TW200539403A - Method for manufacturing a chip arrangement and varnish for carrying out the method - Google Patents
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Description
200539403 玖、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關一種晶片組合之製造方法,其中至少使用 兩半導體晶片,其至少各具一電接點,至少一半導體晶片 之接點被塗佈一具導電顆粒的接觸層,半導體晶片以其接 點相對而組合在一起,其接點因中間的接觸層而彼此連 接,該接觸層由鐵磁性顆粒及一第一絕緣材料構成,該顆 粒在第一絕緣材料中彼此及對接點有一距離,第一絕緣材 料被以液態塗佈於接點,然後固化,在塗佈於接點後以熱 處理方式使該絕緣材料至少在接點之間的部分熔化,熔化 處至少一顆粒的位置由於一磁場而被改變,使得接點經該 顆粒而被電性連接,以冷卻固化絕緣材料。此外,本發明 並有關一種該方法所使用之塗料。 【先前技術】 專利DE 2 9 0 2 0 0 2 A1曾提出一種上述的方法,其將多 個半導體晶片疊成一疊。相鄰半導體晶片之間各設有一接 觸層,使得半導體晶片彼此有一距離。接觸層各由一導電 絕緣材料構成,亦即一黏合劑,其含許多針狀鐵磁性顆粒, 該顆粒塗佈一貴金屬以改善其導電性。黏合劑硬化時使半 導體豐層產生一^磁場而接觸。不導電材料的不導電性被以 雷射束加熱而局部不可逆轉提高。 此方法為避免不在磁場中的鐵磁性顆粒彼此接觸,及接 觸層中電性連接半導體晶片之導電路徑彼此短路及/或串 擾,而使絕緣材料中的導電顆粒具相當低的密度。其缺點 6 312/發明說明書(補件)/93-08/93115291 200539403 為,雷射束及磁場所產生的導電路徑導電性低。半 片圖案小時,其接點亦小,故接點接觸會出現瑕疵 【發明内容】 因此本發明目的在於提供一種上述之方法,其尤 半導體晶片的小接點彼此良好電性連接,而避免絕 中所產生之連接半導體晶片的導電路徑出現串擾。 另一目的在於提供一種該方法所使用之塗料。 本目的由本發明方法達成,其使顆粒被一聚合物 第二絕緣材料包覆,然後塗佈於至少一半導體晶片 點,熱處理時第一與第二絕緣材料皆被熔化。 亦即使液態塗佈於接點之第一絕緣材料中的顆粒 覆的固態第二絕緣材料而彼此隔離及絕緣,故液態 緣材料中的顆粒可具高密度,而不會有與半導體晶 及/或其他顆粒接觸的危險。熱處理時,顆粒應與去 或與其他顆粒產生電性接觸之部分的第二絕緣材料 化。熱處理時所包覆第二絕緣材料未被熔化的顆粒 對晶片接點及/或其他顆粒絕緣,而不會形成可能產 及/或短路的導電橋。故可藉看似無用的第二絕緣材 高接觸層中的顆粒密度。如此可使熱處理時絕緣材 處達到良好的電性接觸。第二絕緣材料的熔點較佳 一絕緣材料。 半導體晶片間之接觸層應構成電性連接之導電處 緣材料熔化,使得顆粒相對於彼此及接點的位置改 成使接點彼此電性連接的橋。然後將熔化的絕緣材 312/發明說明書(補件)/93-08/93115291 導體晶 0 其可使 緣材料 本發明 構成的 的接 因包 第一絕 片接點 I點及/ 被熔 仍保持 生串擾 料而提 料熔化 面於第 的絕 變而構 料固 7 200539403 化,而使形成橋的顆粒被固定在該位置上,故磁場 除。如此可簡單地將熱輸入絕緣材料欲產生橋之處 得整合在半導體晶片中的電子元件及/或電路任意4 接。因此,相同半導體晶片可簡單地組合成不同的 合。亦可使不同的半導體晶片彼此電性連接,其絕 熔化處視所使用半導體晶片接點的位置而定。本方 彼此連接的半導體晶片在以接點相對定位之前先塗 接觸層。但亦可以反過來,使半導體晶片先以接點 位並構成一間隙,然後在此間隙中塗佈接觸層。顆 由鐵磁性材料構成,尤其是鐵。絕緣材料可構成顆 蝕保護。 第一絕緣材料可是一塗料或一澆注材料,第二絕 可是一聚合物。顆粒的聚合物塗層可使顆粒彼此及/ 點達到良好的絕緣。包覆層較佳由一不溶於或難溶 材料的聚合物材料構成,以使顆粒進入澆注材料後 聚合物材料包覆。聚合物材料可是一低分子量的聚 稀。洗注材料亦可含一聚合物材料。 在本發明一較佳實施例中,顆粒為長形,尤其是 顆粒可因磁場而被偏轉至一預定位置,而使半導體 點彼此連接。 接觸層覆蓋至少一接點且接觸層中的顆粒以其縱 行於接點表面。絕緣材料熔化後至少一顆粒因一磁 轉成垂直於接點表面。如此可使具小圖案及小接點 體晶片可靠接觸。 312/發明說明書(補件)/93-08/93115291 可被消 ,而使 史此連 晶片組 緣材料 法使欲 佈一層 相對定 粒較佳 粒的腐 緣材料 或對接 於澆注 仍被該 苯乙 棒狀。 晶片接 向平 場而偏 的半導 8 200539403 在本發明一較佳實施例中,顆粒具尖端或邊緣且較佳為 針狀。顆粒因一磁場而在絕緣材料中被偏轉及/或定位,使 得至少一顆粒以至少一尖端或邊緣接觸接點及/或穿入接 點材料中。如此可提高顆粒所形成接點連接橋的導電性, 並可降低顆粒與相鄰顆粒之間及顆粒與接點之間的功率損 失。為此顆粒需可以其尖端穿入包覆接點的氧化物層,故 使絕緣材料在加熱接觸層時的膨脹大於顆粒,且/或在冷卻 接觸層時的收縮大於顆粒。 第一絕緣材料液態塗佈於至少一半導體晶片後可因所 含溶劑蒸發而固化。第一絕緣材料及第一絕緣材料中被第 二絕緣材料包覆的顆粒可例如以離心法簡單地塗佈到半導 體晶片上。第一絕緣材料可是聚丙烯酸,溶劑可是水。 半導體晶片彼此相對接點的距離大於顆粒長度,且絕緣 材料熔化後至少兩顆粒因一磁場而偏轉錯置,故構成至少 一行連續的顆粒,而電性連接接點。藉磁場可使顆粒的對 正特別良好。該連成一行的半導體晶片可使接點電性連 接,有時並可產生多行顆粒。 在本發明一較佳設計中,半導體晶片平面彼此平行且因 接觸層而有一距離。半導體晶片及接觸層夠成一疊層,其 使半導體晶片組合可特別輕薄短小。 熱處理時較佳以電磁輻射,尤其是紅外線輻射及/或微 波,照射接觸層。輻射較佳穿過至少一半導體晶片而進入 接觸層。如此可對接觸層進行局部及小體積的有限熱處 理,使得熱穿過至少一半導體晶片而進入接觸層被該半導 9 312/發明說明書(補件)/93-08/93115291 200539403 體晶片覆蓋的部分。輻射波長較佳在半導體晶片對紅外線 輻射為可透性的範圍内。半導體晶片具一矽基板時,紅外 線輻射的波長需大於1 0 8 0 n m。 較佳為使輻射構成一能量束,且能量束先後對準接觸層 至少兩個彼此有一距離的部分。該能量束可由一雷射及/ 或一脈射(Maser)以相當高的能量密度產生。能量束可被一 具一或多個偏向鏡的偏向裝置簡單地投射到接觸層欲導電 部分。偏向鏡可如習知被一驅動馬達,例如一電流計或一 步進馬達,調整。驅動馬達的控制可使用一微電腦。 本發明一較佳實施例在至少一半導體晶片的至少一接 點上塗佈一層薄黏合層,而在至少另一半導體晶片上塗佈 接觸層,接觸層絕緣材料冷卻後使半導體晶片以其接點相 對而使黏合層貼合在接觸層上,然後壓緊半導體晶片,使 絕緣材料塑性變形且接觸層的顆粒穿入黏合層。亦即在半 導體晶片彼此定位前就使絕緣材料熔化而藉磁場使顆粒偏 轉,使得接觸層在熱處理時不朝向其半導體晶片的一面外 露,而使輻射可充分進入。冷卻及固化絕緣材料後才使半 導體互相定位,而將接觸層壓緊在黏合層上。該壓緊力需 使絕緣材料塑性變形而與黏合層黏合在一起。將接觸層與 黏合層壓緊時,顆粒穿入黏合層而與接點接觸,甚至穿入 接點中。黏合層可由矽烷構成,較佳只塗一層在半導體晶 片上,例如使用浸塗法。碎烧黏合層較佳含苯酮-丙基-三 矽烷。 本發明一較佳實施例使至少兩彼此垂直的能量束對準 10 312/發明說明書(補件)/93-08/93115291 200539403 接觸層,且該能量束穿過兩接點之間。如此可使熔化絕緣 材料所需的熱更準確到達接觸層的局部範圍。能量束的能 量配合絕緣材料的熔點,而只使能量束通過的絕緣材料熔 化。如此可使具兩個以上半導體晶片的晶片組合内部接觸 層的局部範圍被溶化。 本發明另一較佳實施例使微波及/或紅外線輻射經一光 罩而投射到接觸層上。該光罩較佳被設在半導體晶片不朝 向接觸層的一側。如此可使接觸層多處同時被局部熔化。 較佳為使至少三半導體晶片彼此平行組合成一疊層,並 在兩相鄰半導體晶片間各設一接觸層,該接觸層之絕緣材 料對電磁輻射具不同的吸收特性。故可配合各接觸層的吸 收特性調整輻射,而使輻射穿過疊層時只有一接觸層被熔 化。如此可使疊層内部的半導體晶片產生三度空間的接 觸。絕緣材料的熔化可使用窄頻微波輻射,各接觸層的絕 緣材料可具吸收不同波長範圍之微波的鍵基,例如一 c〇 基(如聚丙烯酸)或一 Ν Η基(如聚丙烯醯胺)。 特佳為使接觸層連續覆蓋至少一半導體晶片的多個接 點,如此可使接觸層整面塗佈於該半導體晶片上,而不需 一遮蔽步驟。接觸層必要時亦可作為連接半導體晶片的黏 合層。 本發明之塗料包含一溶劑及至少一溶於其中的第一絕 緣材料,其可因溶劑蒸發而固化,該第一絕緣材料含鐵磁 性顆粒,該鐵磁性顆粒被由一聚合物構成的第二絕緣材料 包覆,固化狀態的第一及第二絕緣材料可熱熔化。第二絕 11 312/發明說明書(補件)/93-08/93115291 200539403 緣材料不溶或難溶於溶劑,使得溶劑中的顆粒因第二絕緣 材料而彼此有一距離及絕緣。使用此種塗料可簡單地使一 半導體晶片塗佈本發明接觸層,塗料可以喷塗、浸塗及/ 或離心法塗佈到半導體晶片上,之後溶劑可蒸發,而在半 導體晶片上留下一由第一及第二絕緣材料構成的絕緣材料 層及其内部所含的導電鐵磁性顆粒。 被第二絕緣材料包覆的鐵磁性顆粒懸浮於第一絕緣材 料與溶劑構成的溶液中。該溶液被塗佈於半導體晶片上而 構成具均勻分佈之顆粒的接觸層,使得具小圖案的半導體 晶片可以本發明達到電性接觸。為達到穩定性,可使塗料 含顏料製造習知的懸浮佐劑。 以下將依據附圖詳細說明本發明之實施例。 【實施方式】 製造元件符號1所示晶片組合之方法使用兩半導體晶片 2,其各具一矽基板,該基板上如習知設有一電子電路。該 電路具電接點3,其設在半導體晶片2表面或一接近表面 的塗層中。圖1至3為清楚顯示而只顯示每一半導體晶片 2的一個接點3。半導體晶片2以其接點彼此相對。半導體 晶片2之間設一接觸層6,其由鐵磁性導電顆粒4、一第一 絕緣材料5a及一第二絕緣材料5b構成。 顆粒4由一鐵磁性導電材料,例如鐵,製成。顆粒4為 針狀且具一未示出之尖端。顆粒4長度視接點大小而為1 0 nm 至 10 μπι 〇 顆粒4被絕緣材料5 b完全包覆,然後被置入第一絕緣 12 312/發明說明書(補件)/93-08/93115291 200539403 材料5a與——溶劑構成的塗料中,第一絕緣材料5a溶於該 溶劑中。第二絕緣材料5 b不溶於該溶劑中,故顆粒4置入 塗料後仍被第二絕緣材料5b包覆,而彼此有距離。 將如此產生的塗料整面塗佈於半導體晶片2設有電接點 3的面上。第二絕緣材料5 b可防止導電顆粒4與半導體晶 片2表面接觸。塗料塗佈於半導體晶片2表面最好不產生 氣泡,例如使用離心法。圖1所示實施例中顆粒4藉一磁 場而以其縱向平行於半導體晶片2表面。磁場產生時及/ 或產生後塗料由於溶劑蒸發而固化,使得以縱向平行於半 導體晶片2平面且被第二絕緣材料5 b包覆的鐵磁性顆粒4 在第一絕緣材料中固定於其相對於半導體晶片2的位置 上。 然後組合塗佈著絕緣材料5 a, 5 b及顆粒4所構成塗層 的半導體晶片2,使得塗層以不朝向其半導體晶片2的一 面貼合,而構成位在兩半導體晶片2之間的接觸層6。由 圖1可看出,以接觸層6而彼此有距離的半導體晶片2彼 此平行且其接點在接觸層6的兩側彼此相對。 接下來使接點3間的絕緣材料5 a, 5 b藉局部輸入熱至 接觸層6中而熔化。熱輸入方法為,以紅外線輻射7穿過 至少一半導體晶片2而照射該部分接觸層,該紅外線輻射 7被絕緣材料5 a,5 b吸收。紅外線輻射由未示出的半導體 雷射發出的雷射束產生,其藉一可調整的偏向鏡而投射至 接點3之間的接觸層6。紅外線輻射7波長的選擇需使半 導體晶片2對紅外線輻射7為可透性,以使紅外線輻射穿 13 312/發明說明書(補件)/93-08/93115291 200539403 過半導體晶片時不減只略微減弱。 絕緣材料5 a, 5 b熔點在半導體晶片2正常工作溫度之 上,且絕緣材料5 a,5 b可被紅外線輻射7熔化而不會使半 導體晶片2因熱而受損。 絕緣材料5 a,5 b部分熔化時,產生一磁場8,其垂直於 半導體晶>! 2平面穿過接觸層6至少在接點3之間的部 分。如圖3所示,絕緣材料5 a,5 b熔化處的磁場使得顆粒 4的位置及/或方向被改變而構成橋,其使得彼此相對的接 點3電性連接。然後冷卻絕緣材料5 a,5 b將其固化而使顆 粒4被固定在其相對於半導體晶片2的位置上。 如圖3所示,半導體晶片2彼此相對之接點3的距離A 大於顆粒長度,絕緣材料5 a, 5 b熔化後顆粒4在磁場8 中被偏轉而垂直於半導體晶片2平面連成一行,其末端並 與接點3電性接觸。 【圖式簡單說明】 圖1係本發明晶片組合之截面圖,包括兩半導體晶片, 其藉一中間的接觸層而彼此連接,該接觸層具一固態絕緣 材料,其内含有鐵顆粒,該鐵顆粒平行於半導體晶片平面。 圖2係如圖1所示晶片組合之截面圖,其一部份接觸層 被紅外線輻射照射而熔化。 圖3係如圖2所示晶片組合之截面圖,其中紅外線輻射 照射一部份接觸層且一磁場改變接觸層中的顆粒方向。 (元件符號說明) 1 晶片組合 14 312/發明說明書(補件)/93-08/93115291 200539403 2 半導體晶片 3 接點 4 顆粒 5a 第一絕緣材料 5 b 第二絕緣材料 6 接觸層 7 輻射 8 磁場 15 312/發明說明書(補件)/93-08/93115291
Claims (1)
- 200539403 拾、申請專利範圍: 1 . 一種晶片組合(1 )之製造方法,其中至少使用兩半導 體晶片(2 ),其至少各具一電接點(3 ),至少一半導體晶片 (2 )之接點(3 )被塗佈一具導電顆粒(4 )的接觸層(6 ),半導 體晶片(2 )以其接點(3 )相對而組合在一起,其接點(3 )因中 間的接觸層(6 )而彼此連接,該接觸層(6 )由鐵磁性顆粒(4 ) 及一第一絕緣材料(5 a )構成,該顆粒(4 )在第一絕緣材料中 彼此及對接點(3 )有一距離,第一絕緣材料(5 a )被以液態塗 佈於接點(3 ),然後固化,在塗佈於接點構成接觸層(6 )後 以熱處理方式使該絕緣材料(5 a )至少在接點(3 )之間的部 分熔化,熔化處至少一顆粒(4 )的位置由於一磁場而被改 變,使得接點(3 )經該顆粒(4 )而被電性連接,以冷卻固化 絕緣材料(5 a ),其特徵為,顆粒(4 )被一聚合物構成的第二 絕緣材料(5 b )包覆,然後塗佈於至少一半導體晶片(2 )的接 點(3 ),熱處理時第一絕緣材料(5 a )與第二絕緣材料(5 b ) 皆被熔化。 2 .如申請專利範圍第1項之方法,其中,顆粒(4 )為長 形,尤其是棒狀。 3. 如申請專利範圍第1或2項之方法,其中,接觸層(6 ) 覆蓋至少一接點(3 ),接觸層中的顆粒(4 )以其縱向平行於 接點(3 )表面,且絕緣材料(5 a, 5 b )熔化後至少一顆粒(4 ) 因一磁場(8 )而偏轉成垂直於接點(3 )表面。 4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之方法,其中, 顆粒(4 )具尖端或邊緣且較佳為針狀,顆粒因一磁場(8 )而 16 312/發明說明書(補件)/93-08/93115291 200539403 在絕緣材料(5 a,5 b)中被偏轉及/或定位,使得至少一顆粒 (4 )以至少一尖端或邊緣接觸接點(3 )及/或穿入接點(3 )材 料中。 5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之方法,其中, 半導體晶片(2 )彼此相對接點(3 )的距離(A )大於顆粒(4 )長 度(L ),且絕緣材料(5 a, 5 b )熔化後至少兩顆粒(4 )因一磁 場而偏轉錯置,故構成至少一行連續的顆粒(4 ),而電性連 接接點(3 )。 6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項之方法,其中, 半導體晶片(2 )平面彼此平行且因接觸層(6 )而有一距離。 7. 如申請專利範圍第1至6項中任一項之方法,其中, 熱處理時以電磁輻射(7 ),尤其是紅外線輻射及/或微波, 照射接觸層(6 ),輻射(7 )較佳穿過至少一半導體晶片(2 ) 而進入接觸層(6)。 8. 如申請專利範圍第1至7項中任一項之方法,其中, 輻射(7 )構成一能量束,且能量束先後對準接觸層至少兩個 彼此有一距離的部分。 9. 如申請專利範圍第1至8項中任一項之方法,其中, 在至少一半導體晶片(3 )的至少一接點(3 )上塗佈一層薄黏 合層,而在至少另一半導體晶片(2 )上塗佈接觸層(6 ),接 觸層(6 )絕緣材料(5 a, 5 b )冷卻後使半導體晶片(2 )以其接 點(3 )相對而使黏合層貼合在接觸層(6 )上,然後壓緊半導 體晶片(2 ),使絕緣材料(5 a, 5 b )塑性變形且接觸層(6 )的 顆粒(4 )穿入黏合層。 17 312/發明說明書(補件)/93-08/93115291 200539403 1 0 .如申請專利範圍第1至9項中任一項之方法,其中, 至少兩彼此垂直的能量束對準接觸層(6 ),且該能量束穿過 兩接點(3 )之間。 1 1 .如申請專利範圍第1至1 〇項中任一項之方法,其 中,微波及/或紅外線輻射(7 )經一光罩而投射到接觸層(6 ) 上,該光罩較佳被設在半導體晶片(2 )不朝向接觸層(6 )的 一側 〇 1 2 .如申請專利範圍第1至1 1項中任一項之方法,其 中,至少三半導體晶片(2 )彼此平行組合成一疊層,並在兩 相鄰半導體晶片(2 )間各設一接觸層(6 ),該接觸層(6 )之絕 緣材料(5 a , 5 b )對電磁輻射具不同的吸收特性。 1 3 .如申請專利範圍第1至1 2項中任一項之方法,其 中,接觸層(6 )連續覆蓋至少一半導體晶片(2 )的多個接點 (3)。_ 1 4. 一種晶片組合,其特徵為,晶片組合以申請專利範 圍第1至1 3項中任一項所述之方法而製造。 1 5 . —種塗料,尤其使用於申請專利範圍第1至1 3項中 任一項所述之方法,其包含一溶劑及至少一溶於其中的第 一絕緣材料(5 a ),其可因溶劑蒸發而固化,該第一絕緣材 料(5 a )含鐵磁性顆粒(4 ),該鐵磁性顆粒(4 )被由一聚合物 構成的第二絕緣材料(5 b )包覆,固化狀態的第一絕緣材料 (5 a )及第二絕緣材料(5 b )可熱熔化。 1 6 .如申請專利範圍第1 5項之塗料,其中,鐵磁性顆粒 (4 )具尖端及/或鋒利邊緣。 18 312/發明說明書(補件)/93-08/93115291 200539403 1 7 .如申請專利範圍第1 5或1 6項之塗料,其中,顆粒 (4 )為長形,尤其是棒狀或針狀。 1 8 .如申請專利範圍第1 5至1 7項中任一項之塗料,其 中,顆粒(4)長度或最大尺寸小於10 μπι,甚至1 μιη,尤 其是小於100 nm且最佳小於10 nm。 1 9.如申請專利範圍第1 5至1 8項中任一項之塗料,其 中,被第二絕緣材料(5 b)包覆的鐵磁性顆粒(4 )懸浮於第一 絕緣材料(5 a )與溶劑構成的溶液中。 19 312/發明說明書(補件)/93-08/93115291
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