TW200406641A - Colored photo sensitive resin composition - Google Patents

Colored photo sensitive resin composition Download PDF

Info

Publication number
TW200406641A
TW200406641A TW092118150A TW92118150A TW200406641A TW 200406641 A TW200406641 A TW 200406641A TW 092118150 A TW092118150 A TW 092118150A TW 92118150 A TW92118150 A TW 92118150A TW 200406641 A TW200406641 A TW 200406641A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
resin composition
photosensitive resin
color
acid
patent application
Prior art date
Application number
TW092118150A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuo Takebe
Satoru Tanaka
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co filed Critical Sumitomo Chemical Co
Publication of TW200406641A publication Critical patent/TW200406641A/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B11/00Diaryl- or thriarylmethane dyes
    • C09B11/04Diaryl- or thriarylmethane dyes derived from triarylmethanes, i.e. central C-atom is substituted by amino, cyano, alkyl
    • C09B11/10Amino derivatives of triarylmethanes
    • C09B11/24Phthaleins containing amino groups ; Phthalanes; Fluoranes; Phthalides; Rhodamine dyes; Phthaleins having heterocyclic aryl rings; Lactone or lactame forms of triarylmethane dyes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/223Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/23Photochromic filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G03F7/0295Photolytic halogen compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Description

200406641 玖、發明說明 [發明所屬之技術領域] 本發明乃關於紫外光硬化型油墨或 μ _ 尊領域中廣;^ 應用之光敏樹脂組成物,特別是關於為形 ”為 裝置或攝影元件等所使用著色像素(下 ^液晶顯示 t 乂 y或間稱為像本、 之光阻所適合之著色光敏樹脂組成物。 丁、 [先前技術] ,^ ^ v匕遞色器,通當 ;==晶圓等基板上形成紅、綠和藍之三原色像素: :开二 通常設有該像素間之遮光用黑基體。因此, 美::上ί各種顏色之像素,可在遮光層以圖案狀形成之 =之!自旋塗布器將含有相當於各種色料之光阻液均 π:::俊,加熱乾燥(預供烤),再將該塗膜曝光,顯影, ^ ’X h用之方法。隨渡色器所需要之彩色,重複上屯 ΓΓ得各色之像素。這種光阻中,跟色料和黏著性: ::二通常多採用含有光聚合性單體以及光聚合引發齊 之、、且成物。另外,座甘麻 光阻。…豆之形成也有使用含有黑色色料之 1更用於上述井P且夕& 之先來3引發劑,由於會影響製造 為所必要之特性和品質,因而檢討高感應度者,所制: =之表面平滑性、圖案形狀、财藥品性及可信性二 羊。寸1生。例如日本專利(特開平6-20^^號公報、特屍 二J24484號公報以及特開平7-261014號公報等)中 承使用例如:三畊系化合物、三哄系化合物和咪。坐系化4 314842 200406641 物二畊系化合物和咪唑么#人私 酮李仆入私々 卞丄不化合物以及胺基苯乙 叫糸化合物或二苯甲酮之混人 ♦ 尤JL在⑼°寺者色光敏樹脂組成物。 /、在(4寸開平1 〇-2 5 3 8 1 5梦公细* 4士 報等)中,右鬥一 a 唬A報和特開2000-22丨675號公 、)中有關南感應度化方面,也接 合物& _ ? ^也挺峨由多官能性硫醇化 口物和聯二咪唑化合物、— 一唑化人榀士 —戊鈦化合物、三啡化合物和噁 一 Α化合物中選擇至少— 4 6 mr - 、斤構成之混合物,2-胡椒基_ 4,6-雙(三氯甲基)—s_三啡,争右μ、+、 ^
么儿人 开更有上述三哄化合物和雙咪唑 本化5物和給氫體所構成之混合物。以這些三哄系化 =光聚=引發劑成分之著色光敏樹脂組成物所製成^慮 兄雖然具有上述優點,而其缺點係為所形成彩色像素 之透過率降低之問題。 [發明内容] 、1 2發明之目的在提供即使含有高濃度之著色材料尚能 ”二向感二、度之著色光敏樹脂組成物,並提供以上述之著 色光敏樹脂組成物所形成之具有表面平滑性之著色像素、 ♦圖案形狀和明度優異之高品質之彩色渡色器。 本务明研九者經過一番精心研究檢討結果,發現含有 斗寸疋之光聚合引發劑之著色光敏樹脂組成物可解決上述課 題而完成了本發明。 換言之,本發明係提供包括: (Α)黏著性樹脂、(Β)光聚合性單體、(C)光聚合引發 ^ (D)著色材料和(Ε)溶劑之著色光敏樹脂組成物,且將 上述(C)項之光聚合引發劑係含(1)苯硫基乙酸衍生物所構 成之著色光敏樹脂組成物,塗佈於基板上,由所塗布得著 6 314842 200406641 色光敏樹脂組成物層去除揮發性成分,介由光罩曝光在上 述去除揮發性成分之著色光敏樹脂組成物塗布層上 顯影之圖案之形成方法,以及含有以上述方;,再打 、考洛口。 b 士 — 去形成圖案之 濾色裔,逐有女裝上述濾色器之液晶顯示裝置。 本發明之著色光敏樹脂組成物, 阻用i伞,主要&供色料分散光 用返在⑻洛劑中,通常分散以(D)著色材料,同時、容 解或:散有⑷黏著性樹脂、⑻光聚合性單體和⑹ 引發劑,以及必要時,再含有(F)之其他添加劑。“ ⑷黏著性樹脂乃具有驗溶解性,又可做為著色 分散媒而使用。本發明所使用之黏著性樹脂,以含有來自 於不飽和羧酸之構成單位之聚合物 自於不飽和幾酸之構成單位所構/ π β亥“物可為來 亡“ 早位所構成之單純聚合物,但以含 有來自於不飽㈣酸之構成單位和來自於 之其他構成單位所形成之共聚合物為較佳。…肢 方入兩2來自於不飽和绩酸之構成單位之具體例舉有來自 甲其…* 之構成早位。上述來自於丙烯酸和 曱基丙烯酸之構成單位可各 ,Α , 00 目獨立做為來自於不飽和羧Β穿 之構成單位使用,也可 个货^羧酉夂 外,Ρ了 ^门吩含有上述兩種構成單位。另 外 巴五S义、衣康酸、馬舍 ^ yr ^ ^ ^ ^ 田馬S夂等其他不飽和羧酸 和不飽和羧酸酐所構成群 德Ak擇一種之來自於羧酸之 構成早位或如來自於α 一播堪Αv τ基)丙烯酸之構成單位等同 但這些構成單位如包含在=之構成早位也可供採用。 烯酸$甲其^ 在站者性树脂中時,通常跟來自丙 基丙細酸之構成單位共存。這些構成單位可各為 3)4842 7 200406641 一種或二種以上。 本發明所使用黏著性樹脂以含有來自於不餘和缓酸之 構成單位和可共聚合之構成單位為較佳,該可共聚合之構 成單位以含來自於(甲基)丙烯酸酿化合物之構成單位之共 聚物為較佳。 來自於(曱基)丙;«酿化合物之構成單位之具體例舉 有來自於(曱基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基) 丙稀酸丁西旨、(曱基)丙稀酸苯曱酿、(甲基)丙烯酸2_經基 乙酿、(甲基)丙烯酸胺基乙酿等之不飽和羧酸之無取代或 取代烧S旨之構成單位;來自於(甲基)丙烯酸環戊醋、(甲基) 丙稀酸環己§旨、(曱基)丙烯酸甲基環己酷、(甲基)丙稀酸環 庚酿、(甲基)丙燁酸環辛西旨、(甲基)丙烯酸蓋醋、(甲基) 丙烯酸環戊稀S旨、(甲基)丙稀酸環己稀酷、(曱基)丙稀酸環 庚烯g曰、(曱基)丙烯酸環辛烯酯、(曱基)丙烯酸蓋二烯酯、 (甲基)丙烯酸異萡醋、(甲基)丙烯酸苹酷、(曱基)丙烯酸三 環癸酿、(甲基)丙烯酸三環癸氧乙酷、(甲基)丙烯酸金剛 酯、(曱基)丙烯酸正萡S旨、(曱基)丙烯酸苹烯醋、(曱基) 丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯等不 飽和羧酸脂環基醋之構成單位;來自於(甲基)丙稀酸縮水 甘油酯等之不飽和羧酸縮水甘油酯之構成單位;來自於(曱 基)丙烯I氧雜環丁酯等之不飽和羧酸氧雜環丁酯之構成 單位;來自於(曱基)丙烯酸低聚乙二醇單烷酯等之乙二醇 類單烷酯之不飽和羧酸酯之構成單位等,其中以來自於(甲 基)丙烯酸之無取代或取代烷酯之構成單位和(曱基)丙烯 3]4842 8 200406641 酸之脂環酯之構成單彳& 早位為較佳,具體言之,例如分別來自 於(曱基)丙烯酸曱酷、γ田# "(曱基)丙稀酸乙醋、(曱基)丙稀酸丁 醋、(曱基)丙烯酸笨甲舻 , 〒6曰(曱基)丙烯酸乙-羥乙酯、(曱基) 丙細酸胺基乙醋算之雄a、口口 ^ 寺之構成早位為較佳,尤以來自於(曱基) 丙烯酸苯曱酯之構成單位為最佳。 L /、I物,可包含來自於不飽和羧酸之構成單位和 (曱基)丙烯酸酯化合物 之構成早位可共聚合之其他構成單 位。6亥可共聚合之立 。口 他構成早位,例如來自於苯乙烯、α _ 曱基苯乙烯、乙烯甲 . 本寺之方香族乙烯化合物之構成單 位;來自於乙酸乙條 .00 · -日丙酉夂乙烯酯等之羧酸乙烯酯之構 成早位;來自於(甲基) ,)烯腈、α 氯丙烯腈等之氰化乙烯 化合物之構成單位;來自 本基馬來輕胺等之馬來酿 亞胺化合物之構成單位等。 5亥可共聚合之盆袖播士 ϋ0 時夂自"聋成早位可在製造(Α)黏著性樹脂 自早獨调配,或調配2種以上。 在(A)4著性樹脂中,來 八扫 自表不餘和羧酸之構成單位之 含量,以黏著性樹旨她 再风早位之 .^ 里叶,通常為10至50質量%, 其中以1 5至40皙| 0/ r问从, 貝里/0 '里❹粑圍為較佳。當, 之構成單位以卜、f I、隹 田采自方;不飽和羧酸 上述基準之1 〇至5 〇質 影液之溶解性十足,因此^ a貝里/〇存在%,因對顯 丁疋因此,未曝光部 殘洁,又,甘s ! 士 刀(卷板上不會產生 办W宜又,_影時之曝光部分 土 減少,像本致她古, 之像T…卩分,不會產生膜之 仏"整體有不剝離之傾向而適佳。 ㈧黏著性樹脂以聚苯乙烯換算 10,_至卿00範圍為較佳,";千:刀子-在 /、τ 以 15,00Q 至 50,000 314842 |§| 9 200406641 範圍為更佳。當(A)黏著性樹脂之 里里平均分子I在1 〇 0 0 0 至100,000範圍時,顯影時 5 士 L 才+谷易產生膜減少,又,顯影 ¥非像素部分因有脫離性良好之傾向而適佳。 ’、’、 該⑷黏著㈣脂含量,心成㈠ 準計,通常為5至90質量%,Α 里為基 八甲以10至70質量%為較 佳。當(Α)黏著性樹脂含量在上述基準之5至9〇質量%時, 對於顯影液之溶解性十足,非像素部分在基板上不易產生 顯影殘造,又,顯影時之曝光部分之像素部分不易產生膜 減少’非像素部分有脫離性良好之傾向而適佳。又,本發 明中,組成物中之總固形物量乃係組成物重量減去溶劑重 量而得之重量。 本發明之著色光敏樹脂組成物中所含(Β)光聚合單體 乃係藉光和下述光聚合引發劑之作用而能聚合之化合物, 除單官能基單體之外,尚可包括2官能基單體,3官能基 以上之多官能基單體。 單官能基單體之具體例如壬基苯基卡必醇丙烤酸酯、 2-羥基-3-苯氧基丙基丙烯酸酯、2-乙基己基卡必醇丙烯酸 酯、2 -羥乙基丙烯酸酯、Ν-乙烯吡咯烷酮等。 又,2官能基單體之具體例舉有1,6-己二醇二(曱基) 丙烯酸酯、乙二醇二(曱基)丙稀酸酯、新戊基乙二醇二(曱 基)丙烯酸酯、三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、雙醇Α之雙(丙 烯醯氧基乙基)醚、3-曱基戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等。 又,3官能基以上之多官能基單體之具體例舉有三羥 甲基丙烷三(曱基)丙烯酸酯、李戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、 10 314842 200406641 w四醇四(曱基)丙稀㈣、二季戊四醇五(甲基)丙稀酸 二季戊四醇六(甲基)丙烯酸醋等。其中以2官能基單 體或3官能基以上之多官能基單體為較佳。 (八”二)光聚合性單體之含量,以著色光敏樹脂組成物中之 通J者性樹脂和(B)光聚合性單體之合計1〇〇質量份計, -心至6〇質量份,其中以5至5〇質量份範圍為較佳。 合性單體含量在上述基準之1至60質量份範圍 2素。卩分之強度或平滑性趨向良好而適佳。 ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ t ^ (C)^ „ 乙酸衍生有⑴本‘基乙酸衍生物。由於含有⑴苯硫基 又,夢此所’所付者色光敏樹脂組成物可具有高感應度, 變好。㊉成之膜,其像素部分之強度或表面平滑性會 尚含有(2)聯二咪 其感應度會更高 另外,除(1)苯硫基乙酸衍生物之外, 哇化合物ppb / 可’所得著色光敏樹脂組成物, 而更佳。 八‘ )束&基乙酸衍生物和必要時加上m胳
合物,在含右 上(2)勝二咪唑A 、 光聚合引發助劑,可使所尸-a 組成物成為更 于者色光敏樹用 其生產性而更: 错以形成彩色濾色器時因提高 ()表、基乙酸衍生 下列-般式⑴f 和其衍生物,尤以 、⑴所不者為最佳。 ϋ·.·、 3J4S42 (I) 200406641 r2 r
(上式中,心至汉8各自獨立表示氫原子、鹵素、可具 有取代基之;^基、可具有取代基之環燒基、可具有取代基 之笨基或可具有取代基之烷氧基。) ^ L般式(1)所不苯硫基乙酸衍生物之具體例舉有 本硫基乙酸、曱其贫# f 7綠 甲基本硫基乙酸、乙基苯硫基乙@、甲基乙 基笨石瓜基乙酸、兩其楚古i 其—甘 丙基本硫基乙酸、異丙基苯硫基乙酸、丁 二::苯硫基乙酸、戍基苯硫基乙酸、己基笨硫基乙酸、 乙酸、笨氧基苯硫基乙酸、。甲基苯硫基乙 乙酸 ―?减本硫基乙酸、氯苯硫基 、爪基乙酸、二氯苯硫基乙酸等,苴中 硫基乙酸、苯硫基乙酸為較佳。 …… 4,(2)% —米。坐化合物之例舉如2,2,·雙(2-氯笨基)_ 4,4,,5,5、四苯基聯二味。坐、2,2,部,3-二氯苯基)_ 門,5,?-四苯基聯二味哇(例如特開… 開平6_75373號公報等”, 心 基聯二^坐、22,^9 — 風本基)_4,4,,5,5,-四苯 f +丨 ,又(2'氣苯基)-4,4,,5,5、四(烷氧基苯基) % 一咪唑、2,2\雔门 4签; 俨_ i丨 又〜氣本基)·4〆,,5,5、四(二烷氧基苯基)
% —咪唑、2,2、錐 # 土 J 俨一丄, 又(一_乳本基)-4,4,,5,5,-四(三烷氧基笨基) % —咪唑(例如胜八 十土; ^、 4寸ΑΒσ 48_384〇3號公報、特開昭62」 唬公報等。)、4 /42U4 5 ,位置之笨基被碳烷氧基所取代之咪 314842 200406641 唑化合物(特開平7-10913號公報)等,其中以2,2、雙(2-氯 苯基)-4,4’,5,5’-四苯基聯二咪唑、2,2、雙(2,3-二氯苯基)-4,4’,5,5、四苯基聯二咪唑。 另外,不影響本發明之效果之範圍内,尚可併用本領 域中通常使用之光聚合引發劑。該光聚合引發劑之例舉有 苯乙酮系、笨偶因系、二苯曱酮系、噻噸酮系、s-三哄系、 蒽系以及其他引發劑。更具體之化合物如下述,這些化合 物可各自單獨使用或調配2種以上使用。 (a) 苯乙i同系 二乙氧基苯乙酮, 2-羥基-2-曱基-1-苯基丙烷-1-酮苯曱基二曱基酮縮醇, 2 -沒基-1-[4-(2-技基乙氧基)本基]-2 -曱基丙烧-1 - S同’ 卜羥基環己基苯基酮, 2 -曱基-1-(4 -曱硫基苯基)-2-嗎福啉基丙烷-1-酮, 2-苯曱基-2-二曱胺基-1-(4-嗎福啉基苯基)丁烷-1-酮, 2-羥基-2-曱基- l-[4-(l -曱基乙烯基)苯基]丙烷-1-酮之低聚 物等。 (b) 苯偶因系 苯偶因, 苯偶因曱醚, 苯偶因乙醚, 笨偶因異丙醚, 笨偶因異丁醚等。 (c) 二笨曱酮系 13 314842 200406641 二苯甲酮, - 鄰-苯醯基苯曱酸曱酯, 4 -苯基二苯曱酮, ‘苯醯基-4’-甲基二苯基硫化物, 3,3’,4,4’-四(第三丁基過氧化羰基)二苯曱酮, 2,4,6-三曱基二苯曱酮等。 (d) 噻,酉同系 φ 2 -異丙基噻噸酮, 4-異丙基噻噸酮, 2.4- 二乙基噻噸酮, 2,4 -二氯D塞嘲酮, 1-氯-4-丙氧基噻噸酮等。 (e) s-三啡系 - 2,心雙(三氯曱基)-6-(心甲氧基苯基)-1,3,5-三哄, 2.4- 雙(三氯曱基)-6-(肛甲氧基萘基)-1,3,5-三畊, ^ 254厂雙(三氯曱基)-6-胡椒基-1,3,5-三畊, 2.4- 雙(三氯曱基)-6-(4-曱氧基苯乙烯基)-1,3,5-三畊, 2.4- 雙(三氯曱基)-6-[2-(5 -曱基呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三 畊, 2.4- 雙(三氯曱基)-6-[2-(呋喃-2-基)乙烯基卜1,3,5-三畊, 2.4- 雙(三氯曱基)-6-[2_(4-二乙胺基-2-曱苯基)乙烯基]-1,3,5-三哄, 2;4>雙(三氯曱基)-6-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基>1.,3,5-三哄等。 ]4 314842 (Ο蒽系 9,1 0 -二曱氧基曹、, 2-乙基二甲氧基蒽, 9,10-二乙氧基蒽, 2 一乙基·9,1(Κ二乙氧基蒽等。 (g)其他 2,4,6-三甲基笨甲醯基二笨膦氧化物 四苯基、l5y 聯二味Ό坐 2,2’-雙(鄰-氯笨基卜4,4 10-丁基氣吖啶酮, 2 -乙基蒽醌 苯甲基, 9,10-菲醌 掉腦醒, 本基乙醛酸曱酯, 一茂鈦化合物等。 光 合 物 脂 曱 又’光聚合引發劑也可知(3)光聚入 聚合引择糾1 ^ °弓丨發助劑併 口引^助劑以胺化物或硫醇化合物 物LV it 4 孕乂佳’其中 方曰族胺化合物為更佳。光聚合 之1 + 1 ^助劑之胺 一肢例有三乙醇胺、曱基二乙醇胺、- 肪族脸扎人 · 二異丙醇胺 、 化5物,二曱胺基苯甲酸曱酯 酸 土本丫 " δ日、4_二曱胺』 曰4 -一曱胺基笨曱酸星r\? SI、4 ^ 乙 4 τ @义呉戍細4、二曱胺基苯, 扩土己§曰、苯曱酸2-二甲胺基乙酯、N,N-二曱基對 :_雙(二曱胺基)二笨曱酮(通稱米希勒氏酮)、 (乙基)二笨曱酮等之芳族香胺化合物。 ! 15 3]4842 2- 200406641 、硫醇化:物乃指分子中含有硫醇基之化合物,例如2 ^ 2_風&基本开噚唑等含有一個硫醇基之 琉醇化合物,或脂肪族臬上呈 — 、 /、有後數個硫醇基之脂肪族多 官能基硫醇化合物等。直中 ^ T以月曰肪族基上具有複數個硫醇 基之月曰肪族多官能基硫醇化合 物為I父佳。脂肪族多官 醇之例舉有己烷二硫醇、癸 夕^亂石瓜 !〈 丁-旷. 兀一‘s子、〗,4-二甲基氫硫基 r·德r* L 知又石瓜代乙醇酸酯、乙二 醇又石瓜代乙醇酸酯、三羥甲基 醇雔炉代而_ # 硫代乙醇酸酯、丁二 知又石瓜代丙酸酯、三羥甲基丙 丙院三硫代乙醇酸酿、季戍四醇二酯、三㈣基 四硫代乙醇酸酉旨、三經基乙基:石^2_'季戊四醇 多經基化合物之硫代乙醇酸心其他還有 羥甲基丙烷二炉代丙舻π -夂®日等,其中以三 和季戍四醇四硫代丙酸酿等為較:基=三硫代乙醇㈣ 丙酸酯為最佳。 υ以季戊四醇四硫代 (c)光聚合引發劑中,對於 性單俨之她斗, 4者性樹脂和(B)光平八 I玍早版之總计1〇〇質量份計 )九χκ合 ^ ^ π Ί J本,丨L基乙酸衍生辦夕人曰 …U至4。質量份,其中以]至 :〜 除上述之外,還含有⑺聯-呼峰“…為較佳。 〇貝垔份為較佳,尤以i至3〇當旦八 己里以 更含有(3)光聚合引發助劑時…:刀為更佳。 量份為較佳,⑽質量份為更:圭….1至40質 又,(1)笨硫基乙酸衍生物,( 光聚合引發助劑之總量以上述基準:―:坐化合物和(3) 1 ,逋常為0.1至50質 314842 16 200406641 量份,其中以1至40質量份為較佳。 (1)本硫基乙酸衍生物之合旦+ 初之3里在上述範圍時,著色光敏 W脂組成物之感應度會變高,佶 便用该者色光敏樹脂組成物 所形成之像素部分之強度或上述像素表面之平滑性會趨向 良好而適佳。上述⑴苯硫基乙酸衍生物含量和⑺聯二味哇 化合物含量,再加上(3)光聚合弓丨發助劑含量皆在上述範圍 時,又’⑴至(3)之合計量也在上述範圍時’所得著色光敏 樹脂組成物之感應度會更高’而使用該著色光敏樹脂組成 物所形成之彩色濾色器之生產力有提升傾向而適佳。 (D)著色材#為-般色料’可使用&料分散光阻上常用 之有機或無機色料。無機色料之例舉如金屬氧化物或金屬 絡鹽等金屬化合物,更具體言之,例如鐵、鈷、鋁、鎘、 鉛、銅、鈦、鎂、鉻、鋅、銻等金屬之氧化合物或複合金 屬氧化物。又,有機色料之具體例舉如r C〇lor Index」(The Society of Dyers and Colourists公司出版)一書中分類於染 料(Pigment)之化合物皆可採用。更具體言之,例如下述染 料索引號碼(Colour Index, No.)之化合物可供利用,但並非 侷限在該例舉範圍。 C.I·黃色染料 20、24、31、53、83、86、93、94、1〇9、 110、 117、 125、 137、 138、 139、 147、 148、 15〇、 153、 154 、 166 和 173 ; C.I·橙色染料 13、31、36、38、40、42、43、51、55、 59 、 61 、 64 、 65 和 71 ; C.I.紅色染料 9、97、105、122、123、144、] 49、166、 纖 ]7 3)4842 200406641 168 、 176 、 177 、 180 、 192 、 215 、 216 、 224 、 242 和 254 ; C.I·紫色染料 14、19、23、29、32、33、36、37 和 38; C.I·監色染料 15(15:3,15:4,15:6 等),21、22、 2 8、6 0 和 6 4; C · I.綠色染料 、10、15、25、36 和 47 ; C.I.褐色染料28 ; C · I ·黑色染料1和7等。 ^上述(D)著色材料可各自單獨或2種以上混合使用。(D) 著色材料之今I,# a , 者色光敏樹脂組成物中之總固形物量 、為基準計,通常為5至6〇晳旦。/ ^ , 至60貝里%,其中以10至55質量% 為#又佳。(D)著色材料之 範圍時,做成薄膜也有充分二之至50質量份 素部分之脫純因p降低^之色顯影時非像 佳。 不曰P牛低,所以不容易產生殘渣而適 (E)办劑可刼用本領域中所 — 如乙二醇單甲㈣、乙二醇單^ 口種〉谷劑。其具體例 輩T -子早乙醚、乙二醇單丙醚、乙一萨 早丁 _尊之乙-_ ^ 乙一 g子 一, ^早㈣類;二乙二醇二甲_、二… 一乙醚、二乙二醇二丙醚、- ^ 一乙一酉子 二㈣類;甲基溶纖素乙酸:醇:辦之二乙二醇 - ^ 乙基溶纖素乙酸酯等t f 一 ®子烷醚乙酸酯類;丙_ 如寺之乙 乙酸酿、丙一醇單二早甲_乙酸酿、丙二醇單乙_ 丙一%早丙醚乙酸酯、 基戊基乙酸S旨等、甲氧 穿、- 〃烷一知烷醚乙酸酿類;笨、甲笨、二甲 、 二甲苯等之芳香族烴類; 基_、甲基異丁基 4乙基酮、丙,、甲基戊 n《己s同寻綱類;乙醇、丙醇、丁醇、 314842 】8 200406641 己醇、環己醇、乙二醇、甘醇等之醇類; 醋、3-f氧基丙酸甲酯等之酯類; :::酸乙 等。 1如寺之裱狀酯類 上述⑻溶劑可各自單獨或2種以上混合使用。 (E)溶劑含量以著色光敏樹脂組成物 常為…質量其中以7。至85質量%為較= 溶劑含量在上述基準計〇1至5 () 向良好而適佳。 5°貝里份範圍時,塗布性傾 本發明之著色光敏樹脂組成物,隨需要尚可 物其:高分子化合物、色料分散劑、促進黏著; Κ b d I外光吸收劑、防止凝聚材料等之(F)添加劑。 上述填充劑之具體例如玻璃、二氧化矽、氧化鋁等, 其它=分子化合物之具體例如聚乙稀醇 '聚丙烤酸、聚乙 一紅單烷醚、聚氟化烷基丙烯酸酯等可供使用。 上述色料分散劑可採用市販之色料分散劑,例如石夕 系、氟系、酿系、陽離子系、陰離子系、非離子系、兩性 等界面活化劑。上述可久白留^ I」谷目早獨或2種以上混合使用。上 述界面活化劑之呈體例|右取$儿,μ a心/、版1幻羋有小乳化乙烯烷醚類、聚氧化乙 烯烷基苯醚類、聚乙二醇二酯類、山梨糖醇脂肪酸酯類、 脂肪酸變性聚酯類、叔胺變性聚胺酯類、聚乙烯亞胺類等 之外,商品名為kp(信越化學工業公司製品)、p〇ly_fl〇w(共 榮化學公司製品)、F-t0p(T0U-Chem-Pr0ductS公司製品)、
Megafax(大曰本油墨化學工業公司製品)、n〇wrard(住友 公司製品)、旭gard、Sarfr〇n(旭玻璃公司製品)、 纖 】9 3]4842 200406641 S〇1SparS(Zeneca 公司製品)、EFKA(EFKA Chemicals 公司 製品)、PB82 1(味之素公司製品)等也可利用。 上述促進黏著劑之具體例如乙烯三曱氧基矽烷、乙烯 三乙氧基矽烷、乙烯三個(2〜曱氧基乙氧基)矽烷、胺 乙基)J胺丙基甲基二曱氧基矽烷、N_(2_胺乙基胺基 丙基三曱氧基矽烷、3_胺丙基三乙氧基矽烷、3,氧丙氧 基丙基一甲乳基石夕烧、3一環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基砂 :):元、2-CM-環氧基環己基)乙基三曱氧基錢、3'氣丙基甲 基石夕烧、3_氯丙基三甲氧她、3_甲基丙烯酿 供利用。 爪暴丙基二甲乳基矽烷等可 上=抗氧化劑之具體例如2,2、硫雙⑷甲 基酉分)、2,6_二第三丁基+甲基齡等可供利用。—丁 上述紫外光吸收劑之具體例如2 5-甲苯基氯苯并……二丁基1經基~ 又μ 乂兀乳基二笨甲酉同等可供利用。 ,上述防止凝聚劑之具體例如 用。 a例如也丙烯酸鈉等可供利 ;本發明之著色錢樹脂組成物,例 調製之。亦即,將 D ‘知、下述方法 广卜 將()者色材料和(Ε)溶劑弁;r ^入 磨寺將著色材料分散成為平均粒徑02"仏合’藉球 需要時可使用色料分散劑,…可二:以下。此時, (獨性樹脂。所得分散液中添加::餘-部分或全部之 月曰、⑻光聚合性單體和(c)光聚合。之⑷點著性樹 他添加劑,更在承 又J,必要時所 更在…追加之溶劑等成為 = 而製 3Ϊ4842 20 200406641 成目的物之著色光敏樹脂組成物。 依照上述所調製之本發明之著色光敏樹脂組成物,例 如按照下述方法塗布於基材h進行光硬化處理和顯影處 =,可製成黑基體或著色像素。首先,將該組成物籍自旋 塗布在基板(通常為玻璃)上,行加熱乾燥(預烘烤)以除去溶 劑而得平滑塗膜。此時之塗膜厚度在大約丨至3 範圍^ 所得塗膜上為形成目的之黑基體或像素介負型光罩照射以 紫外光。其時,應使曝光部分整體以平行光線照射,同時, 期使光罩和基板之正確位置能對準,而較適合使用光罩對 準器等設備。然後’將硬化後之塗膜和稀驗性水溶液接觸 而溶解非曝光部分,經顯影沖洗而得目的之黑基體或像 素。顯影後,需要時可在150至23 (TC下進行1〇至八 鐘左右之後硬化處理(後烘烤)。 刀 圖案曝光後之顯影所使用之顯影劑,一般為含有驗性 化合物和界面活化劑之水溶液。 上述鹼性化合物可任意為無機或有機之鹼性化合物。 無機鹼性化合物之具體例舉如氫氧化鈉、奇 ° 4乳化钟、嶙酸 氫二鈉、磷酸二氫鈉、磷酸氫二銨、磷 & 千夂一-風I女、石粦峻二 氫鉀、矽酸鈉、矽酸鉀、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸氫鈉、: 酸氫鉀、硼酸鈉、硼酸鉀、氨等。 私 又’有機驗性化合物之具體例舉如四甲其今v 丁丞虱氧化錢、 2-羥乙基三曱基氫氧化銨、單曱胺、二甲 二 —T月女、星 乙胺、二乙胺、三乙胺、單異丙胺、二显丙 ”内妝、乙醇胺等。 上述無機和有機鹼性化合物,可夂自留把I ' 〇 平掏或2種以上 3]4842 21 200406641 混合使用。 —鹼性顯影液中之鹼性化合物之較佳濃度在〇 〇ι至ι〇 質量%範圍,尤以0.03至5質量%為最佳。 :生顯影液中之界面活化劑可任意為非離子系、陰離 子系或陽離子系界面活化劑。 ^非離子系界面活化劑之具體例如聚氧化乙烯烷醚、聚 =化乙稀芳_、聚氧化乙稀烧基芳_、其他之聚氧化乙稀 何生物、氧丨乙烤/氧a丙稀嵌段共聚物、&梨糖醇昕脂肪 酸龍、聚氧化乙烯山梨糖醇酐脂肪酸θ|、聚氧化乙烯山梨 糖醇脂肪酸醋、甘油脂肪酸酷、聚氧化乙烯脂肪酸醋、聚 氧化乙烯烷胺等。 ^陰離子系界面活化劑之具體例如月桂醇硫酸酯鈉、油 醇硫酸酯鈉等之高級醇硫酸酯鹽類;月桂基硫酸鈉、月桂 基硫酸銨等之烷基硫酸鹽類、十二烷基苯磺酸鈉或十二^ 基奈續酸鈉等之烧基芳基項酸鹽類等。 陽離子系界面活化劑之具體例如硬脂胺鹽酸鹽或月桂 基二甲基氯化錢等之胺鹽或季錢鹽等。 frJr 曰 貝$ 上述界面活化劑可各自單獨或2種以上混合使用。 鹼性顯影液中之界面活化劑之濃度,通常在〇 · 〇 1至]〇 %範圍,其中以0.05至8質量%為較佳,尤以〇1至5 質量%為最佳。 經過上述本發明之著色光敏樹脂組成物之塗布,乾燥 所得乾燥塗膜上」施與圖案之曝光,然後顯影等各項操作, 可得相當於著色光敏樹脂組成物中之著色材料之顏色之像 314842 22 200406641 素或黑基體,再將上述择廣 操作而得、产广木作虎'色"所需要顏色數目重複 侍濾色裔。亦即,濾色器通常為 體和紅趑綠—店么你士 土伋上配置u黑基 著色材:::=:而構成。但以含有相當於某顏色之 可得該葬二二色光敏樹脂組成物進行上述操作, 所欲… 或像素,另外,就其他顏色也用含有 厅人頭色相當之著色材料之 一樣择竹 x之者色光敏樹脂組成物 又,基板上一曰监甘令 …基月豆和二原色像素。 苴袖銘 一頭色之像素或黑基體配置後,再處理 ’、,、色之著色光敏樹脂組成物時,可& s& w & % f 之像示或黑基體之基板上,塗布直 杲深色 組成物,乾燥後,通常可才去" 者色光敏樹脂 基體之位晉卜„ 己有該某顏色之像素或黑 置上,施與圖案之曝光,而在 該其他顏色之像素或* 配置以 原色之乜立„ 田然,也可僅在黑基體和三 組成物。又,迻^ 〜色^用本發明之著色光敏樹脂 # ό 層之'1基體’例如可使祕層等而形成, 自然在黑基體之形成上不 樹脂組成物。 + &月之者色先敏 使用本發明之著@ # Μ ^ 色先破树月曰組成物製成之滹色哭,並 面内之膜厚差距小,例如 l巴卩。,、 #s,. 07 J 1至3#m之膜厚而言,其面内 、各差距在0.l5々m以下,其 ^ ^ , 可保持在〇 · 〇 5 # m以 下。因此,如此所得濾色器, ^ . /、十⑺性和透明性優異,又, 將此傷衫色液晶顯示裝置,可 之液晶顯示裝置。 干π行口口貝1炎兴 本發明之貫施形態已說明如 上边。但是該實施形態僅 23
SIB 314842 200406641 為例舉而已。因此,本發明袼圍並 範圍。本發明範圍藉下述申赞=限在上述實施形態 申請專利範圍所記載有均等::利顺示,但是包括跟 容。本發明_者, \ 。我以及靶圍内之所有變更内 +心月錯“e例更詳細說明如下 在套瑞仏I r网 — 仁疋本發明不偈限 廿貝轭例靶圍。實施例中表示 巧故 特別%昍士 里或使用量之%或份,益 別说明0寸,皆以質量為基準。 …、 [實施方式] 复选例1 第1表中所記載之各成份中, 八U 貝无將色料和S旨车奋斗、丄 刀政劑之全量混合在部分之溶劑 ’、色枓 π一醉早甲醚乙酸酯 ,利用球磨充分分散色料,再加入餘量之丙 甲 乙酸酯以及殘留之其他成分,而得 甲喊 向仔先破樹脂組成物。 314842 24 200406641 弟1表 (d) C.I.綠色染料36 C.I.黃色染料150
(A)黏著性樹脂 曱基丙婦酸苯甲酯/甲基丙烤酸共聚物 (質量組成比80/20,聚苯乙烯換算重量 平均分子量為35,000) (B)光聚合性單體 二季戊四醇六丙烯酸酯 日本化樂公司製品^ay and DPH A) 技 ϋ ' ' ~~' ' --~--)— 氏〇^引發 2,2、雙(2-氯笨基)-4,4、5,55-四苯基聯二σ米唑 (黑金化成公司製品,聯二味^坐) 二(n,N-二乙胺基)二笨曱酮 (保土之谷化學公司製品,EAB-F) 2,4'二氯苯基座代乙酸 (E)溶劑 丙 醇單曱酸酯 (F)添加劑 色料分散劑(聚酯系) Su^i-ep〇Xy ESCN-195XL 化學^業公司製占 3.52 份
、...t述各成分中,預先將色料和色料分散劑之夂入曰 以/谷劍之丙-醇置 σ王1, π 一面子早甲醚乙酸 計量計,成為2…。 杈色枓和色枓分散劑之合 战马20質量%之量而行混八 。 分分散,再加人找 ϋ使用球磨將色料充 丹加入殘餘之溶劑和i 充 脂液。 /、他成刀,混合而得光敏樹 將2英寸四方之康寧公司萝σ 性洗潔_、7k 4之#7059玻璃基板用中 k和酒精依序洗淨後乾焊夕 :士 士 自旋塗布把卜n “之。泫玻璃基板上藉 ’记上述調製好之光敏樹 在清淨乾焊P 士 曰,夜(弟1表)塗布,然後 4相中以]oot預烘烤3分鐘。、人^ 刀含里。冷部後,此光阻 314842 25 200406641 塗布基板和石英玻璃製光罩(透滿、玄,+ 、、過率在1至100¾範圍能梯
階狀變化,並具有1至50 //之畤仪/ W 表條/空間圖案)間之距離保 持在100/Z m,使用Ushio電機公司 片 」衣σ口之起问壓水銀燈在 大氣中,以lOOmJ/cm2之曝光|日” ‘ ^ ^尤里恥射。然後,在含有非離 于乐界面活化劑〇· 1 2%和氫氧仆 乌虱化鉀〇 〇4%之水系顯影液 中,於室溫下浸潰上述塗膜經所定 。 <守間而订f;頃影,水洗後, 在2 2 〇 C下進行3 0分鐘之後烘烤彦 w ^ 叉,、砖處理。然後,比較觀察預 火、烤後,顯影後和後烘烤後之基 、 丞板表面,就下列項目所得 結果示於第2表。 行 才女照貫施例1 一樣操作,作實 1一貝轭例1中之2,‘二氯笨 基石爪代乙酸改用4,4、:(N队一 不 第2夺 一乙月女基)二苯甲酮而進行。 ---_ 貫施例1 比較例I ~Ο 一 〇S 〇 --------- 〇 5 55.2 一一(無殘 55.3 ' --- :~x~~ X ^ ^——— ------——__
表一· W~TT
第7曰 第2表中之註解 1凋配後在23下以肉 後之塗膜手…n U 0曰和第7曰之預烘烤 ”:表亍一心 …△不摘劣;X示低劣。) 低需求曝光量。 、叔糙情形所必要最 314842 26 200406641 *3 :省略顯影步驟所製作塗膜部之c 色度以顯微分光測光裝置測定而得。同度現⑽ ^^^«^(0.285 . 〇^X8;y) M :以曝t量在2編心2曝光,顯影和後烘烤“⑽ Cx 20分鐘)後之像素剖面藉掃描型電子顯微鏡觀察之。 (〇表示#逆錐狀;χ示逆錐狀)。 由第2表可知使用相對應於本發明之著色光敏樹脂电 成物之實施例b #高感應度、高明度 衡皆優異。而使用不含本發明中之(c)光聚合引發
光敏樹脂組成物之比較例i,則感應度低,濾色器 力也差。 I
[本發明在產業上之應用可行性] 本發明之著色光敏樹脂組成物含有高濃度之著色材 7 ’也具有優異之感應度和保存安定性,因此,本發明之 著色光敏樹月旨組成物所得I色像素具有優異之表面平骨 =、圖案形狀和明度。所以使用本發明之著色光敏樹脂組 、物做為色料分散光阻使用而製成遽色器’可得生產力言 且品質優異之濾色器。 q 314842 27

Claims (1)

  1. 200406641 拾、申請專利範圍: i -種著色光敏樹脂組成物,其特徵為包含: 劑,:=ίΓ,(Β)光聚合性單體,(C)光聚合Μ 片j (D)者色材料和(Ε)溶劑所椹& ^ χ , f ; d所構成之著色光敏樹脂組成 物中,(C)光聚合引發判 a θ '、由δ有(1)苯硫基乙酸衍生物 而成者。 2.如申請專利範圍第丨 Μ ^ a # 戶、< 者色先破樹脂組成物,其中, (1)本4基乙酸衍生物係2,4—二 3·如申請專利範圍第、項或第;' 基乙^者。 ^ , -g., '〆 項之著色光敏樹脂組成 4 4由^主㊣ ^尚3有(2)聯二咪唑化合物。 4·如申睛專利範圍第丨項 樹脂組成物,並中,_\—項之著色光敏 , OD 者性樹脂係含有來自於不飽 矛羧酉义之構成單位之聚合物者。 5·如申請專利範圍第1項 榭r W、仏 貞至乐4項中任意一項之著色光敏 fef月曰組成物,其中 、 ♦者性树脂係含有來自於不飽 和竣酸之構成單位和來 m , οσ 來自方;(曱基)丙烯酸酯化合物之 構成早位之共聚物者。 6.二=範圍項至第5項中任意1之著色光敏 引發助劑。’其中’(〇光聚合引發劑尚含有⑺光聚合 種圖木之形成方法,苴特 ” ^诚為·使用如申請專利範圍 第6項之著色光敏樹脂组成物,塗布於基板 八 斤"'布之著色光敏樹脂组成物層去除其揮發性成 刀,j丨光罩曝光上述去除揮發性成分少竽荖洛 力乂刀〜4者色光敏樹脂 3)4842 28 200406641 組成物層,然後顯影而形成圖案。 8. —種濾色器,其特徵為:包含如申請專利範圍第7項之 方法所形成之圖案。 9. 一種液晶顯示裝置,其特徵為安裝有如申請專利範圍第 8項之濾色器。 29 14842 200406641 柒、指定代表圖:本案無圖式 • (一)本案指定代表圖為:第( )圖。 _ (二)本代表圖之元件代表符號簡單說明: 捌、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式 r2 Rs
    S—C_COOR3 (I) R4 R5 4 314842
TW092118150A 2002-07-11 2003-07-03 Colored photo sensitive resin composition TW200406641A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002202395A JP2004045697A (ja) 2002-07-11 2002-07-11 着色感光性樹脂組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW200406641A true TW200406641A (en) 2004-05-01

Family

ID=31708594

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW092118150A TW200406641A (en) 2002-07-11 2003-07-03 Colored photo sensitive resin composition

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2004045697A (zh)
KR (1) KR20040026117A (zh)
TW (1) TW200406641A (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100958581B1 (ko) * 2006-06-28 2010-05-18 타코마테크놀러지 주식회사 감광성 경화 수지 조성물
KR101283848B1 (ko) * 2007-12-28 2013-07-08 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 컬러필터, 및 상기컬러필터를 포함하는 평판표시장치
KR20100131437A (ko) * 2008-03-03 2010-12-15 후지필름 가부시키가이샤 경화성 조성물, 및 컬러 필터

Also Published As

Publication number Publication date
KR20040026117A (ko) 2004-03-27
JP2004045697A (ja) 2004-02-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI358611B (en) Radiation sensitive composition for color filter,
TW200538770A (en) Dyed layer forming radiation linear combination, colour filter and liquid crystal display screen
TWI309338B (en) Photosensitive composition for forming shading film and black matrix formed from photosensitive composition
TW202125105A (zh) 著色感光性樹脂組合物、濾色器及具備其之圖像顯示裝置
TWI670565B (zh) 著色感光性樹脂組合物、包含其的濾色器和顯示裝置
JP6990727B2 (ja) カラーフィルタおよび表示装置
TWI612382B (zh) 紅色感光性樹脂組合物、使用其製造的濾色器和具有該濾色器的顯示裝置
KR102028580B1 (ko) 컬럼 스페이서 형성용 착색 감광성 수지 조성물
KR101907220B1 (ko) 블랙 매트릭스용 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 블랙 매트릭스 및 이를 포함하는 표시 장치
TW200941139A (en) Radiation-sensitive composition for forming green pixel, color filter and color liquid crystal display element
TWI672560B (zh) 青色感光性樹脂組合物、包含其的青色濾色器和顯示元件
KR102028582B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물
TW201736950A (zh) 著色感光性樹脂組合物及含彼之柱狀間隔物
TWI767904B (zh) 著色感光性樹脂組合物及含彼之彩色濾光片
TW201835122A (zh) 黑色感光性樹脂組合物,包含使用該組合物所製備之柱狀間隔物、黑矩陣或黑色柱狀間隔物的濾色器,及包含該濾色器的顯示裝置
JP3661399B2 (ja) カラーフィルタ用感放射線性組成物
TW200406641A (en) Colored photo sensitive resin composition
TWI615674B (zh) 著色光固化樹脂組合物、濾色器和包括其的液晶顯示裝置
KR101066504B1 (ko) 감광성 수지 조성물
KR102017246B1 (ko) 다관능 (메타)아크릴계 화합물, 이를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 표시 장치
TW201003143A (en) Green pixel, radiation-sensitive composition for producing green pixel, color filter and color liquid crystal display element
JP2010002886A (ja) 着色感光性樹脂組成物
JP4501672B2 (ja) 顔料分散レジスト
JP3915271B2 (ja) カラーフィルタ用感放射線性組成物
KR20150072837A (ko) 광경화성 아크릴 수지 및 이를 포함하는 광경화성 조성물