TH91499B - ซับสเตรตแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูล - Google Patents
ซับสเตรตแก้วสำหรับตัวกลางบันทึกข้อมูลInfo
- Publication number
- TH91499B TH91499B TH801001623A TH0801001623A TH91499B TH 91499 B TH91499 B TH 91499B TH 801001623 A TH801001623 A TH 801001623A TH 0801001623 A TH0801001623 A TH 0801001623A TH 91499 B TH91499 B TH 91499B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- rmax
- surface roughness
- formula
- roughness
- glass substrate
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims abstract 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 abstract 1
Abstract
ในตัวกลางบันทึกทางแม่เหล็ก, ความหยาบผิวหน้าของซับสเตรตแก้ว และการแปรเปลี่ยนของ ความหยาบผิวหน้าที่ได้รับการยับยั้ง โดยกล่าวคือ ความหยาบผิวหน้า (Rmax, Ra, Rq) และความสัมพันธ์ (Rmax/Ra) ระหว่าง Rmax และ Ra ที่ถูกจำกัดโดย Ra แสดงให้เห็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวตรงกลาง Rmax ที่ ได้รับการกำหนดตามความสูงสูงสุด ที่แสดงให้เห็นความแตกต่างระหว่างจุกสูงสุด และจุดต่ำสุดและ Rq แสดง ให้เห็นความหยาบรากกำลังสองเฉลี่ย ด้วยเหตุนี้ เม็ดขนาดเล็กของผลึกของชิ้นวางที่อยู่ด้านล่าง และชั้นแม่เหล็ก ที่ถูกสร้างให้เท่ากันไว้บนนั้น ความหยาบผิวหน้าถูกกำหนดเฉพาะโดย Rmax (สูตร) 12nm, Ra(สูตร) 1 nm และ Rq(สูตร) 1.5 nm และอัตราส่วนรหว่างความหยาบผิวหน้า Rmax และความหยาบผิวหน้า Ra อยู่ในช่วง 10-30
Claims (1)
1. ซับสเตรตแก้วซึ่งเป็นสำหรับใช้ในจานบันทึกแม่เหล็กและซึ่งมีความหยาบของผิวหน้า Ra, Rmax และ Rq ที่ซึ่ง Ra แสดงให้เห็นความหยาบเฉลี่ยแบบแนวเส้นตรงกลาง,Emax ถูกกำหนดเป็นความสูง มากสุดซึ่งแสดงให้เห็นความแตกต่างระหว่างจุดสูงสุดและจุดต่ำสุดและ Rq แสดงให้เห็นความหยาบแบบ รากของกำลังสองเฉลี่ย ที่ซึ่ง ความหยาบของผิวหน้าถูกกำหนดโดย&nb
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH91499A TH91499A (th) | 2008-09-19 |
| TH91499B true TH91499B (th) | 2008-09-19 |
| TH52898B TH52898B (th) | 2016-12-15 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW200712021A (en) | Printable etching media for silicon dioxide and silicon nitride layers | |
| JP2015130214A5 (th) | ||
| MY146508A (en) | Printable medium for the etching of silicon dioxide and silicon nitride layers | |
| SG165301A1 (en) | Perpendicular magnetic recording medium | |
| JP2014241182A5 (th) | ||
| EP2277838A4 (en) | SUBSTRATE GLASSES FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM, SUBSTRATES FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM, MAGNETIC RECORDING MEDIA, AND METHODS OF MAKING THE SAME | |
| EP1577008A3 (en) | Coating composition of photocatalyst | |
| WO2011011083A3 (en) | Waved filter media and elements | |
| WO2007035511A3 (en) | Fluid handling device with directionally-biased wetting surface | |
| RU2011122715A (ru) | Носитель записи | |
| WO2011034808A3 (en) | Composition and method for polishing bulk silicon | |
| PH12011000022A1 (en) | Glass substrate for magnetic recording medium, and method for manufacturing the same. | |
| WO2014008891A3 (de) | Metall-keramik-substrat | |
| CN104021801A (zh) | 用于硬盘驱动器的垂直记录介质 | |
| JP2006346856A5 (th) | ||
| RU2012145794A (ru) | Носитель информации | |
| WO2008088010A1 (ja) | 薄膜圧電共振器および薄膜圧電フィルタ | |
| SG179136A1 (en) | Glass substrate for information recording medium, information recording medium and method of manufacturing glass substrate for information recording medium | |
| ES2651678T3 (es) | Procedimiento para la producción de capas de silicio | |
| WO2008139696A1 (ja) | フィルムおよびその製造方法ならびにその用途 | |
| RU2012127371A (ru) | Коллоидная дисперсия оксида алюминия | |
| JP2006518943A5 (th) | ||
| ATE410486T1 (de) | Beschichtetes metall-substrat | |
| SG151160A1 (en) | Manufacturing method of glass substrate for magnetic recording medium and magnetic recording medium | |
| SG162707A1 (en) | Magnetic layering for bit-patterned media |