TH64980A - สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียม - Google Patents

สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียม

Info

Publication number
TH64980A
TH64980A TH201004262A TH0201004262A TH64980A TH 64980 A TH64980 A TH 64980A TH 201004262 A TH201004262 A TH 201004262A TH 0201004262 A TH0201004262 A TH 0201004262A TH 64980 A TH64980 A TH 64980A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
cerium
abrasive
viscous liquid
conforming
liquid abrasive
Prior art date
Application number
TH201004262A
Other languages
English (en)
Other versions
TH34401B (th
Inventor
เบสโช นายนาโอกิ
Original Assignee
โชวะ เดนโกะ เคเค
นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์
นางสาวสนธยา สังขพงศ์
นายธเนศ เปเรร่า
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Filing date
Publication date
Application filed by โชวะ เดนโกะ เคเค, นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์, นางสาวสนธยา สังขพงศ์, นายธเนศ เปเรร่า, นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า filed Critical โชวะ เดนโกะ เคเค
Publication of TH64980A publication Critical patent/TH64980A/th
Publication of TH34401B publication Critical patent/TH34401B/th

Links

Abstract

DC60 (13/12/45) สารขัดซึ่งประกอบด้วยซีเรียมออกไซด์ในฐานะเป็นส่วนประกอบหลัก มีความหนาแน่น จำเพาะรวมของตะกอนในช่วงเป็น 0.8 g/ml ถึง 1.0 g/ml เมื่อถูกกระจายในน้ำในปริมาณเป็น 10% โดยมวล มีขนาดอนุภาคระยะแรกในช่วงเป็น 40 nm ถึง 80 nm และพื้นที่ผิวจำเพาะในช่วงเป็น 2 ตารางเมตร/g ถึง 5 ตารางเมตร/g สารขัดที่ได้รับเช่นนี้จัดเตรียมสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของ สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมซึ่งเพิ่มอัตราเร็วการขัดและทำให้เกิดรอยขีดข่วนจำนวนน้อยที่สร้างความ- เสียหายบนผิวหน้าของสารขัดและได้รับคุณภาพที่สูงของผิวหน้าที่ได้รับการขัด สารขัดซึ่งประกอบด้วยซีเรียมออกไซด์ในฐานะเป็นส่วนประกอบหลัก มีความหนาแน่น จำเพาะรวมของตะกอนในช่วงเป็น 0.8 g/ml ถึง 1.0 g/ml เมื่อถูกกระจายในน้ำในปริมาณเป็น 10% โดยมวล มีขนาดอนุภาคระยะแรกในช่วงเป็น 40 nm ถึง 80 nm และพื้นที่ผิวจำเพาะในช่วงเป็น 2 m2/g ถึง 5 m2/g สารขัดที่ได้รับเช่นนี้จัดเตรียมสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของ สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมซึ่งเพิ่มอัตราเร็วการขัดและทำให้เกิดรอยขีดข่วนจำนวนน้อยที่สร้างความ- เสียหายบนผิวหน้าของสารขัดและได้รับคุณภาพที่สูงของผิวหน้าที่ได้รับการขัด

Claims (12)

1. สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมซึ่งประกอบด้วยซีเรียมออกไซด์ในฐานะเป็นส่วนประกอบหลัก ที่ถูกแสดงลักษณะเฉพาะโดยซึ่งสารขัดมีความหนาแน่นจำเพาะรวมของตะกอนในช่วงเป็น 0.8 g/ml ถึง 1.0 g/ml เมื่อถูกกระจายในน้ำในปริมาณเป็น 10% โดยมวล ที่ถูกแสดงลักษณะเฉพาะโดย การได้รับขนาดอนุภาคระยะแรกในช่วงเป็น 40 nm ถึง 80 nm และที่ถูกแสดงลักษณะเฉพาะโดยการ ได้รับพื้นที่ผิวจำเพาะในช่วงเป็น 2m2/g ถึง 5m2/g
2. สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ถูกแสดงลักษณะเฉพาะ โดยประกอบด้วย Ce ในปริมาณเป็น 35% โดยมวลหรือมากกว่าดังที่ถูกวัดในปริมาณของซีเรียม ออกไซด์
3. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมที่ถูกก่อรูปโดยการกระจายสารขัดที่มีฐานเป็น ซีเรียมในตัวกลางการกระจายตามความสอดคล้องกับข้อถือสิทธิ 1 หรือ 2 บรรลุถึงความเข้มข้น ในช่วงเป็น 5% ถึง 30% โดยมวล
4. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 3 ที่ถูก แสดงลักษณะเฉพาะโดยที่ตัวกลางการกระจายเป็นน้ำ
5. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 3 ที่ถูก แสดงลักษณะเฉพาะโดยที่ตัวกลางการกระจายเป็นตัวทำละลายอินทรีย์
6. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 5 ที่ถูก แสดงลักษณะเฉพาะโดยที่ตัวทำละลายอินทรีย์ประกอบด้วยอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่ถูกเลือกจาก หมู่ซึ่งประกอบด้วยแอลกอฮอล์ พอลิออล แอซีโทนและเตตระไฮโดรฟูแรน
7. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือ สิทธิข้อ 3 ถึง 6 ที่ถูกแสดงลักษณะเฉพาะโดยประกอบด้วยสารลดแรงตึงผิว
8. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 7 ที่ถูก แสดงลักษณะเฉพาะโดยสารลดแรงตึงผิวอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดถูกเลือกจากหมู่ซึ่งประกอบด้วย สารลดแรงตึงผิวชนิดแอนไอออนิกและสารลดแรงตึงผิวชนิดนอนไอออนิก
9. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือ สิทธิข้อ 8 ที่ถูกแสดงลักษณะเฉพาะโดยที่สารลดแรงตึงผิวชนิดแอนไอออนิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดถูกเลือกจากหมู่ซึ่งประกอบด้วยคาร์บอกซิเลต ซัลโฟเนต ซัลเฟตและหรือฟอสเฟตซึ่งมี น้ำหนักน้ำหนักโมเลกุลต่ำหรือน้ำหนักโมเลกุลสูง
10. ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมตามความสอดคล้องกับข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือ สิทธิข้อ 8 ที่ถูกแสดงลักษณะเฉพาะโดยที่สารลดแรงตึงผิวชนิดนอนไอออนิกอย่างน้อยที่สุดถูก เลือกจากหมู่ซึ่งประกอบด้วยพอลิออกซีเอธิลีนอัลคิลฟีนอลอีเธอร์ พอลิออกซีเอธิลีนอัลคิลอีเธอร์ และพอลิออกซีเอธิลีนแฟตตีแอสิดเอสเทอร์
11. วิธีการสำหรับการขัดซับสเทรตที่เป็นแก้วโดยใช้ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียม ตามความสอดคล้องกับข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อ 3 ถึง 10
12. กระบวนการสำหรับการผลิตซับสเทรตที่เป็นแก้วซึ่งรวมไปถึงขั้นตอนของการใช้วิธีการ สำหรับการขัดซับสเทรตที่เป็นแก้วตามความสอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 11
TH201004262A 2002-11-15 สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียม TH34401B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH64980A true TH64980A (th) 2004-11-18
TH34401B TH34401B (th) 2012-11-26

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5689970B2 (ja) 高速及び低欠陥性のシリコン研磨組成物
KR101477826B1 (ko) 유리 연마 조성물 및 방법
EP2665792B1 (en) Silicon polishing compositions with improved psd performance
KR101333866B1 (ko) 산화인듐주석 표면의 cmp를 위한 조성물 및 방법
CN1935927B (zh) 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法
CN1282226C (zh) 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法
EP2776523B1 (en) Additive mixture and composition and method for polishing glass substrates
JP2002028850A (ja) 研磨用組成物及び方法
CN102775916A (zh) 一种提高蓝宝石表面质量的抛光组合物
EP1554357A1 (en) Polishing slurry and polished substrate
WO2015170743A1 (ja) サファイア板用研磨液組成物
JP2832270B2 (ja) ガラス研磨用研磨材
CN103740329A (zh) 氧化铈抛光粉及其制备方法
TH34401B (th) สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียม
JP4021080B2 (ja) 研磨液組成物
JPH0463428A (ja) ウエハーのファイン研磨用濃縮組成物
JP4807905B2 (ja) 研磨材スラリー及び研磨微粉
CN115011254A (zh) 一种用于玻璃晶圆的化学机械抛光液及其制备方法和应用
CN100360631C (zh) 一种有机碱腐蚀介质的稀土抛光液
CN102898953A (zh) 铈基混合稀土抛光材料及其制备方法
WO2007018376A1 (en) Producing method for cerium-based glass polishing material and method for using the same
EP1350827B1 (en) Abrasive, abrasive slurry, and method for manufacturing abrasive
JP3857799B2 (ja) ガラス研磨用研磨材組成物およびその研磨方法
JP2003213250A (ja) セリウム系研磨材、セリウム系研磨材スラリー、ガラス基板の研磨方法及びガラス基板の製造方法
CN107325735B (zh) 用于抛光蓝宝石基板的组合物和抛光蓝宝石基板的方法