TH85401A - อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบซับสเตรต - Google Patents

อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบซับสเตรต

Info

Publication number
TH85401A
TH85401A TH601002433A TH0601002433A TH85401A TH 85401 A TH85401 A TH 85401A TH 601002433 A TH601002433 A TH 601002433A TH 0601002433 A TH0601002433 A TH 0601002433A TH 85401 A TH85401 A TH 85401A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
coil
substrate
coating
physical vapor
conductive material
Prior art date
Application number
TH601002433A
Other languages
English (en)
Other versions
TH85401B (th
Inventor
อัลฟอนซูส ฟรานซิสคุส มาเรีย เชด แวน เวสทรัม นายโจฮันเนส
คริสตอฟ เบอร์นาร์ด บัพทิสต์ นายลอเรนท์
ไกลจ์ม์ นายเกอราร์ดัส
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายรุทร นพคุณ
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายรุทร นพคุณ filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH85401B publication Critical patent/TH85401B/th
Publication of TH85401A publication Critical patent/TH85401A/th

Links

Abstract

DC60 (24/08/49) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับอุปกรณ์สำหรับการเคลือบซับสเตรตโดยใช้การเกาะจับไอทาง กายภาพ ซึ่งประกอบด้วยช่องสุญญากาศซึ่งขดลวดได้รับการใส่ไว้สำหรับการคงวัสดุนำไฟฟ้า ปริมาณหนึ่งไว้ในการลอยและสำหรับทำความร้อนและทำให้วัสดุนั้นกลายเป็นไอ โดยใช้กระแส ไฟ ฟ้าแปรผันในขดลวด และซึ่งวิถีทางได้รับการใส่ไว้ในขดลวดเพื่อกั้นแยกขดลวดจากวัสดุลอย ดัง กล่าว ตามการประดิษฐ์นี้ อุปกรณ์มีลักษณะเฉพาะซึ่งวิถีทางการกั้นแยกเป็นส่วนหนึ่งของ ภาชนะ บรรจุที่ทำมาจากวัสดุไม่นำไฟฟ้า ภาชนะบรรจุมีช่องเปิดหนึ่งหรือหลายช่องสำหรับการนำ วัสดุนำ ไฟฟ้าที่กลายเป็นไอแล้วไปยังซับสเตรตที่จะได้รับการเคลือบ การประดิษฐ์นี้ยังเกี่ยวข้อง กับวิธีการ สำหรับการเคลือบซับสเตรตโดยใช้การเกาะจับไอทางกายภาพอีกด้วย การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับอุปกรณ์สำหรับการเคลือบซับสเตรตโดยใช้การเกาะจับไอทาง กายภาพ ซึ่งประกอบด้วยช่องสุญญากาศซึ่งขดลวดได้รับการใส่ไว้สำหรับการคงวัสดุนำไฟฟ้า ปริมาณหนึ่งไว้ในการลอยและสำหรับทำความร้อนและทำให้วัสดุนั้นกลายเป็นไอ โดยใช้กระแส ไฟฟ้าแปรผันในขดลวด และซึ่งวิถีทางได้รับการใส่ไว้ในขดลวดเพื่อกั้นแยกขดลวดจากวัสดุลอย ดังกล่าว ตามการประดิษฐ์นี้ อุปกรณ์มีลักษณะเฉพาะซึ่งวิถีทางการกั้นแยกเป็นส่วนหนึ่งของภาชนะ บรรจุที่ทำมาจากวัสดุไม่นำไฟฟ้า ภาชนะบรรจุมีช่องเปิดหนึ่งหรือหลายช่องสำหรับการนำวัสดุนำ ไฟฟ้าที่กลายเป็นไอแล้วไปยังซับสเตรตที่จะได้รับการเคลือบ การประดิษฐ์นี้ยังเกี่ยวข้องกับวิธีการ สำหรับการเคลือบซับสเตรตโดยใช้การเกาะจับไอทางกายภาพอีกด้วย

Claims (1)

: DC60 (24/08/49) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับอุปกรณ์สำหรับการเคลือบซับสเตรตโดยใช้การเกาะจับไอทาง กายภาพ ซึ่งประกอบด้วยช่องสุญญากาศซึ่งขดลวดได้รับการใส่ไว้สำหรับการคงวัสดุนำไฟฟ้า ปริมาณหนึ่งไว้ในการลอยและสำหรับทำความร้อนและทำให้วัสดุนั้นกลายเป็นไอ โดยใช้กระแส ไฟ ฟ้าแปรผันในขดลวด และซึ่งวิถีทางได้รับการใส่ไว้ในขดลวดเพื่อกั้นแยกขดลวดจากวัสดุลอย ดัง กล่าว ตามการประดิษฐ์นี้ อุปกรณ์มีลักษณะเฉพาะซึ่งวิถีทางการกั้นแยกเป็นส่วนหนึ่งของ ภาชนะ บรรจุที่ทำมาจากวัสดุไม่นำไฟฟ้า ภาชนะบรรจุมีช่องเปิดหนึ่งหรือหลายช่องสำหรับการนำ วัสดุนำ ไฟฟ้าที่กลายเป็นไอแล้วไปยังซับสเตรตที่จะได้รับการเคลือบ การประดิษฐ์นี้ยังเกี่ยวข้อง กับวิธีการ สำหรับการเคลือบซับสเตรตโดยใช้การเกาะจับไอทางกายภาพอีกด้วย การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับอุปกรณ์สำหรับการเคลือบซับสเตรตโดยใช้การเกาะจับไอทาง กายภาพ ซึ่งประกอบด้วยช่องสุญญากาศซึ่งขดลวดได้รับการใส่ไว้สำหรับการคงวัสดุนำไฟฟ้า ปริมาณหนึ่งไว้ในการลอยและสำหรับทำความร้อนและทำให้วัสดุนั้นกลายเป็นไอ โดยใช้กระแส ไฟฟ้าแปรผันในขดลวด และซึ่งวิถีทางได้รับการใส่ไว้ในขดลวดเพื่อกั้นแยกขดลวดจากวัสดุลอย ดังกล่าว ตามการประดิษฐ์นี้ อุปกรณ์มีลักษณะเฉพาะซึ่งวิถีทางการกั้นแยกเป็นส่วนหนึ่งของภาชนะ บรรจุที่ทำมาจากวัสดุไม่นำไฟฟ้า ภาชนะบรรจุมีช่องเปิดหนึ่งหรือหลายช่องสำหรับการนำวัสดุนำ ไฟฟ้าที่กลายเป็นไอแล้วไปยังซับสเตรตที่จะได้รับการเคลือบ การประดิษฐ์นี้ยังเกี่ยวข้องกับวิธีการ สำหรับการเคลือบซับสเตรตโดยใช้การเกาะจับไอทางกายภาพอีกด้วยข้อถือสิทธิ์ (ข้อที่หนึ่ง) ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :
1. อุปกรณ์สำหรับการเคลือบซับสเตรตโดยการใช้การเกาะจับไอทางกายภาพ ซึ่ง ประกอบด้วยห้องสุญญากาศที่ซึ่งขดลวด (1) ได้รับการใส่สำหรับการคงปริมาณวัสดุนำไฟฟ้าที่ ลอยอยู่และสำหรับทำความร้อนและทำให้วัสดุนั้นระเหยเป็นไอ โดยที่ใช้กระแสไฟฟ้าแปรผันใน ขดลวด (1) ที่ซึ่งวิถีทางได้รับการใส่ไว้ในขดลวดเพื่อกั้นแยกขดลวด (1) จากวัสดุลอย และที่ซึ่งวิถีแท็ก :
TH601002433A 2006-05-29 อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบซับสเตรต TH85401A (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH85401B TH85401B (th) 2007-07-05
TH85401A true TH85401A (th) 2007-07-05

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
UA87916C2 (ru) Устройств и способ для нанесения покрытия
RU2020135824A (ru) Изделие для использования с устройством для нагрева образующего дым материала
TW200801228A (en) Method and apparatus for photo-excitation of chemicals for atomic layer deposition of dielectric film
TWI264473B (en) Vacuum deposition device and vacuum deposition method
WO2008105287A1 (ja) 蒸着源、蒸着装置、有機薄膜の成膜方法
TW200602512A (en) High thickness uniformity vaporization source
PL1752554T3 (pl) Urządzenie do naparowywania
TWI245808B (en) Organic EL of evaporation device for evaporation
MX2015004055A (es) Componentes electricos y metodos y sistemas de fabricacion de componentes electricos.
TW200622013A (en) Arrangement for coating substrate
RU2009128025A (ru) Постоянный магнит и способ его изготовления
BR0307800B1 (pt) método e dispositivo para o revestimento de um substrato.
WO2006081352A3 (en) System for and method of planarizing the contact region of a via by use of a continuous inline vacuum deposition process
CN102511080A (zh) 钝化粘合层以改善无定形碳到金属附着力
TH85401A (th) อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบซับสเตรต
TH85401B (th) อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบซับสเตรต
TW200624577A (en) Controlling the vaporization of organic material
MX2022003189A (es) Sistema de administración de fármacos con sustratos apilables.
DE102004034103A1 (de) Verfahren zur Abscheidung von Silizium und Germanium enthaltenen Schichten und Schichtfolgen unter Verwendung von nicht-kontinuierlicher Injektion von flüssigen und gelösten Ausgangssubstanzen über eine Mehrkanalinjektionseinheit
RU2009141711A (ru) Детектирование отпечатка пальца
WO2005020277A3 (en) Electron beam enhanced large area deposition system
CN109072425A (zh) 等离子体沉积方法
US20160013032A1 (en) Cathode assembly, physical vapor deposition system, and method for physical vapor deposition
TWI266807B (en) Method and apparatus for manufacturing thin film
JP2019089311A (ja) ガスバリア膜、ガスバリアフィルム、有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子ペーパー並びにガスバリアフィルムの製造方法