TH41100B - Equipment and methods for non-electroless regeneration of metal plating solutions. - Google Patents

Equipment and methods for non-electroless regeneration of metal plating solutions.

Info

Publication number
TH41100B
TH41100B TH301003166A TH0301003166A TH41100B TH 41100 B TH41100 B TH 41100B TH 301003166 A TH301003166 A TH 301003166A TH 0301003166 A TH0301003166 A TH 0301003166A TH 41100 B TH41100 B TH 41100B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
chambers
cation exchanger
fluid
electrodialysis
concentrate
Prior art date
Application number
TH301003166A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH61527A (en
Inventor
เฮย์เด็ค นายเจนส์
มูรานูชิ นายมาซาโนริ
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายบุญมา เตชะวณิช
อาโตเท็ค ด๊อยท์ชแลนด์ จีเอ็มบีเอช
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายบุญมา เตชะวณิช, อาโตเท็ค ด๊อยท์ชแลนด์ จีเอ็มบีเอช filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH61527A publication Critical patent/TH61527A/en
Publication of TH41100B publication Critical patent/TH41100B/en

Links

Abstract

DC60 (20/09/54) ในการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่ใช้ไฟฟ้าโดยอิเล็กโตรไดอะไลซิส พบว่าโลหะ ของสารอาบชุบโลหะจะตกสะสมอยู่ในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไลซิสนี้ เพื่อที่จะแก้ไขปัญหานี้ ได้มีการแนะนำการปรับปรุงอุปกรณ์เพื่อการรีเจนเนอเรทในศิลปวิทยาการที่มีอยู่เติมให้ดีขึ้น การปรับปรุงให้ดีขึ้นดังกล่าวประกอบด้วยการจัดเตรียมให้มีตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลักเพื่อนำ ไอออนของโลหะนี้ออกจากของไหลเข้มข้น ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลักนี้จะต่อคู่ควบกับ ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นของระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไลซิสนี้ในลักษณะวิธีที่จะอนุญาตให้ ของไหลเข้มข้นซึ่งไหลผ่านห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นนี้ผ่านไปยังตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก และไหลเวียนกลับเข้าสู่ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นนี้ใหม่ ในการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่ใช้ไฟฟ้าโดยอิเล็กโตรไดอะไลซิส พบว่าโลหะ ของสารอาบชุบโลหะจะตกสะสมอยู่ในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไลซิสนี้ เพื่อที่จะแก้ไขปัญหานี้ ได้มีการแนะนำการปรับปรุงอุปกรณ์เพื่อการรีเจนเนอเรทในศิลปวิทยาการที่มีอยู่เติมให้ดีขึ้น การปรับปรุงให้ดีขึ้นดังกล่าวประกอบด้วยการจัดเตรียมให้มีตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลักเพื่อนำ ไอออนของโลหะนี้ออกจากของไหลเข้มข้น ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลักนี้จะต่อคู่ควบกับ ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นของระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไลซิสนี้ในลักษณะวิธีที่จะอนุญาตให้ ของไหลเข้มข้นซึ่งไหลผ่านห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นนี้ผ่านไปยังตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก และไหลเวียนกลับเข้าสู่ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นนี้ใหม่ DC60 (20/09/54) In the non-electrodialysis metal bath regenerative by electrodialysis, it was found that the metal of the metal bath was deposited in the electrodialysis arrangement system. This small electrolysis in order to fix this problem Improvements have been introduced to enhance the regeneration of the existing arts. Such improvements consist in the provision of a primary cation exchanger to lead This metal ion exits the concentrated fluid. This main cation exchanger is coupled with The separation chamber for the concentrates of this electrolysis arrangement system in such a way as to allow The concentrated fluid which flows through the separation chamber for this concentrate passes to the main cation exchanger. and recirculated into the separation chamber for this new concentrate. In the non-electrodialysis metal impregnation bath regenerative, it was found that the metal of the impregnation bath was found to be deposited in this electrolysis arrangement. in order to fix this problem Improvements have been introduced to enhance the regeneration of the existing arts. Such improvements consist in the provision of a primary cation exchanger to lead This metal ion exits the concentrated fluid. This main cation exchanger is coupled with The separation chamber for the concentrates of this electrolysis arrangement system in such a way as to allow The concentrated fluid which flows through the separation chamber for this concentrate passes to the main cation exchanger. and recirculated into the separation chamber for this new concentrate.

Claims (12)

1. อุปกรณ์สำหรับการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่ใช้ไฟฟ้า ซึ่งประกอบรวมด้วย a) ระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิส (E1, E2) โดยแต่ละระบบมีห้องแยกสำหรับ สารเจือจาง (Dila, Di2a, Di2b) เพื่อรองรับสารอาบชุบโลหะนี้ ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Kola, Ko1b, Ko2a) ซึ่งได้รับการแยกออกจากห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di1a, Di2a, Di2b) นี้ โดยเมมเบรนแลกเปลี่ยนไอออนและมุ่งประสงค์ที่จะรองรับของไหลเข้มข้นซึ่งทำหน้าที่ดูดซับ สารรบกวนซึ่งจะได้รับการนำออกจากสารอาบชุบโลหะรวมทั้งแอโนด (An) และแคโธด (Ka) และ b) ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (Ix) สำหรับการนำไอออนโลหะออกจากของไหลเข้มข้น ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนดังกล่าวได้รับการต่อคู่ควบกับห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a) ในลักษณะวิธีที่จะอนุญาตให้มีการนำของไหลเข้มข้นนี้ผ่านตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (Ix) และให้ไหลเวียนกลับเข้าสู่ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko2a) โดยปล่อยให้ของ ไหลที่จะได้รับการไหลเวียนกลับในวงจรที่หนึ่งระหว่างห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a,) และถังเก็บรวบรวม (Vk) และในวงจรที่สองระหว่างถังเก็บรวบรวม (Vk) และตัวแลกเปลี่ยน แคทไอออนหลัก (Ix)1. The electroless regeneration equipment for metal plating consists of: a) an electrodialysis system (E1, E2), each containing separate chambers for the diluent (Dila, Di2a, Di2b) to hold the metal plating; and separate chambers for the concentrate (Kola, Ko1b, Ko2a), which are separated from the diluent chambers (Di1a, Di2a, Di2b) by an ion exchange membrane and are intended to hold the concentrate fluid, which acts as an adsorbent to remove interfering substances from the metal plating, including the anode (An) and cathode (Ka); and b) a primary cation exchanger (Ix) for removing metal ions from the concentrate fluid. This cation exchanger is coupled to the diluent chambers (Ko1a, Ko1b, Ko2a) in a way that allows the concentrate fluid to pass through the primary cation exchanger (Ix) and recirculate back into the diluent chambers (Ko1a, Ko2a), leaving the concentrate fluid to be removed. The flow will be recirculated in the first circuit between the separation chambers for concentrates (Ko1a, Ko1b, Ko2a) and the collection tank (Vk), and in the second circuit between the collection tank (Vk) and the main cation exchanger (Ix). 2. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอุปกรณ์ดังกล่าวประกอบรวมด้วย a) ระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิสที่หนึ่ง (E1) ซึ่งมีห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b) และห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di1a) รวมทั้งแคโธด (Ka) และแอโนด (An) สลับกัน, ห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Dila) ซึ่งแต่ละห้องจะได้รับการแยกออกจากันบนด้านแคโธดของ ห้องแยกนี้จากห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นที่อยู่ใกล้กัน (Ko1a, Ko1b) โดยเมนเบรนแลกเปลี่ยน แคทไอออนแบบโมโนซีเล็กทีฟ (KS) และบนด้านแอโนดของห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นที่อยู่ใกล้กัน (Ko1a, Ko1b) โดยเมมเบรนแลกเปลี่ยนแอนไอออน (A) b) ระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิสที่สอง (E2) ซึ่งมีห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di2a, Di2b) และห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko2a) รวมทั้งแคโธด (Ka) และแอโนด (An) สลับกัน, ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko2a) แต่ละห้องจะได้รับการแยกออกจากกันบนด้านแคโธดของ แอนไอออน (A) และบนด้านแอโนดของห้องแยกนี้จากห้องแยกสำหรับสารเจือจางที่อยู่ใกล้กัน (Di2a, Di2b) โดยเมนเบรนแลกเปลี่ยนแอนไอออนแบบโมโนซีเล็กทีฟ (AS), เพื่อที่จะสามารถนำสารอาบชุบโลหะนี้ผ่านห้องแยกสำหรับการเจือจางทั้งหมด (Di1a, Di2a, Di2b) ในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิสสองระบบ (E1, E2) ที่ได้รับการเชื่อมต่อแบบ ขนานกันได้อย่างพร้อมกันและนำของไหลเข้มข้นผ่านห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b) Ko2a) ทั้งหมดในระบบการจัดอิเล็กโตรไดอะไลซิสสองระบบ (E1, E2) ซึ่งได้รับการเชื่อมต่อแบบ ขนานกันนี้ และ c) แหล่งจ่ายกระแส (S) สำหรับแคโธด (Ka) และแอโนด (An) ของระบบการจัดสำหรับ อิเล็กโตรไดอะไลซิสที่หนึ่ง (E1) และระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิสที่สอง (E2)2. The device according to claim 1, which comprises: a) a system for the first electrodialysis (E1) containing separate chambers for concentrates (Ko1a, Ko1b) and dilutes (Di1a), with alternating cathodes (Ka) and anodes (An), and separate dilute chambers (Dila) each separated on the cathode side of this separation chamber from the adjacent concentrate chambers (Ko1a, Ko1b) by an exchange membrane. a) The arrangement for the second electrodialysis system (E2), which has separate chambers for diluents (Di2a, Di2b) and a separate chamber for concentrates (Ko2a), as well as alternating cathodes (Ka) and anodes (An), each separate chamber for concentrates (Ko2a) is separated on the cathode side by anion exchange membrane (A) and on the anode side of this separation chamber from the adjacent separate chambers for diluents (Di2a, Di2b) by a monoselective anion exchange membrane (AS), so that this plating solution can be passed through all the separate chambers for diluents (Di1a, Di2a, Di2b) in the two interconnected electrodialysis arrangements (E1, E2). They are connected in parallel and simultaneously convey concentrated fluids through separate chambers for the concentrates (Ko1a, Ko1b, Ko2a) in total in two electrodialysis arrangement systems (E1, E2), which are connected in parallel, and c) the current sources (S) for the cathode (Ka) and anode (An) of the arrangement system for the first electrodialysis (E1) and the arrangement system for the second electrodialysis (E2). 3. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งจัดเตรียมให้มีเพิ่มเติมด้วยเวสเซลของ ไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทที่หนึ่ง (VRS1) เพื่อรองรับของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทซึ่งมุ่งประสงค์ เพื่อการรีเจนเนอเรทของตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX), เวสเซลดังกล่าวจะได้รับการต่อคู่ควบ กับตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX)3. Any device under any of the preceding claims which is provided with an additional regenerating fluid vessel (VRS1) to hold the regenerating fluid intended for the regeneration of the primary cation exchanger (IX), such vessel shall be coupled to the primary cation exchanger (IX). 4. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งได้จัดเตรียมให้มีเพิ่มเติมด้วยแหล่ง สะสมเสริม (VZK) สำหรับการรองรับของไหลเข้มข้น, แหล่งสะสมดังกล่าวได้รับการต่อคู่ควบกับ ถังเก็บรวบรวม (VK) และตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX)4. Any of the equipment provided under the prior claims, which is provided with an additional accumulator (VZK) for the support of concentrated fluids, such accumulator is coupled with a collection tank (VK) and the main cation exchanger (IX). 5. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งได้จัดเตรียมให้มีเพิ่มเติมด้วย ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนนิรภัย (IS), ตัวแลกเปลี่ยนดังกล่าวได้รับการต่อคู่ควบกับตัวแลกเปลี่ยน แคทไอออนหลัก (IX) สำหรับการปฏิบัติภายหลังกับของไหลเข้มข้นที่ผ่านการปฏิบัติมาแล้วใน ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX)5. Equipment pursuant to one of the prior claims, which is provided in addition to a safety cation exchanger (IS), such exchanger is coupled to the primary cation exchanger (IX) for subsequent treatment of concentrated fluids previously treated in the primary cation exchanger (IX). 6. อุปกรณ์ตามข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งได้จัดเตรียมให้มีเวสเซลของไหลที่เป็น สารรีเจนเนอเรทที่สอง (VRS2) สำหรับการรองรับของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทซึ่งมุ่งประสงค์ สำหรับการรีเจนเนอเรทของตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนนิรภัย (IS)6. An apparatus under one of the prior claims which is provided with a second regenerating fluid vessel (VRS2) for the purpose of regenerating the regenerating fluid intended for the regeneration of the safety cation exchanger (IS). 7. วิะีการสำหรับการรีเจนเนอเรทสารอาบชุบโลหะแบบไม่ใช้ไฟฟ้า ซึ่งประกอบรวมด้วย a) การนำสารอาบชุบโลหะนี้ผ่านห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Dila, Di2a, Di2b) แต่ละห้อง ของระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิส (E1, E2) และ b) การนำของไหลเข้มข้นซึ่งทำหน้าที่ดูดซับสารรบกวนที่จะได้รับการนำออกจาก สารอาบชุบโลหะนี้ผ่านห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a) ของระบบการจัดสำหรับ อิเล็กโตรไดอะไลซิส (E1, E2) ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นดังกล่าวได้รับการแยกออกจากห้องแยก สำหรับสารเจือจาง (Di1a, Di2a, Di2b) โดยเมมเบรนแลกเปลี่ยนไอออน c) การผ่านต่อไปอีกของของไหลเข้มข้นผ่านตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (Ix) และ การไหลเวียนของไหลกลับเข้าสู่ห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a) โดยการไหลเวียน ของไหลเข้มข้นในวงจรที่หนึ่งระหว่างห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a) และถังเก็บ รวบรวม (VK) และในวงจรที่สองระหว่างถังเก็บรวบรวมและตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX)7. The method for electroless regeneration of the plating solution consists of: a) passing the plating solution through individual diluent separation chambers (Dila, Di2a, Di2b) of the electrodialysis system (E1, E2); and b) passing the concentrated fluid, which acts as an adsorbent for interfering substances to be removed from the plating solution, through the concentrate separation chambers (Ko1a, Ko1b, Ko2a) of the electrodialysis system (E1, E2). These concentrate separation chambers are separated from the diluent separation chambers (Di1a, Di2a, Di2b) by an ion exchange membrane; and c) further passage of the concentrated fluid through the main cation exchanger (Ix) and recirculation of the fluid back into the concentrate separation chambers (Ko1a, Ko1b, Ko2a) by recirculation. The concentrated fluid flows in the first circuit between the separation chambers for the concentrates (Ko1a, Ko1b, Ko2a) and the collection tank (VK), and in the second circuit between the collection tank and the main cation exchanger (IX). 8. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ที่ซึ่งสารอาบชุบโลหะ a) ได้รับการนำผ่านห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di1a) ในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตร ไดอะไลซิสที่หนึ่ง (E1) ซึ่งประกอบรวมด้วยห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b) และห้องแยก สำหรับสารเจือจาง (Di1a) รวมทั้งแคโธด (Ka) และแอโนด (An) สลับกัน, ห้องแยกสำหรับ สารเจือจาง (Di1a) ซึ่งได้รับการแยกออกจากกันบนด้านแคโธดของห้องแยกนี้จากห้องแยกสำหรับ สารเข้มข้นที่อยู่ใกล้กัน (Ko1a, Ko1b) โดยเมนเบรนแลกเปลี่ยนแคทไอออนแบบโมโนซีเล็กทีฟ (KS) และบนด้านแอโนดของห้องแยกนี้จากห้องแยกสำหรับสารเข้มข้นที่อยู่ใกล้กัน (Ko1a, Ko1b) โดย เมมเบรนแลกเปลี่ยนแอนไอออน (A) และ b) จะผ่านทะลุห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di2a, Di2b) ในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตร ไดอะไลซิสที่สอง (E2) ซึ่งประกอบรวมด้วยห้องแยกสำหรับสารเจือจาง (Di2a, Di2b) และห้องแยก สำหรับสารเข้มข้น (Ko2a) สลับกัน รวมทั้งแคโธด (Ka) และแอโนด (An), ห้องแยกสำหรับสาร เข้มข้น (Ko2a) ซึ่งได้รับการแยกจากกันบนด้านแคโธดของห้องแยกนี้จากห้องแยกสำหรับสารเจือจาง ซึ่งอยู่ใกล้กัน (Di2a, Di2b) โดยเมมเบรนแลกเปลี่ยนแอนไอออน (A) และบนด้านแอโนดของห้อง แยกนี้จากห้องแยกสำหรับสารเจือจางที่อยู่ใกล้กัน (Di2a, Di2b) โดยเมมเบรนแลกเปลี่ยนแอนไอออน แบบโมโนซีเล็กทีฟ (AS) และ ที่ซึ่งสารอาบชุบโลหะนี้ได้รับการนำผ่านห้องแยกสำหรับสารเจือจางทั้งหมด (Di1a, Di2a, Di2b) ในระบบการจัดแบบอิเล็กโตรไดอะไลซิสสองระบบ (E1, E2) อย่างพร้อมกัน, ระบบการจัดนี้ ได้รับการเชื่อมต่อแบบขนานกัน, และของไหลเข้มข้นจะไหลผ่านห้องแยกสำหรับสารเข้มข้น (Ko1a, Ko1b, Ko2a) ทั้งหมดในระบบการจัดสำหรับอิเล็กโตรไดอะไลซิสสองระบบ (E1, E2)8. The procedure pursuant to claim 7, in which the plating solution a) is introduced through the diluent separation chamber (Di1a) in the first electrodialysis arrangement system (E1) which comprises the concentrate separation chambers (Ko1a, Ko1b) and the diluent separation chamber (Di1a) with alternating cathodes (Ka) and anodes (An), the diluent separation chamber (Di1a) is separated on the cathode side of this separation chamber from the adjacent concentrate separation chambers (Ko1a, Ko1b) by a monoselective cation exchange membrane (KS) and on the anode side of this separation chamber from the adjacent concentrate separation chambers (Ko1a, Ko1b) by an anion exchange membrane (A), and b) passes through the diluent separation chambers (Di2a, Di2b) in the first electrodialysis arrangement system. The second dialysis (E2) consists of alternating separate chambers for diluents (Di2a, Di2b) and concentrates (Ko2a), as well as the cathode (Ka) and anode (An). The concentrate chamber (Ko2a) is separated on the cathode side from the adjacent diluent chambers (Di2a, Di2b) by an anion exchange membrane (A), and on the anode side from the adjacent diluent chambers (Di2a, Di2b) by a monoselective anion exchange membrane (AS). The plating solution is then simultaneously passed through all the diluent chambers (Di1a, Di2a, Di2b) in a two-system electrodialysis arrangement (E1, E2). They are connected in parallel, and the concentrated fluids flow through separate chambers for the concentrates (Ko1a, Ko1b, Ko2a) in a total arrangement for two electrodialysis systems (E1, E2). 9. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 7 หรือ 8 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่ง สำหรับการรีเจนเนอเรทตัวแลกเปลี่ยน แคทไอออนหลัก (Ix) นี้ ของไหลเข้มข้นที่มีอยู่ในตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX) จะได้รับการ เข้าแทนที่โดยของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทและของไหลเข้มข้นนี้ได้รับการทำให้ไหลเวียนกลับเข้าสู่ ถังเก็บรวบรวม (VK), ตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX) นี้ได้รับการรีเจนเนอเรทในกระบวนการนี้9. Under either claim 7 or 8, for the regeneration of the primary cation exchanger (Ix), the concentrated fluid present in the primary cation exchanger (IX) is replaced by the regenerating fluid and this concentrated fluid is recirculated back into the storage tank (VK), and the primary cation exchanger (IX) is regenerated in this process. 10. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 9 ที่ซึ่งของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทนี้ได้รับการนำออกจาก เวสเซลของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทที่หนึ่ง (VRS1) และได้รับการถ่ายโอนเข้าสู่ตัวแลกเปลี่ยน แคทไอออนหลัก (IX)10. The method pursuant to claim 9 in which the regenerating fluid is removed from the first regenerating fluid vessel (VRS1) and transferred into the primary cation exchanger (IX). 11. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 9 หรือ 10 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งของไหลที่เป้นสารรีเจนเนอเรทนี้ ได้รับการเข้าแทนที่โดยของไหลเข้มข้นภายหลังการรีเจนเนอเรทของตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX) นี้สมบูรณ์ ของไหลที่เป็นสารรีเจนเนอเรทนี้จะได้รับการทำให้ไหลเวียนกลับเข้าสู่เวสเซลของ ไหลที่เป้นสารรีเจนเนอเรทที่หนึ่ง (VRS1)11. Under either claim 9 or 10, where this regenerating fluid is replaced by a concentrated fluid after complete regeneration of the primary cation exchanger (IX), this regenerating fluid is recirculated back into the first regenerating fluid vessel (VRS1). 12. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ถึง 11 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งของไหลเข้าข้นจะไหลผ่านตัวแลก เปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX) หลายตัว ณ เวลาแตกต่างกันพร้อมด้วยของไหลที่เป้นสารรีเจนเนอเรท ซึ่งได้รับการทำให้ไหลเวียนผ่านตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลัก (IX) เหล่านั้น โดยที่ของไหลเข้มข้นนี้ ไม่ได้รับการทำให้ไหลเวียนผ่านเพื่อการรีเจนเนอเรทตัวแลกเปลี่ยนแคทไอออนหลักเหล่านี้12. Any of the methods under claims 7 through 11 in which the concentrated fluid flows through multiple principal cation exchangers (IX) at different times, with regenerating fluid being circulated through those principal cation exchangers (IX), where the concentrated fluid is not circulated for regeneration of these principal cation exchangers.
TH301003166A 2003-08-26 Equipment and methods for non-electroless regeneration of metal plating solutions. TH41100B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH61527A TH61527A (en) 2004-04-09
TH41100B true TH41100B (en) 2014-08-14

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2558187B1 (en) Electrodialysis device including a membrane electrolysis stack and method for the regeneration of an electroless plating bath
JP6105005B2 (en) Electric deionized water production apparatus and deionized water production method
CA2484799A1 (en) Device and method for regenerating an electroless metal plating bath
JP2012239965A (en) Electric deionized water producing apparatus
CN101121555A (en) Electrodeionization apparatus and method of operation thereof
EP1239057A1 (en) System for the electrolytic regeneration of a bath for electroless plating
JP5354871B2 (en) Electrolyte solution regeneration method and regeneration device
CN102079559A (en) Electrical deionization method and system without enriched chamber
TH61527A (en) Equipment and methods for non-electroless regeneration of metal plating solutions.
JP5661930B2 (en) Electric deionized water production equipment
JP3729347B2 (en) Electric regenerative desalination equipment
JP4475568B2 (en) Bacteria generation suppression method in electric demineralized water production equipment
JP7262353B2 (en) Deionized water production method and production system
CN213434506U (en) Ion exchange system for liquid stream treatment
GB2383275A (en) Ion exchange column regeneration by electrodialysis
DE102006016688B3 (en) Electrodeionization process for the treatment of rinsing waters resulting from the chemical and / or electrochemical surface treatment of metals
JP3546498B2 (en) Method for separating, concentrating and recovering acid from aluminum etching wastewater
JP2002011476A (en) Operating method of electrodeionization equipment
CN211338908U (en) Nickel-containing wastewater recovery and purification device
US20070256940A1 (en) Device and Method for Removing Foreign Matter from Process Solutions
JP5393834B2 (en) Electrodialysis apparatus for removing a plurality of ions to be removed from a liquid containing an electrolyte
JP4915843B2 (en) Electric softening device, softening device and soft water production method
JP2001212567A (en) Electric regeneration type desalting apparatus
JP2012239966A (en) Electric deionized water producing apparatus
JP4250796B2 (en) Electrodeionization equipment