TH61527A - อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่?ใช้ไฟฟ้า - Google Patents
อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่?ใช้ไฟฟ้าInfo
- Publication number
- TH61527A TH61527A TH301003166A TH0301003166A TH61527A TH 61527 A TH61527 A TH 61527A TH 301003166 A TH301003166 A TH 301003166A TH 0301003166 A TH0301003166 A TH 0301003166A TH 61527 A TH61527 A TH 61527A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- chambers
- cation exchanger
- fluid
- concentrate
- electrodialysis
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (20/09/54) ในการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่ใช้ไฟฟ้าโดยอิเล็กโตรไดอะไลซิส พบว่าโลหะ ของสารอาบชุบโลหะจะตกสะสมอยู่ในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไลซิสนี้ เพื่อที่จะแก้ไขปัญหานี้ ได้มีการแนะนำการปรับปรุงอุปกรณ์เพื่อการรีเจนเนอเรทในศิลปวิทยาการที่มีอยู่เติมให้ดีขึ้น การปรับปรุงให้ดีขึ้นดังกล่าวประกอบด้วยการจัดเตรียมให้มีตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลักเพื่อนำ ไอออนของโลหะนี้ออกจากของไหลเข้มข้น ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลักนี้จะต่อคู่ควบกับ ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นของระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไลซิสนี้ในลักษณะวิธีที่จะอนุญาตให้ ของไหลเข้มข้นซึ่งไหลผ่านห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นนี้ผ่านไปยังตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก และไหลเวียนกลับเข้าสู่ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นนี้ใหม่ ในการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่ใช้ไฟฟ้าโดยอิเล็กโตรไดอะไลซิส พบว่าโลหะ ของสารอาบชุบโลหะจะตกสะสมอยู่ในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไลซิสนี้ เพื่อที่จะแก้ไขปัญหานี้ ได้มีการแนะนำการปรับปรุงอุปกรณ์เพื่อการรีเจนเนอเรทในศิลปวิทยาการที่มีอยู่เติมให้ดีขึ้น การปรับปรุงให้ดีขึ้นดังกล่าวประกอบด้วยการจัดเตรียมให้มีตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลักเพื่อนำ ไอออนของโลหะนี้ออกจากของไหลเข้มข้น ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลักนี้จะต่อคู่ควบกับ ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นของระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไลซิสนี้ในลักษณะวิธีที่จะอนุญาตให้ ของไหลเข้มข้นซึ่งไหลผ่านห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นนี้ผ่านไปยังตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก และไหลเวียนกลับเข้าสู่ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นนี้ใหม่
Claims (12)
1. อุปกรณ์สำหรับการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่ใช้ไฟฟ้า ซึ่งประกอบรวมด้วย a) ระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิส (E1, E2) โดยแต่ละระบบมีห้องแยกสำหรับ สารเจือจาง (Dila, Di2a, Di2b) เพื่อรองรับสารอาบชุบโลหะนี้ ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Kola, Ko1b, Ko2a) ซึ่งได้รับการแยกออกจากห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di1a, Di2a, Di2b) นี้ โดยเมมเบรนแลกเปลี่ยนไอออนและมุ่งประสงค์ที่จะรองรับของไหลเข้มข้นซึ่งทำหน้าที่ดูดซับ สารรบกวนซึ่งจะได้รับการนำออกจากสารอาบชุบโลหะรวมทั้งแอโนด (An) และแคโธด (Ka) และ b) ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (Ix) สำหรับการนำไอออนโลหะออกจากของไหลเข้มข้น ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนดังกล่าวได้รับการต่อคู่ควบกับห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a) ในลักษณะวิธีที่จะอนุญาตให้มีการนำของไหลเข้มข้นนี้ผ่านตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (Ix) และให้ไหลเวียนกลับเข้าสู่ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko2a) โดยปล่อยให้ของ ไหลที่จะได้รับการไหลเวียนกลับในวงจรที่หนึ่งระหว่างห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a,) และถังเก็บรวบรวม (Vk) และในวงจรที่สองระหว่างถังเก็บรวบรวม (Vk) และตัวแลกเปลี่ยน แคทไอออนหลัก (Ix)
2. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอุปกรณ์ดังกล่าวประกอบรวมด้วย a) ระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิสที่หนึ่ง (E1) ซึ่งมีห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b) และห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di1a) รวมทั้งแคโธด (Ka) และแอโนด (An) สลับกัน, ห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Dila) ซึ่งแต่ละห้องจะได้รับการแยกออกจากันบนด้านแคโธดของ ห้องแยกนี้จากห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นที่อยู่ใกล้กัน (Ko1a, Ko1b) โดยเมนเบรนแลกเปลี่ยน แคทไอออนแบบโมโนซีเล็กทีฟ (KS) และบนด้านแอโนดของห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นที่อยู่ใกล้กัน (Ko1a, Ko1b) โดยเมมเบรนแลกเปลี่ยนแอนไอออน (A) b) ระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิสที่สอง (E2) ซึ่งมีห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di2a, Di2b) และห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko2a) รวมทั้งแคโธด (Ka) และแอโนด (An) สลับกัน, ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko2a) แต่ละห้องจะได้รับการแยกออกจากกันบนด้านแคโธดของ แอนไอออน (A) และบนด้านแอโนดของห้องแยกนี้จากห้องแยกสำหรับสารเจือจางที่อยู่ใกล้กัน (Di2a, Di2b) โดยเมนเบรนแลกเปลี่ยนแอนไอออนแบบโมโนซีเล็กทีฟ (AS), เพื่อที่จะสามารถนำสารอาบชุบโลหะนี้ผ่านห้องแยกสำหรับการเจือจางทั้งหมด (Di1a, Di2a, Di2b) ในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิสสองระบบ (E1, E2) ที่ได้รับการเชื่อมต่อแบบ ขนานกันได้อย่างพร้อมกันและนำของไหลเข้มข้นผ่านห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b) Ko2a) ทั้งหมดในระบบการจัดอิเล็กโตรไดอะไลซิสสองระบบ (E1, E2) ซึ่งได้รับการเชื่อมต่อแบบ ขนานกันนี้ และ c) แหล่งจ่ายกระแส (S) สำหรับแคโธด (Ka) และแอโนด (An) ของระบบการจัดสำหรับ อิเล็กโตรไดอะไลซิสที่หนึ่ง (E1) และระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิสที่สอง (E2)
3. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งจัดเตรียมให้มีเพิ่มเติมด้วยเวสเซลของ ไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทที่หนึ่ง (VRS1) เพื่อรองรับของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทซึ่งมุ่งประสงค์ เพื่อการรีเจนเนอเรทของตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX), เวสเซลดังกล่าวจะได้รับการต่อคู่ควบ กับตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX)
4. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งได้จัดเตรียมให้มีเพิ่มเติมด้วยแหล่ง สะสมเสริม (VZK) สำหรับการรองรับของไหลเข้มข้น, แหล่งสะสมดังกล่าวได้รับการต่อคู่ควบกับ ถังเก็บรวบรวม (VK) และตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX)
5. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งได้จัดเตรียมให้มีเพิ่มเติมด้วย ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนนิรภัย (IS), ตัวแลกเปลี่ยนดังกล่าวได้รับการต่อคู่ควบกับตัวแลกเปลี่ยน แคทไอออนหลัก (IX) สำหรับการปฏิบัติภายหลังกับของไหลเข้มข้นที่ผ่านการปฏิบัติมาแล้วใน ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX)
6. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งได้จัดเตรียมให้มีเวสเซลของไหลที่เป็น สารรีเจนเนอเรทที่สอง (VRS2) สำหรับการรองรับของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทซึ่งมุ่งประสงค์ สำหรับการรีเจนเนอเรทของตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนนิรภัย (IS)
7. วิะีการสำหรับการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่ใช้ไฟฟ้า ซึ่งประกอบรวมด้วย a) การนำสารอาบชุบโลหะนี้ผ่านห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Dila, Di2a, Di2b) แต่ละห้อง ของระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิส (E1, E2) และ b) การนำของไหลเข้มข้นซึ่งทำหน้าที่ดูดซับสารรบกวนที่จะได้รับการนำออกจาก สารอาบชุบโลหะนี้ผ่านห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a) ของระบบการจัดสำหรับ อิเล็กโตรไดอะไลซิส (E1, E2) ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นดังกล่าวได้รับการแยกออกจากห้องแยก สำหรับสารเจือจาง (Di1a, Di2a, Di2b) โดยเมมเบรนแลกเปลี่ยนไอออน c) การผ่านต่อไปอีกของของไหลเข้มข้นผ่านตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (Ix) และ การไหลเวียนของไหลกลับเข้าสู่ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a) โดยการไหลเวียน ของไหลเข้มข้นในวงจรที่หนึ่งระหว่างห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a) และถังเก็บ รวบรวม (VK) และในวงจรที่สองระหว่างถังเก็บรวบรวมและตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX)
8. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ที่ซึ่งสารอาบชุบโลหะ a) ได้รับการนำผ่านห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di1a) ในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตร ไดอะไลซิสที่หนึ่ง (E1) ซึ่งประกอบรวมด้วยห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b) และห้องแยก สำหรับสารเจือจาง (Di1a) รวมทั้งแคโธด (Ka) และแอโนด (An) สลับกัน, ห้องแยกสำหรับ สารเจือจาง (Di1a) ซึ่งได้รับการแยกออกจากกันบนด้านแคโธดของห้องแยกนี้จากห้องแยกสำหรับ สารเข้มข้นที่อยู่ใกล้กัน (Ko1a, Ko1b) โดยเมนเบรนแลกเปลี่ยนแคทไอออนแบบโมโนซีเล็กทีฟ (KS) และบนด้านแอโนดของห้องแยกนี้จากห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นที่อยู่ใกล้กัน (Ko1a, Ko1b) โดย เมมเบรนแลกเปลี่ยนแอนไอออน (A) และ b) จะผ่านทะลุห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di2a, Di2b) ในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตร ไดอะไลซิสที่สอง (E2) ซึ่งประกอบรวมด้วยห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di2a, Di2b) และห้องแยก สำหรับสารเข้มข้น (Ko2a) สลับกัน รวมทั้งแคโธด (Ka) และแอโนด (An), ห้องแยกสำหรับสาร เข้มข้น (Ko2a) ซึ่งได้รับการแยกจากกันบนด้านแคโธดของห้องแยกนี้จากห้องแยกสำหรับสารเจือจาง ซึ่งอยู่ใกล้กัน (Di2a, Di2b) โดยเมมเบรนแลกเปลี่ยนแอนไอออน (A) และบนด้านแอโนดของห้อง แยกนี้จากห้องแยกสำหรับสารเจือจางที่อยู่ใกล้กัน (Di2a, Di2b) โดยเมมเบรนแลกเปลี่ยนแอนไอออน แบบโมโนซีเล็กทีฟ (AS) และ ที่ซึ่งสารอาบชุบโลหะนี้ได้รับการนำผ่านห้องแยกสำหรับสารเจือจางทั้งหมด (Di1a, Di2a, Di2b) ในระบบการจัดแบบอิเล็กโตรไดอะไลซิสสองระบบ (E1, E2) อย่างพร้อมกัน, ระบบการจัดนี้ ได้รับการเชื่อมต่อแบบขนานกัน, และของไหลเข้มข้นจะไหลผ่านห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a) ทั้งหมดในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิสสองระบบ (E1, E2)
9. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 7 หรือ 8 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่ง สำหรับการรีเจนเนอเรทตัวแลกเปลี่ยน แคทไอออนหลัก (Ix) นี้ ของไหลเข้มข้นที่มีอยู่ในตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX) จะได้รับการ เข้าแทนที่โดยของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทและของไหลเข้มข้นนี้ได้รับการทำให้ไหลเวียนกลับเข้าสู่ ถังเก็บรวบรวม (VK), ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX) นี้ได้รับการรีเจนเนอเรทในกระบวนการนี้
10. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 9 ที่ซึ่งของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทนี้ได้รับการนำออกจาก เวสเซลของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทที่หนึ่ง (VRS1) และได้รับการถ่ายโอนเข้าสู่ตัวแลกเปลี่ยน แคทไอออนหลัก (IX)
11. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 9 หรือ 10 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งของไหลที่เป้นสารรีเจนเนอเรทนี้ ได้รับการเข้าแทนที่โดยของไหลเข้มข้นภายหลังการรีเจนเนอเรทของตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX) นี้สมบูรณ์ ของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทนี้จะได้รับการทำให้ไหลเวียนกลับเข้าสู่เวสเซลของ ไหลที่เป้นสารรีเจนเนอเรทที่หนึ่ง (VRS1)
12. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ถึง 11 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งของไหลเข้าข้นจะไหลผ่านตัวแลก เปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX) หลายตัว ณ เวลาแตกต่างกันพร้อมด้วยของไหลที่เป้นสารรีเจนเนอเรท ซึ่งได้รับการทำให้ไหลเวียนผ่านตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX) เหล่านั้น โดยที่ของไหลเข้มข้นนี้ ไม่ได้รับการทำให้ไหลเวียนผ่านเพื่อการรีเจนเนอเรทตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลักเหล่านี้
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH61527A true TH61527A (th) | 2004-04-09 |
| TH41100B TH41100B (th) | 2014-08-14 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6482304B1 (en) | Apparatus and method of recirculating electrodeionization | |
| US6896814B2 (en) | Fractional deionization process | |
| Lambert et al. | Separation of sodium ions from trivalent chromium by electrodialysis using monovalent cation selective membranes | |
| CN102762284B (zh) | 膜电解堆叠体、包括所述堆叠体的电渗析装置和用于无电镀浴再生的方法 | |
| US7699968B2 (en) | Water purifying system | |
| CN1774403B (zh) | 电去离子装置及其操作方法 | |
| JP6105005B2 (ja) | 電気式脱イオン水製造装置及び脱イオン水の製造方法 | |
| CA2484799A1 (en) | Device and method for regenerating an electroless metal plating bath | |
| JP2012239965A (ja) | 電気式脱イオン水製造装置 | |
| CN206666300U (zh) | 混床再生高盐废水零排放处理装置 | |
| WO2007132685A1 (ja) | 電気軟化装置、軟化装置、軟水製造方法及び軟化装置の運転方法 | |
| TH41100B (th) | อุปกรณ์และวิธีการสำหรับการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่?ใช้ไฟฟ้า | |
| JP4475568B2 (ja) | 電気式脱塩水製造装置内の菌発生抑制方法 | |
| JP3570350B2 (ja) | 電気脱イオン装置及び純水製造装置 | |
| CN213434506U (zh) | 用于液流处理的离子交换系统 | |
| JP7262353B2 (ja) | 脱イオン水の製造方法および製造システム | |
| JP2006176814A (ja) | シアン含有水溶液からAuを回収する方法、並びにその装置 | |
| GB2383275A (en) | Ion exchange column regeneration by electrodialysis | |
| DE102006016688B3 (de) | Elektroentionisierungsverfahren zur Aufbereitung von bei der chemischen und/oder elektrochemischen Oberflächenbehandlung von Metallen entstehenden Spülwässern | |
| JP2002011476A (ja) | 電気脱イオン装置の運転方法 | |
| CN211338908U (zh) | 一种含镍废水回收净化装置 | |
| JP4250796B2 (ja) | 電気脱イオン装置 | |
| JP7205576B1 (ja) | 純水製造システムの運転方法 | |
| JP4915843B2 (ja) | 電気軟化装置、軟化装置及び軟水製造方法 | |
| JP2012239966A (ja) | 電気式脱イオン水製造装置 |