TH91148A - กระบวนการทางอุตสาหกรรมสำหรับการผลิตไดออลความบริสุทธิ์สูง - Google Patents

Abstract

DC60 วัตถุประสงค์ของการประดิษฐ์นี้เพื่อจัดให้มีขึ้นซึ่งอุปกรณ์และกระบวนการเฉพาะสำหรับการ ผลิตในเชิงอุตสาหกรรมของไดออลความบริสุทธิ์สูงโดยการนำไซคลิกคาร์บอเนตและอะลิฟาติกโม โนไฮดริกแอลกอฮอล์เป็นสารตั้งต้น โดยเฉพาะกว่าแล้วมันเป็นวัตถุประสงค์เพื่อที่จะจัดให้มีขึ้นซึ่ง อุปกรณ์เชิงอุตสาหกรรมเฉพาะและกระบวนการการผลิตเชิงอุตสาหกรรมที่ไม่แพง และตัวอย่างเช่นทำ ให้ได้ไดออลบริสุทธิ์สูงเพื่อที่จะถูกผลิตในจำนวนที่ไม่น้อยกว่า 1 ตัน/ชั่วโมง โดยจะดีกว่าแล้วไม่น้อย กว่า 2 ตัน/ชั่วโมง โดยจะดียิ่งกว่าแล้วไม่น้อยกว่า 3 ตัน/ชั่วโมง อย่างมีเสถียรภาพเป็นระยะเวลานาน (ตัวอย่างเช่นไม่น้อยกว่า 1000 ชั่วโมง โดยจะดีกว่าแล้วไม่น้อยกว่า 3000 ชั่วโมง โดยจะดียิ่งไปกว่าแล้ว ไม่น้อยกว่า 5000 ชั่วโมง) วัตถุประสงค์ข้างต้นสามารถได้มาโดยการใช้หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ที่มีโครงสร้างเฉพาะ และนำออกส่วนประกอบของเหลวจากช่องทางออกส่วนตัดด้านข้างซึ่งถูกติดตั้ง ที่ส่วนด้านล่างของถาดแบบปล่องที่มีโครงสร้างเฉพาะที่ถูกติดตั้งในส่วน เอ็นริชเม้นท์ ของหอกลั่น หลายขั้นตอนต่อเนื่อง E วัตถุประสงค์ของการประดิษฐ์นี้เพื่อจัดให้มีขึ้นซึ่งอุปกรณ์และกระบวนการเฉพาะสำหรับการ ผลิตในเชิงอุตสาหกรรมของไดออลความบริสุทธิ์สูงโดยการนำไซคลิกคาร์บอเนตและอะลิฟาติกโม โนไฮดริกแอลกอฮอล์เป็นสารตั้งต้น โดยเฉพาะกว่าแล้วมันเป็นวัตถุประสงค์เพื่อที่จะจัดให้มีขึ้นซึ่ง อุปกรณ์เชิงอุตสาหกรรมเฉพาะและกระบวนการการผลิตเชิงอุตสาหกรรมที่ไม่แพง และตัวอย่างเช่นทำ ให้ได้ไดออลบริสุทธิ์สูงเพื่อที่จะถูกผลิตในจำนวนที่ไม่น้อยกว่า 1 ตัน/ชั่วโมง โดยจะดีกว่าแล้วไม่น้อย กว่า 2 ตัน/ชั่วโมง โดยจะดียิ่งกว่าแล้วไม่น้อยกว่า 3 ตัน/ชั่วโมง อย่างมีเสถียรภาพเป็นระยะเวลานาน (ตัวอย่างเช่นไม่น้อยกว่า 1000 ชั่วโมง โดยจะดีกว่าแล้วไม่น้อยกว่า 3000 ชั่วโมง โดยจะดียิ่งไปกว่าแล้ว ไม่น้อยกว่า 5000 ชั่วโมง) วัตถุประสงค์ข้างต้นสามารถได้มาโดยการใช้หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ที่มีโครงสร้างเฉพาะ และนำออกส่วนประกอบของเหลวจากช่องทางออกส่วนตัดด้านข้างซึ่งถูกติดตั้ง ที่ส่วนด้านล่างของถาดแบบปล่องที่มีโครงสร้างเฉพาะที่ถูกติดตั้งในส่วน เอ็นริชเม้นท์ ของหอกลั่น หลายขั้นตอนต่อเนื่อง E

Claims (52)

1. กระบวนการเชิงอุตสาหกรรมสำหรับการผลิตไดออลความบริสุทธิ์สูงในที่ซึ่งไดออลความ บริสุทธิ์สูงถูกผลิตโดยการนำไซคลิกคาร์บอเนตและอะลิฟาติกโมโนไฮดริกแอลกอฮอล์เป็นสารตั้งต้น กระบวนการประกอบด้วยขั้นตอนของ: (I) การป้อนอย่างต่อเนื่องของสารตั้งต้นเข้าไปในหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง A ในที่ซึ่งตัวเร่ง มีอยู่ การทำการกลั่นปฏิกิริยาในหอ A, การเอาออกอย่างต่อเนื่องของส่วนผสมปฏิกิริยาจุดเดือดต่ำ AT ที่ ประกอบด้วยไดอัลคิลคาร์บอเนตที่ถูกผลิตและอลิฟาติกโมโนไฮดริกแอลกอฮอล์จากส่วนด้านบนของ หอ A ในสภาวะก๊าซ และการนำออกอย่างต่อเนื่องของส่วนผสมปฏิกิริยาจุดเดือดสูง AB ที่ประกอบด้วย ไดออลที่ถูกผลิตจากส่วนด้านล่างของหา A ในรูปแบบของเหลว (II) การป้อนอย่างต่อเนื่องของส่วนผสมปฏิกิริยาจุดเดือดสูง AB เข้าไปในหอกลั่นหลายขั้นตอน ต่อเนื่อง C การกลั่นออกวัสดุที่มีจุเดือดต่ำกว่าของไดออลที่อยู่ในส่วนผสมปฏิกิริยาจุดเดือดสูง AB เป็น ส่วนประกอบด้านบนหอ CT และ/หรือส่วนประกอบส่วนตัดด้านข้าง CS และการถอนอย่างต่อเนื่องของ ส่วนประกอบด้านล่างหอ CB ที่มีไดออลเป็นส่วนประกอบหลักของมันจากส่วนด้านล่างของหอกลั่น C; และ (III) การป้อนอย่างต่อเนื่องส่วนประกอบด้านล่างหอ CB เข้าไปในหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E และได้มาซึ่งไดออลเป็นส่วนประกอบส่วนตัดด้านข้าง ES จากช่องทางออกส่วนตัดด้านข้างของหอ กลั่นหลายขั้นต่อเนื่อง E ในที่ซึ่งการปรับปรุงประกอบด้วย: (a) หอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่องดังกล่าว C ประกอบด้วยหอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่องที่ประกอบด้วย ส่วนสติปปิ้งที่มีความยาว LC1 (ซม.), เส้นผ่านศูนย์กลางภายใน DC1 (ซม.) และส่วนภายในที่มีจำนวน ขั้นตอน nC1 อยู่ภายใน และส่วน เอ็นริชเม้นท์ ที่มีความยาว LC2 (ซม.), เส้นผ่านศูนย์กลางภายใน DC2 (ซม.) และส่วนภายในที่มีจำนวนขั้นตอน nC2 อยู่ภายใน ในที่ซึ่ง LC1, DC1, nC1, LC2, DC2 และ nC2 สอดคล้องสูตรต่อไปนี้ (1) ถึง (9): 300(สูตร)LC1(สูตร)3000 (1) 50(สูตร)DC1(สูตร)700 (2) 3(สูตร)LC1/DC1(สูตร)30 (3) 3(สูตร)nC1(สูตร)30 (4) 1000(สูตร)LC2(สูตร)5000 (5) 50(สูตร)DC2(สูตร)500 (6) 10(สูตร)LC2/DC2(สูตร)50 (7) 20(สูตร)nC2(สูตร)100 (8) DC2(สูตร)DC1 (9) (b) ส่วน เอ็นริชเม้นท์ ของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ดังกล่าวมีอย่างน้อยหนึ่งถาดแบบ ปล่องถูกติดตั้งด้านในเป็นส่วนภายใน ถาดแบบปล่องที่ติดตั้งภายในอันหนึ่งหรือมากกว่าปล่อง แต่ละอัน ที่มีช่องเปิดที่มีพื้นที่ตัดขวาง SC (ซม.2) สอดคล้องกับสูตร (10) 200(สูตร)SC(สูตร)1000 (10) และแต่ละปล่องที่ซึ่งความสูง hC (ซม.) จากช่องเปิดดังกล่าวของปล่องดังกล่าวไปยังช่องออกก๊าซของ ปล่องดังกล่าวสอดคล้องกับสูตร 10(สูตร)hC(สูตร)80 (11) (c) ช่องทางออกส่วนตัดด้านข้างถูกเชื่อมต่อกับส่วนเก็บของเหลวของถาดแบบปล่องดังกล่าวของ หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ดังกล่าว (d) หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่องดังกล่าว E ที่ประกอบด้วยหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่องที่ ประกอบด้วยส่วนสติปปิ้งที่มีความยาว LE1 (ซม.) เส้นผ่านศูนย์กลางภายใน DE1 (ซม.) และส่วนภายใน ที่มีหลายขั้นตอน nE1 อยู่ภายใน และส่วน เอ็นริชเม้นท์ ที่มีความยาว LE2 (ซม.), เส้นผ่านศูนย์กลาง ภายใน DE2 (ซม.) และส่วนภายในที่มีหลายขั้นตอน nE2 อยู่ภายใน ในที่ซึ่ง LE1, DE1, nE1, LE2, DE2 และ nE2 สอดคล้องกับสูตรต่อไปนี้ (12) ถึง (20): 400(สูตร)LE1(สูตร)3000 (12) 50(สูตร)DE1(สูตร)700 (13) 2(สูตร)LE1/DE1(สูตร)50 (14) 3(สูตร)nE1(สูตร)30 (15) 600(สูตร)LE2(สูตร)4000 (16) 100(สูตร)DE2(สูตร)1000 (17) 2(สูตร)LE2/DE2(สูตร)30 (18) 5(สูตร)nE2(สูตร)50 (19) DE2(สูตร)DE1 (20) (e) ส่วน เอ็นริชเม้นท์ ของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ดังกล่าวมีอย่างน้อยหนึ่งถาดแบบ ปล่องที่ถูกติดตั้งภายในเป็นส่วนภายใน ถาดแบบปล่องที่ได้ตั้งภายในอย่างน้อยสองปล่องแต่ละอันที่มี ช่องเปิดที่มีพื้นที่ตัดขวาง SE (ซม.2) สอดคล้องกับสูตร (21): 50(สูตร)SE(สูตร)2000 (21) และแต่ละอันของปล่องที่ซึ่งมีความสูง hE (ซม.) จากช่องเปิดดังกล่าวของปล่องดังกล่าวยังช่องทางออก ก๊าซของปล่องดังกล่าวสอดคล้องกับสูตร (22) 20(สูตร)hE(สูตร)100 (22); และ (f) ช่องทางออกถูกเชื่อมต่อกับส่วนเก็บของเหลวของถาดแบบปล่องดังกล่าวของหอกลั่นหลาย ขั้นตอนต่อเนื่อง E ดังกล่าว

2. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ในที่ซึ่งจำนวนที่ถูกผลิตของไดออลความบริสุทธิ์สูงไม่ น้อยกว่า 1 ตัน/hr

3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 หรือ 2 ในที่ซึ่งจำนวนมาก (nC3 ขั้นตอน) ของถาด K ถูก จัดให้มีขึ้นยิ่งขึ้นไปอีกในส่วนด้านล่างของส่วนภายในในส่วนต่ำที่สุดของส่วนสตริปปิ้งซึ่งอยู่ในส่วน ด้านล่างของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ดังกล่าว ของเหลวถูกนำออกอย่างต่อเนื่องจากขั้นด้าน บนสุดของถาด K ดังกล่าว และภายหลังความร้อนถูกให้เพื่อต้องการสำหรับการกลั่นในตัวต้มซ้ำ ของเหลวที่ถูกทำให้ร้อนถูกคืนกลับเข้าไปในหอกลั่น C จากช่องป้อนที่ถูกจัดให้มีขึ้นระหว่างขั้นตอน บนสุดของถาด K ดังกล่าว และส่วนภายในในส่วนต่ำสุดของส่วนสตริปปิ้ง ในขณะที่ส่วนคงเหลือของ ของเหลวถูกป้อนเข้าไปในถาดด้านล่างตามลำดับ

4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ในที่ซึ่งแต่ละถาด K เป็นถาดแบฟเฟิล

5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 3 หรือ 4 ในที่ซึ่งเส้นผ่านศูนย์กลางภายใน DC3 ของหอกลั่น หลายขั้นตอนต่อเนื่องดังกล่าว C ในที่ซึ่งถาด K มีอยู่สอดคล้องกับ DC1(สูตร)DC3

6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 3 ถึง 5 ในที่ซึ่ง LC1, DC1, LC1 / DC1, nC1, LC2, DC2, LC2 / DC2, nC2 และ nC3 สำหรับหอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่อง C สอดคล้องตามลำดับกับ 500(สูตร)LC1(สูตร)2000, 70(สูตร)DC1(สูตร)500, 5(สูตร)LC1 / DC1(สูตร)20, 5(สูตร)nC1(สูตร)20, 1500(สูตร)LC2(สูตร)4000, 70 (สูตร)DC2(สูตร)400, 15(สูตร)LC2 / DC2(สูตร)40, 30(สูตร)nC2(สูตร)90 และ 3(สูตร)nC3(สูตร)20

7. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 6 ในที่ซึ่งส่วนภายในในส่วนสตริปปิ้ง ของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ดังกล่าวและส่วนภายในที่ไม่รวมถึงถาดแบบปล่องในส่วน เอ็นริช เม้นท์ เป็นถาดและ/หรือสิ่งบรรจุ

8. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 7 ในที่ซึ่งส่วนภายในในส่วนสตริปปิ้งของหอกลั่นหลาย ขั้นตอนต่อเนื่อง C ดังกล่าวเป็นถาด และส่วนภายในที่ไม่รวมถึงถาดแบบปล่องในส่วน เอ็นริชเม้นท์ เป็น ถาดและ/หรือสิ่งบรรจุที่เป็นโครงสร้าง

9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 7 หรือ 8 ในที่ซึ่งถาดดังกล่าวเป็นถาดแบบตะแกรง

10. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 9 ในที่ซึ่งถาดแบบตะแกรงดังกล่าวมี 100 ถึง 1000 รู/m2 ใน ส่วนซีฟของมัน และพื้นที่ตัดขวางต่อรูในช่วงจาก 0.5 ถึง 5 ซม.2

11. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 9 หรือ 10 ในที่ซึ่งอัตราส่วนรู (อัตราส่วนของพื้นที่ตัดขวาง ทั้งหมดของรูในหนึ่งถาดแบ่งเป็นพื้นที่ของถาด) ของถาดแบบตะแกรงดังกล่าวในส่วน เอ็นริชเม้นท์ ของ หอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่อง C ดังกล่าวอยู่ในช่วงจาก 2 ถึง 15%

12. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 9 ถึง 11 ในที่ซึ่งอัตราส่วนรู (อัตราส่วน ของพื้นที่ตัดขวางทั้งหมดของรูในหนึ่งถาดแบ่งเป็นพื้นที่ของถาด) ของถาดแบบตะแกรงดังกล่าวในส่วน เอ็นริชเม้นท์ ของหอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่อง C ดังกล่าวอยู่ในช่วงจาก 1.5 ถึง 12%

13. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 12 ในที่ซึ่งอัตราส่วนรู (อัตราส่วน ของพื้นที่ตัดขวางทั้งหมดของช่องเปิดในปล่องกับพื้นที่ของถาดแบบปล่องที่รวมถึงพื้นที่ตัดขวางทั้งหมด ของช่องเปิด) ของถาดแบบปล่องดังกล่าวของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ดังกล่าวอยู่ในช่วงจาก 10 ถึง 40%

14. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 13 ในที่ซึ่งหอกลั่นหลายขั้นตอน ต่อเนื่อง C ดังกล่าวมีอุณหภูมิด้านล่างหอในช่วงจาก 150 ถึง 250 ํC

15. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 14 ในที่ซึ่งหอกลั่นหลายขั้นตอน ต่อเนื่อง C ดังกล่าวมีความดันด้านบนหอในช่วงจาก 50000 ถึง 300000 Pa

16. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 15 ในที่ซึ่งหอกลั่นหลายขั้นตอน ต่อเนื่อง C ดังกล่าวมีอัตราส่วนการแกว่งในช่วงจาก 0.3 ถึง 5

17. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 16 ในที่ซึ่งส่วนของไดออลในส่วน ประกอบด้านบนหอดังกล่าว CT ไม่มากกว่า 100 ส่วนในล้านส่วน

18. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 17 ในที่ซึ่งส่วนประกอบของไดออล ในส่วนประกอบส่วนตัดด้านข้าง CS ดังกล่าวไม่มากกว่า 0.5% ของไดออลที่ถูกป้อนเข้าไปในหอกลั่น หลายขั้นตอนต่อเนื่อง C

19. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 18 ในที่ซึ่ง LE1, DE1, LE1 / DE1, nE1, LE2, DE2, LE2 / DE2, และ nE2 สำหรับหอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่อง E สอดคล้องกับ 500(สูตร)LE1(สูตร) 2000, 100(สูตร)DE1(สูตร)500, 3(สูตร)LE1 / DE1(สูตร)20, 5(สูตร)nE1(สูตร)20, 700(สูตร)LE2(สูตร)3000, 120(สูตร)DE2(สูตร) 800, 3(สูตร)LE2 / DE2(สูตร)20, 7(สูตร)nE2(สูตร)30 และ DE1(สูตร)DE2

20. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 19 ในที่ซึ่งส่วนภายในในส่วนสตริป ปิ้งและส่วน เอ็นริชเม้นท์ ของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ดังกล่าว ที่ไม่รวมถึงถาดแบบปล่องเป็น ถาดและ/หรือสิ่งบรรจุ

21. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 20 ในที่ซึ่งส่วนภายในในส่วนสตริปปิ้งและส่วน เอ็นริช เม้นท์ ของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ดังกล่าว ที่ไม่รวมถึงถาดแบบปล่องเป็นถาด

22. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 21 ในที่ซึ่งถาดดังกล่าวเป็นถาดแบบตะแกรง

23. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 22 ในที่ซึ่งถาดแบบตะแกรงดังกล่าวมี 150 ถึง 1200 รู/m2 ในส่วนซีฟของมัน และพื้นที่ตัดขวางต่อรูในช่วงจาก 0.5 ถึง 5 ซม.2

24. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 12 หรือ 23 ในที่ซึ่งอัตราส่วนรู (อัตราส่วนของพื้นที่ ตัดขวางทั้งหมดของรูในหนึ่งถาดแบ่งเป็นพื้นที่ของถาด) ของถาดแบบตะแกรงดังกล่าวในส่วนสตริปปิ้ง ของหอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่อง E ดังกล่าวอยู่ในช่วงจาก 3 ถึง 25%

25. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 22 ถึง 24 ในที่ซึ่งอัตราส่วนรู (อัตราส่วน ของพื้นที่ตัดขวางทั้งหมดของรูในหนึ่งถาดแบ่งเป็นพื้นที่ของถาด) ของถาดแบบตะแกรงดังกล่าวในส่วน เอ็นริชเม้นท์ ของหอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่อง E ดังกล่าวอยู่ในช่วงจาก 2 ถึง 20%

26. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 25 ในที่ซึ่งอัตราส่วนรู (อัตราส่วน ของพื้นที่ตัดขวางทั้งหมดของช่องเปิดในปล่องกับพื้นที่ของถาดแบบปล่องที่รวมถึงพื้นที่ตัดขวางทั้งหมด ของช่องเปิด) ของถาดแบบปล่องดังกล่าวของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ดังกล่าวอยู่ในช่วงจาก 5 ถึง 40%

27. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 26 ในที่ซึ่งหอกลั่นหลายขั้นตอน ต่อเนื่อง E ดังกล่าวมีอุณหภูมิด้านล่างหอในช่วงจาก 110 ถึง 210 ํC

28. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 28 ในที่ซึ่งหอกลั่นหลายขั้นตอน ต่อเนื่อง E ดังกล่าวมีอัตราส่วนการรีฟลักซ์ในช่วงจาก 6 ถึง 100

29. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 28 ในที่ซึ่งความบริสุทธิ์ของไดออล ในส่วนประกอบส่วนตัดด้านข้างดังกล่าว ES ไม่น้อยกว่า 99%

30. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 29 ในที่ซึ่งความบริสุทธิ์ของไดออล ในส่วนประกอบส่วนตัดด้านข้างดังกล่าว ES ไม่น้อยกว่า 99.9% นอกจากนี้ตามความมุ่งหมายที่สองของการประดิษฐ์นี้ มันถูกจัดให้มีขึ้นซึ่ง:

31. ไดออลความบริสุทธิ์สูงที่ถูกผลิตโดยกระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 30 ซึ่ง ประกอบด้วยส่วนประกอบของความไม่บริสุทธิ์จุดเดือดสูงเช่นไดอัลคิลีนไกลคอลที่ไม่มากกว่า 200 ส่วน ในล้านส่วนและส่วนประกอบฮาโลเจนไม่มากกว่า 0.1 ส่วนในล้านส่วน

32. ไดออลความบริสุทธิ์สูงที่ถูกผลิตโดยกระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 1 ถึง 30 ซึ่ง ประกอบด้วยส่วนประกอบของความไม่บริสุทธิ์จุดเดือดสูงเช่นไดอัลคิลีนไกลคอลที่ไม่มากกว่า 100 ส่วน ในล้านส่วนและส่วนประกอบฮาโลเจนไม่มากกว่า 1 ส่วนในพันล้านส่วน

33. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C และหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E สำหรับการทำ กระบวนการสำหรับการผลิตไดออลความบริสุทธิ์สูงโดยการนำคาร์บอเนตไซคลิกและอะลิฟาติกโม โนไฮดริกแอลกอฮอล์เป็นสารตั้งต้น กระบวนการประกอบด้วยขั้นตอนของ: (I) การป้อนอย่างต่อเนื่องของสารตั้งต้นเข้าไปในหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง A ในที่ซึ่งตัวเร่ง มีอยู่ การทำการกลั่นปฏิกิริยาในหอ A, การเอาออกอย่างต่อเนื่องของส่วนผสมปฏิกิริยาจุดเดือดต่ำ AT ที่ ประกอบด้วยไดอัลคิลคาร์บอเนตที่ถูกผลิตและอลิฟาติกโมโนไฮดริกแอลกอฮอล์จากส่วนด้านบนของ หอ A ในสภาวะก๊าซ และการนำออกอย่างต่อเนื่องของส่วนผสมปฏิกิริยาจุดเดือดสูง AB ที่ประกอบด้วย ไดออลที่ถูกผลิตจากส่วนด้านล่างของหา A ในรูปแบบของเหลว (II) การป้อนอย่างต่อเนื่องของส่วนผสมปฏิกิริยาจุดเดือดสูง AB เข้าไปในหอกลั่นหลายขั้นตอน ต่อเนื่อง C การกลั่นออกวัสดุที่มีจุเดือดต่ำกว่าของไดออลที่อยู่ในส่วนผสมปฏิกิริยาจุดเดือดสูง AB เป็น ส่วนประกอบด้านบนหอ CT และ/หรือส่วนประกอบส่วนตัดด้านข้าง CS และการถอนอย่างต่อเนื่องของ ส่วนประกอบด้านล่างหอ CB ที่มีไดออลเป็นส่วนประกอบหลักของมันจากส่วนด้านล่างของหอกลั่น C; และ (III) การป้อนอย่างต่อเนื่องส่วนประกอบด้านล่างหอ CB เข้าไปในหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E และได้มาซึ่งไดออลเป็นส่วนประกอบส่วนตัดด้านข้าง ES จากช่องทางออกส่วนตัดด้านข้างของหอ กลั่นหลายขั้นต่อเนื่อง E ในที่ซึ่งการปรับปรุงประกอบด้วย: (a) หอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่องดังกล่าว C ประกอบด้วยหอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่องที่ประกอบด้วย ส่วนสติปปิ้งที่มีความยาว LC1 (ซม.), เส้นผ่านศูนย์กลางภายใน DC1 (ซม.) และส่วนภายในที่มีจำนวน ขั้นตอน nC1 อยู่ภายใน และส่วน เอ็นริชเม้นท์ ที่มีความยาว LC2 (ซม.), เส้นผ่านศูนย์กลางภายใน DC2 (ซม.) และส่วนภายในที่มีจำนวนขั้นตอน nC2 อยู่ภายใน ในที่ซึ่ง LC1, DC1, nC1, LC2, DC2 และ nC2 สอดคล้องสูตรต่อไปนี้ (1) ถึง (9): 300(สูตร)LC1(สูตร)3000 (1) 50(สูตร)DC1(สูตร)700 (2) 3(สูตร)LC1/DC1(สูตร)30 (3) 3(สูตร)nC1(สูตร)30 (4) 1000(สูตร)LC2(สูตร)5000 (5) 50(สูตร)DC2(สูตร)500 (6) 10(สูตร)LC2/DC2(สูตร)50 (7) 20(สูตร)nC2(สูตร)100 (8) และ DC2(สูตร)DC1 (9) (b) ส่วน เอ็นริชเม้นท์ ของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ดังกล่าวมีอย่างน้อยหนึ่งถาดแบบ ปล่องถูกติดตั้งด้านในเป็นส่วนภายใน ถาดแบบปล่องที่ติดตั้งภายในอันหนึ่งหรือมากกว่าปล่อง แต่ละอัน ที่มีช่องเปิดที่มีพื้นที่ตัดขวาง SC (ซม.2) สอดคล้องกับสูตร (10) 200(สูตร)SC(สูตร)1000 (10) และแต่ละปล่องที่ซึ่งความสูง hC (ซม.) จากช่องเปิดดังกล่าวของปล่องดังกล่าวไปยังช่องออกก๊าซของ ปล่องดังกล่าวสอดคล้องกับสูตร 10(สูตร)hC(สูตร)80 (11) (c) ช่องทางออกส่วนตัดด้านข้างถูกเชื่อมต่อกับส่วนเก็บของเหลวของถาดแบบปล่องดังกล่าวของ หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ดังกล่าว (d) หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่องดังกล่าว E ที่ประกอบด้วยหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่องที่ ประกอบด้วยส่วนสติปปิ้งที่มีความยาว LE1 (ซม.) เส้นผ่านศูนย์กลางภายใน DE1 (ซม.) และส่วนภายใน ที่มีหลายขั้นตอน nE1 อยู่ภายใน และส่วน เอ็นริชเม้นท์ ที่มีความยาว LE2 (ซม.), เส้นผ่านศูนย์กลาง ภายใน DE2 (ซม.) และส่วนภายในที่มีหลายขั้นตอน nE2 อยู่ภายใน ในที่ซึ่ง LE1, DE1, nE1, LE2, DE2 และ nE2 สอดคล้องกับสูตรต่อไปนี้ (12) ถึง (20): 400(สูตร)LE1(สูตร)3000 (12) 50(สูตร)DE1(สูตร)700 (13) 2(สูตร)LE1/DE1(สูตร)50 (14) 3(สูตร)nE1(สูตร)30 (15) 600(สูตร)LE2(สูตร)4000 (16) 100(สูตร)DE2(สูตร)1000 (17) 2(สูตร)LE2/DE2(สูตร)30 (18) 5(สูตร)nE2(สูตร)50 (19) DE2(สูตร)DE1 (20) (e) ส่วน เอ็นริชเม้นท์ ของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ดังกล่าวมีอย่างน้อยหนึ่งถาดแบบ ปล่องที่ถูกติดตั้งภายในเป็นส่วนภายใน ถาดแบบปล่องที่ได้ตั้งภายในอย่างน้อยสองปล่องแต่ละอันที่มี ช่องเปิดที่มีพื้นที่ตัดขวาง SE (ซม.2) สอดคล้องกับสูตร (21): 50(สูตร)SE(สูตร)2000 (21) และแต่ละอันของปล่องที่ซึ่งมีความสูง hE (ซม.) จากช่องเปิดดังกล่าวของปล่องดังกล่าวยังช่องทางออก ก๊าซของปล่องดังกล่าวสอดคล้องกับสูตร (22) 20(สูตร)hE(สูตร)100 (22); และ (f) ช่องทางออกถูกเชื่อมต่อกับส่วนเก็บของเหลวของถาดแบบปล่องดังกล่าวของหอกลั่นหลาย ขั้นตอนต่อเนื่อง E ดังกล่าว

34. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ตามข้อถือสิทธิข้อ 33 ในที่ซึ่งจำนวนมาก (ขั้นตอน nC3) ของถาด K ยังคงถูกจัดให้มีขึ้นต่อไปในส่วนด้านล่างของภายในในส่วนด้านล่างสุดของส่วนสตริปปิ้งซึ่ง อยู่ในส่วนด้านล่างของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ดังกล่าว น้ำถูกถอนออกอย่างต่อเนื่องจากขั้นตอน ด้านบนสุดของถาด K ดังกล่าว และภายหลังความร้อนถูกให้เพื่อจำเป็นสำหรับการกลั่นในตัวต้มซ้ำ ของเหลวที่ถูกให้ความร้อนถูกกลับเข้าไปในหอกลั่น C จากช่องการป้อนที่ถูกจัดให้มีขึ้นระหว่างขั้นตอน ด้านบนสุดของถาด K ดังกล่าว และภายในในส่วนด้านล่างสุดของส่วนสตริปปิ้ง ในขณะที่ส่วนที่เหลือ ของของเหลวถูกป้อนเข้าไปในถาดด้านล่างตามลำดับ

35. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ตามข้อถือสิทธิข้อที่ 34 ในที่ซึ่งแต่ละถาด K เป็นถาดแบฟ เฟิล

36. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ตามข้อถือสิทธิข้อที่ 34 หรือ 35 ในที่ซึ่งเส้นผ่านศูนย์กลาง ภายใน DC3 ของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่องดังกล่าว C ในที่ซึ่งถาด K มีอยู่สอดคล้องกับ DC1(สูตร)DC3

37. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 34 ถึง 36 ในที่ซึ่ง LC1, DC1, LC1 / DC1, nC1, LC2, DC2, LC2 / DC2, nC2 และ nC3 สำหรับหอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่อง C สอดคล้อง ตามลำดับกับ 500(สูตร)LC1(สูตร)2000, 70(สูตร)DC1(สูตร)500, 5(สูตร)LC1 / DC1(สูตร)20, 5(สูตร)nC1(สูตร)20, 1500(สูตร) LC2(สูตร)4000, 70(สูตร)DC2(สูตร)400, 15(สูตร)LC2 / DC2(สูตร)40, 30(สูตร)nC2(สูตร)90 และ 3(สูตร)nC3(สูตร)20

38. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 33 ถึง 37 ในที่ซึ่งส่วน ภายในในส่วนสตริปปิ้งของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ดังกล่าวและส่วนภายในที่ไม่รวมถึงถาด แบบปล่องในส่วน เอ็นริชเม้นท์ เป็นถาดและ/หรือสิ่งบรรจุ

39. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ตามข้อถือสิทธิข้อที่ 38 ในที่ซึ่งส่วนภายในในส่วนสตริปปิ้ง ของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ดังกล่าวเป็นถาด และส่วนภายในที่ไม่รวมถึงถาดแบบปล่องในส่วน เอ็นริชเม้นท์ เป็นถาดและ/หรือสิ่งบรรจุที่เป็นโครงสร้าง

40. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ตามข้อถือสิทธิข้อที่ 38 หรือ 39ในที่ซึ่งถาดดังกล่าวเป็นถาด แบบตะแกรง

41. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ตามข้อถือสิทธิข้อที่ 40 ในที่ซึ่งถาดแบบตะแกรงดังกล่าวมี 100 ถึง 1000 รู/m2 ในส่วนซีฟของมัน และพื้นที่ตัดขวางต่อรูในช่วงจาก 0.5 ถึง 5 ซม.2

42. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ตามข้อถือสิทธิข้อที่ 40 หรือ 41 ในที่ซึ่งอัตราส่วนรู (อัตราส่วนของพื้นที่ตัดขวางทั้งหมดของรูในหนึ่งถาดแบ่งเป็นพื้นที่ของถาด) ของถาดแบบตะแกรง ดังกล่าวในส่วน เอ็นริชเม้นท์ ของหอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่อง C ดังกล่าวอยู่ในช่วงจาก 2 ถึง 15%

43. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 40 ถึง 42 ในที่ซึ่ง อัตราส่วนรู (อัตราส่วนของพื้นที่ตัดขวางทั้งหมดของรูในหนึ่งถาดแบ่งเป็นพื้นที่ของถาด) ของถาดแบบ ตะแกรงดังกล่าวในส่วน เอ็นริชเม้นท์ ของหอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่อง C ดังกล่าวอยู่ในช่วงจาก 1.5 ถึง 12%

44. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 33 ถึง 43 ในที่ซึ่ง อัตราส่วนรู (อัตราส่วนของพื้นที่ตัดขวางทั้งหมดของช่องเปิดในปล่องกับพื้นที่ของถาดแบบปล่องที่ รวมถึงพื้นที่ตัดขวางทั้งหมดของช่องเปิด) ของถาดแบบปล่องดังกล่าวของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง C ดังกล่าวอยู่ในช่วงจาก 10 ถึง 40%

45. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 33 ถึง 44 ในที่ซึ่ง LE1, DE1, LE1 / DE1, nE1, LE2, DE2, LE2 / DE2, และ nE2 สำหรับหอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่อง E สอดคล้องกับ 500(สูตร)LE1(สูตร)2000, 100(สูตร)DE1(สูตร)500, 3(สูตร)LE1 / DE1(สูตร)20, 5(สูตร)nE1(สูตร)20, 700(สูตร) LE2(สูตร)3000, 120(สูตร)DE2(สูตร)800, 3(สูตร)LE2 / DE2(สูตร)20, 7(สูตร)nE2(สูตร)30 และ DE1(สูตร)DE2

46. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 33 ถึง 45 ในที่ซึ่งส่วน ภายในในส่วนสตริปปิ้งและส่วน เอ็นริชเม้นท์ ของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ดังกล่าว ที่ไม่รวมถึง ถาดแบบปล่องเป็นถาดและ/หรือสิ่งบรรจุ

47. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ตามข้อถือสิทธิข้อที่ 46 ในที่ซึ่งส่วนภายในในส่วนสตริปปิ้ง และส่วน เอ็นริชเม้นท์ ของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ดังกล่าว ที่ไม่รวมถึงถาดแบบปล่องเป็นถาด

48. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ตามข้อถือสิทธิข้อที่ 47 ในที่ซึ่งถาดดังกล่าวเป็นถาดแบบ ตะแกรง

49. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ตามข้อถือสิทธิข้อที่ 48 ในที่ซึ่งถาดแบบตะแกรงดังกล่าวมี 150 ถึง 1200 รู/m2 ในส่วนซีฟของมัน และพื้นที่ตัดขวางต่อรูในช่วงจาก 0.5 ถึง 5 ซม.2

50. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ตามข้อถือสิทธิข้อที่ 48 หรือ 49 ในที่ซึ่งอัตราส่วนรู (อัตราส่วนของพื้นที่ตัดขวางทั้งหมดของรูในหนึ่งถาดแบ่งเป็นพื้นที่ของถาด) ของถาดแบบตะแกรง ดังกล่าวในส่วนสตริปปิ้งของหอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่อง E ดังกล่าวอยู่ในช่วงจาก 3 ถึง 25%

51. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 48 ถึง 50 ในที่ซึ่ง อัตราส่วนรู (อัตราส่วนของพื้นที่ตัดขวางทั้งหมดของรูในหนึ่งถาดแบ่งเป็นพื้นที่ของถาด) ของถาดแบบ ตะแกรงดังกล่าวในส่วน เอ็นริชเม้นท์ ของหอกลั่นหลายขั้นต่อเนื่อง E ดังกล่าวอยู่ในช่วงจาก 2 ถึง 20%

52. หอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อที่ 33 ถึง 51 ในที่ซึ่ง อัตราส่วนรู (อัตราส่วนของพื้นที่ตัดขวางทั้งหมดของช่องเปิดในปล่องกับพื้นที่ของถาดแบบปล่องที่ รวมถึงพื้นที่ตัดขวางทั้งหมดของช่องเปิด) ของถาดแบบปล่องดังกล่าวของหอกลั่นหลายขั้นตอนต่อเนื่อง E ดังกล่าวอยู่ในช่วงจาก 5 ถึง 40%