TH85401B - อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบซับสเตรต - Google Patents
อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบซับสเตรตInfo
- Publication number
- TH85401B TH85401B TH601002433A TH0601002433A TH85401B TH 85401 B TH85401 B TH 85401B TH 601002433 A TH601002433 A TH 601002433A TH 0601002433 A TH0601002433 A TH 0601002433A TH 85401 B TH85401 B TH 85401B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- coil
- substrate
- coating
- physical vapor
- equipment
- Prior art date
Links
Abstract
การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับอุปกรณ์สำหรับการเคลือบซับสเตรตโดยใช้การเกาะจับไอทาง กายภาพ ซึ่งประกอบด้วยช่องสุญญากาศซึ่งขดลวดได้รับการใส่ไว้สำหรับการคงวัสดุนำไฟฟ้า ปริมาณหนึ่งไว้ในการลอยและสำหรับทำความร้อนและทำให้วัสดุนั้นกลายเป็นไอ โดยใช้กระแส ไฟฟ้าแปรผันในขดลวด และซึ่งวิถีทางได้รับการใส่ไว้ในขดลวดเพื่อกั้นแยกขดลวดจากวัสดุลอย ดังกล่าว ตามการประดิษฐ์นี้ อุปกรณ์มีลักษณะเฉพาะซึ่งวิถีทางการกั้นแยกเป็นส่วนหนึ่งของภาชนะ บรรจุที่ทำมาจากวัสดุไม่นำไฟฟ้า ภาชนะบรรจุมีช่องเปิดหนึ่งหรือหลายช่องสำหรับการนำวัสดุนำ ไฟฟ้าที่กลายเป็นไอแล้วไปยังซับสเตรตที่จะได้รับการเคลือบ การประดิษฐ์นี้ยังเกี่ยวข้องกับวิธีการ สำหรับการเคลือบซับสเตรตโดยใช้การเกาะจับไอทางกายภาพอีกด้วย
Claims (1)
1. อุปกรณ์สำหรับการเคลือบซับสเตรตโดยการใช้การเกาะจับไอทางกายภาพ ซึ่ง ประกอบด้วยห้องสุญญากาศที่ซึ่งขดลวด (1) ได้รับการใส่สำหรับการคงปริมาณวัสดุนำไฟฟ้าที่ ลอยอยู่และสำหรับทำความร้อนและทำให้วัสดุนั้นระเหยเป็นไอ โดยที่ใช้กระแสไฟฟ้าแปรผันใน ขดลวด (1) ที่ซึ่งวิถีทางได้รับการใส่ไว้ในขดลวดเพื่อกั้นแยกขดลวด (1) จากวัสดุลอย และที่ซึ่งวิถี
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH85401A TH85401A (th) | 2007-07-05 |
| TH85401B true TH85401B (th) | 2007-07-05 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| UA87916C2 (ru) | Устройств и способ для нанесения покрытия | |
| CN107620051A (zh) | 覆铜板及其制造方法 | |
| WO2006125086A3 (en) | Multi-layer coating system and method | |
| TW200801228A (en) | Method and apparatus for photo-excitation of chemicals for atomic layer deposition of dielectric film | |
| PL1952183T3 (pl) | Sposób powlekania artykułu optycznego antyzabrudzeniową wierzchnią powłoką przez próżniowe naparowanie | |
| GB2450950B (en) | A method for the manufacture of a hard material coating on a substrate | |
| TW200602512A (en) | High thickness uniformity vaporization source | |
| JP2010517224A (ja) | 封入されたグラファイト加熱器および方法 | |
| TW200606268A (en) | Evaporation source for organic material and organic vapor deposition system | |
| MX350165B (es) | Componentes eléctricos y métodos y sistemas de fabricación de componentes eléctricos. | |
| KR20160097326A (ko) | 표면 코팅 | |
| EP4130332A3 (en) | Spallation resistant thermal barrier coating | |
| BR0307800B1 (pt) | método e dispositivo para o revestimento de um substrato. | |
| ATE347735T1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur beschichtung von substraten im vakuum | |
| TH85401B (th) | อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบซับสเตรต | |
| TH85401A (th) | อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบซับสเตรต | |
| CN109072425A (zh) | 等离子体沉积方法 | |
| KR101087685B1 (ko) | 진공증착장치 | |
| RU2009141711A (ru) | Детектирование отпечатка пальца | |
| US10804083B2 (en) | Cathode assembly, physical vapor deposition system, and method for physical vapor deposition | |
| MX2020006058A (es) | Instalacion de deposicion en vacio y metodo para recubrir un sustrato. | |
| Tsuji et al. | Surface modification of silica glass by CHF3 plasma treatment and carbon negative-ion implantation for cell pattern adhesion | |
| JP2019089311A (ja) | ガスバリア膜、ガスバリアフィルム、有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子ペーパー並びにガスバリアフィルムの製造方法 | |
| KR101103369B1 (ko) | 진공증착방법 | |
| CN102828159A (zh) | 一种镀膜方法及镀膜器件 |