TH91499A - ซับสเตรตแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล - Google Patents
ซับสเตรตแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูลInfo
- Publication number
- TH91499A TH91499A TH801001623A TH0801001623A TH91499A TH 91499 A TH91499 A TH 91499A TH 801001623 A TH801001623 A TH 801001623A TH 0801001623 A TH0801001623 A TH 0801001623A TH 91499 A TH91499 A TH 91499A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- formula
- rmax
- surface roughness
- magnetic
- recording medium
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 ในตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก, ความหยาบผิวหน้าของซับสเตรตแก้ว และการแปรเปลี่ยนของ ความหยาบผิวหน้าที่ได้รับการยับยั้ง โดยกล่าวคือ ความหยาบผิวหน้า (Rmax, Ra, Rq) และความสัมพันธ์ (Rmax/Ra) ระหว่าง Rmax และ Ra ที่ถูกจำกัดโดย Ra แสดงให้เห็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวตรงกลาง Rmax ที่ ได้รับการกำหนดตามความสูงสูงสุด ที่แสดงให้เห็นความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุด และจุดต่ำสุดและ Rq แสดง ให้เห็นความหยาบรากกำลังสองเฉลี่ย ด้วยเหตุนี้ เม็ดขนาดเล็กของผลึกของชิ้นวางที่อยู่ด้านล่าง และชั้นแม่เหล็ก ที่ถูกสร้างให้เท่ากันไว้บนนั้น ความหยาบผิวหน้าถูกกำหนดเฉพาะโดย Rmax น้อยกว่าหรือเท่ากับ 15nm, Raจำน้อยกว่าหรือเท่ากับ1 nm และ Rqน้อยกว่าหรือเท่ากับ 1.5 nm และอัตราส่วนระหว่างความหยาบผิวหน้า Rmax และความหยาบผิวหน้า Ra อยู่ในช่วง 10-30 ในตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก, ความหยาบผิวหน้าของซับสเตรตแก้ว และการแปรเปลี่ยนของ ความหยาบผิวหน้าที่ได้รับการยับยั้ง โดยกล่าวคือ ความหยาบผิวหน้า (Rmax, Ra, Rq) และความสัมพันธ์ (Rmax/Ra) ระหว่าง Rmax และ Ra ที่ถูกจำกัดโดย Ra แสดงให้เห็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวตรงกลาง Rmax ที่ ได้รับการกำหนดตามความสูงสูงสุด ที่แสดงให้เห็นความแตกต่างระหว่างจุกสูงสุด และจุดต่ำสุดและ Rq แสดง ให้เห็นความหยาบรากกำลังสองเฉลี่ย ด้วยเหตุนี้ เม็ดขนาดเล็กของผลึกของชิ้นวางที่อยู่ด้านล่าง และชั้นแม่เหล็ก ที่ถูกสร้างให้เท่ากันไว้บนนั้น ความหยาบผิวหน้าถูกกำหนดเฉพาะโดย Rmax (สูตร) 12nm, Ra(สูตร) 1 nm และ Rq(สูตร) 1.5 nm และอัตราส่วนรหว่างความหยาบผิวหน้า Rmax และความหยาบผิวหน้า Ra อยู่ในช่วง 10-30
Claims (7)
1. ซับสเตรตแก้วซึ่งเป็นสำหรับใช้ในจานบันทึกแม่เหล็กและซึ่งมีความหยาบของผิวหน้า Ra, Rmax และ Rq ที่ซึ่ง Ra แสดงให้เห็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวเส้นตรงกลาง,Emax ถูกกำหนดเป็นความสูง มากสุดซึ่งแสดงให้เห็นความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุดและจุดต่ำสุดและ Rq แสดงให้เห็นความหยาบแบบ รากของกำลังสองเฉลี่ย ที่ซึ่ง ความหยาบของผิวหน้าถูกกำหนดโดย Rmax(สูตร)15 nm, Ra(สูตร)1 nm และ Rq(สูตร)1.5 nm
2. ตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก ดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ความ หยาบของผิวหน้าถูกกำหนดโดย Rmax(สูตร) 10 nm, Ra(สูตร)0.5 nm,Rq(สูตร)0.7 nm
3. ตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก ดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ความ หยาบของผิวหน้าถูกกำหนดโดย Rmax(สูตร) 5 nm, Ra(สูตร)0.3 nm,Rq(สูตร)0.4 nm
4. ตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก ดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง ฟิล์มบางดังกล่าวถูกประกอบด้วยเม็ดขนาดเล็กของผลึกรูปแบบเดียวกันอย่าง เป็นสำคัญโดยการควบคุมความหยาบของผิวหน้าของซับเตรตแก้ว และ ชั้นแม่เหล็กดังกล่าวมีขนาดเม็ดขนาดเล็กของผลึกตกอยู่ภายในช่วงระหว่าง 5 และ 30 nm.
5. ตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก ดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 4 ที่ซึ่ง ชั้นด้านล่างถูกทำให้เกิดขึ้นระหว่างซับเตรตแก้วดังกล่าว และชั้นแม่เหล็ก ดังกล่าว ชั้นด้านล่างดังกล่าวมีเม็ดขนาดเล็กของผลึก และ ชั้นแม่เหล็กดังกล่าวถูกทำให้เกิดขึ้นบนเงื่อนไขที่สภาพของเม็ดขนาดเล็กของ ผลึกถูกสะท้อนกลับอย่างโดยตรง
6. ตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก ดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 5 ที่ซึ่ง ชั้นด้านล่างดังกล่าวและชั้นแม่เหล็กดังกล่าวอยู่ในฟิล์มบางดังกล่าวที่ถูก สะสมโดยการฉีดพ่น
7. ตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก ดังที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิ 6 ที่ซึ่ง การทำให้เป็นรูปแบบเดียวกันของเมล็ดขนาดเล็กของผนึกดังกล่าวของฟิล์มบางดังกล่าว ถูกกำหนดด้วยความสัมพันธ์กับการกระจายของขนาดเมล็ดของผลึกอยูาในพื้นที่ของ 1 (สูตร)m และ แถบ ความกว้างครึ่งหนึ่งของจุดในที่ซึ่งขนาดเม็ดขนาดเล็กของผลึกถูกกระจายอยู่ที่ 20 nm หรือน้อยกว่า
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH91499A true TH91499A (th) | 2008-09-19 |
| TH91499B TH91499B (th) | 2008-09-19 |
| TH52898B TH52898B (th) | 2016-12-15 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MY138339A (en) | Magnetic recording medium using a glass substrate | |
| US6776699B2 (en) | Abrasive pad for CMP | |
| EP0788093B1 (en) | A glass-ceramic substrate for a magnetic disk | |
| US5389398A (en) | Method of manufacturing magnetic recording medium for contact recording | |
| Piazza et al. | Protective diamond-like carbon coatings for future optical storage disks | |
| SE8301015L (sv) | Mikroberare samt sett att framstella densamma | |
| AU2001283235A1 (en) | Abrasive pad for CMP | |
| DE50104058D1 (de) | Schichtträger für Aufzeichnungsschichten | |
| KR100216324B1 (ko) | 박막 자기 기록 디스크 및 그 제조방법, 자기 기록 강체 디스크 드라이브, 자기 기록 접촉 시동/정지 강체 디스크 드라이브 | |
| TH52898B (th) | ซับสเตรตแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล | |
| US6028750A (en) | Thin film magnetic head substrate with improved heat radiation | |
| US5068152A (en) | Magnetic recording medium | |
| EP0172566B1 (en) | Perpendicular magnetic recording medium and production process thereof | |
| JPH1015707A (ja) | 被覆窒化珪素系工具 | |
| CN102703870B (zh) | 一种Ru非磁性薄膜及其制备方法 | |
| TH24237B (th) | ซับสเตรตแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล | |
| TH32290A (th) | ซับสเตรตแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล | |
| US6027801A (en) | Magnetic recording medium | |
| US5582897A (en) | Magnetic recording medium | |
| KR930700285A (ko) | 2축 배향 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트 세로로 긴 필름 및 이를 사용한 자기 테이프 | |
| EP0509467A1 (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPH01219043A (ja) | 透明電導ガラス基板及び太陽電池モジュール | |
| RU2092930C1 (ru) | Подложкодержатель | |
| Ravipati et al. | Effect of substrate and deposition rate on DC magnetron sputtered Co-Cr thin films | |
| FI931716A0 (fi) | Av siliciuminfiltrerad siliciumkarbid framstaellda ventilskivor |