TH83149A - กระบวนการสำหรับการผลิต Si โดยการรีดักชัน SiCl4 ด้วยของเหลว Zn - Google Patents

กระบวนการสำหรับการผลิต Si โดยการรีดักชัน SiCl4 ด้วยของเหลว Zn

Info

Publication number
TH83149A
TH83149A TH601001271A TH0601001271A TH83149A TH 83149 A TH83149 A TH 83149A TH 601001271 A TH601001271 A TH 601001271A TH 0601001271 A TH0601001271 A TH 0601001271A TH 83149 A TH83149 A TH 83149A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
sicl4
metal
alloy containing
liquid
high purity
Prior art date
Application number
TH601001271A
Other languages
English (en)
Inventor
โรเบิร์ต นายเอริค
ซิจเลม่า นายจาคโค
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายบุญมา เตชะวณิช
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายบุญมา เตชะวณิช, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH83149A publication Critical patent/TH83149A/th

Links

Abstract

DC60 (19/06/49) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับการผลิตซิลิคอนที่มีความบริสุทธิ์เป็นวัสดุพื้นฐานสำหรับการผลิต ตัวอย่างเช่น เซลล์แสงอาทิตย์ซิลิคอนที่เป็นผลึก SiCl4 ถูกเปลี่ยนให้เป็นโลหะ Si โดยการสัมผัสกับแก๊ส SiCl4 กับของเหลว Zn, จากนั้น ได้ อัลลอยด์ที่มี Si และ Zn-คลอไรด์, ซึ่งถูกแยก จากนั้น อัลลอยด์ที่มี Si ถูกทำให้บริสุทธิ์ที่อุณหภูมิสูง กว่าจุดเดือดของ Zn กระบวนการนี้ไม่ต้องการเทคโนโลยีที่ซับซ้อนและให้ SiCl4 ที่มีความบริสุทธิ์สูงเมื่อถึง ผลิตภัณฑ์สุดท้าย, เนื่องจาก Zn เป็นสารทำปฏิกิริยาเคมีเพียงชนิดเดียว, ซึ่งสามารถได้ในคุณภาพที่ บริสุทธิ์สูงมาก ๆ และนำกลับไปทำกระบวนการใหม่อย่างต่อเนื่อง การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับการผลิตซิลิคอนที่มีความบริสุทธิ์เป็นวัสดุพื้นฐานสำหรับการผลิต ตัวอย่างเช่น เซลล์แสงอาทิตย์ซิลิคอนที่เป็นผลึก SiCl4 ถูกเปลี่ยนให้เป็นโลหะ Si โดยการสัมผัสกับแก๊ส SiCl4 กับของเหลว Zn จากนั้น ได้ อัลลอยด์ที่มี Si และ Zn-คลอไรด์, ซึ่งถูกแยก จากนั้น อัลลอยด์ที่มี Si ถูกทำให้บริสุทธิ์ที่อุณหภูมิสูง กว่าจุดเดือดของ Zn กระบวนการนี้ไม่ต้องการเทคโนโลยีที่ซับซ้อนและให้ SiCl4 ที่มีความบริสุทธิ์สูงเมื่อถึง ผลิตภัณฑ์สุดท้าย, เนื่องจาก Zn เป็นสารทำปฏิกิริยาเคมีเพียงชนิดเดียว, ซึ่งสามารถได้ในคุณภาพที่ บริสุทธิ์สูงมาก ๆ และนำกลับไปทำกระบวนการใหม่อย่างต่อเนื่อง

Claims (1)

1. กระบวนการสำหรับการเปลี่ยน SiCl4 ให้เป็นโลหะ Si, ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอน ของ: - การสัมผัสแก๊ส SiCl4 กับวัฏภาคโลหะของเหลวที่มี Zn, ดังนั้น จึงได้วัฏภาคโลหะที่มี Si และ Zn-คลอไรด์; - การแยก Zn-คลอไรด์ที่ได้จากวัฏภาคโลหะที่มี Si; และ - การทำให้วัฏภาคโลหะที่มี Si บริสุทธิ์ที่อุณหภูมิสูงกว่าจุดเดือดของ Zn, ดังนั้นจึงได้ Zn ที่เป็นไอและได้โลหะ Si, ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือว่าทำขั้นตอนการสัมผัส และการแยกในเครื่องปฏิกิริยาเดี่แท็ก :
TH601001271A 2006-03-22 กระบวนการสำหรับการผลิต Si โดยการรีดักชัน SiCl4 ด้วยของเหลว Zn TH83149A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH83149A true TH83149A (th) 2007-02-22

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9034292B2 (en) Method and apparatus for producing disilane through pyrolysis of monosilane
EA200870558A1 (ru) Способы получения стержней поликристаллического кремния высокой степени чистоты с использованием металлического средства-основы
NO20093163L (no) Prosess for gjenvinning av silisiummetall av hoy renhet
RU2011133919A (ru) Процесс получения поликристаллического кремния
WO2010029894A1 (ja) 高純度結晶シリコン、高純度四塩化珪素およびそれらの製造方法
JP6628895B2 (ja) アンモニアを合成する方法、および、その装置
EA200702060A1 (ru) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ Si ПУТЕМ ВОССТАНОВЛЕНИЯ SiClЖИДКИМ Zn
WO2006107020A1 (ja) 高純度無水塩化アルミニウム及びその製造方法
JP5440556B2 (ja) 高純度トリアルキルガリウム及びその製法
CN201400709Y (zh) 稀有金属碘化提纯装置
TH83149A (th) กระบวนการสำหรับการผลิต Si โดยการรีดักชัน SiCl4 ด้วยของเหลว Zn
US3019087A (en) Purification of silane
KR101758113B1 (ko) 테트라실란 및 펜타실란의 제조방법
CN102351195A (zh) 一种闭路循环生产多晶硅的工艺
RU2155158C1 (ru) Способ получения моноизотопного кремния si28
FR2983846B1 (fr) Procede de synthese ameliore de nanotubes de carbone sur multi-supports
UA93503C2 (ru) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ Si ПУТЕМ ВОССТАНОВЛЕНИЯ SiCl4 ЖИДКИМ Zn
JP5348186B2 (ja) 高純度トリアルキルガリウム及びその製法
CA2686640A1 (en) Polycrystalline germanium-alloyed silicon and a method for the production thereof
JP4904032B2 (ja) 精製ボラジン化合物の製造方法
CN108250230B (zh) 一种二异丙胺硅烷的精制方法
JP2008050268A (ja) 高純度トリアルキルガリウム及びその製法
JP2008081387A (ja) 高純度シリコンの製造方法
RU2519194C2 (ru) Способ получения тетрафторбората лития
RU2224711C2 (ru) Способ получения селена