토그래피로 정제하여 3-[5-메틸-2-(4-트리플루오로메톡시-페닐)티아졸-4-일]바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온(84㎎)을 수득한다.
실시예 3
4-[4-(2,4-디옥소바이사이클로[3.2.1]옥트-3-일)-5-메틸티오펜-2-일]벤조산의 제조
Figure pct00040
단계 1
4-(5-하이드록시메틸티오펜-2-일)벤조산 메틸 에스테르의 제조
Figure pct00041
나트륨 보로하이드라이드(155㎎, 4.1mmol)를 4-(5-포르밀티오펜-2-일)벤조산 메틸 에스테르(1.01g, 4.1mmol)의 메탄올/디클로로메탄(16㎖/4㎖) 중 용액에 첨가하고 얻어진 용액을 실온에서 90분간 교반한다. 반응물을 암모늄 클로라이드 포화 수용액(100㎖)의 첨가로 켄칭하고 디클로로메탄(100㎖)으로 추출한다. 유기층을 염수로 세척하고 마그네슘 설페이트로 건조시키고 여과하고 진공 농축하여 4-(5-하이드록시메틸-티오펜-2-일)벤조산 메틸 에스테르(800㎎)를 수득한다.
단계 2
4-[5-(4-옥소바이사이클로[3.2.1]옥트-2-엔-2-일옥시메틸)티오펜-2-일]벤조산 메틸 에스테르의 제조
Figure pct00042
4-(5-하이드록시메틸티오펜-2-일)벤조산 메틸 에스테르(223㎎, 0.9mmol)의 건조 테트라하이드로푸란(5㎖) 중 용액에 나트륨 하이드라이드(광물유 중의 60% 분산액, 36㎎, 0.9mmol)를 한 번에 첨가한다. 반응 혼합물을 실온에서 5분간 교반한 후 4-클로로바이사이클로[3.2.1]옥트-3-엔-2-온(157㎎, 1.0mmol)을 한 번에 첨가한다. 반응 혼합물을 실온에서 밤새 교반한다. 조 반응 혼합물에 실리카겔을 첨가하고, 용매를 감압하에 증발시키고 잔류물을 실리카겔 상에서 플래쉬 크로마토그래피로 정제하여 4-[5-(4-옥소-바이사이클로[3.2.1]옥트-2-엔-2-일옥시메틸)티오펜-2-일]벤조산 메틸 에스테르(264㎎)를 수득한다.
단계 3
4-[4-(2,4-디옥소바이사이클로[3.2.1]옥트-3-일)-5-메틸티오펜-2-일]벤조산 메틸 에스테르의 제조
Figure pct00043
4-[5-(4-옥소-바이사이클로[3.2.1]옥트-2-엔-2-일옥시메틸)티오펜-2-일]벤조산 메틸 에스테르(264mg, 0.71mmol)를 마이크로파 바이알에 넣고 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(3㎖)에 용해시킨다. 1-부틸-3-메틸이미다졸륨 비스(트리플루오로메틸설포닐)이미드(0.1㎖)를 첨가하고 반응 혼합물을 마이크로파 조사하에 30분간 190℃로 가열한다. 조 반응 혼합물에 실리카겔을 첨가하고, 용매를 감압하에 증발시키고 잔류물을 실리카겔 상에서 플래쉬 크로마토그래피로 정제하여 4-[4-(2,4-디옥소바이사이클로[3.2.1]옥트-3-일)-5-메틸티오펜-2-일]벤조산 메틸 에스테르(213㎎)를 수득한다.
단계 4
4-[4-(2,4-디옥소-바이사이클로[3.2.1]옥트-3-일)-5-메틸티오펜-2-일]벤조산의 제조
Figure pct00044
4-[4-(2,4-디옥소바이사이클로[3.2.1]옥트-3-일)-5-메틸티오펜-2-일]벤조산 메틸 에스테르(60㎎, 0.16mmol)의 메탄올(2㎖) 중 용액에 1N 리튬 하이드록사이드 수용액(2㎖)을 첨가하고 반응물을 실온에서 72시간 동안 교반한다. 반응물을 2N 수성 염화수소산(25㎖)으로 산성화하고 디클로로메탄(25㎖)으로 추출한다. 유기층을 염수로 세척하고 마그네슘 설페이트로 건조시키고 여과하고 여액을 진공 농축하여 4-[4-(2,4-디옥소바이사이클로[3.2.1]옥트-3-일)-5-메틸티오펜-2-일]벤조산(44㎎)을 수득한다.
실시예 4
3-[2-(4-클로로페닐)-5-에틸티아졸-4-일]바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온의 제조
Figure pct00045
단계 1
1-[2-(4-클로로-페닐)티아졸-5-일]에탄올의 제조
Figure pct00046
1-[2-(4-클로로페닐)티아졸-5-일]에탄온(5g, 21mmol)의 메탄올(100㎖) 중 현탁액에 나트륨 보로하이드라이드(832㎎, 22mmol)를 실온에서 첨가한다. 반응 혼합물을 실온에서 1시간 동안 교반한다. 반응 혼합물을 암모늄 클로라이드 포화 수용액(100㎖)으로 켄칭하고 디클로로메탄(2×150㎖)으로 추출한다. 합한 유기 추출물을 무수 마그네슘 설페이트로 건조시키고 여과하고 증발 건조시켜서 1-[2-(4-클로로페닐)티아졸-5-일]에탄올(4.88g)을 수득한다.
단계 2
4-{1-[2-(4-클로로페닐)티아졸-5-일]에톡시}바이사이클로[3.2.1]옥트-3-엔-2-온의 제조
Figure pct00047
1-[2-(4-클로로페닐)티아졸-5-일]에탄올(1.1g, 4.6mmol)의 무수 테트라하이드로푸란(20㎖) 중 용액에 나트륨 하이드라이드(광물유 중의 60% 분산액, 184㎎, 4.6mmol)를 한 번에 첨가한다. 반응 혼합물을 실온에서 5분간 교반하고 4-클로로바이사이클로[3.2.1]옥트-3-엔-2-온(720㎎, 4.6mmol)을 한 번에 첨가한다. 반응 혼합물을 실온에서 밤새 교반한다. 조 반응 혼합물에 실리카겔을 첨가하고, 용매를 감압하에 증발시키고 잔류물을 실리카겔 상에서 플래쉬 크로마토그래피로 정제하여 4-{1-[2-(4-클로로페닐)티아졸-5-일]에톡시}바이사이클로[3.2.1]옥트-3-엔-2-온(1.24g)을 수득한다.
단계 3
3-[2-(4-클로로페닐)-5-에틸티아졸-4-일]바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온의 제조
Figure pct00048
4-{1-[2-(4-클로로페닐)티아졸-5-일]에톡시}바이사이클로[3.2.1]옥트-3-엔-2-온(1.25g, 3.47mmol)을 마이크로파 바이알에 넣고 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(15㎖)에 용해시킨다. 1-부틸-3-메틸이미다졸륨 비스(트리플루오로메틸설포닐)이미드(0.1㎖)를 첨가하고 반응 혼합물을 마이크로파 조사하에 30분간 230℃로 가열한다. 조 반응 혼합물에 실리카겔을 첨가하고, 용매를 감압하에 증발시키고 잔류물을 실리카겔 상에서 플래쉬 크로마토그래피로 정제하여 3-[2-(4-클로로페닐)-5-에틸-티아졸-4-일]바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온(660㎎)을 수득한다.
실시예 5
3-(6-메틸-2-메틸설파닐-피리미딘-4-일)-바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온의 제조
Figure pct00049
4-클로로-2-메틸-6-티오메틸피리미딘(174㎎, 1mmol), 2,2,6,6-테트라메틸-피란-3,5-디온(170㎎, 1mmol), 팔라듐 아세테이트(12㎎, 0.05mmol), X-Phos(48㎎, 0.1mmol) 및 칼륨 포스페이트(424㎎, 2mmol)를 마이크로파 바이알에 넣는다. 1,2-디메톡시에탄(3㎖)을 첨가하고 반응물을 30분간 교반하에 140℃로 가열한다. 조 반응 혼합물에 실리카겔을 첨가하고, 용매를 감압하에 증발시키고 잔류물을 실리카겔 상에서 플래쉬 크로마토그래피로 정제하여 4-[2-(4-클로로-페닐)-5-메틸-피리미딘-4-일]-2,2,6,6-테트라메틸-피란-3,5-디온(191㎎)을 수득한다.
실시예 6
3-[2-(4-클로로-페닐)티아졸-4-일]바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온의 제조
Figure pct00050
단계 1
클로로-아세트산 4-옥소-바이사이클로[3.2.1]옥트-2-엔-2-일 에스테르의 제조
Figure pct00051
바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온(10g, 72mmol)을 함유하는 250㎖ 둥근 바닥 플라스크에 건조 디클로로메탄(100㎖) 및 피리딘(6.28g, 87mmol)을 첨가한다. 디클로로메탄(100㎖)에 희석된 클로로아세틸 클로라이드(9.82 g, 72mmol)를 교반 혼합물에 15분에 걸쳐 적가한다. 이어서 반응 혼합물을 실온에서 2시간 동안 교반한다. 반응 혼합물을 수성 2N HCl 100㎖에 붓고 에틸 아세테이트(2×100㎖)로 추출한다. 합한 유기 추출물을 마그네슘 설페이트로 건조시키고 여과하고 감압하에 증발시켜서 오렌지색 오일을 수득한다. 조 생성물을 감압하에 증류시켜서 클로로-아세트산 4-옥소-바이사이클로[3.2.1]옥트-2-엔-2-일 에스테르(13.4g)를 수득한다.
단계 2
3-(2-클로로-아세틸)바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온의 제조
Figure pct00052
무수 알루미늄 클로라이드(10g, 75mmol)의 1,2-디클로로에탄(80㎖) 중 현탁액을 함유하는 250㎖ 둥근 바닥 플라스크에, 1,2-디클로로에탄(20㎖)에 희석된 클로로-아세트산 4-옥소-바이사이클로[3.2.1]옥트-2-엔-2-일 에스테르(6g, 28mmol)를 20분에 걸쳐 적가한다. 얻어진 반응 혼합물을 실온에서 밤새 교반한다. 이어서 반응물을 얼음과 수성 2N HCl(100㎖)의 혼합물에 붓고 디클로로메탄(3×50㎖)으로 추출한다. 합한 유기층을 마그네슘 설페이트로 건조시키고 여과하고 감압하에 증발시켜서 조대한 혼합물 3-(2-클로로-아세틸)바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온(4.2g)을 수득한다.
단계 3
3-[2-(4-클로로-페닐)티아졸-4-일]바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온의 제조
Figure pct00053
3-(2-클로로-아세틸)바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온(3.16g, 14.7mmol) 및 4-클로로-티오벤즈아미드(2.53g, 14.7mmol)를 톨루엔(50㎖) 중에서 함께 혼합하고 밤새 가열 환류시킨다. 이어서, 반응 혼합물을 증발시켜서 흑색 검을 수득하고 이 검을 실리카에 흡착시키고 헥산/에틸 아세테이트의 구배로 용리시키면서 플래쉬 크로마토그래피로 정제하여 3-[2-(4-클로로-페닐)티아졸-4-일]바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온(2.6g)을 수득한다.
하기 표 T1의 추가의 화합물들을 적합한 출발 재료를 사용하여 유사한 방법으로 제조한다.
양성자 NMR 스펙트럼에서 하나 이상의 토오토머 또는 회전 이형태체(conformer)가 관찰되는 경우, 아래에 기재된 데이터는 이성질체와 이형태체의 혼합물에 대한 것이다.
표 T1
Figure pct00054
Figure pct00055
Figure pct00056
Figure pct00057
Figure pct00058
Figure pct00059
Figure pct00060
Figure pct00061
Figure pct00062
Figure pct00063
Figure pct00064
Figure pct00065
Figure pct00066
Figure pct00067
Figure pct00068
Figure pct00069
Figure pct00070
Figure pct00071
Figure pct00072
Figure pct00073
Figure pct00074
Figure pct00075
Figure pct00076
Figure pct00077
Figure pct00078
Figure pct00079
Figure pct00080
Figure pct00081
Figure pct00082

실시예 7
2,2-디메틸프로피온산 3-[2-(4-클로로-페닐)-5-에틸티아졸-4-일]-4-옥소바이사이클로[3.2.1]옥트-2-엔-2-일 에스테르의 제조
Figure pct00083
디클로로메탄(5㎖) 및 트리에틸아민(140㎕, 1mmol) 중의 3-[2-(4-클로로페닐)-5-에틸티아졸-4-일]바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온(100㎎, 0.28mmol)의 용액에 피발로일 클로라이드(123㎕, 1mmol)를 실온에서 첨가한다. 반응 혼합물을 실온에서 밤새 교반한다. 조 반응 혼합물에 실리카겔을 첨가하고, 용매를 감압하에 증발시키고 잔류물을 실리카겔 상에서 플래쉬 크로마토그래피로 정제하여 2,2-디메틸프로피온산 3-[2-(4-클로로페닐)-5-에틸티아졸-4-일]-4-옥소바이사이클로[3.2.1]옥트-2-엔-2-일 에스테르(101㎎)를 수득한다.
하기 표 P1의 추가의 화합물들을 적합한 출발 재료를 사용하여 유사한 방법으로 제조한다.
양성자 NMR 스펙트럼에서 하나 이상의 토오토머 또는 회전 이형태체가 관찰되는 경우, 아래에 기재된 데이터는 이성질체와 이형태체의 혼합물에 대한 것이다.
표 P1
Figure pct00084
Figure pct00085
Figure pct00086
Figure pct00087
Figure pct00088
Figure pct00089
Figure pct00090

본 발명의 화합물의 특정예로는 표 1 내지 204에 기재된 화합물들이 포함된다.
표 1:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 하기 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
Figure pct00091
Figure pct00092
Figure pct00093
Figure pct00094
Figure pct00095
Figure pct00096
Figure pct00097
표 2:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH(CH3), G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 3:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 C(CH3)2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 4:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 5:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 6:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 7:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 8:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 9:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 10:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 11:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 12:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 13:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 14:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 15:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 16:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 -CH2CH2-, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 17:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 -CH2-CH2-, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 18:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 19:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 CH(CH3), G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 20:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 C(CH3)2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 21:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 22:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 23:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 24:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 25:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 26:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 27:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 28:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 29:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 30:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 31:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 32:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 33:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 -CH2CH2-, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 34:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 -CH2-CH2-, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 35:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
Figure pct00098
표 36:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH(CH3), G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 37:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 C(CH3)2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 38:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 39:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 40:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 41:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 42:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 43:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 44:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 45:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 46:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 47:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 48:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 49:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 50:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 -CH2CH2-, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 51:
이 표는, X가 S, Z가 C-H, D가 -CH2-CH2-, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 52:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 53:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 CH(CH3), G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 54:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 C(CH3)2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 55:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 56:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 57:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 58:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 59:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 60:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 61:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 62:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 63:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 64:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 65:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 66:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 67:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 -CH2CH2-, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 68:
이 표는, X가 S, Z가 N, D가 -CH2-CH2-, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 69:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 T1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
Figure pct00099
표 70:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH(CH3), G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 71:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 C(CH3)2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 72:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 73:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 74:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 75:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 76:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 77:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 78:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 79:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 80:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 81:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 82:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 83:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 84:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 -CH2CH2-, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 85:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 -CH2-CH2-, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 86:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 87:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 CH(CH3), G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 88:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 C(CH3)2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 89:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 90:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 91:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 92:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 93:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 94:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 95:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 96:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 97:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 98:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 99:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 100:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 101:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 -CH2CH2-, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 102:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 -CH2-CH2-, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 103:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
Figure pct00100
표 104:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH(CH3), G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 105:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 C(CH3)2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 106:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 107:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 108:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 109:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 110:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 111:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 112:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 113:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 114:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 115:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 116:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 117:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 118:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 -CH2CH2-, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 119:
이 표는, X가 Se, Z가 C-H, D가 -CH2-CH2-, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 120:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 121:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 CH(CH3), G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 122:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 C(CH3)2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 123:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 124:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 125:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 126:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 127:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 128:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 129:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 130:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 131:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 132:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 133:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 134:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 135:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 -CH2CH2-, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 136:
이 표는, X가 Se, Z가 N, D가 -CH2-CH2-, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 137:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 T1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
Figure pct00101
표 138:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH(CH3), G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 139:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 C(CH3)2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 140:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 141:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 142:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 143:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 144:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 145:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 146:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 147:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 148:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 149:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 150:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 151:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 152:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 -CH2CH2-, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 153:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 -CH2-CH2-, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 154:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 155:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 CH(CH3), G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 156:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 C(CH3)2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 157:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 158:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 159:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 160:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 161:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 162:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 163:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 164:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 165:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 166:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 167:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 168:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 169:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 -CH2CH2-, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 170:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 -CH2-CH2-, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-1의 화합물 180종을 포함한다.
표 171:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
Figure pct00102
표 172:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH(CH3), G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 173:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 C(CH3)2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 174:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 175:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 176:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 177:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 178:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 179:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 180:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 181:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 182:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 183:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 184:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 185:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 186:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 -CH2CH2-, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 187:
이 표는, X가 O, Z가 C-H, D가 -CH2-CH2-, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 188:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 189:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 CH(CH3), G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 190:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 C(CH3)2, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 191:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 192:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 CH2, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 193:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 194:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 195:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 196:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 197:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 198:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 수소, R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 199:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 200:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 CH2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 메틸, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 201:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 202:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 C(CH3)2, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1이 메틸, R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 203:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 -CH2CH2-, E가 -CH=CH-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
표 204:
이 표는, X가 O, Z가 N, D가 -CH2-CH2-, E가 -CH2-CH2-, G가 수소, R1 및 R2가 수소, 및 R3 및 R4가 표 1에 정의된 바와 같은 화학식 T-2의 화합물 180종을 포함한다.
생물학적 실시예
실시예 A
다양한 시험 종의 종자들을 단지 안의 표준 토양에 뿌린다. 온실 내에서 조절된 조건하에 1일간 경작한 후(발아전) 또는 10일간 경작한 후(발아후), 10.6% Emulsogen EL(등록 번호 61791-12-6), 42.2% N-메틸 피롤리돈, 42.2% 디프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르(등록 번호 34590-94-8) 및 0.2% X-77(등록 번호 11097-66-8)을 함유하는 0.6㎖ 아세톤 및 45㎖ 제형 용액 중의 기술적 활성 성분의 제형으로부터 얻은 수성 분무 용액을 식물에 분무한다. 그런 다음 시험 식물을 온실 안에서 최적의 조건하에 성장시킨다. 발아후에 대해서는 14 또는 15일 후, 발아전에 대해서는 19 또는 20일 후 시험을 평가한다(100 = 식물에 대해 완전한 손상을 나타냄; 0 = 식물에 대해 손상을 나타내지 않음).
시험 식물:
알로페쿠루스 미오수로이데스(Alopecurus myosuroides, ALOMY), 아베나 파투아(Avena fatua, AVEFA), 롤리움 페렌네(Lolium perenne, LOLPE), 세타리아 파베리(Setaria faberi, SETFA), 디지타리아 산구이날리스(Digitaria sanguinalis, DIGSA), 에키노클로아 크루스-갈리(Echinochloa crus-galli, ECHCG)
발아전 활성
Figure pct00103
발아후 활성
Figure pct00104
실시예 B
다양한 시험 종의 종자들을 단지 안의 표준 토양에 뿌린다. 온실 내에서 조절된 조건(24/16℃, 주간/야간; 14시간 광; 65% 습도)하에 1일간 경작한 후(발아전) 또는 8일간 경작한 후(발아후), 0.5% Tween 20(폴리옥시에틸렌 소르비탄 모노라우레이트, CAS RN 9005-64-5)을 함유하는 아세톤/물(50:50) 용액 중의 기술적 활성 성분의 제형으로부터 얻은 수성 분무 용액을 식물에 분무한다. 그런 다음 시험 식물을 온실 안에서 조절된 조건(24/16℃, 주간/야간; 14시간 광; 65% 습도)하에 성장시키고 하루에 두 번 물을 준다. 13일 후 발아전 및 발아후에 대해 시험을 평가한다(100 = 식물에 대해 완전한 손상을 나타냄; 0 = 식물에 대해 손상을 나타내지 않음).
시험 식물:
알로페쿠루스 미오수로이데스(Alopecurus myosuroides, ALOMY), 아베나 파투아(Avena fatua, AVEFA), 세타리아 파베리(Setaria faberi, SETFA), 에키노클로아 크루스-갈리(Echinochloa crus-galli, ECHCG), 솔라눔 니그룸(Solanum nigrum, SOLNI) 및 아마란투스 레트로플렉수스(Amaranthus retroflexus, AMARE)
발아전 활성
Figure pct00105
Figure pct00106
Figure pct00107
발아후 활성
Figure pct00108
Figure pct00109
Figure pct00110
Figure pct00111
Figure pct00112

Claims (15)

  1. 화학식 I의 화합물.
    화학식 I
    Figure pct00113

    위 화학식 I에서,
    R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, C1-C6알킬, C2-C6알케닐, C2-C6알키닐, C1-C6할로알킬, C2-C6할로알케닐, C1-C6알콕시, C3-C6알케닐옥시, C3-C6할로알케닐옥시, C3-C6알키닐옥시, C1-C4알콕시C1-C4알킬, C1-C4알콕시C1-C4알콕시, C1-C4알콕시C1-C4알콕시C1-C4알킬, C1-C6알킬티오, C1-C4알킬티오C1-C4알킬, C1-C4알킬설피닐, C1-C4알킬설피닐C1-C4알킬, C1-C4알킬설포닐, C1-C4알킬설포닐C1-C4알킬, 하이드록시-C1-C4알킬, C1-C6할로알콕시C1-C4알킬, C3-C6알케닐옥시C1-C4알킬, C3-C6할로알케닐옥시C1-C4알킬, C3-C6알키닐옥시C1-C4알킬, C1-C6시아노알킬, C1-C6시아노알콕시, C1-C4시아노알콕시C1-C4알킬, 하이드록시, C1-C6알킬카보닐, 카복시, C1-C6알콕시카보닐, C1-C6알킬아미노카보닐, 디-C1-C6알킬아미노카보닐, 트리(C1-C4알킬)실릴 또는 트리(C1-C4알킬)실릴옥시이고,
    D는 임의로 치환된 C1-C3알킬렌이고,
    E는 임의로 치환된 C1-C3알킬렌 또는 임의로 치환된 C2-C3알케닐렌이고,
    Het는 임의로 치환된 모노사이클릭 또는 바이사이클릭 헤테로방향족 고리이고,
    G는 수소, 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 설포늄, 암모늄 또는 잠복 그룹이다.
  2. 제1항에 있어서, R1이 수소, C1-C4 알킬 또는 C1-C4알콕시인 화합물.
  3. 제1항에 있어서, R2가 수소 또는 메틸인 화합물.
  4. 제1항에 있어서, D가 C1-C2알킬렌이거나, C1-C3알킬 또는 C1-C3알콕시C1-C3알킬에 의해 치환된 C1-C2알킬렌인 화합물.
  5. 제1항에 있어서, E가 임의로 치환된 C1-C2알킬렌 또는 임의로 치환된 C2알케닐렌인 화합물.
  6. 제1항에 있어서, Het가 임의로 치환된 모노사이클릭 5 또는 6원의 질소 또는 황 함유 헤테로방향족 고리인 화합물.
  7. 제6항에 있어서, Het가 다음 화학식 R1 내지 R12의 그룹인 화합물:
    Figure pct00114

    위 화학식들에서,
    A는 케토에놀 잔기에의 결합점을 나타내고,
    W1은 N 또는 CR6이고,
    W2 및 W3는 서로 독립적으로 N 또는 CR4이고,
    W4는 N 또는 CR7이고,
    단, W1, W2, W3 또는 W4 중 적어도 하나는 N이고,
    X는 O, S, Se, 또는 NR9이고,
    Z는 N 또는 CR10이고,
    R3는 수소, 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4할로알킬, C3-C6사이클로알킬, C3-C6-할로사이클로알킬, C2-C4알케닐, C2-C4할로알케닐, C2-C4알키닐, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4알킬티오, C1-C4알킬설피닐, C1-C4알킬설포닐, 니트로 또는 시아노이고,
    R4는 수소, C1-C6알킬, C1-C6할로알킬, C2-C6알케닐, C2-C6할로알케닐, C2-C6알키닐, C3-C6사이클로알킬, C5-C6사이클로알케닐, 할로겐, C1-C6알콕시, C1-C6알콕시-C1-C6알킬, C1-C6할로알콕시, 임의로 치환된 아릴, 임의로 치환된 아릴옥시, 임의로 치환된 헤테로아릴 또는 임의로 치환된 헤테로아릴옥시이고,
    R5는 수소, C1-C4알킬, C2-C3알케닐, C2-C3알키닐, C1-C4할로알킬 또는 C2-C3할로알케닐, 바람직하게는 메틸 또는 에틸이고,
    R6는 수소, 메틸, 할로메틸 또는 할로겐이고,
    R7은 수소, 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4할로알킬, C2-C4알케닐, C2-C4할로알케닐, C2-C4알키닐, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4알킬티오, C1-C4알킬설피닐, C1-C4알킬설포닐 또는 시아노이고,
    R8은 수소, 메틸, 에틸, 할로메틸, 할로에틸, 임의로 치환된 아릴 또는 임의로 치환된 헤테로아릴이고,
    R9은 수소, 메틸, 에틸 또는 할로메틸이고,
    R10은 수소, 메틸, 에틸, 할로메틸, 할로에틸, 할로겐, 시아노 또는 니트로이다.
  8. 제7항에 있어서, Het가 화학식 R2의 그룹인 화합물.
    Figure pct00115

    위 화학식에서,
    X는 황이고, Z는 질소 또는 CR10이고, R3, R4 및 R10은 제13항에 기재된 의미를 갖는다.
  9. 화학식 (H)(여기서, R1, R2, E 및 D는 제1항에 기재된 의미를 갖고, R4는 수소, C1-C6알킬, C1-C6할로알킬, C2-C6알케닐, C2-C6할로알케닐, C2-C6알키닐, C3-C6사이클로알킬, C5-C6사이클로알케닐, 할로겐, C1-C6알콕시, C1-C6알콕시-C1-C6알킬, C1-C6할로알콕시, 임의로 치환된 아릴, 임의로 치환된 아릴옥시, 임의로 치환된 헤테로아릴 또는 임의로 치환된 헤테로아릴옥시이다)의 화합물을 임의로 적합한 용매의 존재하에 임의로 마이크로파 조사하에 화학식 (G)의 화합물{이 화합물은 G가 수소이고 Het가 (R2)(여기서, R3은 CH2R"이고 R"는 수소, 알킬 또는 할로게노알킬이다)인 화학식 I의 화합물이다}로 열적 재배열시킴을 포함하여, G가 수소인 화학식 I의 화합물을 제조하는 방법.
    Figure pct00116
  10. 화학식 (K)(여기서, R1, R2, E 및 D는 제1항에 기재된 의미를 갖고, R4는 수소, C1-C6알킬, C1-C6할로알킬, C2-C6알케닐, C2-C6할로알케닐, C2-C6알키닐, C3-C6사이클로알킬, C5-C6사이클로알케닐, 할로겐, C1-C6알콕시, C1-C6알콕시-C1-C6알킬, C1-C6할로알콕시, 임의로 치환된 아릴, 임의로 치환된 아릴옥시, 임의로 치환된 헤테로아릴 또는 임의로 치환된 헤테로아릴옥시이다)의 화합물을 임의로 적합한 용매의 존재하에 임의로 마이크로파 조사하에 화학식 (J)의 화합물{이 화합물은 G가 수소이고 Het가 (R3)(여기서, R3는 CH2R"이고 R"는 수소, 알킬 또는 할로게노알킬이다)인 화학식 I의 화합물이다}로 열적 재배열시킴을 포함하는, G가 수소인 화학식 I의 화합물을 제조하는 방법.
    Figure pct00117
  11. 제초 유효량의 화학식 I의 화합물 또는 이러한 화합물을 포함하는 조성물을 식물 또는 이의 서식지에 시용함을 포함하는, 유용 식물의 작물에서의 풀 및 잡초의 방제 방법.
  12. 제형 보조제 이외에 제초 유효량의 화학식 I의 화합물을 포함하는 제초제 조성물.
  13. 제12항에 있어서, 화학식 I의 화합물 이외에 혼합 파트너로서 추가의 제초제를 포함하는 조성물.
  14. 제12항에 있어서, 화학식 I의 화합물 이외에 약해 경감제를 포함하는 조성물.
  15. 제12항에 있어서, 화학식 I의 화합물 이외에 혼합 파트너로서의 추가의 제초제 및 약해 경감제를 포함하는 조성물.
KR1020107002347A 2007-08-01 2008-07-30 신규한 제초제 KR20100040902A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB0714981.8 2007-08-01
GBGB0714981.8A GB0714981D0 (en) 2007-08-01 2007-08-01 Novel herbicides

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20100040902A true KR20100040902A (ko) 2010-04-21

Family

ID=38529114

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020107002347A KR20100040902A (ko) 2007-08-01 2008-07-30 신규한 제초제

Country Status (22)

Country Link
US (1) US8598365B2 (ko)
EP (1) EP2176222B1 (ko)
JP (1) JP5296789B2 (ko)
KR (1) KR20100040902A (ko)
CN (1) CN101801928B (ko)
AP (1) AP2010005128A0 (ko)
AR (1) AR067756A1 (ko)
AU (1) AU2008282081B2 (ko)
CA (1) CA2693190C (ko)
CL (1) CL2008002260A1 (ko)
CO (1) CO6290759A2 (ko)
EA (1) EA021065B1 (ko)
EC (1) ECSP109920A (ko)
GB (1) GB0714981D0 (ko)
MA (1) MA31623B1 (ko)
MX (1) MX2010001093A (ko)
MY (1) MY152030A (ko)
TN (1) TN2010000045A1 (ko)
TW (1) TW200922473A (ko)
UA (1) UA101811C2 (ko)
WO (1) WO2009015877A1 (ko)
ZA (1) ZA201000194B (ko)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SA07280691B1 (ar) * 2006-12-14 2010-11-02 سينجنتا بارتسبيشنز ايه جي مركبات جديدة من 4- باي فينيل- بيران -3،5-دايون وإستخدامها كمبيدات أعشاب
GB0710223D0 (en) * 2007-05-29 2007-07-11 Syngenta Ltd Novel Herbicides
GB0712653D0 (en) * 2007-06-28 2007-08-08 Syngenta Ltd Novel herbicides
CN101918386B (zh) * 2007-12-13 2013-11-13 辛根塔有限公司 用作除草剂的4-苯基吡喃-3,5-二酮、4-苯基噻喃-3,5-二酮和2-苯基环己-1,3,5-三酮
GB0900641D0 (en) 2009-01-15 2009-02-25 Syngenta Ltd Novel herbicides
GB0901086D0 (en) 2009-01-22 2009-03-11 Syngenta Ltd Novel herbicides
GB0901834D0 (en) 2009-02-04 2009-03-11 Syngenta Ltd Novel herbicides
GB0901835D0 (en) 2009-02-04 2009-03-11 Syngenta Ltd Novel herbicides
EP2459547B1 (en) 2009-07-31 2016-04-20 Syngenta Limited Herbicidally active heteroaryl-substituted cyclic diones or derivatives thereof
CA2855948C (en) 2011-08-11 2020-07-28 Bayer Cropscience Ag 1,2,4-triazolyl-substituted keto-enols
AR091901A1 (es) 2012-07-25 2015-03-11 Amvac Chemical Corp Composiciones herbicidas dispersables y metodos de uso de las mismas
CN116041167B (zh) * 2023-01-28 2023-07-07 山东潍坊润丰化工股份有限公司 双环酮类化合物及其制备方法、双环[3.2.1]-3-辛烷-2,4-二酮的制备方法

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4209532A (en) 1977-03-28 1980-06-24 Union Carbide Corporation Biocidal 2-aryl-1,3-cyclohexane dione compounds and alkali metal and ammonium salts thereof
US4659372A (en) 1977-03-28 1987-04-21 Union Carbide Corporation Biocidal 2-aryl-1,3-cyclohexanedione enol ester compounds
US4175135A (en) 1978-07-18 1979-11-20 Union Carbide Corporation Method of controlling acarina ectoparasites on warmblooded animals by orally administering to the animal an ectoparasitically effective amount of a 2-aryl-1,3-cyclohexanedione compound, and alkali metal salts, ammonium salts and enol esters thereof
US4526723A (en) 1978-09-27 1985-07-02 Union Carbide Corporation Biocidal enol esters of non-ortho substituted 2-aryl-1-3-cycloalkanedione compounds
US4409153A (en) 1980-03-28 1983-10-11 Union Carbide Corporation O-(2-Aryl-3-oxo-1-cyclohexenyl) phosphates
US4678501A (en) 1981-07-30 1987-07-07 Union Carbide Corporation Certain pyrazinyl 1,3 cycloalkanedione derivatives having herbicidal activity
US4489012A (en) 1982-02-23 1984-12-18 Union Carbide Corporation Enol-phosphorous esters of 2-aryl-1,3-cycloalkanediones compounds
DK184489A (da) 1988-04-18 1989-10-19 Sandoz Ag Bicyclodioner
BR9508247B1 (pt) 1994-07-07 2011-02-22 derivados de 2-arilciclopentano-1,3-dionas, processo para sua preparação; composições para o controle de pragas, e herbicidas; usos dos referidos derivados; e método para o controle de pragas animais e vegetação indesejada.
US5807805A (en) 1994-11-17 1998-09-15 Bayer Aktiengesellschaft Substituted thiophene derivatives as pesticides and herbicides
DE19808261A1 (de) 1998-02-27 1999-10-28 Bayer Ag Arylphenylsubstituierte cyclische Ketoenole
DE19813354A1 (de) 1998-03-26 1999-09-30 Bayer Ag Arylphenylsubstituierte cyclische Ketoenole
ES2244214T3 (es) 1998-09-15 2005-12-01 Syngenta Participations Ag Piridincetonas utiles como herbicidas.
BR9916396A (pt) 1998-12-21 2001-09-11 Syngenta Participations Ag Herbicidas
RU2269537C2 (ru) 1999-09-07 2006-02-10 Зингента Партисипейшнс Аг Фенилзамещенные гетероциклические 1,3-кетоенолы, способ их получения, гербицидное средство на их основе и способ борьбы с ростом нежелательной растительности
DE10016544A1 (de) 2000-04-03 2001-10-11 Bayer Ag C2-phenylsubstituierte Ketoenole
DE10118310A1 (de) * 2001-04-12 2002-10-17 Bayer Ag Hetarylsubstituierte carbocyclische 1,3-Dione
DE10139465A1 (de) 2001-08-10 2003-02-20 Bayer Cropscience Ag Selektive Herbizide auf Basis von substituierten, cayclischen Ketoenolen und Safenern
DE10152005A1 (de) 2001-10-22 2003-04-30 Bayer Cropscience Ag Pyrazolylsubstituierte Heterocyclen
GT200300290A (es) * 2002-12-30 2004-10-13 Herbicidas novedosos
DE10326386A1 (de) 2003-06-12 2004-12-30 Bayer Cropscience Ag N-Heterocyclyl-phenylsubstituierte cyclische Ketoenole
WO2005058831A1 (en) 2003-12-12 2005-06-30 Syngenta Participations Ag Novel herbicides
WO2005123667A1 (en) 2004-06-22 2005-12-29 Syngenta Participations Ag Substituted bicyclooctenes and their use as herbicides
SA07280691B1 (ar) 2006-12-14 2010-11-02 سينجنتا بارتسبيشنز ايه جي مركبات جديدة من 4- باي فينيل- بيران -3،5-دايون وإستخدامها كمبيدات أعشاب
GB0704653D0 (en) 2007-03-09 2007-04-18 Syngenta Participations Ag Novel herbicides
GB0710223D0 (en) 2007-05-29 2007-07-11 Syngenta Ltd Novel Herbicides
GB0712653D0 (en) 2007-06-28 2007-08-08 Syngenta Ltd Novel herbicides
CL2008003785A1 (es) 2007-12-21 2009-10-09 Du Pont Compuestos derivados de piridazina; composiciones herbicidas que comprenden a dichos compuestos; y método para controlar el crecimiento de la vegetación indeseada.

Also Published As

Publication number Publication date
JP5296789B2 (ja) 2013-09-25
WO2009015877A1 (en) 2009-02-05
ECSP109920A (es) 2010-02-26
AU2008282081A1 (en) 2009-02-05
AU2008282081B2 (en) 2013-11-28
CN101801928A (zh) 2010-08-11
TW200922473A (en) 2009-06-01
CO6290759A2 (es) 2011-06-20
ZA201000194B (en) 2011-06-29
GB0714981D0 (en) 2007-09-12
EA201000258A1 (ru) 2010-08-30
AP2010005128A0 (en) 2010-02-28
AR067756A1 (es) 2009-10-21
CN101801928B (zh) 2012-12-05
US8598365B2 (en) 2013-12-03
CA2693190A1 (en) 2009-02-05
EA021065B1 (ru) 2015-03-31
CL2008002260A1 (es) 2009-07-17
MY152030A (en) 2014-08-15
JP2010534696A (ja) 2010-11-11
MX2010001093A (es) 2010-03-01
US20120040826A1 (en) 2012-02-16
CA2693190C (en) 2015-05-05
MA31623B1 (fr) 2010-08-02
EP2176222B1 (en) 2014-11-05
UA101811C2 (en) 2013-05-13
EP2176222A1 (en) 2010-04-21
TN2010000045A1 (en) 2011-09-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20100040902A (ko) 신규한 제초제
CA2687202C (en) Herbicidally active bicyclic 1,3-dione compounds
KR20090088960A (ko) 신규한 제초제로서의 4-페닐-피란-3,5-디온, 4-페닐-티오피란-3,5-디온 및 사이클로헥산트리온
KR20090119931A (ko) 신규한 제초제
JP5426542B2 (ja) 新規除草剤
KR20100061718A (ko) 신규한 제초제
AU2010277350B2 (en) Herbicidally active heteroaryl-substituted cyclic diones or derivatives thereof
AU2014200836A1 (en) Novel herbicides

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right