TH85401B - อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบซับสเตรต - Google Patents
อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบซับสเตรตInfo
- Publication number
- TH85401B TH85401B TH601002433A TH0601002433A TH85401B TH 85401 B TH85401 B TH 85401B TH 601002433 A TH601002433 A TH 601002433A TH 0601002433 A TH0601002433 A TH 0601002433A TH 85401 B TH85401 B TH 85401B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- coil
- substrate
- coating
- physical vapor
- equipment
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract 4
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 abstract 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 abstract 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 abstract 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 abstract 1
Abstract
การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับอุปกรณ์สำหรับการเคลือบซับสเตรตโดยใช้การเกาะจับไอทาง กายภาพ ซึ่งประกอบด้วยช่องสุญญากาศซึ่งขดลวดได้รับการใส่ไว้สำหรับการคงวัสดุนำไฟฟ้า ปริมาณหนึ่งไว้ในการลอยและสำหรับทำความร้อนและทำให้วัสดุนั้นกลายเป็นไอ โดยใช้กระแส ไฟฟ้าแปรผันในขดลวด และซึ่งวิถีทางได้รับการใส่ไว้ในขดลวดเพื่อกั้นแยกขดลวดจากวัสดุลอย ดังกล่าว ตามการประดิษฐ์นี้ อุปกรณ์มีลักษณะเฉพาะซึ่งวิถีทางการกั้นแยกเป็นส่วนหนึ่งของภาชนะ บรรจุที่ทำมาจากวัสดุไม่นำไฟฟ้า ภาชนะบรรจุมีช่องเปิดหนึ่งหรือหลายช่องสำหรับการนำวัสดุนำ ไฟฟ้าที่กลายเป็นไอแล้วไปยังซับสเตรตที่จะได้รับการเคลือบ การประดิษฐ์นี้ยังเกี่ยวข้องกับวิธีการ สำหรับการเคลือบซับสเตรตโดยใช้การเกาะจับไอทางกายภาพอีกด้วย
Claims (1)
1. อุปกรณ์สำหรับการเคลือบซับสเตรตโดยการใช้การเกาะจับไอทางกายภาพ ซึ่ง ประกอบด้วยห้องสุญญากาศที่ซึ่งขดลวด (1) ได้รับการใส่สำหรับการคงปริมาณวัสดุนำไฟฟ้าที่ ลอยอยู่และสำหรับทำความร้อนและทำให้วัสดุนั้นระเหยเป็นไอ โดยที่ใช้กระแสไฟฟ้าแปรผันใน ขดลวด (1) ที่ซึ่งวิถีทางได้รับการใส่ไว้ในขดลวดเพื่อกั้นแยกขดลวด (1) จากวัสดุลอย และที่ซึ่งวิถี
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH85401B true TH85401B (th) | 2007-07-05 |
| TH85401A TH85401A (th) | 2007-07-05 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| UA87916C2 (ru) | Устройств и способ для нанесения покрытия | |
| US20100206713A1 (en) | PZT Depositing Using Vapor Deposition | |
| AU2011208879B2 (en) | Method for the application of a conformal nanocoating by means of a low pressure plasma process | |
| TW200801228A (en) | Method and apparatus for photo-excitation of chemicals for atomic layer deposition of dielectric film | |
| CN107620051A (zh) | 覆铜板及其制造方法 | |
| WO2006125086A3 (en) | Multi-layer coating system and method | |
| CN103930192B (zh) | 表面聚合物涂层 | |
| GB2450950B (en) | A method for the manufacture of a hard material coating on a substrate | |
| TWI264473B (en) | Vacuum deposition device and vacuum deposition method | |
| WO2008105287A1 (ja) | 蒸着源、蒸着装置、有機薄膜の成膜方法 | |
| JP2010517224A (ja) | 封入されたグラファイト加熱器および方法 | |
| WO2009014394A3 (en) | Method for depositing ceramic thin film by sputtering using non-conductive target | |
| CN109072425A (zh) | 等离子体沉积方法 | |
| BR0307800A (pt) | Método e dispositivo para o revestimento de um substrato | |
| RU2009128025A (ru) | Постоянный магнит и способ его изготовления | |
| TW201034075A (en) | Process of preparing functional layers of electronic devices | |
| DE102004034103A1 (de) | Verfahren zur Abscheidung von Silizium und Germanium enthaltenen Schichten und Schichtfolgen unter Verwendung von nicht-kontinuierlicher Injektion von flüssigen und gelösten Ausgangssubstanzen über eine Mehrkanalinjektionseinheit | |
| Sui et al. | Mechanical properties and anti-corrosion behavior of the diamond-like carbon films | |
| KR101087685B1 (ko) | 진공증착장치 | |
| Stepanov et al. | Tangential cathode magnetic field and substrate bias influence on copper vacuum arc macroparticle content decreasing | |
| RU2009141711A (ru) | Детектирование отпечатка пальца | |
| TH85401A (th) | อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการเคลือบซับสเตรต | |
| JP2019089311A (ja) | ガスバリア膜、ガスバリアフィルム、有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子ペーパー並びにガスバリアフィルムの製造方法 | |
| WO2004114727A3 (en) | Process of vacuum evaporation of an electrically conductive material for nanoelectrospray emitter coatings | |
| CN104114740A (zh) | 低温电弧离子镀涂层 |