TW200417736A - Optical element, method for manufacturing such an element and a method for aligning al light beam and such an element - Google Patents

Optical element, method for manufacturing such an element and a method for aligning al light beam and such an element Download PDF

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TW200417736A TW092126329A TW92126329A TW200417736A TW 200417736 A TW200417736 A TW 200417736A TW 092126329 A TW092126329 A TW 092126329A TW 92126329 A TW92126329 A TW 92126329A TW 200417736 A TW200417736 A TW 200417736A
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Description

200417736 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種光學元件。 【先前技術】 實務上已經熟知此種元件。舉例來說，該光學元件包括 一透鏡、一光柵、一狹縫、一光圈、一光學濾波器、一光 學導體（例如光纖缓線）、以及一面鏡或類似的元件。使用期 間’该光學元件係被放置於一條以上光束（舉例來說，於一 光學系統中）的路徑中。因此，該光學元件的接收平面將會 接收到該光束，舉例來說，由包括該光學元件之外側表面 的平面來接收。 當該光學元件係一完美的光學面鏡時，該接收表面便可 能為此種元件的光反射表面。 相反地’如果該光學元件被設計成用以讓至少部份的入 射光束通過的話，舉例來說，當該光學元件為一透鏡、一 光柵、一狹縫、一光圈、一光學濾波器或是類似元件時， 該光學元件的各個接收平面便可接收到該光束，舉例來 说。亥等平面係延伸於該光學元件的前側、背侧及/或内部。 正㊉地犮 光學系統的每道光束以及每個光學元件都 會互相對$ ’用以作為預期的用途。舉例來說，吾人可能 希望將該光學系統及該雷射光束精確地對準於—光學系統 的特定光軸上。舉例夾今、m 〗木祝對準的預期精確度可能達到微 米的程度。根據熟知的第一 J弟種方法，可利用目視檢查來進 行該光束與一光學元株& t # 牛的對準。而後，必要時便可以手動
〇：\88\88251 DOC 200417736 來扠正該光束及該光學元件的個別位置。 根據热知的第二種方法，可利用已經通過該光學元件之 部2該光束的特徵來對準每道光束與每個光學元件。舉例 二兒“如果5亥光學兀件為-繞射元件的話，當該光學元件 與該光束於—特殊位置中對準時，吾人預期該光束便會發 生特殊的繞射。因&，藉由觀察該光學元件所產生的光束 &射h形便可對此光學元件與一光束來進行對準。 該等兩種對準方法皆相當麻煩且耗時，尤其是當一光學 系統包括數個必須互相對準且與至少—光束進行對準的光 學元件時更為麻煩。再者，該些方法都無法達成預期的高 度對準精確度。 /國，申請案wo 02/3 1569(Ohnste_人提申）便揭示出一 種微定位系統，用以精確地定位-光學元件與-光學裝置 (例如雷射二極體）的相對位置。該設備包括_載體，其可相 對於一基座選擇性地於又方向中移動。該光學元件會被耦合 至该載體，使得該光學元件可相對於該基座於？方向中移 動:根據Ohnstein，可以移動該光學元件，用以讓光束與該 光子儿件的選擇區產生交會。該光學元件較佳的係具有具 不同光學特徵的不同區域。因此，當該光束於該等不同區 域之間移動時’該光學元件便會產生不同的光學結果。根 據Ohnstem，此種效果可運用於光學對準之類的應用中。 本專利申4案jp〇8〇〇5507揭示一種光學軸對準的方法 人衣置其中使用雷射光束來對準光纖。對準該等光纖之 後便可具有最大的雷射光傳送強度。
O:\88\88251.DOC 200417736 吴國專利案4,871，250(Koseki提申）則係關於一種雷射光 束監視杰，用以檢測高功率雷射裝置所產生之雷射光束的 力率及杈式圖帛。该監視态包括一光束強度檢測板，其係 被没汁成於該雷射光束被投射於其上時來檢測一雷射光束 的局部化強度。已檢測的雷射光束模式圖案則可顯示於一 CRT,“、員示态上。透過該顯示器，必要時，作業員便可調整 該雷射裝置的前面鏡與後面鏡的對準情形，用以校正或改 變該雷射光束的模式圖案。因此，K〇seki利用該第二方法 來對準一光束及光學元件（該些光學元件為該雷射裝置的 该寺前後面鏡）。 本發明的目的係解決上述的問題，明確地說，可非常快 速且非常兩精確地讓每個光學元件及每道光束互相對準。 【發明内容】 本發明提供一種配備一接收平面的光學元件，其包括一 用以接收至少-光束的接收部，#中該接收平面配備至少 一光檢測元件，其係被設計成用以檢測是否有至少部份該 光束被投射於其上。 可以非常簡單的方式讓此光學元件及該光束互相對準， 因為至少一光檢測元件可提供與該位置有關的精確資訊， 其中該光束會碰觸到該光學元件的接收平面。再者，依旧 每個檢測元件的特性而定，可於使用該光學元件期間非常 快速且連續地獲得該資訊。 书 當正確地對準該光學元件及該光束之後，該光學元件便 會於該接收平面的接收部中接收該光束。該至少一光产則
O:\88\S825l DOC 200417736 元件將會檢測是否有至少部份該光束被投射於該檢測元件 之上。利用該元件便可主動或被動地達到檢測的目的。此 處，主動檢測包含可於檢測該光束時用以產生一信號的檢 測元件，舉例來說，該元件可能包括一熱耦。被動檢測則 思味著當該光束被投射於其上時該檢測元件的特定可測特 欲便^改文，舉例來說，該元件可能包括具有電阻的材料， 田4光束的光被投射於其上時，該電阻便會改變。 可以數種方式來排列該檢測元件，以獲取與入射光及光 學疋件之相對位置有關的資訊。根據第一具體實施例，該 至少一光檢測元件會被排列於該接收部旁邊。此時，如果 正確地對準该光束與該光學元件的話，該檢測元件將不會 ““亥光束。另一方面，如果未正確地對準該光束與該光 學元件的話，那麼該光束便會被投射於該至少一光檢測元 件之上，因此該元件便會檢測該接收平面中該光束的位 置。此時，便可將該光束與該光學元件移動至新的個別位 置’使得該光束不再被投射於該至少一光檢測元件之上。 可以手動方式及/或自動方式（例如利用可從該至少一光檢 測元件中接收資料的電腦）來進行該移動。舉例來說，該移 動可能包括重新定位及/或重新導向該光學元件及/或該光 束。例如，利用本技術中所熟知的—種以上^位系、統便可 達到此目的。 有利的係，如果將每個級心件排财賴收部旁邊 的話’那麼該至少-光檢測元件實t上便圍繞該接收平面 之該光接收部的至少-部份。因&，該至少—光檢測元件 〇 \_825| D〇c 200417736 了質上可於該接收部的所有面上檢測該光束與該光學元件 疋否有正確地對準。較佳的係、，被該檢測元件圍繞的該光 接收部部件僅略大於該接收平面中所看見之該光束的剖 面，因此可非常精確地進行對準。 根據一替代具體實施例’該至少-光檢測元件至少部份 延伸於該接收部之中。此時’當該光學元件與該光束正確 地對準之後’該光束的特定部份將會被投射於該至少一檢 測元件之上。對準變化可能會導致每個檢測元件檢測到不 同的光束。如果此種對準變化並非預期的話，那麼該光束 與該光學元件便可向後移至-可正確對準的相對位置處。 於隨附的中請專利範圍中會提及本發明的進—步有利的 具體實施例。 本發明還關於__種製造本發明之光學元件的方法以及對 準至少一光束與本發明之光學元件的方法。 再者’本發明關於一種光學裝置，用以將資訊記錄於一 旋轉光碟（例如C D或D V D)的資訊層上及/或從一旋轉光碟 的貝。fl層中來再生*訊。根據本發明之裝置的特徵為存在 至少一本發明的光學元件。 現在將以附圖中的示範具體實施例為基礎詳細地說明本 發明。 【實施方式】 圖1為光學元件1的部份圖式。該光學元件丨具有一用以接 收光束2的接收平面10。舉例來說，該接收平面1〇可能包括 一外側表面及/或光學元件丨的交又平面。該接收平面1〇包
O:\88\8825I.DOC -10- 200417736 括一用以接收至少—光束2的圓形接收部U。於圖W，光 束2係垂直圖面延伸。因此’係以剖面形式來顯示該光束2β 如圖所不’接收平面1〇具有一相當簡單的光檢測元件3， 其具有中斷環的形式。此檢測元件3實質上圍繞著該接收平 面10内的光接收部11。 於圖1的具體實施例中，該檢測元件3係被排列在該接收 部η的旁邊。該檢測元件3係被排列成用以檢測是否有至少 部份該光束2被投射於其上。為達此目的，該檢測元件3包 括具有電阻的材料，當該光束2的光被投射於其上時，該電 阻便會改變。舉例來說，此種材料包括金屬（例如銅）、合金 及/或其它合宜的材料。 再者，該檢測元件3的不同部份會被排列成被連接至一電 測里裝置。為達此目的，該光學元件i包括五條電連接線， 每一條皆為一延伸於該接收平面u中的接觸片5。每條接觸 片都係由導電材料所組成，例如金屬或類似的材料。該等 接觸片5會被電連接至該檢測環3的外緣。其中兩個接觸片 5a、5e會分別被連接至該檢測元件3的兩側，該等兩側會與 該環形檢測元件3的中斷部相鄰接。第三接觸片5(：會被連接 至位於該環中斷部反側位置處的檢測環3。其餘的兩個接觸 片5b、5d則會被耦合至該檢測元件3中位於其它三個接觸片 5a、5c、5e位置之間的位置處的兩側。因此，循逆時鐘看 去’該檢測元件3的第一環部3 a的端點係分別被連接至第一 與第一接觸片5 a、5 b ;第二環部3 b的端點係分別被連接至 第二與第三接觸片5b、5c ;第三環部3(：的端點係分別被連 OA88\8825l.DOC -11 - 200417735 接至弟二與第u — 蜀片5c、5d ;而第四環部3d的端點係分 另J被連接至第四斑 ”弟五接觸片5d、5e。該等四個環部3a_3d 白、^置互相對稱於該接收平面10。 可以不同的方式來製造圖1所示之光學元件1。根據本發 明，有利於該井風-从，一 ^ 尽1又 干疋牛已經配備採用至少一薄層沉積技術 +歹“祝，化學氣相沉積（CVD)、電嘴辦強 CVD(PE-CVD)、八工太石 水曰5虫 刀子束碗晶（MBE)、濺鍍及/或蒸發）的光檢 ^广、/以。採用此種技術時，便可以極高的精確度來劃 ^欢列疋件3。視所運用的技術而^，可針對該檢測元件 3的直#：、於兮女忠4立^卞 、 、先接收平面10中被測量的檢測元件3的寬度 7以及於垂直該光接收平面處被測量的檢測元件3的厚度 寻方面達到奈米等級的精確度。因此，可於製造期間以極 南的精確—度來控制每個環部3a_3e的體積，用以產生該檢測 兀件3特疋預期的電氣特徵。該等電接觸片$可與檢測元件3 起衣w另外，使用該等技術有可能製造出非常小的檢 測元件3，提供下面所述 — 寺疋俛點。除此以外，薄層沉積 技術能夠於許多不同類型的一 M1的先學兀件上製造該檢測元件。 再者’可以利用一種以上的 ^ 的此等技術一起製造光學元件1與 檢測元件。舉例來說，如果 ‘ a 、 ， 果如別述般的光學元件的尺寸非 常小的話’這便相當有利。 J例如’可將此等小型的光學元 件運用於高資料密度的光聲 九千儲存糸統中，其中小型體積將 極受歡迎。 當第一具體實施例的光束2與光學元件㈣過正確的對準 之後’全部的光束2便會I #與一 曰/、九學疋件1的接收平面10的圓形
0 \88\8825 1 DOC -12- 200417736 接收^ 11 χ又。此時，實質上該 雷ίΐ日肢* τ 〜 的$衣部3 a - 3 d的 电阻將不會文到該光束2的影響。當光束2與光 的 特定程度的不對準情形的話，予 撿測元件3上，如圖2所示。接二=會被投射於該 環部的溫度將會提高，導致…二有光束入射的每個 來1 Η从 “Μ部的電阻產生變化。舉例 來呪，如果檢測元件3由銅舉例 今屬/^丨加τ、 ° 如果仏測元件3包括 至屬（例如銅）的話，那麼該光 提高。 不二、、、耵到的％部的電阻將會 續上述’可以利用該檢測元件3讓光束2與 =相對準，使得該光學元件1實質上可接收該接收平面10之 接收部11中的光束2’產生如圖1所示的情況。於本具體實 ，例中，該檢測元件3的使用法包括測量其電阻，用以檢測 疋否有至少部份的光束2被投射於其上。為達此目的，可利 用該等第-與第五接觸片5a、5e經由一電流源(未顯示)施加 電流I至該檢測元件3之上，該電⑸會流經所有該等環部 43d。另外’可用一測量裝置（未顯示）來測量每個該等接 觸ba-5e的電位V。檢視前面的圖形’如果光束埃光學元 件1經過正確的對準之後，實質上該檢測元件3的環部3a_3d 將會具有相等的電位，導致接觸片58至^具有實質上相等 的電位。相反地，如圖2所示，如果光束2與光學元件1於X 方向中沒有對準的話，其中有部份的光束照射在第三環部 3C上，那麼此第三環部“的電阻將會改變，從而在相鄰的 第二與第四接觸片5c、5d之間產生電位差變化。該測量裝 置將會測$到此電位差。接著，舉例來說，便可以手動及/
〇A88\8825l DOC -13 - 200417736 或自動方式來重新對準光束2與光學元件i，以抵 到的電位變化，使得該光束2不再被投射於該光檢測二 舉例來說’當檢測到該檢測元件3有特定溫产上升 :降便可移動光束2與光學元件1，使得該檢測元心 從上面可以發現，蕤出 糟由攸弟一相對位置（其中該至 檢測元件3會檢測到光束2)將光束2與光學元件工移動 二相對位置（其中實質上該檢測元件3it + > 欢刿7°件3亚不會檢測到光束2) j可^及/或重新對準光束2與光學元件i。圖2顯示的係 一可此的第—位置，其中於x方向中並未對準；而圖！顧示 的則係於X方向中重新對.準之後的可能的第二 序地掃描光束2與光學元们或將其移動至-第三_2 (其中5亥至少—光檢測元件3會再次檢測到光束2)便可 對準的精確度。舉例來說七方向中的進—步相對移減 /或於y方向中的相對移動之後便可獲得第三位置。而後便 可利用該等第一、筮-兵赞—上 u 弟一及苐二相對位置所獲得的檢測結果 ，決定光束2與光學元件㈣最終相對位置，舉例來說，可 錯由光束2被該光檢測元件3檢測到的所觀察到之相對位置 來進行平均。 有利的係，該光檢測元件3的體積非常地小，因此當被光 照射之後，該元件3便可極快速地升溫，因而便；以特 定的精碟度極快速地來進行前述的對準程序。舉例來說， 該體積可能小於約1G，_ 一。料，為改良可獲取之對準 的精確度，至少部份被該檢測元件3圍繞的該光接收部部件
O:\88\8825I.DOC -14- 200417736 較佳的係能夠僅略大於從該接收平面丨〇看去之該光束2的 剖面。另外’該光檢測元件3於垂直該光接收平面（x，y)處所 測量到的厚度非常地小，舉例來說，厚度約100 μιη以下， 尤其是約1 μιη以下甚至約100nm以下。檢測元件3的寬度W 也非常地小，例如寬度約i mm以下，尤其是寬度…小^約 100 μιη甚至寬度w小於約1 μπι。 圖3為本夯明之替代具體實施例的示意圖，其包括一光學 π件1 4光學το件i，具有至少部份延伸於接收平面…之光 接收部11之中的數個檢測元件3,。該些檢測元件包括平行 刀隔的&屬條3，每條金屬條的兩端皆具有兩片接觸片5,。 使用時’可利用該等接觸片5，於該等檢測條31之上進行電流 -電壓測量心檢測光束2是否被投射於該等檢測條^ 上。如果如預期般地光束2並未被投射的話，便可重新對準 光束2與光學元件丄，。於本具體實施例中，除了作為對準用 途的光檢測器之外，該等檢測條3,還具有進-步的功能。舉 例來說’該等檢測條3,的尺寸可加以調整，使其作為光問， 用以對光束2提供特定的繞射作用。 雖然已經參考附圖詳細地說明本發明的圖解具體實施 例不過應„亥瞭解的係，本發明並不僅限於該些具體實施 例。熟習本技術的人士亦可進行各種修改或變化，而不會 脫離申料利㈣衫義之本發明的料錢神。g 舉例來說，該光學元件可能配備至少兩個分隔的光檢列 元件3。舉例來說’該等至少兩個檢測元件之間的距離略大 於該光束的直徑（於該接收平面中所測得的直针因而便可
O:\88\8825l DOC -15- 200417736 以極南的精確度讓光束與光學元件互相對準。舉例來說， 該距離與該光束直徑之間的差值小於約1 mm，尤其是小於 約 1 μπι 〇 * 另外，可以一特定物體、軸線、點線、面等為基準來對 準該至少一光學元件與該至少一光束。根據進一步的具體 貫施例，可於一光軸（例如光學系統的光軸）上來對準每道光 束及每個光學元件。 除此之外，每個光檢測元件3還可能包括數種材料，例如 金屬、合金、光導材料、其它種類的材料或該等材料的組 合。該檢測元件可能包括至少一熱耦，其能夠依照其溫度 以產生一電信號。如果該檢測元件係被設計成當有至少部 份該光束被投射於其上時便會升溫的話便非常有利，因為 以非常低廉、輕易設計的構件便可檢測到熱變化。另外， 此材料較佳的係能夠耐受高功率的光束，例如雷射光束。 另外，該光學元件可能包括一透鏡、一光學濾波器、一 光栅、一光學導體（例如光纖）、及/或其它光學元件。 §使用薄層沉積技術來製造至少一檢測元件時，如技術 熟練的人士所熟知般地可能要配合該等個別的沉積技術依 序地應用數道步驟，例如光罩製造、光阻塗敷、照射、蝕 刻、光阻移除、層沉積、及/或其它步驟。 另外，當利用電壓-電流測量法來檢測一檢測元件的溫度 時，可能會運用到直流電流及/或交流電流。 除此之外，光學元件1可能包括一個以上的接收平面，各 具有不同的形狀，例如平坦的平面、彎曲的平面及/或其它
O:\88\88251.DOC -16- 200417736 开乂狀。如果該光學元件包括數個包括至少一檢測元件的接 平面的σ舌’舉例來說’該些平面便可能互相平行延伸及/ 或於不同的方向中延伸，並且可能互相相鄰及/或互相分 隔。 如果β亥光學元件丨包括至少兩個接收平面的話，那麼每一 個便都包括至少一光檢測元件，該光束方向及該光學元件 的配向亦可互相對準。另外，藉由提供一包括數個接收平 面的光學元件亦可達到此對準的目的，其中至少有一光檢 測元件延伸於所有該些接收平面中，舉例來說，平行於該 至少一光束的預期路徑。 再者，每個接收平面皆可從週遭的區域及/或該光學元件 的内部接收一道以上的光束。 除此之外，每個該等接收平面皆可能包括一個以上的接 收區’用則妾收該至少一光纟。而且還可利用—光接收區 來接收一道以上的光束。 另外，可以許多不同的方式來構成每個光學元件丨、設計 其形狀及/或調整其尺寸。 舉例來說，當欲讓光纖互相對準時，亦可將本發明之光 學元件應用於許多不同種類的光學系統中，例如對準系 統。其它的應用包括：光學切換及光學掃描裝置、光學儲 存裝置等。 τ 如圖4所示，根據本發明之裝置的具體實施例為一光學儲 存裝置，明確地說，其為一碟片播放機。該裝置的主體為 100,而且其包括一光學拾取單元102、一馬達1〇4、一導螺
O:\88\88251 DOC -17- 200417736 桿106、一導執108以及一轉盤丨1〇。 光學拾取頭1 0 2可沿著放置於該裝f中之碟片㈤如資料 碟片（例如-CD或DVD))的最内側位置與最外側位置之間由 雙箭頭A所指示的方向（下文亦稱為往返方向）移動。導軌 108會延伸於該往返方向中。光學拾取頭1〇2有一部份會與 導執108產生嚙合。當導軌1〇8於往返方向中移動期間，其 會引導該光學拾取頭1 02。 光學拾取頭102包括…齒合部102a，#具有_螺旋孔，用 以讓導螺桿10 6延伸於其中。 嚙合部102a會與導螺桿106緊密配合。該導螺桿1〇6會透 過一齒輪組被耦合至該往返馬達1〇4的輸出軸，使得可以馬 達104來旋轉導螺桿106。當導螺桿1〇6轉動時，光學拾取頭 102便可於該往返方向中移動。 作業中，會有一碟片被固定於轉盤11〇的正確位置中，該 轉盤係由一圖中未顯示的電馬達來驅動器動。 — 光學拾取頭102配備-物鏡112，用以作為根據本發明的 光學元件具體實施例。元件符號114表示的係光束。該裝置 進-步配備常用的光學構件與電子構件^些光學構件中 有一項以上亦可能為本發明的光學元件。 【圖式簡單說明】 圖1為本發明之第一具體實施例的俯視圖，其中該光束與 該光學元件已經對準； 圖2為與圖i雷同之俯視圖，其中該光束與該光學元件並 未對準； O:\88\8825l.DOC 18- 200417736 圖3為本發明之第二具體實施例的俯視圖，.以及； 圖4為根據本發明之光學裝置之具體實施例的概略設計 圖。 · 【圖式代表符號說明】 1 光學元件 2 光束 3 光檢測元件 3a-3d 光檢測元件3的環部 5a-5e 接觸片 10 接收平面 11 接收部 Γ 光學元件 31 光檢測元件 5' 接觸片 l〇f 接收平面 11’ 接收部 100 裝置主體 102 光學拾取單元 102a 嚙合部 104 馬達 106 導螺桿 108 導執 110 轉盤 112 物鏡 114 光束 0 \88\8825! DOC -19-

Claims (1)

  1. 200417736 拾、申請專利範圍： κ 一種光學元件，其配備一接收平面（10)，該平面包括一 用以接收至少一光束（2)的接收部（11)，其中該接收平面 (1〇)配備至少一光檢測元件（3)，其係被設計成用以檢測 是否有至少部份該光束被投射於其上。 2·如申請專利範圍第1項之光學元件，其中該至少一光檢 測元件（3)係被排列在該接收部（11)旁邊。 3 ·如申請專利範圍第1或2項之光學元件，其中該至少一檢 測元件（3)包括具有電阻的材料，當該光束（2)的光被投 射於其上時，該電阻便會改變，其中該檢測元件（3)係 被設計成被連接至一電測量裝置。 4·如Θ述申請專利範圍中任一項之光學元件，其中該至少 一光檢測元件（3)實質上會圍繞該接收平面（10)之該光 接收部（1 1)的至少一部份。 5 ·如申睛專利範圍第4項之光學元件，其中該至少一檢測 元件（3)實質上係環狀。 6·如申請專利範圍第4或5項之光學元件，其中至少部份被 該檢測元件（3)圍繞的該光接收部僅略大於該接收平面 (1〇)中所看見之該光束〇的剖面。 7·如前述申請專利範圍中任一項之光學元件，其中該至少 一檢測元件（3)係被排列成對稱於該光接收部（11)。 8.如則述申請專利範圍中任一項之光學元件，其中該接收 平面（10)配備至少兩個分隔的光檢測元件（3)。 9·如申請專利範圍第8項之光學元件，其中該等至少兩個 0\88\8825I.DOC 10. 200417736 11. 12. 13. 14. 15. 16. 17. 18 檢測元件（3)之間的距離略大於該光束（2)的直徑，該直 徑係於該接收平面（丨〇)中所測得。 如申請專利範圍第9項之光學元件，其中該距離與該光 束直徑之間的差值小於約1 mm。 如申請專利範圍第9項之光學元件，其中該距離與該光 束直役之間的差值小於約1 μιη。 如前述申請專利範圍中任一項之光學元件，其中該光學 元件（1)已經配備採用至少一薄層沉積技術的至少一光 檢測元件（3)，該等薄層沉積技術包括CVD、PE-CVD、 ΜΒΕ、濺鍍及/或蒸發。 如别述申請專利範圍中任一項之光學元件，其中該至少 一光檢測元件（3)於垂直該光接收平面（X，y)處所測量到 的厚度約100 μχη以下。 如申請專利範圍第13項之光學元件，其中該厚度約 1 μιη 以下。 如申請專利範圍第1 4項之光學元件，其中該厚度約1 00 nm以下。 如前述申請專利範圍中任一項之光學元件，其中每個光 檢測元件（3)於該光接收平面（1〇)處所測量到的寬度（w) 約1 mm以下。 如申請專利範圍第16項之光學元件，其中其中該寬度 (w)小於約 100 μιη。 如申請專利範圍第16項之光學元件，其中其中該寬度 (w)小於約1 μηι。 O:\88\8825l.DOC 200417736 19. 20. 21· 22. 23. 24. 25. 26. 27. 28. 29. 30. 如七述申睛專利範圍中任一項之光學元件，其中每個光 檢測元件（3)的體積小於約1〇,〇〇〇 μηι3。 如前述申請專利範圍中任一項之光學元件，其中該至少 /光檢測元件（3)包括至少一導電材料，例如金屬。 如前述申請專利範圍中任一項之光學元件，其中該至少 /光檢測元件（3)包括至少一熱耦。 如#述申請專利範圍中任一項之光學元件，其中該光學 元件（1)包括電連接線（4)，其係被連接至該至少一光檢 測元件（3)，用以將該檢測元件連接至一測量裝置。 如申請專利範圍第3項之光學元件，其中每個光檢測元 件（3)不同的部份係被設計成被連接至一電測量裝置。 如申凊專利範圍第1項之光學元件，其中該至少一檢測 元件（3)至少部份延伸於該接收部之中。 如申凊專利範圍第24項之光學元件，其中該至少一光檢 測兀件（3)係被設計成用以提供一光栅。 如两述申請專利範圍中任一項之光學元件，其中該光學 元件（1)包括一透鏡。 如七述申請專利範圍中任一項之光學元件，其中該光學 疋件（1)包括一光學濾波器。 士如述申睛專利範圍中任一項之光學元件，其中該光學 70件（1)包括一光柵。 士如述申請專利範圍中任一項之光學元件，其中該光學 疋件（1)包括一面鏡。 一種製造一光學元件之方法，其中一光學元件基板可利 O:\88\8825l 200417736 用至少一薄層沉積技術而配備至少一光檢測元件（3)。 3 1 · —種對準至少一光束及如申請專利範圍第1至29項中任 一項之光學元件之方法，其中可將該光束（2)投射於該 光學元件（1)之上，讓該光學元件（丨）於該接收平面（1〇) 中接收該光束（2)，其中可利用該至少一光學元件（u檢 測元件（3)來對準該光學元件（1)及該光束（2),使得該光 學元件貫質上會在該接收平面（1 〇)之接收部（丨丨）接收到 光束（2)。 3 2.如申請專利範圍第3丨項之方法，其中可從該至少一光檢 測元件（3 )會檢測到該光束（2)的第一相對位置中將該光 束（2)與該光學元件（1)移動至實質上該檢測元件不 會檢測到該光束（2)的第二相對位置中。 33.如申請專利範圍第32項之方法，其中可依序地將該光束 (2)與該光學元件⑴移動至一該至少一光檢測元件⑺ 及/或另一光檢測元件（3)會再次檢測到光束（2)的第三 相對位置中，其中可利用針對該等第一、第二及第三相 對位置所獲得的檢測結果來決定該光束與該光學元件 (1)的表終相對位置。 34.如申請專利範圍第31-33項 中任—項之方法，其特徵為 可於-光軸上來對準該至少—光束及該光學元件⑴。 35.如申請專利範圍第3及31項之方法，其中該至少一檢測 元件⑺的使用法包括測量其電阻，用以檢測是否有至 少部份該光束被投射於其上。 其中當檢測到該至少一 3 6.如申請專利範圍第3 5項之方法， 0 \88\8825l DOC -4- 200417736 檢測元件(3)有特定溫度上升時，便可互相移動該光束⑺ 舁σ亥光予元件，使得該檢測元件（3)的溫度下降。 37. -種甩以將資訊記錄於—旋轉光碟的資訊層上及/或從 勺方疋轉光碟的貧訊層中來再生資訊的光學裝置，該裝置 匕括如刖述申請專利範圍第1至29項中任一項之光學元 0 物 8251doc
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