TH49478B - สารผสมทำความสะอาดไมโครอิเล็คโทรนิคที่เป็นด่างที่ปราศจากแอมโมเนียด้วยความเข้ากันได้กับซับสเทรทที่ปรับปรุง - Google Patents

สารผสมทำความสะอาดไมโครอิเล็คโทรนิคที่เป็นด่างที่ปราศจากแอมโมเนียด้วยความเข้ากันได้กับซับสเทรทที่ปรับปรุง

Info

Publication number
TH49478B
TH49478B TH201002526A TH0201002526A TH49478B TH 49478 B TH49478 B TH 49478B TH 201002526 A TH201002526 A TH 201002526A TH 0201002526 A TH0201002526 A TH 0201002526A TH 49478 B TH49478 B TH 49478B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
dimethyl
pyrrolidinone
cleaning mixture
cleaning
piperidone
Prior art date
Application number
TH201002526A
Other languages
English (en)
Other versions
TH61688A (th
Inventor
ปิน เชอร์แมน ฉู นายเซียน
เชอร์แมน ฉู นายเซียนปิน
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายรุทร นพคุณ
นายรุทร นพคุณ
อแวนเทอร์ เพอร์ฟอร์แมนซ์ แมทีเรียลส์
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายรุทร นพคุณ, นายรุทร นพคุณ, อแวนเทอร์ เพอร์ฟอร์แมนซ์ แมทีเรียลส์ filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH61688A publication Critical patent/TH61688A/th
Publication of TH49478B publication Critical patent/TH49478B/th

Links

Abstract

DC60 (01/10/45) สารผสมทำความสะอาดที่ปราศจากแอมโมเนีย สำหรับการทำความสะอาด ไมโครอิเล็ก โทรนิคซับสเทรท และโดยเฉพาะเกี่ยวกับสารผสมทำความสะอาด ดังเช่น ที่มีประโยชน์ด้วย และที่มี ความเข้ากันได้ที่ปรับปรุงแล้วกับไมโครอิเล็กโทรนิคซับสเทรทที่ให้ลักษณะเฉพาะโดยไดอิเล็กทริค แคปปา สูง และ แคปปา ต่ำ, รูพรุนที่ไว และการฉาบด้วยโลหะทองแดง สารผสมทำความสะอาดสำหรับการลอก เอาโฟโทเรซิสท์ออก การทำความสะอาดส่วนเหลือจากสารประกอบอินทรีย์, ออร์แกโนเมทัลลิค และอนินทรีย์ และการทำความสะอาดส่วนเหลือจากกรรมวิธีการทำให้เป็นระนาบ สารผสมทำความ สะอาดมีเบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียมที่มีไอออนตรงข้ามที่มีประจุเป็นบวก, นอน-นิวคลีโอฟิลิค หนึ่งสาร หรือมากกว่า และตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรดแอมิดหนึ่งสาร หรือมากกว่า สารผสมทำความสะอาดที่ปราศจากแอมโมเนีย สำหรับการทำความสะอาด ไมโครอิเล็ก โทรนิคซับสเทรท และโดยเฉพาะเกี่ยวกับสารผสมทำความสะอาด ดังเช่น ที่มีประโยชน์ด้วย และที่มี ความเข้ากัน ได้ที่ปรับปรุงแล้วกับไมโครอิเล็กโทรนิคซับสเทรทที่ให้ลักษณะเฉพาะโดยไดอิเล็กทริค (แคปปา) สูง และ (แคปปา) ต่ำ,รูพรุน,ที่ไว และการฉาบด้วยโลหะทองแดง สารผสมทำความสะอาดสำหรับการ ลอกเอาโฟโทเรซิสท์ออก การทำความสะอาดส่วนเหลือจากสารประกอบอินทรีย์, ออร์แกโนเมทัลลิค และอนินทรีย์ และการทำความสะอาดส่วนเหลือจากกรรมวิธีการทำให้เป็นระนาบ สารผสมทำความ สะอาดที่เบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียมที่มีไอออนตรงข้ามที่มีประจุเป็นบวก, นอน-นิวคลีโอฟินิค หนึ่งสาร หรือมากกว่า และตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรดแอมิดหนึ่งสาร หรือมากกว่า

Claims (46)

แก้ไข 22/01/59 1. สารผสมทำความสะอาดที่สามารถทำความสะอาดส่วนเหลือจากไมโครอิเล็กทริครูพรุน, ไดอิเล็กทริค K ต่ำ, ไดอิเล็กทริค K สูง หรือการฉาบโลหะทองแดง, ซึ่งสามผสมทำความสะอาด ดังกล่าวประกอบรวมด้วย: จากประมาณ 0.05% ถึง 30% โดยน้ำหนักของหนึ่งชนิด หรือมากกว่าของเบสแก่ที่ผลิตให้ นอน-แอมโมเนียมที่มีไอออนตรงข้ามที่มีประจุเป็นบวก, นอน-นิวคลีโอฟิลิคที่เลือกจากเททระแอลคิล แอมโมเนียม ไฮดรอกไซด์ หรือเกลือของสารเหล่านั้น; จาก 5 ถึง 99.95% โดยน้ำหนักของหนึ่งชนิด หรือมากกว่าของตัวทำละลายสเทอริค ฮินเดอเรคแอมิด (steric hindered amide) ที่เลือกจาก 1,3-ไดเมธิล-2-พิเพอริโดน และ 1,5-ไดเมธิล-2- พิเพอริโดน จาก 0 ถึง 95% โดยน้ำหนักของน้ำ หรือตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ; จาก 0 ถึง 40% โดยน้ำหนักของสเทอริคฮินเดอเรดแอมีน หรือแอลคานอแลมีน; จาก 0 ถึง 40% โดยน้ำหนักของกรดอินทรีย์ หรืออนินทรีย์; จาก 0 ถึง 40% โดยน้ำหนักของสารประกอบตัวยับยั้งการกัดกร่อนโลหะอื่น ๆ; จาก 0 ถึง 5% โดยน้ำหนักของสารลดความตึงผิว; จาก 0 ถึง 5% โดยน้ำหนักของสารช่วยการคีเลทโลหะ; และ จาก 0 ถึง 10% โดยน้ำหนักของสารประกอบฟลูออโรด์ 2. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งเททระแอลคิลแอมโมเนียม ไฮดรอกไซด์ หรือเกลือเป็นสารประกอบที่มีสูตร : [(R)4N+]p[X]-q ซึ่งแต่ละ R เป็นหมู่ซับสทิทิวเทด หรืออันซับสทิทิวเทดแอลคิล และ X เป็น OH หรือแอนไอออน เกลือ และ p และ q เท่ากัน และเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 3 3. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่ง R เป็นหมู่แอลคิลที่มี 1 ถึง 22 คาร์บอน อะตอม และ X เป็น OH หรือคาร์บอเนท 4. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่ง R เป็นหมู่แอลคิลที่มีจาก 1 ถึง 6 คาร์บอนอะตอม 5. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่งซึ่งประกอบรวมด้วยน้ำ หรือตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ อย่างน้อยหนึ่งชนิดที่เลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอก ไซด์, ซัลฟอเลน,ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล และ 3-(ไดเอธิล อะมิโน)-1,2-โพรเพนไดออล 6. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิล แอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไดเมธิลพิเพอริโดน, ไทรเอธานอแลมีน, แทรนส์-1,2-ไซโคลเฮกเซน ไดแอมีนเททระแอซีติกแอซิด และน้ำ 7. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิล แอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไดเมธิลพิเพอริโดน และน้ำ 8. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิล แอมโมเนียม ไฮดรอกไซด์, ไดเมธิลพิเพอริโดน, ไทรเอธานอแลมีน, เอธีลีนไดแอมีน เททระ (เมธีลีน ฟอสฟอนิก แอซิด) และน้ำ 9. กรรมวิธีสำหรับการทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคซับสเทรทซึ่งมีไดอิเล็กทริค รูพรุน, ไดอิเล็กทริค K ต่ำ, ไดอิเล็กทริค K สูง หรือการฉาบโลหะทองแดง, ซึ่งกรรมวิธีประกอบรวม ด้วยการสัมผัสซับสเทรทด้วยสารผสมทำความสะอาดเป็นระยะเวลานานเพียงพอที่จะทำความสะอาด ซับสเทรทนั้น, ที่ซึ่งสามผสมทำความสะอาดประกอบรวมด้วยสารผสมของข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 8 ข้อใดข้อหนึ่ง ---------------------------------------------------
1. สารผสมทำความสะอาดสำหรับการทำความสะอาดส่วนเหลือจากไมโครอิเล็กโทรนิค ซับสเทรท ซึ่งสารผสมทำความสะอาดที่กล่าวแล้วนั้นประกอบด้วย: จากประมาณ 0.05% ถึง 30% โดยน้ำหนักของหนึ่งสาร หรือมากกว่าของเบสแก่ที่ผลิตให้ นอน-แอมโมเนียมที่มีไอออนตรงข้ามที่มีประจุเป็นบวก, นอน-นิวคลีโอฟิลิค; จากประมาณ 5 ถึงประมาณ 99.95% โดยน้ำหนักของหนึ่งสาร หรือมากกว่าของตัวทำ ละลายสเทอริคฮินเดอเรคแอมิด; จากประมาณ 0 ถึงประมาณ 95% โดยน้ำหนัก ของน้ำ หรือตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของสเทอริคฮินเดอเรดแอมีน หรือแอลคานอแลมีน; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของกรดอินทรีย์ หรืออนินทรีย์; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของสสารประกอบตัวยับยั้งการกัดกร่อนโลหะอื่น ๆ; จากประมาณ 0 ถึง 5% โดยน้ำหนัก ของสารลดความตึงผิว; จากประมาณ 0 ถึง 10% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบซิลิเกตที่ปราศจากไอออนโลหะ; จากประมาณ 0 ถึง 5% โดยน้ำหนัก ของสารช่วยการคีเลทโลหะ และ จากประมาณ 0 ถึง 10% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบฟลูออโรด์
2. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งเบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียม นั้นเป็นเททระแอลคิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์ หรือเกลือดของสารนั้น
3. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งเททระแอลคิลแอมโมเนียม ไฮดรอกไซด์ หรือเกลือเป็นสารประกอบที่มีสูตร : [(R)4N+]p[X]-q ซึ่งแต่ละ R เป็นหมู่ซับสทิทิวเทด หรืออันซับสทิทิวเทดแอลคิล และ X เป็น OH หรือแอนไอออน เกลือ และ p และ q เท่ากัน และเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 3
4. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่ง R เป็นหมู่แอลคิลที่มี 1 ถึง 22 คาร์บอน อะตอม และ X เป็น OH หรือคาร์บอเนท
5. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 4 ซึ่ง R เป็นหมู่แอลคิลที่มีจาก 1 ถึง 6 คาร์บอนอะตอม
6. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรคแอมิด เป็นสารประกอบที่เลือกจากบรรดาที่มีสูตร : R1CONR2R3 และ (สูตรเคมี) ซึ่ง n เป็นตัวเลขจาก 1 ถึง 22 และเลือก R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 และ R8 แต่ละตัวอย่างเป็นอิสระจาก หมู่ ซึ่งประกอบด้วย H,แอลคิล และแอริล ด้วยข้อแม้ที่ว่าอย่างน้อยหนึ่งของ R1, R2 และ R3 และ อย่างน้อยหนึ่งของ R4, R5, R6, R7 และ R8 ไม่ใช่ไฮโดรเจน
7. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรดแอมิด เป็นสารประกอบที่เลือกจากบรรดาที่มีสูตร : R1CONR2R3 และ (สูตรเคมี) ซึ่ง n เป็นตัวเลขจาก 1 ถึง 22 และเลือก R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 และ R8 แต่ละตัวอย่างเป็นอิสระจาก หมู่ ซึ่งประกอบด้วย H,แอลคิล และแอริล ด้วยข้อแม้ที่ว่าอย่างน้อยหนึ่งของ R1, R2 และ R3 และ อย่างน้อยหนึ่งของ R4, R5, R6, R7 และ R8 ไม่ใช่ไฮโดรเจน
8. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรดแอมิด เป็นสารประกอบที่เลือกจากบรรดาที่มีสูตร : R1CONR2R3 และ (สูตรเคมี) ซึ่ง n เป็นตัวเลขจาก 1 ถึง 22 และเลือก R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 และ R8 แต่ละตัวอย่างเป็นอิสระจาก หมู่ ซึ่งประกอบด้วย H,แอลคิล และแอริล ด้วยข้อแม้ที่ว่าอย่างน้อยหนึ่งของ R1, R2 และ R3 และ อย่างน้อยหนึ่งของ R4, R5, R6, R7 และ R8 ไม่ใช่ไฮโดรเจน
9. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 4 ซึ่งตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรดแอมิด เป็นสารประกอบที่เลือกจากบรรดาที่มีสูตร : R1CONR2R3 และ (สูตรเคมี) ซึ่ง n เป็นตัวเลขจาก 1 ถึง 22 และเลือก R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 และ R8 แต่ละตัวอย่างเป็นอิสระจาก หมู่ ซึ่งประกอบด้วย H,แอลคิล และแอริล ด้วยข้อแม้ที่ว่าอย่างน้อยหนึ่งของ R1, R2 และ R3 และ อย่างน้อยหนึ่งของ R4, R5, R6, R7 และ R8 ไม่ใช่ไฮโดรเจน
10. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรดแอมิด เป็นสารประกอบที่เลือกจากบรรดาที่มีสูตร : R1CONR2R3 และ (สูตรเคมี) ซึ่ง n เป็นตัวเลขจาก 1 ถึง 22 และเลือก R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 และ R8 แต่ละตัวอย่างเป็นอิสระจาก หมู่ ซึ่งประกอบด้วย H,แอลคิล และแอริล ด้วยข้อแม้ที่ว่าอย่างน้อยหนึ่งของ R1, R2 และ R3 และ อย่างน้อยหนึ่งของ R4, R5, R6, R7 และ R8 ไม่ใช่ไฮโดรเจน
11. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 10 ซึ่งในนิยามของหมู่ R1 ถึง R8 หมู่แอลคิลมี จาก 1 ถึง 6 คาร์บอนอะตอม และหมู่แอริลมีจาก 3 ถึง 14 คาร์บอนอะตอม
12. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งเลือกตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรด แอดมิดจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอซิแทมิด, ไดเมธิลฟอร์มามิด (DMF), N,N'-ไดเมธิลแอซิแทมิด (DMAc), N-เมธิล-1-2-พิร์โรลิดิโนน (NMP),1,5-ไดเมธิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1,3-ไดเมธิล-2- พิเพอริโดน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)2-พิร์โรลิดิโนน และ 1,5-ไดเมธิล 2-พิเพอริโดน
13. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งเลือกตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรด แอดมิดจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอซิแทมิด, ไดเมธิลฟอร์มามิด (DMF), N,N'-ไดเมธิลแอซิแทมิด (DMAc), N-เมธิล-2-พิร์โรลิดิโนน (NMP), 1,5-ไดเมธิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1,3-ไดเมธิล-2- พิเพอริโดน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)2-พิร์โรลิดิโนน และ 1,5-ไดเมธิล 2-พิเพอริโดน
14. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งเลือกตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรด แอดมิดจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอซิแทมิด,ไดเมธิลฟอร์มามิด (DMF), N,N'-ไดเมธิลแอซิแทมิด (DMAc), N-เมธิล-2-พิร์โรลิดิโนน (NMP), 1,5-ไดเมธิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1,3-ไดเมธิล-2- พิเพอริโดน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)2-พิร์โรลิดิโนน และ 1,5-ไดเมธิล 2-พิเพอริโดน
15. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 4 ซึ่งเลือกตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรด แอดมิดจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอซิแทมิด,ไดเมธิลฟอร์มามิด (DMF), N,N'-ไดเมธิลแอซิแทมิด (DMAc), N-เมธิล-2-พิร์โรลิดิโนน (NMP), 1,5-ไดเมธิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1,3-ไดเมธิล-2- พิเพอริโดน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)2-พิร์โรลิดิโนน และ 1,5-ไดเมธิล 2-พิเพอริโดน
16. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งเลือกตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรด แอดมิดจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยแอซิแทมิด,ไดเมธิลฟอร์มามิด (DMF), N,N'-ไดเมธิลแอซิแทมิด (DMAc), N-เมธิล-2-พิร์โรลิดิโนน (NMP), 1,5-ไดเมธิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1,3-ไดเมธิล-2- พิเพอริโดน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล)2-พิร์โรลิดิโนน และ 1,5-ไดเมธิล 2-พิเพอริโดน
17. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยน้ำ หรืออย่างน้อยหนึ่ง ตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
18. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 6 ซึ่งประกอบรวมด้วยน้ำ หรืออย่างน้อยหนึ่ง ตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
19. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 11 ซึ่งประกอบรวมด้วยน้ำ หรืออย่างน้อย หนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
20. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 16 ซึ่งประกอบรวมด้วยน้ำ หรืออย่างน้อย หนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล และ 3-(ไดเอธิลอะมิโน)-1,2- โพรเพนไดออล
21. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิล แอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไดเมธิลพิเพอริโดน, ไทรเอธานอแลมีน, แทรนส์-1,2-ไซโคลเฮกเซน ไดแอมีนเททระแอซีติกแอซิด และน้ำ
22. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิล แอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไดเมธิลพิเพอริโดน และน้ำ
23. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิล แอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไดเมธิลพิเพอริโดน, ไทรเอธานอแลมีน, เอธีลีนไดแอมีนเททระ (เมธีลีนฟอสฟอนิคแอซิด) และน้ำ
24. กรรมวิธีสำหรับการทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคซับสเทรท 1 ที่มีอย่างน้อย หนึ่งของไดอิเล็กทริครูพรุน, ไดอิเล็กทริค (แคปปา) ต่ำ, ไดอิเล็กทริค (แคปปา) สูง หรือการฉาบด้วยโลหะทองแดง ซึ่งกรรมวิธีนั้นประกอบด้วยการสัมผัสซับสเทรทนั้นด้วยสารผสมทำความสะอาดนานเวลาที่ เพียงพอที่จะทำความสะอาดซับสเทรทนั้น ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วย : จากประมาณ 0.05% ถึง 30% โดยน้ำหนักของหนึ่งสาร หรือมากกว่าของเบสแก่ที่ผลิตให้ นอน-แอมโมเนียมที่มีไอออนตรงข้ามที่มีประจุเป็นบวก, นอน-นิวคลีโอฟิลิค; จากประมาณ 5 ถึงประมาณ 99.95% โดยน้ำหนัก ของตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรคแอมิด; จากประมาณ 0 ถึงประมาณ 95% โดยน้ำหนัก ของน้ำ หรือตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของสเทอริคฮินเดอเรดแอมีน หรือแอลคานอแลมีน; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของกรดอินทรีย์ หรืออนินทรีย์; จากประมาณ 0 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ของสสารประกอบตัวยับยั้งการกัดกร่อนโลหะอื่น ๆ; จากประมาณ 0 ถึง 5% โดยน้ำหนัก ของสารลดความตึงผิว; จากประมาณ 0 ถึง 10% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบซิลิเกตที่ปราศจากไอออนโลหะ; จากประมาณ 0 ถึง 5% โดยน้ำหนัก ของสารช่วยการคีเลทโลหะ และ จากประมาณ 0 ถึง 10% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบฟลูออโรด์
25. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 24 ซึ่งเบสแก่ที่ผลิตให้นอน-แอมโมเนียมนั้นเป็นเททระ แอลคิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์ หรือเกลือดของสารนั้น
26. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งเททระแอลคิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์ หรือเกลือเป็น สารประกอบที่มีสูตร : [(R)4N+]p[X]-q ซึ่งแต่ละ R เป็นหมู่ซับสทิทิวเทด หรืออันซับสทิทิวเทดแอลคิล และ X เป็น OH หรือแอนไอออน เกลือ และ p และ q เท่ากัน และเป็นเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 3
27. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 26 ซึ่ง R เป็นหมู่แอลคิลที่มี 1 ถึง 22 คาร์บอนอะตอม และ X เป็น OH หรือคาร์บอเนท
28. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 27 ซึ่ง R เป็นหมู่แอลคิลที่มีจาก 1 ถึง 6 คาร์บอนอะตอม
29. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 24 ซึ่งตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรคแอมิดเป็นสาร ประกอบที่เลือกจากบรรดาที่มีสูตร : R1CONR2R3 และ (สูตรเคมี) ซึ่ง n เป็นตัวเลขจาก 1 ถึง 22 และเลือก R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 และ R8 แต่ละตัวอย่างเป็นอิสระจาก หมู่ ซึ่งประกอบด้วย H,แอลคิล และแอริล ด้วยข้อแม้ที่ว่าอย่างน้อยหนึ่งของ R1, R2 และ R3 และ อย่างน้อยหนึ่งของ R4, R5, R6, R7 และ R8 ไม่ใช่ไฮโดรเจน
30. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรคแอมิดเป็นสารประกอบ ที่เลือกจากบรรดาที่มีสูตร : R1CONR2R3 และ (สูตรเคมี) ซึ่ง n เป็นตัวเลขจาก 1 ถึง 22 และเลือก R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 และ R8 แต่ละตัวอย่างเป็นอิสระจาก หมู่ ซึ่งประกอบด้วย H,แอลคิล และแอริล ด้วยข้อแม้ที่ว่าอย่างน้อยหนึ่งของ R1, R2 และ R3 และ อย่างน้อยหนึ่งของ R4, R5, R6, R7 และ R8 ไม่ใช่ไฮโดรเจน
31. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 26 ซึ่งตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรคแอมิดเป็นสารประกอบ ที่เลือกจากบรรดาที่มีสูตร : R1CONR2R3 และ (สูตรเคมี) ซึ่ง n เป็นตัวเลขจาก 1 ถึง 22 และเลือก R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 และ R8 แต่ละตัวอย่างเป็นอิสระจาก หมู่ ซึ่งประกอบด้วย H,แอลคิล และแอริล ด้วยข้อแม้ที่ว่าอย่างน้อยหนึ่งของ R1, R2 และ R3 และ อย่างน้อยหนึ่งของ R4, R5, R6, R7 และ R8 ไม่ใช่ไฮโดรเจน
32. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 27 ซึ่งตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรคแอมิดเป็นสารประกอบ ที่เลือกจากบรรดาที่มีสูตร : R1CONR2R3 และ (สูตรเคมี) ซึ่ง n เป็นตัวเลขจาก 1 ถึง 22 และเลือก R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 และ R8 แต่ละตัวอย่างเป็นอิสระจาก หมู่ ซึ่งประกอบด้วย H,แอลคิล และแอริล ด้วยข้อแม้ที่ว่าอย่างน้อยหนึ่งของ R1, R2 และ R3 และ อย่างน้อยหนึ่งของ R4, R5, R6, R7 และ R8 ไม่ใช่ไฮโดรเจน
33. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 28 ซึ่งตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรคแอมิดเป็นสารประกอบ ที่เลือกจากบรรดาที่มีสูตร : R1CONR2R3 และ (สูตรเคมี) ซึ่ง n เป็นตัวเลขจาก 1 ถึง 22 และเลือก R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 และ R8 แต่ละตัวอย่างเป็นอิสระจาก หมู่ ซึ่งประกอบด้วย H,แอลคิล และแอริล ด้วยข้อแม้ที่ว่าอย่างน้อยหนึ่งของ R1, R2 และ R3 และ อย่างน้อยหนึ่งของ R4, R5, R6, R7 และ R8 ไม่ใช่ไฮโดรเจน
34. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 33 ซึ่งในนิยามของหมู่ R1 ถึง R8 หมู่แอลคิลมีจาก 1 ถึง 6 คาร์บอนอะตอม และหมู่แอริลมีจาก 3 ถึง 14 คาร์บอนอะตอม
35. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 24 ซึ่งเลือกตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรดแอดมิดจากหมู่ ซึ่ง ประกอบด้วยแอซิแทมิด,ไดเมธิลฟอร์มามิด (DMF), N,N'-ไดเมธิลแอซิแทมิด (DMAc), N-เมธิล-1-2- พิร์โรลิดิโนน (NMP), 1,5-ไดเมธิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1,3-ไดเมธิล-2- พิเพอริโดน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล) 2-พิร์โรลิดิโนน และ 1,5-ไดเมธิล 2-พิเพอริโดน
36. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งเลือกตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรดแอดมิดจากหมู่ ซึ่ง ประกอบด้วยแอซิแทมิด, ไดเมธิลฟอร์มามิด (DMF), N,N'-ไดเมธิลแอซิแทมิด (DMAc), N-เมธิล-1-2- พิร์โรลิดิโนน (NMP), 1,5-ไดเมธิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1,3-ไดเมธิล-2- พิเพอริโดน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล) 2-พิร์โรลิดิโนน และ 1,5-ไดเมธิล 2-พิเพอริโดน
37. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 26 ซึ่งเลือกตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรดแอดมิดจากหมู่ ซึ่ง ประกอบด้วยแอซิแทมิด,ไดเมธิลฟอร์มามิด (DMF), N,N'-ไดเมธิลแอซิแทมิด (DMAc), N-เมธิล-1-2- พิร์โรลิดิโนน (NMP), 1,5-ไดเมธิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1,3-ไดเมธิล-2- พิเพอริโดน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล) 2-พิร์โรลิดิโนน และ 1,5-ไดเมธิล 2-พิเพอริโดน
38. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 27 ซึ่งเลือกตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรดแอดมิดจากหมู่ ซึ่ง ประกอบด้วยแอซิแทมิด,ไดเมธิลฟอร์มามิด (DMF), N,N'-ไดเมธิลแอซิแทมิด (DMAc), N-เมธิล-1-2- พิร์โรลิดิโนน (NMP), 1,5-ไดเมธิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1,3-ไดเมธิล-2- พิเพอริโดน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล) 2-พิร์โรลิดิโนน และ 1,5-ไดเมธิล 2-พิเพอริโดน
39. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 28 ซึ่งเลือกตัวทำละลายสเทอริคฮินเดอเรดแอดมิดจากหมู่ ซึ่ง ประกอบด้วยแอซิแทมิด, ไดเมธิลฟอร์มามิด (DMF), N,N'-ไดเมธิลแอซิแทมิด (DMAc), N-เมธิล-1-2- พิร์โรลิดิโนน (NMP), 1,5-ไดเมธิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1,3-ไดเมธิล-2- พิเพอริโดน, 1-(2-ไฮดรอกซิเอธิล) 2-พิร์โรลิดิโนน และ 1,5-ไดเมธิล 2-พิเพอริโดน
40. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 24 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยน้ำ หรือ อย่างน้อยหนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล และ 3-(ไดเอธิล อะมิโน)-1,2-โพรเพนไดออล
41. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 34 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยน้ำ หรือ อย่างน้อยหนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล และ 3-(ไดเอธิล อะมิโน)-1,2-โพรเพนไดออล
42. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 34 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยน้ำ หรือ อย่างน้อยหนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล และ 3-(ไดเอธิล อะมิโน)-1,2-โพรเพนไดออล
43. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 39 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยน้ำ หรือ อย่างน้อยหนึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์อื่น ๆ ที่เลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วยไดเมธิลซัลฟอกไซด์, ซัลฟอเลน, ไดเอธานอแลมีน, ไทรเอธานอแลมีน, 2-(เมธิลอะมิโน)เอธานอล และ 3-(ไดเอธิล อะมิโน)-1,2-โพรเพนไดออล
44. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 24 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยเททระ เมธิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไดเมธิลพิเพอริโดน, ไทรเอธานอแลมีน, แทรนส์-1,2-ไซโคลเฮกเซน ไดแอมีน เททระแอซีติกแอซิด และน้ำ
45. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 24 ซึ่งสารผสมทำความสะอาดนั้นประกอบรวมด้วยเททระ เมธิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไดเมธิลพิเพอริโดน และน้ำ
46. สารผสมทำความสะอาดของข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยเททระเมธิล แอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ไดเมธิลพิเพอริโดน, ไทรเอธานอแลมีน, เอธีลีนไดแอมีน เททระ (เมธีลีนฟอสฟอนิคแอซิด) และน้ำ
TH201002526A 2002-07-09 สารผสมทำความสะอาดไมโครอิเล็คโทรนิคที่เป็นด่างที่ปราศจากแอมโมเนียด้วยความเข้ากันได้กับซับสเทรทที่ปรับปรุง TH49478B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH61688A TH61688A (th) 2004-04-26
TH49478B true TH49478B (th) 2016-05-19

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100822236B1 (ko) 레지스트 박리제
CA2452885A1 (en) Ammonia-free alkaline microelectronic cleaning compositions with improved substrate compatibility
CA2452884A1 (en) Ammonia-free alkaline microelectronic cleaning compositions with improved substrate compatibility
US20040152608A1 (en) Ammonia-free alkaline microelectronic cleaning compositions with improved substrate compatibility
JPH07295240A (ja) 非腐食性フォトレジスト剥離用組成物
KR101799591B1 (ko) 전자재료용 세정액 조성물
JP2004536181A5 (th)
ES2345616T3 (es) Composiciones de limpieza no acuosas para microelectronica que contienen fructosa.
EP1836535A1 (en) Non-aqueous, non-corrosive microelectronic cleaning compositions
JP6497668B2 (ja) フォトレジスト除去用ストリッパー組成物およびこれを用いたフォトレジストの剥離方法
KR100874173B1 (ko) 반도체 기판 상의 무기 잔류물을 세정하기 위한 구리특이적 부식 억제제를 함유하는 수성 세정 조성물
TH61688A (th) สารผสมทำความสะอาดไมโครอิเล็คโทรนิคที่เป็นด่างที่ปราศจากแอมโมเนียด้วยความเข้ากันได้กับซับสเทรทที่ปรับปรุง
TWI787170B (zh) 洗淨液及洗淨方法
US7012051B2 (en) Inhibition of titanium corrosion
CN110361941B (zh) 一种正胶剥离液、其制备方法和应用
JP4474776B2 (ja) レジスト剥離剤
TW202449131A (zh) 用於電子製造應用之含經n取代之哌𠯤的組成物
KR20130068903A (ko) 전자재료용 세정액 조성물
KR20130070061A (ko) 전자재료용 세정액 조성물
TW583719B (en) Agent for cleaning substrate
TW202313951A (zh) 光阻剝離液組合物及其製備方法
TH65770A (th) สารผสมทำความสะอาดไมโครอิเล็กโทรนิคที่เป็นด่างที่ปราศจากแอมโมเนียด้วยความเข้ากันได้กับซับสเทรทที่ปรับปรุง
JP2002116558A (ja) レジスト剥離剤
TH52089B (th) สารผสมทำความสะอาดนาโนอิเล็กโทรนิก และ ไมโครอิเล็กทรอนิก
TH78156A (th) สารผสมทำความสะอาดนาโนอิเล็กโทรนิก และ ไมโครอิเล็กทรอนิก