TW200849518A - Electronic component module and method of manufacturing the same - Google Patents

Description

200849518 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種電子組件模組，具有：至少一多層式 陶瓷電路載體；以及一冷卻裝置，其具有至少一冷卻體。 此外，本發明亦涉及此種電子組件模組之製造方法。 【先前技術】 具有多層式電路載體之電子組件模組已爲人所知，其 例如可藉由低溫共燒陶瓷（LTCC)來製成，這是一種由多個 單一層來製造陶瓷式電路載體用的有效率的技術。爲了形 成電性通孔，未燒結的陶瓷生胚薄片藉由沖製而設有開 口，各開口中以導電性的糊塡入且各箔在其表面上以絲網 印刷法而設有平坦的導線結構。眾多的單一層最後可互相 形成積層且在較低的溫度下燒結。此種過程可提供多層埋 入式佈局結構，其可用於被動式積體電路元件中。此外， 可設計多種佈局結構，其具有很良好的高頻特性，可氣密 地密封著且具有良好的耐熱性。藉由這些特性，則LTCC 技術適合用在不利的環境中，例如，可用於行動無線電和 雷達領域的高頻技術的感測器中，且亦可用在電力電子元 件中，例如，可用在車輛電子元件，傳動器和馬達控制器 中。然而，熱學上要求較高的各種應用通常會受到上述材 料之較差的導熱性所限制，上述材料之導熱性典型上是2 W/m K。主動式半導體元件通常是表面安裝式構件且是上 述L T C C -模組的一部份，就此種主動式半導體元件而言， 只將L T C C -基板安裝在一冷卻體上是不夠的。如j . 200849518 S chulz-Harder e t al. : ’’Micro channel water cooled power modules”，page 1 to 6，PCIM 2000 Nuernberg 中所述，特別 是將L T C C基板焊接或黏合在一冷卻體上時是不夠的。 在標準製程中，LTCC陶瓷可與銀金屬層相容。LTCC-技術用的一般解法因此是將熱通孔（Vi as)予以整合。熱通孔 是垂直的穿孔，其中以含銀的導電糊塡入且主要是用來散 熱。以此種方式，則可達成20 W/m K之平均導熱率。在與 含有銀的箔相組合時，此平均導熱率之値在垂直方向或水 、 平方向中可達90 W/m K和150 W/m K。這已揭示在Μ· A.

Zampino e t a 1. : “LTCC substrates with internal cooling channel and heat exchanger’’， P r o c. Internet. Symp. on Microelectronics 2003， Internat. Microelectronics and Packaging Society (IM APS), 1 8.-20.1 1.2003，Boston, USA 中〇 另一種解法是將熱損耗較大的半導體積體電路（IC)， 例如，功率放大器，直接在散熱件上安裝在L T C C電路板 之凹入區中。

此外，以塡滿液體的通道之整合爲主之解法亦已爲人 所知。因此，藉由熱容量較高的液體（例如，水）之對流來 進行冷卻，這例如已揭示在上述先前技術例如J . S c h u 1 z -Harder et al·: ’’Micro channel water cooled power modules’’ 以及其它文件例如 M. A. Zampino et al.: ’’Embedded heat pipes with MCM-CT Technology，，， Pr〇c· NEPCON West 1 99 8 Conference V o 1. 2，Reed Exhibition: Norwalk，C T 200849518 USA 1 998，page 777-785, Vol. 2，（Conf. Anaheim，1· -5.03.1 998) 中。 以上述方式而達成的解法在熱傳送時不是使用該冷卻 液體的熱容量而是使用相位轉移（t r a n s i t i ο η )時的潛熱。已 描述在上述先前技術例如 M. A. Zampino et al.: “LTCC substrates with internal cooling channel and heat exchanger，， 以及 W. K. Jones e t a 1. : “Thermal management in low temperature cofire ceramic (LTCC) using high density thermal vi as and micro heat pipes/spreaders”，Pro c. Internet. S y mp. on Microelectronics 2002, Internet. Microelectronics and Packaging Society (IMAPS), 1 0.- 1 3.03.2002, Reno, USA 中。該些文件所述的” h e a t p i p e s ”依據先前技術例如可用來 冷卻緊密式電腦（例如，筆記型電腦）中的處理器。 除了上述適用於LTCC的方法之外，所謂直接之銅結 合（bond)過程亦適用於高燒結用的氧化鋁-陶瓷中且可廣泛 / 地進行加工，以便在1 1 〇〇 °C時使由已燒結的氧化鋁所構成 ^ 的電路載體直接與由銅所構成的冷卻箔相連接。這已描述 在 J. Schulz-Harder et a 1. : ’’Micro channel water cooled power modules” 和 J. Schulz-Harder et a 1. : “DBC substrate with integrated flat heat pipe”，EMPC 2005，The 15th European Microelectronics and Packaging Conference & Exhibition, 1 2. -15.06.2005, Bruegge, Belgien 中。 【發明內容】 本發明之目的是提供一種電子組件模組及其製造方 200849518 法，其中該高導熱性的基板可簡單、不昂貴地與多層之陶 瓷電路載體相連接，且使排熱性獲得改良。 上述目的藉由一種具有申請專利範圍第1項特徵的電 子組件模組及一種具有申請專利範圍第1 2項特徵的方法 來達成。 本發明的電子組件模組包括：至少一多層之陶瓷電路 載體；以及一冷卻裝置，其具有至少一冷卻體。在多層之 陶瓷電路載體和該冷卻裝置之間形成一種連接區以將該電 路載體與該冷卻裝置相連接。該連接區包括一至少在成份 上由金屬所形成的連接層和一種共晶區。特別是須形成該 連接區，以形成該至少在成份上由金屬所形成的連接層以 與一陶瓷材料（特別是該多層之陶瓷電路載體）相連接。藉 由此種構成，則可在電路載體和該冷卻裝置之間達成一種 機械上穩定的多層式連接區，其亦能以不昂貴的方式來製 成。 該共晶區較佳是配置在該連接層和金屬構成的冷卻裝 置之間。特別是在金屬構成的冷卻裝置中該共晶區可形成 一種特殊的連接。 較佳方式是使該連接區的整面形成在該電路載體和該 冷卻裝置之間。這樣可簡易、不昂貴地施加該連接區。然 而，該連接區亦可只以區域方式而形成在該電路載體和該 冷卻裝置之間。特別是可設置特殊之局部區，其上形成該 連接區。各局部區較佳是以下述方式來設定：特別是熱負 載之電子組件須與該連接區相鄰而配置在該電路載體中， 200849518 且可藉由該連接區和該冷卻裝置來達成較佳的排熱作用。 這是因爲該冷卻裝置較靠近各組件而配置著。 較佳情況是，金屬連接層至少以區域方式而施加在該 電路載體上。在該電路載體之各單一層與該冷卻裝置接合 之前，此金屬連接層以金屬糊的形式施加在該電路載體上 時特別有利。在該電路載體之各單一層接合的過程中，形 成該金屬糊以反應性地與陶瓷電路載體相連接時特別有 利。藉由此種方式，則在該電路載體之各單一層的接合過 程中可形成金屬連接層且因此可在該金屬糊和該陶瓷電路 載體之間形成穩定的連接。因此，在最後將該多層式電路 載體接合時之過程之後不須再進行”連接”之形成，而是至 少在時間上可與該過程相重疊且因此亦可在該過程之條件 下進行。於是可使製程大大地縮短且同時提高穩定性，另 外亦可使導熱性獲得改良。 該電路載體較佳是以陶瓷LTCC電路載體來形成，且 在LTCC過程中形成該連接層，以反應性地與LTCC電路 載體形成連接。 在一特別有利的方式中，在將多層式陶瓷電路載體之 各單一層予以連接的過程中，可產生該共晶區以反應性地 與該冷卻裝置形成連接。當電路載體以陶瓷LTCC電路載 體來形成且在將多層式陶瓷電路載體之各單一層予以連接 的L T C C -過程中可產生該共晶區時特別有利。陶瓷材料之 由於烘焙所造成的收縮因此可藉由與金屬中間層之連接而 被限制在垂直的尺寸上。於是，在與先前技術用來限制橫 200849518 向的收縮相比較時，電路載體可達成一種較佳的尺寸精確 性。可藉由橫向範圍之限制及/或適當的垂直層序列來考慮 金屬和陶瓷之不同的熱膨脹係數。 電路載體、該連接區和該冷卻裝置之間的連接較佳是 在溫度840°C和9 3 0 °C(特別是900°C)之間藉由一種燒結過 程來形成。此種連接因此較佳是在較低的燒結溫度9 0 0。C 時以下述方式來達成：多層式LTCC電路載體在與該冷卻 裝置之冷卻體接觸的接觸面上是以一種與LTCC相容之圖 樣來壓製，該圖樣在反應性金屬糊之過程中被整面選取或 以特定方式來選取。此種金屬糊例如可由金屬微粒（例如， 銀、金、鉑或鈀微粒）以及玻璃微粒和有機結合劑來組成。 玻璃成份可確保在該電路載體之有功能的LTCC層上的黏 合性。此外，該連接區亦可藉由共晶區來形成。該共晶區 特別是製作於冷卻體金屬之間。金屬連接層是一種至少具 有銀的LTCC絲網印刷糊時特別有利。 該冷卻體至少在一側上橫向地越過該電路載體之範 圍。除了橫向的冷卻性之外，該冷卻體之突出的此側上亦 可簡易地安裝著其它的組件模組及/或外殻。 藉由本發明的電子組件模組，則在不需額外的材料下 只藉由在金屬層和該組件模組之組件之間的金屬反應即可 在整面上達成材料的連接作用。於是，可達成一種最小可 能的熱阻。在不需移動式物質，相位邊界或相位過渡區之 情況下即可使該電子組件模組達成一種純被動式散熱。 當該電子組件模組具有多個陶瓷電路載體且各電路載 -10- 200849518 體之間形成多個冷卻裝置（特別是冷卻體）時，上述形式的 連接區特別有利。在此種形式中，由多個陶瓷電路載體形 成堆疊，電路載體之間具有積體式冷卻體。特別是在此種 複雜的系統中，藉由上述具有多個連接區的電子組件模 組，可使穩定性和功能性大大地獲得改良。此種複雜的系 統之製造亦可快很多且成本亦可大大地下降，此乃因形成 最後之整個連接區時基本上可與多層式電路載體之特定的 連接區同時形成。 此外，在陶瓷電路載體（特別是LTCC電路載體）中各埋 入式組件亦可有效地散熱。此處，例如鐵磁體和電阻可稱 爲組件。特別是亦可由於下述原因而具有其它優點：該冷 卻體亦可以積體箔來形成，特別是以銅箔來形成，且因此 亦可用作大電流的導體。 於是，同樣可達成尺寸上的相容性和最小化。 在本發明的電子組件模組的製造方法中，形成至少一 多層式陶瓷電路載體，且此多層式陶瓷電路載體與具有至 少一冷卻體的冷卻裝置相連接。此電路載體和該冷卻裝置 經由一連接區而相連接，該連接區是由一種至少在成份上 是由金屬所形成的連接層和一種共晶區來形成。該連接區 之至少二層式系統一方面可最佳化地連接至由第一材料所 形成的該電路載體，且另一方面亦可最佳化地連接至由第 二材料所形成的該冷卻裝置。此種連接除了具有穩定性以 外亦可不昂貴地被形成。 在電路載體施加至該冷卻裝置上之前，較佳是使該金 -11- 200849518 屬連接層形成在該電路載體上而成爲至少以區域、方式塗佈 之金屬糊。該共晶區較佳是形成在該金屬連接層和該冷卻 裝置之間。在電路載體、該連接層和該冷卻裝置之間形成 連接之期間中形成該共晶區時特別有利。該共晶區較佳是 由一種熔化溫度小於此製程溫度之材料化合物來形成，此 製程中電路載體、該連接層和該冷卻裝置互相連接。電路 載體、該連接層和該冷卻裝置較佳是在溫度 840°C和 9 3 0°C(特別是900° C)之間藉由燒結來互相連接。 當電路載體以陶瓷LTCC電路載體來形成，且在將陶 瓷電路板之各單一層予以連接之LTCC過程中產生該共晶 區以用來與該冷卻裝置形成反應性連接時特別有利。因 此，在陶瓷電路板之各單一層形成連接時亦可同時在其最 後的形式中產生該連接區，此時一方面形成該金屬連接層 以便在此過程中反應性地與該陶瓷電路載體形成連接，且 另一方面該共晶區在該過程中產生於該金屬連接層和該金 屬冷卻體之間。當該金屬糊且因此亦指該金屬連接層在成 份上是由銀所形成且具有微粒以及該冷卻體至少在成份上 是由銅所形成時特別有利。於是，在LTCC過程中可產生 共晶區以連接該陶瓷電路載體之各單一層，此時例如在一 種40%之銀成份下可形成一種共晶，其熔化溫度大約是 779。0。因此，在LTCC過程中在90(TC之有利的製程溫度 下可較容易地形成共晶。此外，亦可設置一種含有金微粒 的金屬糊以作爲金屬連接層，其形成一種金成份是4 3 . 5 % 之共晶且熔化溫度大約是8 8 9 ° C。 200849518 本發明以下將依據圖式來詳述。 【實施方式】 依據第1圖，電子組件模組1包括多層式陶瓷第一 LTCC電路載體2和多層式陶瓷第二LTCC電路載體3。此 二個電路載體2，3配置在一冷卻體4之相對的側面上，冷 卻體4配屬於一冷卻裝置。本實施例中，該冷卻體4因此 在該電子組件模組1中配置在該二個電路載體2，3之間。 冷卻體4在橫向（X方向）中由二側經由LTCC電路載體2, 3 之箪E圍而延伸。此外’在冷卻體4中形成鑽孔4 1和4 2 ’ 其用來與其它的組件或外殻形成固定作用，特別是以螺栓 來固定。 本實施例中，在上部的LTCC電路載體2和該由銅來 形成的冷卻體4之間形成一第一連接層5，其將該第一電 路載體2以機械性穩定的方式來與該冷卻體4相連接。以 相對應的方式，在該冷卻體4和第二LTCC電路載體3之 間同樣形成一種連接層6。此二個連接層5和6用來與掏 瓷L T C C電路載體2和3形成反應性的連接。這表示：在 將該電路載體2和3之個別的單一層相連接的L T C C過程 中，該連接層5和第一電路載體2之間、以及第二連接層 6和第二電路載體3之間亦可形成連接。 本實施例中，各連接層5和6分別以整面的形式形成 在該冷卻體4和個別的電路載體2，3之間。各連接層5和 6亦可個別地只以區域方式來形成。特別是各連接層5和6 亦可形成在一些位置上，這些位置上由於電子組件配置在 200849518 個別的電路載體2和3中而會產生大的熱量。藉由各連接 層5和6之此種以目標爲主的局部的形成方式，則可最佳 地達成散熱作用。此種散熱在本實施例中是在橫向中進行。 第1圖中，另外在金屬連接層5和該冷卻體4之間形 成第一共晶區7。又，第二共晶區8形成在第二金屬連接 層6和該冷卻體4之間。此二個共晶區7和8因此一方面 由金屬連接層5和該冷卻體4分別形成部份區域，且另一 方面由金屬連接層6和該冷卻體4來形成部份區域。 本實施例中，各金屬連接層5和6至少在成份上設有 銀微粒。該冷卻體4至少在成份上由銅所形成。於是，在 LTCC過程中形成共晶區7和8以用來連接各組件。 本實施例中，須製成圖1中所示的電子組件模組1， 使電路載體2和3之各單一層可與個別的電子組件和電性 導線一起產生。然後，一種與LTCC相容的金屬糊以整面 方式或以特別選取的圖樣而施加（特別是壓製）在電路載體 2和3之與該冷卻體4相面對的此側上。在下一 LTCC過程 中，電路載體2和3之個別的單一層互相連接，特別是互 相積層且然後進行燒結，隨後亦可產生個別的連接區，其 中第一連接區包括金屬連接層5和共晶區7，且第二連接 區包括金屬連接區6和共晶區8。電路載體2和3之燒結 是在90 0 °C時進行。此過程中亦形成連接區，此時會在連 接層5和該陶瓷電路載體2之間形成一種反應性的連接， 且在電路載體3和金屬連接層6之間形成一種反應性的連 接。此外，在LTCC過程中亦會在金屬連接層5和冷卻體4 -14- 200849518 之間產生一種反應性的連接，且因此形成一種共晶區7。 以相對應的方式，亦可形成共晶區8。 由於本實施例中所選取的材料’則銀銅系統可形成共 晶區7和8。第2圖中顯示此種銀銅系統之相位圖，其中 例如以40%之銀成份在大約779。0之熔合溫度時形成一種 共晶’因此可在900°C之製程溫度下在燒結時容易地形成 該共晶。 【圖式簡單說明】 第1圖 本發明之電子組件模組之一實施例的切面 圖。 第2圖 該電子組件之連接區之共晶區用的銀銅系統 之相位圖。 【主要元 件之 符 號 說 明 ] 1 電 子 組 件 模 組 2 多 層 式 陶 瓷 第- “ L T C C電路 載 體 3 多 層 式 陶 瓷 第二 :L T C C電路 載 體 4 冷 卻 體 5、6 連 接 層 7 > 8 共 晶 區 41、4 2 鑽 孔

Claims (1)

1. 200849518 十、申請專利範圍： 1 .一種電子組件模組，包括：至少一陶瓷電路載體（2，3); 以及一冷卻裝置，其具有至少一冷卻體（4)， 此電子組件模組之特徵爲：在陶瓷電路載體（2 ’ 3 ) 和該冷卻裝置（4)之間形成一種連接區（5，7 ; 6，8)以將 該電路載體（2，3)與該冷卻裝置（4)相連接，該連接區（5 ’ 7 ; 6，8)包括一至少在成份上由金屬所形成的連接層（5 ’ 6)和一種共晶區（7，8)。 (- " 2 .如申請專利範圍第1項之電子組件模組，其中該共晶區 (7, 8)配置在該連接層（5, 6)和該金屬式冷卻裝置（4)之間。 3 .如申請專利範圍第1或2項之電子組件模組，其中該連 接區（5，7; 6，8)整面形成在該電路載體（2，3)和該冷卻 裝置（4)之間。 4 .如申請專利範圍第1至3項中任一項之電子組件模組， 其中該金屬連接層（5，6)以金屬糊的形式在該電路載體之 各單一層與該冷卻裝置相接合之前至少以區域方式施加 在該電路載體（2，3)上。 5 .如申請專利範圍第1至4項中任一項之電子組件模組， 其中該電路載體形成陶瓷LTCC電路載體（2，3)。 6 ·如申請專利範圍第1至5項中任一項之電子組件模組， 其中該電路載體形成陶瓷LTCC電路載體（2，3)且在將該 陶瓷電路載體（2, 3)之單一層予以連接之LTCC過程中可 產生共晶區（7，8)以與該冷卻裝置（4)形成反應性的連接。 7 .如申請專利範圍第1至6項中任一項之電子組件模組， -16- 200849518 其中該冷卻體（4)至少在一側上橫向地經由該電路載體 (2，3 )之範圍而延伸。 8 ·如申g靑專利範圍弟1至7項中任一'項之電子組件模組， 其中該電路載體（2，3)、該連接區（5，7 ; 6，8)和該冷卻 裝置（4 )之間的連接是在溫度介於8 4 0。C和9 3 0。C (特別是; 900°C)之間時藉由燒結過程而形成。 9 · 一種電子組件模組（1 )之製造方法，此電子組件模組中形 成至少一多層式陶瓷電路載體（2，3 )，且此電子組件模組 具有一冷卻裝置，其具有至少一冷卻體（4)， 此製造方法之特徵爲：該電路載體（2，3 )和該冷卻裝 置（4)藉由一種連接區（5，7; 6，8)而相連接，該連接區 (5，7 ; 6，8)藉由一種用來與一陶瓷材料形成連接且至少 在成份上由金屬所形成的連接層（5，6)和一種共晶區（7, 8)所形成。 1 0 ·如申請專利範圍第9項之製造方法，其中在將該電路載 體（2，3)之各單一層予以連接的過程之前，一種金屬糊施 加在該電路載體（2，3 )及/或該冷卻裝置（4)上，且因此在 將該電路載體（2, 3)之各單一層予以連接的過程中形成該 金屬連接層（5，6)。 1 1 .如申請專利範圍第9或1 0項之製造方法，其中該共晶區 (7，8)形成在該金屬連接層（5，6)和該冷卻裝置（4)之間。 1 2 ·如申請專利範圍第9至1 1項中任一項之製造方法，其中 該共晶區（7，8)在連接期間形成在電路載體（2，3)、該連 接層（5，6)和該冷卻裝置（4)之間。 200849518 1 3 ·如申請專利範圍第1 2項之製造方法，其中該共晶區（7， 8)在較一製程溫度還低之熔合溫度時藉由一種材料連接 來形成，該製程溫度中該電路載體（2，3 )、該連接層（5， 6)和該冷卻裝置（4)互相連接。 1 4 ·如申請專利範圍第1 2或1 3項之製造方法，其中該電路 載體（2，3)、該連接層（5，6)和該冷卻裝置（4)在溫度介於 840°C和93 0°C(特別是900°C)之間藉由燒結而相連接。 1 5 ·如申請專利範圍第9至1 4項中任一項之製造方法，其中 該電路載體以陶瓷LTCC電路載體（2，3)來形成，且在將 該連接層（5，6)和該冷卻裝置（4)之間的陶瓷電路載體 (2，3)之各單一層予以連接之 LTCC過程中產生共晶區 (7，8)以與該冷卻裝置（4)形成反應性的連接。 1 6 .如申請專利範圍第1 2至1 5項中任一項之製造方法，其 中該連接層（5，6)至少在成份上是由玻璃所形成，特別是 藉由絲網印刷法來施加而成且然後進行溫度處理。