TH34401B - สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียม - Google Patents
สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมInfo
- Publication number
- TH34401B TH34401B TH201004262A TH0201004262A TH34401B TH 34401 B TH34401 B TH 34401B TH 201004262 A TH201004262 A TH 201004262A TH 0201004262 A TH0201004262 A TH 0201004262A TH 34401 B TH34401 B TH 34401B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- cerium
- accordance
- abrasive
- based abrasive
- slurry
- Prior art date
Links
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 title claims abstract 19
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract 18
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 title claims abstract 8
- 239000002002 slurry Substances 0.000 title claims abstract 6
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract 3
- 239000010802 sludge Substances 0.000 claims abstract 3
- 235000008504 concentrate Nutrition 0.000 claims 4
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 claims 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 4
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 claims 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 3
- -1 polyoxymethylene Polymers 0.000 claims 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 claims 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 claims 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 claims 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 claims 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 claims 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- 235000014666 liquid concentrate Nutrition 0.000 claims 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 claims 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 claims 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 abstract 2
Abstract
DC60 (13/12/45) สารขัดซึ่งประกอบด้วยซีเรียมออกไซด์ในฐานะเป็นส่วนประกอบหลัก มีความหนาแน่น จำเพาะรวมของตะกอนในช่วงเป็น 0.8 g/ml ถึง 1.0 g/ml เมื่อถูกกระจายในน้ำในปริมาณเป็น 10% โดยมวล มีขนาดอนุภาคระยะแรกในช่วงเป็น 40 nm ถึง 80 nm และพื้นที่ผิวจำเพาะในช่วงเป็น 2 ตารางเมตร/g ถึง 5 ตารางเมตร/g สารขัดที่ได้รับเช่นนี้จัดเตรียมสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของ สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมซึ่งเพิ่มอัตราเร็วการขัดและทำให้เกิดรอยขีดข่วนจำนวนน้อยที่สร้างความ- เสียหายบนผิวหน้าของสารขัดและได้รับคุณภาพที่สูงของผิวหน้าที่ได้รับการขัด สารขัดซึ่งประกอบด้วยซีเรียมออกไซด์ในฐานะเป็นส่วนประกอบหลัก มีความหนาแน่น จำเพาะรวมของตะกอนในช่วงเป็น 0.8 g/ml ถึง 1.0 g/ml เมื่อถูกกระจายในน้ำในปริมาณเป็น 10% โดยมวล มีขนาดอนุภาคระยะแรกในช่วงเป็น 40 nm ถึง 80 nm และพื้นที่ผิวจำเพาะในช่วงเป็น 2 m2/g ถึง 5 m2/g สารขัดที่ได้รับเช่นนี้จัดเตรียมสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของ สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมซึ่งเพิ่มอัตราเร็วการขัดและทำให้เกิดรอยขีดข่วนจำนวนน้อยที่สร้างความ- เสียหายบนผิวหน้าของสารขัดและได้รับคุณภาพที่สูงของผิวหน้าที่ได้รับการขัด
Claims (2)
1. วิธีการสำหรับการขัดซับสเทรตที่เป็นแก้วโดยใช้ของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียม ตามความสอดคล้องกับข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อ 3 ถึง 10 1
2. กระบวนการสำหรับการผลิตซับสเทรตที่เป็นแก้วซึ่งรวมไปถึงขั้นตอนของการใช้วิธีการ สำหรับการขัดซับสเทรตที่เป็นแก้วตามความสอดคล้องกับข้อถือสิทธิข้อ 11
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH64980A TH64980A (th) | 2004-11-18 |
| TH34401B true TH34401B (th) | 2012-11-26 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN109135580B (zh) | 一种玻璃用抛光液及其制备方法 | |
| KR101685144B1 (ko) | 개선된 psd 성능을 갖는 규소 연마 조성물 | |
| TW200724658A (en) | Abrasive for silicon oxide, additive liquid and polishing method | |
| RU2006104117A (ru) | Абразивные частицы для механической полировки | |
| CN105038605B (zh) | 蓝宝石粗磨液 | |
| CN103965790B (zh) | 一种锆铝铈抛光液及其制备方法 | |
| WO2012030752A2 (en) | Silicon polishing compositions with high rate and low defectivity | |
| TW200840860A (en) | Compositions and methods for CMP of low-k dielectric materials | |
| CN105038607B (zh) | 高效蓝宝石精磨方法及精磨液 | |
| WO1998021289A1 (en) | Abrasive composition for the base of magnetic recording medium and process for producing the base by using the same | |
| TW200617150A (en) | Polishing composition | |
| CN113105952A (zh) | 一种汽车玻璃清洁剂及其制备方法和应用 | |
| CN112680110A (zh) | 一种新型环保的微乳液型金刚石抛光液 | |
| CN108250980A (zh) | 一种光学玻璃抛光用高浓度氧化铈抛光液 | |
| US10179870B2 (en) | Abrasive composition | |
| US8251777B2 (en) | Polishing slurry for aluminum and aluminum alloys | |
| KR101485630B1 (ko) | 연마 조성물 | |
| TH34401B (th) | สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียม | |
| CN110862773B (zh) | 一种核壳结构纳米磨料抛光液及其制备方法 | |
| TH64980A (th) | สารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียมและของเหลวข้นของสารขัดที่มีฐานเป็นซีเรียม | |
| CN110684420A (zh) | 高透防尘抗污哑光罩面漆及其制备方法 | |
| CN107663422B (zh) | 一种陶瓷抛光研磨液 | |
| US20180072916A1 (en) | Diamond-based slurries with improved sapphire removal rate and surface roughness | |
| JP4021080B2 (ja) | 研磨液組成物 | |
| KR20110104066A (ko) | 와이어 쏘잉 동안 건조 상태를 개선시키는 조성물 |