TH64980A - สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียม - Google Patents
สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมInfo
- Publication number
- TH64980A TH64980A TH201004262A TH0201004262A TH64980A TH 64980 A TH64980 A TH 64980A TH 201004262 A TH201004262 A TH 201004262A TH 0201004262 A TH0201004262 A TH 0201004262A TH 64980 A TH64980 A TH 64980A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- cerium
- abrasive
- viscous liquid
- conforming
- liquid abrasive
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (13/12/45) สารขัดซึ่งประกอบด้วยซีเรียมออกไซด์ในฐานะเป็นส่วนประกอบหลัก มีความหนาแน่น จำเพาะรวมของตะกอนในช่วงเป็น 0.8 g/ml ถึง 1.0 g/ml เมื่อถูกกระจายในน้ำในปริมาณเป็น 10% โดยมวล มีขนาดอนุภาคระยะแรกในช่วงเป็น 40 nm ถึง 80 nm และพื้นที่ผิวจำเพาะในช่วงเป็น 2 ตารางเมตร/g ถึง 5 ตารางเมตร/g สารขัดที่ได้รับเช่นนี้จัดเตรียมสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของ สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมซึ่งเพิ่มอัตราเร็วการขัดและทำให้เกิดรอยขีดข่วนจำนวนน้อยที่สร้างความ- เสียหายบนผิวหน้าของสารขัดและได้รับคุณภาพที่สูงของผิวหน้าที่ได้รับการขัด สารขัดซึ่งประกอบด้วยซีเรียมออกไซด์ในฐานะเป็นส่วนประกอบหลัก มีความหนาแน่น จำเพาะรวมของตะกอนในช่วงเป็น 0.8 g/ml ถึง 1.0 g/ml เมื่อถูกกระจายในน้ำในปริมาณเป็น 10% โดยมวล มีขนาดอนุภาคระยะแรกในช่วงเป็น 40 nm ถึง 80 nm และพื้นที่ผิวจำเพาะในช่วงเป็น 2 m2/g ถึง 5 m2/g สารขัดที่ได้รับเช่นนี้จัดเตรียมสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของ สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมซึ่งเพิ่มอัตราเร็วการขัดและทำให้เกิดรอยขีดข่วนจำนวนน้อยที่สร้างความ- เสียหายบนผิวหน้าของสารขัดและได้รับคุณภาพที่สูงของผิวหน้าที่ได้รับการขัด
Claims (12)
1. สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมซึ่งประกอบด้วยซีเรียมออกไซด์ในฐานะเป็นส่วนประกอบหลัก ที่ถูกแสดงลักษณะเฉพาะโดยซึ่งสารขัดมีความหนาแน่นจำเพาะรวมของตะกอนในช่วงเป็น 0.8 g/ml ถึง 1.0 g/ml เมื่อถูกกระจายในน้ำในปริมาณเป็น 10% โดยมวล ที่ถูกแสดงลักษณะเฉพาะโดย การได้รับขนาดอนุภาคระยะแรกในช่วงเป็น 40 nm ถึง 80 nm และที่ถูกแสดงลักษณะเฉพาะโดยการ ได้รับพื้นที่ผิวจำเพาะในช่วงเป็น 2m2/g ถึง 5m2/g
2. สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ถูกแสดงลักษณะเฉพาะ โดยประกอบด้วย Ce ในปริมาณเป็น 35% โดยมวลหรือมากกว่าดังที่ถูกวัดในปริมาณของซีเรียม ออกไซด์
3. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมที่ถูกก่อรูปโดยการกระจายสารขัดที่มีฐานเป็น ซีเรียมในตัวกลางการกระจายตามความสอดคล้องกับข้อถือสิทธิ 1 หรือ 2 บรรลุถึงความเข้มข้น ในช่วงเป็น 5% ถึง 30% โดยมวล
4. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 3 ที่ถูก แสดงลักษณะเฉพาะโดยที่ตัวกลางการกระจายเป็นน้ำ
5. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 3 ที่ถูก แสดงลักษณะเฉพาะโดยที่ตัวกลางการกระจายเป็นตัวทำละลายอินทรีย์
6. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 5 ที่ถูก แสดงลักษณะเฉพาะโดยที่ตัวทำละลายอินทรีย์ประกอบด้วยอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่ถูกเลือกจาก หมู่ซึ่งประกอบด้วยแอลกอฮอล์ พอลิออล แอซีโทนและเตตระไฮโดรฟูแรน
7. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือ สิทธิข้อ 3 ถึง 6 ที่ถูกแสดงลักษณะเฉพาะโดยประกอบด้วยสารลดแรงตึงผิว
8. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 7 ที่ถูก แสดงลักษณะเฉพาะโดยสารลดแรงตึงผิวอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดถูกเลือกจากหมู่ซึ่งประกอบด้วย สารลดแรงตึงผิวชนิดแอนไอออนิกและสารลดแรงตึงผิวชนิดนอนไอออนิก
9. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือ สิทธิข้อ 8 ที่ถูกแสดงลักษณะเฉพาะโดยที่สารลดแรงตึงผิวชนิดแอนไอออนิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดถูกเลือกจากหมู่ซึ่งประกอบด้วยคาร์บอกซิเลต ซัลโฟเนต ซัลเฟตและหรือฟอสเฟตซึ่งมี น้ำหนักน้ำหนักโมเลกุลต่ำหรือน้ำหนักโมเลกุลสูง
10. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือ สิทธิข้อ 8 ที่ถูกแสดงลักษณะเฉพาะโดยที่สารลดแรงตึงผิวชนิดนอนไอออนิกอย่างน้อยที่สุดถูก เลือกจากหมู่ซึ่งประกอบด้วยพอลิออกซีเอธิลีนอัลคิลฟีนอลอีเธอร์ พอลิออกซีเอธิลีนอัลคิลอีเธอร์ และพอลิออกซีเอธิลีนแฟตตีแอสิดเอสเทอร์
11. วิธีการสำหรับการขัดซับสเทรตที่เป็นแก้วโดยใช้ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียม ตามความสอดคล้องกับข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อ 3 ถึง 10
12. กระบวนการสำหรับการผลิตซับสเทรตที่เป็นแก้วซึ่งรวมไปถึงขั้นตอนของการใช้วิธีการ สำหรับการขัดซับสเทรตที่เป็นแก้วตามความสอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 11
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH64980A true TH64980A (th) | 2004-11-18 |
| TH34401B TH34401B (th) | 2012-11-26 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5689970B2 (ja) | 高速及び低欠陥性のシリコン研磨組成物 | |
| KR101477826B1 (ko) | 유리 연마 조성물 및 방법 | |
| EP2665792B1 (en) | Silicon polishing compositions with improved psd performance | |
| KR101333866B1 (ko) | 산화인듐주석 표면의 cmp를 위한 조성물 및 방법 | |
| CN1935927B (zh) | 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 | |
| CN1282226C (zh) | 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 | |
| EP2776523B1 (en) | Additive mixture and composition and method for polishing glass substrates | |
| JP2002028850A (ja) | 研磨用組成物及び方法 | |
| CN102775916A (zh) | 一种提高蓝宝石表面质量的抛光组合物 | |
| EP1554357A1 (en) | Polishing slurry and polished substrate | |
| WO2015170743A1 (ja) | サファイア板用研磨液組成物 | |
| JP2832270B2 (ja) | ガラス研磨用研磨材 | |
| CN103740329A (zh) | 氧化铈抛光粉及其制备方法 | |
| TH34401B (th) | สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียม | |
| JP4021080B2 (ja) | 研磨液組成物 | |
| JPH0463428A (ja) | ウエハーのファイン研磨用濃縮組成物 | |
| JP4807905B2 (ja) | 研磨材スラリー及び研磨微粉 | |
| CN115011254A (zh) | 一种用于玻璃晶圆的化学机械抛光液及其制备方法和应用 | |
| CN100360631C (zh) | 一种有机碱腐蚀介质的稀土抛光液 | |
| CN102898953A (zh) | 铈基混合稀土抛光材料及其制备方法 | |
| WO2007018376A1 (en) | Producing method for cerium-based glass polishing material and method for using the same | |
| EP1350827B1 (en) | Abrasive, abrasive slurry, and method for manufacturing abrasive | |
| JP3857799B2 (ja) | ガラス研磨用研磨材組成物およびその研磨方法 | |
| JP2003213250A (ja) | セリウム系研磨材、セリウム系研磨材スラリー、ガラス基板の研磨方法及びガラス基板の製造方法 | |
| CN107325735B (zh) | 用于抛光蓝宝石基板的组合物和抛光蓝宝石基板的方法 |