TH38751B - ขบวนการสำหรับการเตรียมไซโคลเฮกซาโนออกซีม - Google Patents
ขบวนการสำหรับการเตรียมไซโคลเฮกซาโนออกซีมInfo
- Publication number
- TH38751B TH38751B TH101002177A TH0101002177A TH38751B TH 38751 B TH38751 B TH 38751B TH 101002177 A TH101002177 A TH 101002177A TH 0101002177 A TH0101002177 A TH 0101002177A TH 38751 B TH38751 B TH 38751B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- cyclohexanone
- zone
- oxyme
- synthesis zone
- synthesis
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (27/08/44) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับขบวนการสำหรับผลิตไซโคลเฮกซาโนนออกซีมที่ซึ่งตัวกลางของ ปฎฏิกิริยาแอคเควียสที่มีฟอสเฟตอยู่ด้วยถูกหมุนเวียนจากโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอนโมเนียมไปยัง โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมและกลับไปสู่โซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโมเนียม ซึ่ง ในโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมนั้น ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมถูกทำให้เกิดขึ้น โดยการรีดิวซ์ ไนเตรทด้วยไฮโดรเจนที่มีการเร่งปฏิกิริยา และซึ่งในโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมนั้น ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมจะถูกทำปฏิกิริยากับไซโคลเฮกซาโนนเพื่อให้เกิดเป็นไซโคลเฮกซาโนน ออกซีม ซึ่งไซโคลเฮกซาโนนและตัวทำละลายอินทรีย์จะถูกป้อนเข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคล ฮกซาโนนออกซีม ซึ่งตัวกลางอินทรีย์ที่ประกอบรวมด้วยตัวทำละลายอินทรีย์และไซโคลเฮกซาโนน ออกซีมจะถูกเอาออกจากโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ซึ่งถูกแสดงลักษณะเฉพาะว่า อัตราส่วนของ fh/fc น้อยกว่า 1.00 ที่ซึ่ง fh แสดงแทนปริมาณเป็นโมลาร์ของไฮดรอกซิลแอมโมเนียมที่ถูกป้อนเข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคล เฮกซาโนนออกซีมต่อหน่วยของเวลา(ในหน่วยโมล/วินาที) และ fc แสดงแทนปริมาณเป็นโมลาร์ของไซโคลเฮกซาโนนที่ถูกป้อนเข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคล เฮกซาโนนออกซีมต่อหน่วยของเวลา (ในหน่วยโมล/วินาที) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับขบวนการสำหรับผลิตไซโคลเฮกซาโนนออกซีมที่ซึ่งตัวกลางของ ปฎิกิริยาแอคเควียสที่มีฟอสเฟตอยู่ด้วยถูกหมุนเวียนจากโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอนโมเนียมไปยัง โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมและกลับไปสู่โซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโมเนียม ซึ่ง ในโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมนั้น ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมถูกทำให้เกิดขึ้น โดยการรีคิวซ์ ไนเตรทด้วยไฮโดรเจนที่มีการเร่งปฏิกิริยา และซึ่งในโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมนั้น ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมจะถูกทำปฏิกิริยากับไซโคลเฮกซาโนนเพื่อให้เกิดเป็นไซโคลเฮกซาโนน ออกซีม ซึ่งไซโคลเฮกซาโนนและตัวทำละลายอินทรีย์จะถูกป้อนเข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคล ฮกซาโนนออกซีม ซึ่งตัวกลางอินทรีย์ที่ประกอบรวมด้วยตัวทำละลายอินทรีย์และไซโคลเฮกซาโนน ออกซีมจะถูกเอาออกจากโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ซึ่งถูกแสดงลักษณะเฉพาะว่า อัตราส่วนของ fh/fc < 1.00 ที่ซึ่ง fh แสดงแทนปริมาณเป็นโมลาร์ของไฮดรอกซิลแอมโมเนียมที่ถูกป้อนเข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคล เฮกซาโนนออกซีมต่อหน่วยของเวลา(ในหน่วยโมล/วินาที) และ fc แสดงแทนปริมาณเป็นโมลาร์ของไซโคลเฮกซาโนนที่ถูกป้อนเข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคล เฮกซาโนนออกซีมต่อหน่วยของเวลา (ในหน่วยโมล/วินาที)
Claims (13)
1. ขบวนการสำหรับการผลิตไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ที่ซึ่งตัวกลางของปฏิกิริยาแอคเควียสที่มีฟอสเฟต ถูกหมุนเวียนจากโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลเเอมโมเนียม (A) ไปยังโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม เเละกลับไปสู่โซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลเเอมโมเนียม (A) ซึ่งโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลเเอมโมเนียม ไฮดรอกซิล เเอมโมเนียมถูกสร้างโดยการรีดิวซ์ของไนเตรทด้วยไฮโดรเจนที่ใช้การเร่งปฏิกิริยา ซึ่งโซนสังเคราะห์ไซโคล เฮกซาโนนออกซีมประกอบด้วยโซนปฏิกิริยา (B) เเละโซนการสกัด (C) ขบวนการดังกล่าวประกอบด้วย (i) ป้อนตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสไปโซนปฏิกิริยา (B) เเละจากโซนปฏิกิริยา (B) ไปโซนการสกัด (C) (ii) ป้อนไซโคลเฮกซาโนนเเละตัวทำละลายอินทรีย์เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ไซโคลเฮกซาโนนถูกป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีระหว่างโซนปฏิกิริยา (B) เเละ โซนการสกัด (C) (iii) ป้อนไซโคลเฮกศาโนนเเละตัวทำละลายอินทรีย์เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ไซโคลเฮกซาโนนถูกป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมระหว่างโซนปฏิกิริยา (B) เเละ โซนการสกัด (C) (iiii) ในโซนปฏิกิริยา (B) ดังกล่าวทำปฏิริยาไฮดรอกซิลเเอมโมเนียมกัยไซโคลเฮกซาโนน เพื่อสร้าง ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมโดยสัมผัสตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสกับกระเเสทีมีไซโคล เฮกซาโนนเเละตัวทำละลายอินทรีย์ (iv) ในโซนการสกัด (C) ดังกล่าวสัมผัสกับตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสเเละตัวทำละลายอินทรีย์ (v) ถอนตัวกลางอินทรีย์ที่ประกอบด้วยตัวทำละลายอินทรีย์เเละไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจาก โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม เเละที่ซึ่งอัตราส่วนของ ที่ซึ่ง fn เเทนปริมาณโมลาร์ของไฮดรอกซิลเเอมโมเนียมที่ป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ต่อหน่วยเวลา (โมล/วินาที) เเละ fc เเทนปริมาณโมลาร์ของไซโคลเฮกซาโดนนที่ป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม หน่วยเวลา (โมล/วินาที)
2. ขบวนการสำหรับการผลิตไซโคลเฮกซาโนนออกซีมในโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมดังกล่าวประกอบด้วยโซนปฏิกิริยา (B) เเละโซนการสกัด (C) ขบวนการ ดังกล่าวประกอบด้วย (i) ป้อนตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสที่มีไฮดรอกซิลเเอมโมเนียม ฟอสเฟตเเละไนเตรท ไป โซนปฏิกิริยา (B) เเละจากโซนปฏิกิริยา (B) ไปโซนการสกัด (C) (ii) ป้อนไซโคลเฮกซาโนนเเละตัวทำละลายอินทรีย์เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ไซโคลเฮกซาโนนถูกป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีระหว่างโซนปฏิกิริยา (B) เเละ โซนการสกัด (C) (iii) ป้อนไซโคลเฮกศาโนนเเละตัวทำละลายอินทรีย์เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ไซโคลเฮกซาโนนถูกป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมระหว่างโซนปฏิกิริยา (B) เเละ โซนการสกัด (C) (iiii) ในโซนปฏิกิริยา (B) ดังกล่าวทำปฏิริยาไฮดรอกซิลเเอมโมเนียมกัยไซโคลเฮกซาโนน เพื่อสร้าง ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมโดยสัมผัสตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสกับกระเเสทีมีไซโคล (iv) ในโซนการสกัด (C) ดังกล่าวสัมผัสกับตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสเเละตัวทำละลายอินทรีย์ (v) ถอนตัวกลางอินทรีย์ที่ประกอบด้วยตัวทำละลายอินทรีย์เเละไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจาก โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม เเละที่ซึ่งอัตราส่วนของ ที่ซึ่ง fn เเทนปริมาณโมลาร์ของไฮดรอกซิลเเอมโมเนียมที่ป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ต่อหน่วยเวลา (โมล/วินาที) เเละ fc เเทนปริมาณโมลาร์ของไซโคลเฮกซาโดนนที่ป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม หน่วยเวลา (โมล/วินาที)
3. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งอัตราส่วนของ fn/fc<0.99
4. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 3 ที่ซึ่งอัตราส่วนของ fn/fc<0.98
5. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งความเข้มข้นของไซโคลเฮกซาโนนออกซีมในตัวกลางอินทรีย์ที่ออกจาก โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมนั้นสูงกว่า 25% โดยน้ำหนัก
6. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 5 ที่ซึ่งความเข้มข้นของไซโคลเฮกซาโนนออกซีมในตัวกลางอินทรีย์ที่ออกจาก โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมนั้นสูงกว่า 30% โดยน้ำหนัก
7. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 5 ที่ซึ่งความเข้มข้นของไซโคลเฮกซาโนนออกซีมในตัวกลางอินทรีย์ที่ออกจาก โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกโนนออกซีมนั้นสูงกว่า 35% โดยน้ำหนัก
8. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งความเข้มข้นของไฮดรอกซิลเเอมโมเนียมในตัวกลางของปฏิกิริยา เเอคเควียสที่เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมสูงกว่า 0.7 โมล/ลิตร
9. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 8 ที่ซึ่งความเข้มข้นของไฮดรอกซิลเเอมโมเนียมในตัวกลางของปฏิกิริยา เเอคเควียสที่เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมสูงกว่า 1.0 โมล/ลิตร
10. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสเเละการกระเเสที่ประกอบด้วยไซโคล เฮกซาโนนเเละตัวทำละลายอินทรีย์ถูกทำให้สัมผัสกันในกระเเสที่ไหลย้อยทิศทาง
11. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งตัวทำละลายอินทรีย์ถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยเบนซีน โทลูอีน ไซลีน เมทิลไซโคลเพนเทน ไซโคลเฮกเซน เเละของผสมของมัน
12. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งความเข้มข้นของฟอสเฟตในตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสเข้าสู่ โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมสูงกว่า 2.0 โมล/ลิตร
13. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งปริมาณรวมกันของไซโคลเฮกซาโนนเเละไซโคลเฮกซาโนนซีม ในตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสออกจากโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมต่ำกว่า 0.2% โดยน้ำหนัก
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH53668A TH53668A (th) | 2002-11-05 |
| TH38751B true TH38751B (th) | 2014-01-07 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Ohfune et al. | Synthesis of L-2-(2, 3-dicarboxyclopropyl) glycines. Novel conformationally restricted glutamate analogues. | |
| EP2022757B1 (en) | Process for hydrogen peroxide production including step for regeneration of working solution | |
| JP4058123B2 (ja) | ヒドロキシルアンモニウム塩の調製法 | |
| JP3254752B2 (ja) | ε−カプロラクタムの製法 | |
| US7423178B2 (en) | Process for treating an organic solution comprising cyclohexanone oxime, cyclohexanone, and an organic solvent | |
| EP1303480B1 (en) | Process for the production of cyclohexanone oxime | |
| EP1299353B1 (en) | Process for the preparation of cyclohexanone oxime | |
| IE69676B1 (en) | Process for the synthesis of azines | |
| JP4856839B2 (ja) | シクロヘキサノンオキシムの製造法 | |
| US5364609A (en) | Process for the preparation and processing of a hydroxylammonium salt solution | |
| TH53668A (th) | ขบวนการสำหรับการเตรียมไซโคลเฮกซาโนออกซีม | |
| DE60126686T2 (de) | Verfahren zur behandlung eines cyclohexanonoxim und cyclohexanon enthaltenden wässrigen mediums | |
| US2844630A (en) | Nitrosation process | |
| JP2004529972A (ja) | ホスフェート、シクロヘキサノン及びシクロヘキサノンオキシムを含む水性媒体を処理する方法 | |
| JPS6281357A (ja) | Ｎ−アルキル置換ヒドロキシルアンモニウムクロリド類 | |
| Fraser et al. | Isomeric oximes from 4, 4, 9, 9-Tetramethyl-5, 8-diazadodecane-2, 11-dione | |
| TH53669A (th) | กระบวนการสำหรับการผลิตไซโคลเฮกชาโนนออกซีม | |
| JPH08193062A (ja) | ε−カプロラクタムの製造方法 | |
| KR20000062222A (ko) | 카프로락탐의 합성으로 히드록실암모늄 포스페이트를제조하는 방법 | |
| JP2000128841A (ja) | α―置換環系の合成方法 | |
| JP2001510173A (ja) | カルボニル化合物の触媒フッ素化 | |
| TH2101004219A (th) | สารเชิงซ้อนกาโดลิเนียมและลิแกนด์ที่คีเลตที่ได้มาจาก pcta ที่อุดมด้วยไดแอสเตอริโอไอโซเมอร์, และกระบวนการเตรียมและการทำให้บริสุทธิ์ | |
| JPH08193061A (ja) | ε−カプロラクタムの製造方法 |