JP3885169B2 - 半導体装置製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体装置製造方法に関し、例えば回路基板間に介挿されている層間部内にベアチップが内蔵された半導体装置を製造する半導体装置製造方法に適用して好適なものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、図6に示すように、半導体装置製造方法においては、まず、ベアチップ実装用基板1上に実装されたベアチップ2の厚みよりも僅かに大きい厚みを有するプリプレグ3を選定し、当該プリプレグ3に対してルータ加工を施すことによりプリプレグ3の一部を除去して貫通孔4を形成する。
【0003】
次いで、ベアチップ実装用基板1に実装されたベアチップ2へプリプレグ3の貫通孔4を挿通させてベアチップ実装用基板1上にプリプレグ3を積層した後に積層用基板5を積層することにより、当該プリプレグ3の貫通孔4によってほぼベアチップ2の体積に応じた空間v1を形成する。
【0004】
最後に、プリプレグ3を加熱することにより熱硬化性特性を有するプリプレグ3の硬化によってベアチップ2を気密性を保って覆うと共に、ベアチップ実装用基板3と積層用基板5とを一体接続して半導体装置6を製造する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、かかる半導体装置製造方法においては、例えば図6との対応部分に同一符号を付して示す図7のように、ベアチップ2に加えて当該ベアチップ2の厚みよりも小さい厚みを有するベアチップ7がベアチップ実装用基板1に実装されている場合、ベアチップ7の厚みに応じた被包空間8をプリプレグ3に形成することが技術的に困難であるため、当該被包空間8を含む貫通孔4と同様の貫通孔9を形成する。
【0006】
しかしながらこの場合、半導体装置製造方法においては、ベアチップ実装用基板1上にプリプレグ3及び積層用基板5を順次積層すると、当該プリプレグ3の貫通孔9によってベアチップ7の天面7Aから積層用基板5の一面5Aまでの距離cirが大きい空間v2が形成される。
【0007】
従ってプリプレグ3を加熱した際には、ベアチップ2については気密性を保って覆うことができるものの、ベアチップ7については気密性を保って覆うことができず、その結果、ベアチップ2及び7周面の凹凸によって半導体装置10全体として反りのばらつき度が大幅に増大してしまうという問題があった。
【0008】
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、反りのばらつき度を低減し得る半導体装置製造方法を提案しようとするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するため本発明においては、所定のプリント基板の一面から当該一面に実装された複数の表面実装部品の表面までの実装高のうち、最も小さい最小実装高以下の厚みを有するシート状の熱硬化樹脂を選定し、当該実装高のうち最も大きい最大実装高を満たすn枚の熱硬化樹脂に対して、当該n枚の熱硬化樹脂をプリント基板の一面へ順次積層する際の各層における複数の表面実装部品に対応した貫通孔を熱硬化樹脂の厚み方向に穿設して第1層から第n層の積層用熱硬化樹脂を形成し、貫通孔に複数の表面実装部品を挿通した状態で第1層から第n層の積層用熱硬化樹脂をプリント基板の一面へ順次積層すると共に、第n層の積層用熱硬化樹脂の貫通孔を閉塞する閉塞用部材を載置することにより、複数の表面実装部品の表面から当該表面上の積層用熱硬化樹脂又は閉塞用部材までの距離が最小実装高以下となる空間を形成するようにした。
【0010】
従って本発明においては、複数の表面実装部品の体積に応じた空間を形成することが技術的に困難であったために最小実装高と最大実装高との差が大きいほど、複数の表面実装部品に対して当該複数の表面実装部品それぞれの表面からの距離が異なった空間を形成していた従来に比して、最小実装高以下の厚みを有する第1層から第n層の積層用熱硬化樹脂を形成して順次積層した後に閉塞用部材を載置するのみで、最小実装高と最大実装高との差に係わらず表面実装部品の表面から当該表面上の積層用熱硬化樹脂又は閉塞用部材までの距離がそれぞれ最小実装高以下にほぼ均等化された空間を容易に形成でき、これにより複数の表面実装部品それぞれを一律に密封度の高い状態で封止することができる。
【0011】
また、かかる課題を解決するため本発明においては、複数の表面実装部品のうち最薄の厚みを有する表面実装部品とほぼ同厚の熱硬化樹脂を選定するようにしたことにより、表面実装部品の表面から当該表面上の積層用熱硬化樹脂又は閉塞用部材までの距離がそれぞれ当該最薄の厚みを有する表面実装部品以下にほぼ均等化された空間を容易に形成でき、これにより複数の表面実装部品それぞれを一律に一段と密封度の高い状態で封止することができる。
【0012】
さらに、かかる課題を解決するため本発明においては、最小実装高とほぼ同厚の熱硬化樹脂を選定する前に、プリント基板の一面に実装した最薄の表面実装部品の厚みに対して、整数倍の距離を有する状態で1又は2以上の表面実装部品をプリント基板の一面に実装するようにしたことにより、最薄の表面実装部品を除く複数の表面実装部品の表面から当該表面上の積層用熱硬化樹脂又は閉塞用部材までの距離をほぼ回避することができ、これにより複数の表面実装部品それぞれを一律に一段と密封度の高い状態で封止することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下図面について、本発明の一実施の形態を詳述する。
【0014】
図1〜図5において、本発明による半導体装置60(図6(J))の製造工程を段階的に示し、第1段階(図1(A)上段)として、まず、半導体モジュール製造装置(図示せず)は、例えば半導体メモリ用のベアチップ20と、当該ベアチップ20の厚みth1よりも大きい厚みth2を有する半導体メモリ用のベアチップ21との実装面20A及び21Aにバンプ22及び23を形成する。
【0015】
次いで、半導体モジュール製造装置は、ベアチップ実装用の両面銅張板(以下、これをベアチップ実装用基板と呼ぶ)24(図1(A)下段)の一面24Aに配線25、26及び27を形成した後、ベアチップ接合用部材として微粒子内包型の異方性導電膜28及びワイヤー内包型の異方性導電膜29を配線25及び26上に載置する。
【0016】
第2段階(図1(B))として、半導体モジュール製造装置は、矢印a方向からベアチップ20及び21を熱圧着することにより、バンプ22及び異方性導電膜28を介して配線25にベアチップ20を実装(いわゆるフリップチップ実装)すると共に、バンプ23及び異方性導電膜29を介して配線26にベアチップ21をフリップチップ実装する。
【0017】
因みにベアチップ20は、異方性導電膜28内の微粒子によりバンプ22と異方性導電膜28との間における電気的接続を介してフリップチップ実装され、ベアチップ21は、異方性導電膜29内のワイヤーによりバンプ23と異方性導電膜29との間における電気的接続を介してフリップチップ実装される。
【0018】
ここで、半導体モジュール製造装置は、異方性導電膜29の厚みth3(図1(A)上段)を変更し得るようになされており、これによりベアチップ実装用積層板24の一面24Aに実装するベアチップ20及び21のうち薄い方のベアチップ20の厚みth1に対して、ベアチップ実装用積層板24の一面24Aに実装したベアチップ21の実装面21Aと対向する表面21Bまでの実装高(以下、これを最大実装高と呼ぶ)dis1が整数倍となる関係(以下、これを整数倍関係と呼ぶ)を満たすように調整し得るようになされている。
【0019】
この実施の形態の場合では、半導体モジュール製造装置は、ベアチップ20の厚みth1に対して最大実装高dis2が例えば5倍となる整数倍関係を満たすように調整する。
【0020】
従って第3段階(図1(C))として、半導体モジュール製造装置は、ベアチップ20の厚みth1とほぼ同厚th4のガラスエポキシ材質でなるシート状の5枚のプリプレグ30a〜30e選定することにより、当該選定した5枚のプリプレグ30a〜30eを合わせた際の厚みth5を最大実装高dis1とほぼ一致させ得るようになされている。
【0021】
次いで、半導体モジュール製造装置は、図2及び図3に示すように、プリプレグ30a(図1(C))に対してパンチ加工を行って、当該プリプレグ30aをベアチップ実装用基板24の一面24Aへ積層する際のベアチップ20及び21に対応した対応貫通孔31及び32と、層間接続用の仲介貫通孔33とをプリプレグ30aの厚み方向と平行に穿設することにより、一層目に積層する第1層積層用プリプレグ40aを形成する。
【0022】
そして半導体モジュール製造装置は、第1層積層用プリプレグ40aと同様にして対応貫通孔31及び32と仲介貫通孔33とをプリプレグ30b及び30c(図1(C))に対してパンチ加工を行って穿設することにより、二層目に積層する第2層積層用プリプレグ40b及び五層目に積層する第3層積層用プリプレグ40cを形成する。
【0023】
また半導体モジュール製造装置は、プリプレグ30d(図1(C))に対してパンチ加工を行って、当該プリプレグ30dをベアチップ実装用基板24の一面24Aへ積層する際のベアチップ21に対応した対応貫通孔32と、仲介貫通孔33とをプリプレグ30dの厚み方向と平行に穿設することにより、四層目に積層する第4層積層用プリプレグ40dを形成する。
【0024】
そして半導体モジュール製造装置は、第4層積層用プリプレグ40dと同様にして対応貫通孔32と仲介貫通孔33とをプリプレグ30eに対してパンチ加工を行って穿設することにより、五層目に積層する第5層積層用プリプレグ40eを形成する。
【0025】
この場合、半導体モジュール製造装置は、ルータ加工に比して加工時に高熱を必要としないパンチ加工によって対応貫通孔31及び32と仲介貫通孔33とを形成することにより、当該対応貫通孔31及び32と仲介貫通孔33との周囲におけるプリプレグ30a、30b及び30cに対する融解や硬化を極力回避した状態で第1〜第5層積層用プリプレグ40a〜40eを形成し得るようになされている。
【0026】
従って半導体モジュール製造装置は、第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40eの各層における対応貫通孔31及び32にベアチップ20及び21を挿通させてベアチップ実装用基板24の一面24Aに第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40eを積層する際に、当該第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40eの各層と、ベアチップ20及び21との干渉を回避し得るようになされている。
【0027】
第4段階(図4(D))として、半導体モジュール製造装置は、ベアチップ実装用基板24の一面24A上に第1層、第2層及び第3層積層用プリプレグ40a、40b及び40cを順次積層することにより、当該第1層及び第2層積層用プリプレグ40a、40b及び40cの対応貫通孔31によってベアチップ20の体積に応じた空間v10が形成される。
【0028】
第5段階(図4(E))として、半導体モジュール製造装置は、第3層積層用プリプレグ40c上に第4層積層用プリプレグ40dを積層して空間v10(図2(D))を閉塞することにより、ベアチップ20の表面20Bから第4層積層用プリプレグ40dまでの距離dis2をベアチップ20の厚みth1以下に抑えたベアチップ被包空間v11が形成される。
【0029】
第6段階(図4(F))として、半導体モジュール製造装置は、第4層積層用プリプレグ40d上に第5層積層用プリプレグ40eを積層することにより、第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40eの対応貫通孔31によってベアチップ21の体積に応じた空間v12が形成される。
【0030】
第7段階(図5(G))として、半導体モジュール製造装置は、第5層積層用プリプレグ40eの貫通孔32を閉塞するための薄厚の閉塞用プリプレグ36(仲介貫通孔33が形成されている)を第5層積層用プリプレグ40e上に積層して空間v12(図4(F))を閉塞することにより、ベアチップ被包空間v13が形成される。
【0031】
この場合、半導体モジュール製造装置は、第1段階(図1(A)上段)で異方性導電膜29の厚みth3を変更した後に、第2段階(図1(B))でベアチップ21を5倍となる整数倍関係を満たすように調整してフリップチップ実装していることにより、ベアチップ21の表面21Bから第5層積層用プリプレグ40eまでの距離をほぼ回避し得るようになされている。
【0032】
このように半導体モジュール製造装置は、第4段階(図4(D))から第7段階(図5(G))に渡って第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40e及び閉塞用プリプレグ36を順次積層するのみで、ベアチップ実装用基板24の一面24Aからベアチップ20及び21の表面20B及び21Bまでの距離をベアチップ20の厚みth1以下にそれぞれ均等化されたベアチップ被包空間v12及びv13を容易に形成し得るようになされている。
【0033】
従って、半導体モジュール製造装置は、第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40e及び閉塞用プリプレグ36を加熱した際には、当該第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40e及び閉塞用プリプレグ36が気密性を保ってベアチップ被包空間v12及びv13へ拡散し得るようになされている。
【0034】
第8段階(図5(H))として、半導体モジュール製造装置は、第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40e及び閉塞用プリプレグ36の仲介貫通孔33によって形成される層間接続用空間v14に対応した棒状の導電ペースト35を挿通させた後、ベアチップ実装用基板20と同形同厚でなる積層用の両面銅張板(以下、これを積層用基板と呼ぶ)37を閉塞用プリプレグ36上に載置する。
【0035】
この状態において、第9段階(図5(I))として、半導体モジュール製造装置は、第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40e及び閉塞用プリプレグ36(図5(H))を真空雰囲気中で所定温度に加熱すると、熱硬化特性を有する第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40e及び閉塞用プリプレグ36が速やかにベアチップ被包空間v12、ベアチップ被包空間v13及び層間接続用空間v13へ拡散してベアチップ20及び21それぞれを一律に密封度の高い状態で封止すると共に、ベアチップ実装用基板24と積層用基板37とを一体接続して層間部50となる。
【0036】
このとき熱溶融性を有する導電ペースト35は加熱に伴って、熱硬化特性を有する第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40eとは逆に溶融するが、当該第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40eの拡散によって導電ペースト35の表面が圧迫されながら溶融することにより、結果的に整形される。
【0037】
その後、半導体モジュール製造装置は、常圧常温に戻して導電ペースト35を硬化させることにより、ベアチップ実装用基板24と積層用基板37とを電気的及び機械的に接続し得るようになされている。
【0038】
このように半導体モジュール製造装置は、層間部50を形成する工程と同時平行してベアチップ実装用基板24と積層用基板37とを電気的及び機械的に接続し得るようになされている。
【0039】
最後に、第10段階(図5(J))として、半導体モジュール製造装置は、ベアチップ実装用基板24の他面24B及び積層用基板37の他面37Bに対して、エッチングレジスト処理及び湿式エッチング処理を順次施して所定の配線51及び52を形成することにより、半導体装置60を製造し得るようになされている。
【0040】
かかる製造工程によって製造された半導体装置60においては、ベアチップ実装用基板24の一面24Aに実装された互いに厚みの異なるベアチップ20の表面20Bから第4層積層用プリプレグ40dまでの距離disと、ベアチップ21の表面21Bから閉塞用プリプレグ36までの距離とがそれぞれベアチップ20の厚みth1以下にそれぞれほぼ均等化された状態で加熱され、当該ベアチップ20及び21それぞれを一律に密封度の高い状態で封止されていることにより、当該ベアチップ20及び21の周面における凹凸を回避することができ、その結果、全体として反りのばらつき度が大幅に低減し得るようになされている。
【0041】
以上の半導体モジュール製造方法において、まず、半導体モジュール製造装置は、ベアチップ20の厚みth1とほぼ同厚th4のガラスエポキシ材質でなるシート状の5枚のプリプレグ30a〜30e選定する(第3段階(図1(C))。
【0042】
続いて、半導体モジュール製造装置は、5枚のプリプレグ30a〜30eに対して、当該プリプレグ30a〜30eをベアチップ実装用基板24の一面24Aへ順次積層する際の各層におけるベアチップ20及び21に対応した貫通孔31及び32をプリプレグ30a〜30eの厚み方向と平行に穿設して第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40eを形成する(図2及び図3)。
【0043】
次いで、半導体モジュール製造装置は、貫通孔31及び32にベアチップ20及び21を挿通して第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40eをベアチップ実装用基板24の一面24Aへ順次積層すると共に、閉塞用プリプレグ36を載置することにより、当該ベアチップ20の表面20Bから当該表面20B上の第3層積層用プリプレグ40cまでの距離dis2がベアチップ20の厚みth1以下となるベアチップ被包空間v12と、ベアチップ21の表面21Bから当該表面21B上の閉塞用プリプレグ36までの距離をほぼ回避したベアチップ被包空間v13とを形成するようにした(第4段階(図4(D))〜第7段階(図5(G))。
【0044】
従って半導体モジュール製造装置は、図7に示したように、ベアチップ7の体積に応じた収容空間8を形成することが技術的に困難であったためにベアチップ2及び7における厚みの差が大きいほど、ベアチップ7の天面7Aから積層用基板5の一面5Aまでの距離cirが大きい空間v2を形成していた従来に比して、当該ベアチップ20の厚みth1とほぼ同厚th4の第1層〜第5層の積層用熱硬化樹脂40a〜40eを形成して順次積層した後に閉塞用プリプレグ36を載置するのみで、当該収容空間8に対応するベアチップ被包空間v12を容易に形成できる。
【0045】
また半導体モジュール製造装置は、従来に比してベアチップ20の厚みth1とベアチップ21の厚みth2との差の大きさに係わらず、ベアチップ20の表面20Bから当該表面20B上の第3層積層用プリプレグ40cまでの距離dis2と、ベアチップ21の表面21Bから当該表面21B上の閉塞用プリプレグ36までの距離とをベアチップ20の厚みth1以下にほぼ均等化されたベアチップ被包空間v12及びv13を形成することができるので、ベアチップ20及び21それぞれを一律に密封度の高い状態で封止することができる。
【0046】
以上のような半導体モジュール製造方法によれば、半導体モジュール製造装置は、ベアチップ20の厚みth1とほぼ同厚th4の第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40eを形成して順次積層した後に閉塞用プリプレグ36を載置するのみで、ベアチップ20及び21表面20B及び表面21Bからの高さをベアチップ20の厚みth1以下にほぼ均等化されたベアチップ被包空間v12及びv13を形成することができるので、ベアチップ20及び21それぞれを一律に密封度の高い状態で封止することができ、その結果、ベアチップ20及び21の周面における凹凸がないので全体として反りのばらつき度が大幅に低減された半導体装置60を製造することができる。
【0047】
なお上述の実施の形態においては、表面実装部品としてのベアチップ20及び21をベアチップ実装用銅箔24に実装する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えばトランジスタやダイオード等、この他の種々の表面実装部品を幅広く用いることができる。
【0048】
また上述の実施の形態においては、表面実装部品としての2つのベアチップ20及び21をベアチップ実装用銅箔24に実装する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、様々な厚みを有する複数の表面実装部品をベアチップ実装用銅箔24に実装するようにしても良い。この場合、ベアチップ実装用銅箔24に実装された複数の表面実装部品のうち、最薄の表面実装部品の厚みに熱硬化樹脂30を選定すれば良い。このようにすれば、上述の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【0049】
さらに上述の実施の形態においては、ベアチップ20及び21をベアチップ実装用銅箔24にフリップチップ実装する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、ワイヤボンディング実装したり、一方をフリップチップ実装し他方をワイヤボンディング実装する等、この他種々の実装又はその組み合わせにより実装するようにしても良い。この場合でも上述の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【0050】
さらに上述の実施の形態においては、熱硬化性樹脂としてのガラスエポキシ材質でなるプリプレグ30a〜30eを選定する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、ポリフェニレンエーテル又はビスマレイミドトリアジン材質等、この他種々の材質でなる熱硬化性樹脂を幅広く選定することができる。
【0051】
この場合、熱硬化性樹脂の材質に対応する熱膨張係数に応じて、当該熱硬化性樹脂に穿設する貫通孔31、32及び33の面積を選定するようにすれば、加熱時の第1層〜第5層積層用プリプレグ40a〜40e及び閉塞用プリプレグ36がベアチップ被包空間v12、ベアチップ被包空間v13及び層間接続用空間v13へ拡散してベアチップ20及び21それぞれを一律に一段と密封度の高い状態で封止することができる。
【0052】
さらに上述の実施の形態においては、閉塞用部材としての閉塞用プリプレグ36を第5層積層用プリプレグ40e上に積層して空間v12(図2(F))を閉塞する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、直接に積層用基板37を第5層積層用プリプレグ40e上に積層して空間v12(図2(F))を閉塞するようにしても良く、要は、最上層(第5層)の積層用熱硬化樹脂40eの貫通孔32を閉塞するこの他種々の閉塞用部材を幅広く用いることができる。
【0053】
さらに上述の実施の形態においては、熱硬化性樹脂としてのプリプレグ30a〜30eをベアチップ実装用銅箔24の一面24Aに実装されたベアチップ20及び21のうち、薄い厚みを有するベアチップ20の厚みth1とほぼ同厚のものを選定する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、当該ベアチップ20の表面20Bからベアチップ実装用銅箔24の一面24Aまでの実装高までを最大限としてその厚みを選定することができる。
【0054】
この場合、ベアチップ実装用銅箔24の一面24Aまでの最小実装高以下の厚みを有する第1層〜第n層積層用プリプレグ40a〜40nを形成して順次積層した後に閉塞用プリプレグ36を載置するのみで、ベアチップ20及び21表面20B及び表面21Bからの高さをベアチップ実装用銅箔24の一面24Aまでの最小実装高以下にほぼ均等化されたベアチップ被包空間v12及びv13を形成することができるので、ベアチップ20及び21それぞれを一律に密封度の高い状態で封止することができる。
【0055】
特に、ベアチップ20の表面20Bからベアチップ実装用銅箔24の一面24Aまでの実装高とほぼ同厚の熱硬化性樹脂を選定した場合には、当該熱硬化性樹脂を積層する最も少ない枚数でほぼ均等化されたベアチップ被包空間v12及びv13を形成することができる。
【0056】
【発明の効果】
上述のように本発明によれば、所定のプリント基板の一面から当該一面に実装された複数の表面実装部品の表面までの実装高のうち、最も小さい最小実装高以下の厚みを有するシート状の熱硬化樹脂を選定し、当該実装高のうち最も大きい最大実装高を満たすn枚の熱硬化樹脂に対して、当該n枚の熱硬化樹脂をプリント基板の一面へ順次積層する際の各層における複数の表面実装部品に対応した貫通孔を熱硬化樹脂の厚み方向に穿設して第1層から第n層の積層用熱硬化樹脂を形成し、貫通孔に複数の表面実装部品を挿通した状態で第1層から第n層の積層用熱硬化樹脂をプリント基板の一面へ順次積層すると共に、第n層の積層用熱硬化樹脂の貫通孔を閉塞する閉塞用部材を載置することにより、複数の表面実装部品の表面から当該表面上の積層用熱硬化樹脂又は閉塞用部材までの距離が最小実装高以下となる空間を形成するようにした。
【0057】
従って本発明においては、複数の表面実装部品の体積に応じた空間を形成することが技術的に困難であったために最小実装高と最大実装高との差が大きいほど、複数の表面実装部品に対して当該複数の表面実装部品それぞれの表面からの距離が異なった空間を形成していた従来に比して、最小実装高以下の厚みを有する第1層から第n層の積層用熱硬化樹脂を形成して順次積層した後に閉塞用部材を載置するのみで、最小実装高と最大実装高との差に係わらず表面実装部品の表面から当該表面上の積層用熱硬化樹脂又は閉塞用部材までの距離がそれぞれ最小実装高以下にほぼ均等化された空間を容易に形成でき、これにより複数の表面実装部品それぞれを一律に密封度の高い状態で封止することができ、その結果、全体として反りのばらつき度を低減した半導体装置を製造することができる。
【0058】
【図面の簡単な説明】
【図1】半導体装置製造工程(1)を示す略線的断面図である。
【図2】半導体装置製造工程(2)を示す略線的断面図である。
【図3】半導体装置製造工程(3)を示す略線的断面図である。
【図4】半導体装置製造工程(4)を示す略線的断面図である。
【図5】半導体装置製造工程(5)を示す略線的断面図である。
【図6】従来による半導体装置製造工程(1)を示す略線的断面図である。
【図7】従来による半導体装置製造工程(2)を示す略線的断面図である。
【符号の説明】
20、21……ベアチップ、24……ベアチップ実装用基板、28、29……異方性導電膜、30a、30b、30c、30d、30e……プリプレグ、31、32……対応貫通孔、33……仲介貫通孔、35……導電ペースト、36……閉塞用プリプレグ、37……積層用基板、40a……第1層積層用プリプレグ、40b……第2層積層用プリプレグ、40c……第3層積層用プリプレグ、40d……第4層積層用プリプレグ、40e……第5層積層用プリプレグ、50……層間部、60……半導体装置。
Claims (4)
- 所定のプリント基板の一面から当該一面に実装された複数の表面実装部品の表面までの実装高のうち、最も小さい最小実装高以下の厚みを有するシート状の熱硬化樹脂を選定する選定ステップと、
上記実装高のうち最も大きい最大実装高を満たすn枚の上記熱硬化樹脂に対して、当該n枚の上記熱硬化樹脂を上記プリント基板の一面へ順次積層する際の各層における複数の上記表面実装部品に対応した貫通孔を上記熱硬化樹脂の厚み方向に穿設して第1層から第n層の積層用熱硬化樹脂を形成する積層用熱硬化樹脂形成ステップと、
上記貫通孔に複数の上記表面実装部品を挿通した状態で第1層から第n層の上記積層用熱硬化樹脂を上記プリント基板の一面へ順次積層すると共に、第n層の上記積層用熱硬化樹脂の上記貫通孔を閉塞する閉塞用部材を載置することにより、複数の上記表面実装部品の表面から当該表面上の上記積層用熱硬化樹脂又は上記閉塞用部材までの距離が上記最小実装高以下となる空間を形成する空間形成ステップと
を具えることを特徴とする半導体装置製造方法。 - 上記選定ステップでは、
複数の上記表面実装部品のうち最薄の厚みを有する上記表面実装部品とほぼ同厚の上記熱硬化樹脂を選定する
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置製造方法。 - 上記選定ステップ前に、上記プリント基板の一面に実装した最薄の上記表面実装部品の厚みに対して、整数倍の距離を有する状態で1又は2以上の上記表面実装部品を上記プリント基板の一面に実装する実装ステップを具える
ことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置製造方法。 - 上記表面実装部品は、ベアチップである
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置製造方法。
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