TH41100B - อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่?ใช้ไฟฟ้า - Google Patents

อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่?ใช้ไฟฟ้า

Info

Publication number
TH41100B
TH41100B TH301003166A TH0301003166A TH41100B TH 41100 B TH41100 B TH 41100B TH 301003166 A TH301003166 A TH 301003166A TH 0301003166 A TH0301003166 A TH 0301003166A TH 41100 B TH41100 B TH 41100B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
chambers
cation exchanger
fluid
electrodialysis
concentrate
Prior art date
Application number
TH301003166A
Other languages
English (en)
Other versions
TH61527A (th
Inventor
เฮย์เด็ค นายเจนส์
มูรานูชิ นายมาซาโนริ
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายบุญมา เตชะวณิช
อาโตเท็ค ด๊อยท์ชแลนด์ จีเอ็มบีเอช
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายบุญมา เตชะวณิช, อาโตเท็ค ด๊อยท์ชแลนด์ จีเอ็มบีเอช filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH61527A publication Critical patent/TH61527A/th
Publication of TH41100B publication Critical patent/TH41100B/th

Links

Abstract

DC60 (20/09/54) ในการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่ใช้ไฟฟ้าโดยอิเล็กโตรไดอะไลซิส พบว่าโลหะ ของสารอาบชุบโลหะจะตกสะสมอยู่ในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไลซิสนี้ เพื่อที่จะแก้ไขปัญหานี้ ได้มีการแนะนำการปรับปรุงอุปกรณ์เพื่อการรีเจนเนอเรทในศิลปวิทยาการที่มีอยู่เติมให้ดีขึ้น การปรับปรุงให้ดีขึ้นดังกล่าวประกอบด้วยการจัดเตรียมให้มีตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลักเพื่อนำ ไอออนของโลหะนี้ออกจากของไหลเข้มข้น ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลักนี้จะต่อคู่ควบกับ ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นของระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไลซิสนี้ในลักษณะวิธีที่จะอนุญาตให้ ของไหลเข้มข้นซึ่งไหลผ่านห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นนี้ผ่านไปยังตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก และไหลเวียนกลับเข้าสู่ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นนี้ใหม่ ในการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่ใช้ไฟฟ้าโดยอิเล็กโตรไดอะไลซิส พบว่าโลหะ ของสารอาบชุบโลหะจะตกสะสมอยู่ในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไลซิสนี้ เพื่อที่จะแก้ไขปัญหานี้ ได้มีการแนะนำการปรับปรุงอุปกรณ์เพื่อการรีเจนเนอเรทในศิลปวิทยาการที่มีอยู่เติมให้ดีขึ้น การปรับปรุงให้ดีขึ้นดังกล่าวประกอบด้วยการจัดเตรียมให้มีตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลักเพื่อนำ ไอออนของโลหะนี้ออกจากของไหลเข้มข้น ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลักนี้จะต่อคู่ควบกับ ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นของระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไลซิสนี้ในลักษณะวิธีที่จะอนุญาตให้ ของไหลเข้มข้นซึ่งไหลผ่านห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นนี้ผ่านไปยังตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก และไหลเวียนกลับเข้าสู่ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นนี้ใหม่

Claims (12)

1. อุปกรณ์สำหรับการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่ใช้ไฟฟ้า ซึ่งประกอบรวมด้วย a) ระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิส (E1, E2) โดยแต่ละระบบมีห้องแยกสำหรับ สารเจือจาง (Dila, Di2a, Di2b) เพื่อรองรับสารอาบชุบโลหะนี้ ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Kola, Ko1b, Ko2a) ซึ่งได้รับการแยกออกจากห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di1a, Di2a, Di2b) นี้ โดยเมมเบรนแลกเปลี่ยนไอออนและมุ่งประสงค์ที่จะรองรับของไหลเข้มข้นซึ่งทำหน้าที่ดูดซับ สารรบกวนซึ่งจะได้รับการนำออกจากสารอาบชุบโลหะรวมทั้งแอโนด (An) และแคโธด (Ka) และ b) ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (Ix) สำหรับการนำไอออนโลหะออกจากของไหลเข้มข้น ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนดังกล่าวได้รับการต่อคู่ควบกับห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a) ในลักษณะวิธีที่จะอนุญาตให้มีการนำของไหลเข้มข้นนี้ผ่านตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (Ix) และให้ไหลเวียนกลับเข้าสู่ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko2a) โดยปล่อยให้ของ ไหลที่จะได้รับการไหลเวียนกลับในวงจรที่หนึ่งระหว่างห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a,) และถังเก็บรวบรวม (Vk) และในวงจรที่สองระหว่างถังเก็บรวบรวม (Vk) และตัวแลกเปลี่ยน แคทไอออนหลัก (Ix)
2. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอุปกรณ์ดังกล่าวประกอบรวมด้วย a) ระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิสที่หนึ่ง (E1) ซึ่งมีห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b) และห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di1a) รวมทั้งแคโธด (Ka) และแอโนด (An) สลับกัน, ห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Dila) ซึ่งแต่ละห้องจะได้รับการแยกออกจากันบนด้านแคโธดของ ห้องแยกนี้จากห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นที่อยู่ใกล้กัน (Ko1a, Ko1b) โดยเมนเบรนแลกเปลี่ยน แคทไอออนแบบโมโนซีเล็กทีฟ (KS) และบนด้านแอโนดของห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นที่อยู่ใกล้กัน (Ko1a, Ko1b) โดยเมมเบรนแลกเปลี่ยนแอนไอออน (A) b) ระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิสที่สอง (E2) ซึ่งมีห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di2a, Di2b) และห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko2a) รวมทั้งแคโธด (Ka) และแอโนด (An) สลับกัน, ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko2a) แต่ละห้องจะได้รับการแยกออกจากกันบนด้านแคโธดของ แอนไอออน (A) และบนด้านแอโนดของห้องแยกนี้จากห้องแยกสำหรับสารเจือจางที่อยู่ใกล้กัน (Di2a, Di2b) โดยเมนเบรนแลกเปลี่ยนแอนไอออนแบบโมโนซีเล็กทีฟ (AS), เพื่อที่จะสามารถนำสารอาบชุบโลหะนี้ผ่านห้องแยกสำหรับการเจือจางทั้งหมด (Di1a, Di2a, Di2b) ในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิสสองระบบ (E1, E2) ที่ได้รับการเชื่อมต่อแบบ ขนานกันได้อย่างพร้อมกันและนำของไหลเข้มข้นผ่านห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b) Ko2a) ทั้งหมดในระบบการจัดอิเล็กโตรไดอะไลซิสสองระบบ (E1, E2) ซึ่งได้รับการเชื่อมต่อแบบ ขนานกันนี้ และ c) แหล่งจ่ายกระแส (S) สำหรับแคโธด (Ka) และแอโนด (An) ของระบบการจัดสำหรับ อิเล็กโตรไดอะไลซิสที่หนึ่ง (E1) และระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิสที่สอง (E2)
3. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งจัดเตรียมให้มีเพิ่มเติมด้วยเวสเซลของ ไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทที่หนึ่ง (VRS1) เพื่อรองรับของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทซึ่งมุ่งประสงค์ เพื่อการรีเจนเนอเรทของตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX), เวสเซลดังกล่าวจะได้รับการต่อคู่ควบ กับตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX)
4. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งได้จัดเตรียมให้มีเพิ่มเติมด้วยแหล่ง สะสมเสริม (VZK) สำหรับการรองรับของไหลเข้มข้น, แหล่งสะสมดังกล่าวได้รับการต่อคู่ควบกับ ถังเก็บรวบรวม (VK) และตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX)
5. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งได้จัดเตรียมให้มีเพิ่มเติมด้วย ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนนิรภัย (IS), ตัวแลกเปลี่ยนดังกล่าวได้รับการต่อคู่ควบกับตัวแลกเปลี่ยน แคทไอออนหลัก (IX) สำหรับการปฏิบัติภายหลังกับของไหลเข้มข้นที่ผ่านการปฏิบัติมาแล้วใน ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX)
6. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งได้จัดเตรียมให้มีเวสเซลของไหลที่เป็น สารรีเจนเนอเรทที่สอง (VRS2) สำหรับการรองรับของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทซึ่งมุ่งประสงค์ สำหรับการรีเจนเนอเรทของตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนนิรภัย (IS)
7. วิะีการสำหรับการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่ใช้ไฟฟ้า ซึ่งประกอบรวมด้วย a) การนำสารอาบชุบโลหะนี้ผ่านห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Dila, Di2a, Di2b) แต่ละห้อง ของระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิส (E1, E2) และ b) การนำของไหลเข้มข้นซึ่งทำหน้าที่ดูดซับสารรบกวนที่จะได้รับการนำออกจาก สารอาบชุบโลหะนี้ผ่านห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a) ของระบบการจัดสำหรับ อิเล็กโตรไดอะไลซิส (E1, E2) ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นดังกล่าวได้รับการแยกออกจากห้องแยก สำหรับสารเจือจาง (Di1a, Di2a, Di2b) โดยเมมเบรนแลกเปลี่ยนไอออน c) การผ่านต่อไปอีกของของไหลเข้มข้นผ่านตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (Ix) และ การไหลเวียนของไหลกลับเข้าสู่ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a) โดยการไหลเวียน ของไหลเข้มข้นในวงจรที่หนึ่งระหว่างห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a) และถังเก็บ รวบรวม (VK) และในวงจรที่สองระหว่างถังเก็บรวบรวมและตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX)
8. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ที่ซึ่งสารอาบชุบโลหะ a) ได้รับการนำผ่านห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di1a) ในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตร ไดอะไลซิสที่หนึ่ง (E1) ซึ่งประกอบรวมด้วยห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b) และห้องแยก สำหรับสารเจือจาง (Di1a) รวมทั้งแคโธด (Ka) และแอโนด (An) สลับกัน, ห้องแยกสำหรับ สารเจือจาง (Di1a) ซึ่งได้รับการแยกออกจากกันบนด้านแคโธดของห้องแยกนี้จากห้องแยกสำหรับ สารเข้มข้นที่อยู่ใกล้กัน (Ko1a, Ko1b) โดยเมนเบรนแลกเปลี่ยนแคทไอออนแบบโมโนซีเล็กทีฟ (KS) และบนด้านแอโนดของห้องแยกนี้จากห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นที่อยู่ใกล้กัน (Ko1a, Ko1b) โดย เมมเบรนแลกเปลี่ยนแอนไอออน (A) และ b) จะผ่านทะลุห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di2a, Di2b) ในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตร ไดอะไลซิสที่สอง (E2) ซึ่งประกอบรวมด้วยห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di2a, Di2b) และห้องแยก สำหรับสารเข้มข้น (Ko2a) สลับกัน รวมทั้งแคโธด (Ka) และแอโนด (An), ห้องแยกสำหรับสาร เข้มข้น (Ko2a) ซึ่งได้รับการแยกจากกันบนด้านแคโธดของห้องแยกนี้จากห้องแยกสำหรับสารเจือจาง ซึ่งอยู่ใกล้กัน (Di2a, Di2b) โดยเมมเบรนแลกเปลี่ยนแอนไอออน (A) และบนด้านแอโนดของห้อง แยกนี้จากห้องแยกสำหรับสารเจือจางที่อยู่ใกล้กัน (Di2a, Di2b) โดยเมมเบรนแลกเปลี่ยนแอนไอออน แบบโมโนซีเล็กทีฟ (AS) และ ที่ซึ่งสารอาบชุบโลหะนี้ได้รับการนำผ่านห้องแยกสำหรับสารเจือจางทั้งหมด (Di1a, Di2a, Di2b) ในระบบการจัดแบบอิเล็กโตรไดอะไลซิสสองระบบ (E1, E2) อย่างพร้อมกัน, ระบบการจัดนี้ ได้รับการเชื่อมต่อแบบขนานกัน, และของไหลเข้มข้นจะไหลผ่านห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a) ทั้งหมดในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิสสองระบบ (E1, E2)
9. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 7 หรือ 8 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่ง สำหรับการรีเจนเนอเรทตัวแลกเปลี่ยน แคทไอออนหลัก (Ix) นี้ ของไหลเข้มข้นที่มีอยู่ในตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX) จะได้รับการ เข้าแทนที่โดยของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทและของไหลเข้มข้นนี้ได้รับการทำให้ไหลเวียนกลับเข้าสู่ ถังเก็บรวบรวม (VK), ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX) นี้ได้รับการรีเจนเนอเรทในกระบวนการนี้
10. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 9 ที่ซึ่งของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทนี้ได้รับการนำออกจาก เวสเซลของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทที่หนึ่ง (VRS1) และได้รับการถ่ายโอนเข้าสู่ตัวแลกเปลี่ยน แคทไอออนหลัก (IX)
11. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 9 หรือ 10 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งของไหลที่เป้นสารรีเจนเนอเรทนี้ ได้รับการเข้าแทนที่โดยของไหลเข้มข้นภายหลังการรีเจนเนอเรทของตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX) นี้สมบูรณ์ ของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทนี้จะได้รับการทำให้ไหลเวียนกลับเข้าสู่เวสเซลของ ไหลที่เป้นสารรีเจนเนอเรทที่หนึ่ง (VRS1)
12. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ถึง 11 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งของไหลเข้าข้นจะไหลผ่านตัวแลก เปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX) หลายตัว ณ เวลาแตกต่างกันพร้อมด้วยของไหลที่เป้นสารรีเจนเนอเรท ซึ่งได้รับการทำให้ไหลเวียนผ่านตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX) เหล่านั้น โดยที่ของไหลเข้มข้นนี้ ไม่ได้รับการทำให้ไหลเวียนผ่านเพื่อการรีเจนเนอเรทตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลักเหล่านี้
TH301003166A 2003-08-26 อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่?ใช้ไฟฟ้า TH41100B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH61527A TH61527A (th) 2004-04-09
TH41100B true TH41100B (th) 2014-08-14

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2558187B1 (en) Electrodialysis device including a membrane electrolysis stack and method for the regeneration of an electroless plating bath
JP6105005B2 (ja) 電気式脱イオン水製造装置及び脱イオン水の製造方法
CA2484799A1 (en) Device and method for regenerating an electroless metal plating bath
JP2012239965A (ja) 電気式脱イオン水製造装置
CN101121555A (zh) 电去离子装置及其操作方法
EP1239057A1 (de) System zur elektrodialytischen Regeneration eines stromlosen Badelektrolyten
JP5354871B2 (ja) 電解質液の再生方法および再生装置
CN102079559A (zh) 无浓缩室的电去离子方法与系统
TH61527A (th) อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่?ใช้ไฟฟ้า
JP5661930B2 (ja) 電気式脱イオン水製造装置
JP3729347B2 (ja) 電気再生式脱塩装置
JP4475568B2 (ja) 電気式脱塩水製造装置内の菌発生抑制方法
JP7262353B2 (ja) 脱イオン水の製造方法および製造システム
CN213434506U (zh) 用于液流处理的离子交换系统
GB2383275A (en) Ion exchange column regeneration by electrodialysis
DE102006016688B3 (de) Elektroentionisierungsverfahren zur Aufbereitung von bei der chemischen und/oder elektrochemischen Oberflächenbehandlung von Metallen entstehenden Spülwässern
JP3546498B2 (ja) アルミニウムの酸エッチング廃液からの酸の分離濃縮回収方法
JP2002011476A (ja) 電気脱イオン装置の運転方法
CN211338908U (zh) 一种含镍废水回收净化装置
US20070256940A1 (en) Device and Method for Removing Foreign Matter from Process Solutions
JP5393834B2 (ja) 電解質を含む液体から複数の除去対象イオンを除去する電気透析装置
JP4915843B2 (ja) 電気軟化装置、軟化装置及び軟水製造方法
JP2001212567A (ja) 電気再生式脱塩装置
JP2012239966A (ja) 電気式脱イオン水製造装置
JP4250796B2 (ja) 電気脱イオン装置