TH37519B

TH37519B - ฟิล์มหล่อขึ้นรูปสำหรับการผลิตแผ่นดิบเซรามิกและ?กระบวนการสำหรับการผลิตฟิล์มหล่อขึ้นรูป

Info

Publication number: TH37519B
Application number: TH101000157A
Authority: TH
Inventors: ชิบาโนะ นายโตมิชิ; นากามูระ นายโตรุ
Original assignee: นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์; นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์; นายต่อพงศ์ โทณะวณิก; นายบุญมา เตชะวณิช; ลินเทค คอร์ปอเรชั่น
Filing date: 2001-01-17
Publication date: 2013-10-14

Abstract

DC60 (28/03/44) ฟิล์มหล่อขึ้นรูปจะได้รับการเปิดเผยซึ่งจะได้รับการนำมาใช้งานสำหรับการผลิตแผ่นดิบ เซรามิกและซึ่งจะประกอบรวมด้วยฟิล์มซับสเทรทและชั้นบ่มที่ก่อรูปบนนั้นที่มีสารผสมซิลิโคนชนิดเกิด ปฏิกิริยาแบบรวมตัวที่มีสารเพิ่มความไวแสง ที่ซึ่งชั้นที่ผ่านการบ่มดังกล่าวจะได้รับการก่อรูปขึ้นโดย การปฏิบัติด้วยความร้อนชั้นหนึ่งของสารผสมซิลิโคนชนิดเกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวที่มีสารเพิ่มความ ไวแสงในปริมาณการเคลือบที่แสดงในเงื่อนไขของปริมาณของแข็งในช่วง 0.01 ถึง 0.2 กรัม/ตาราง เมตร ที่อุณหภูมิในช่วง 40 ถึง 120 องศาเซลเซียส ตามด้วยการปฏิบัติด้วยการฉายรัง สีอัลตร้าไวโอเลท ฟิล์มหล่อขึ้นรูปจะมีความยอดเยี่ยมทั้งในความสามารถในการเคลือบด้วยสเลอรี เซรามิกและความสามารถในการปลดปล่อยของแผ่นดิบเซรามิก และจะทำให้ได้ความแบนเรียบสูง ซึ่งก่อนนี้ไม่เคยสามารถทำให้เป็นจริงโดยฟิล์มหล่อขึ้นรูปแบบธรรมดาใด ๆ ฟิล์มหล่อขึ้นรูปจะได้รับการเปิดเผยซึ่งจะได้รับการนำมาใช้งานสำหรับการผลิตแผ่นดิบ เซรามิกและซึ่งจะประกอบรวมด้วยฟิล์มซับสเทรทและชั้นบ่มที่ก่อรูปบนนั้นที่มีสารผสมซิลิโคนชนิด เกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวที่มีสารเพิ่มความไวแสง ที่ซึ่งชั้นที่ผ่านการบ่มดังกล่าวจะได้รับการก่อรูปขึ้น โดยการปฏิบัติด้วยความร้อนชั้นหนึ่งของสารผสมซิลิโคนชนิดเกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวที่มีสารเพิ่ม ความไวแสงในปริมาณการเคลือบที่แสดงในเงื่อนไขของปริมาณของแข็งในช่วง 0.01 ถึง 0.2 กรัม/ ตารางเมตร ที่อุณหภูมิในช่วง 40 ถึง 120 องศาเซลเซียส ตามด้วยการปฏิบัติด้วยการฉายรังสีอัลตร้า ไวโอเลท ฟิล์มหล่อขึ้นรูปจะมีความยอดเยี่ยมทั้งในความสามารถในการเคลือบด้วยสเลอรีเซรามิก และความสามารถในการปลดปล่อยของแผ่นดิบเซรามิก และจะทำให้ได้ความแบนเรียบสูงซึ่งก่อนนี้ ไม่เคยสามารถทำให้เป็นจริงโดยฟิล์มหล่อขึ้นรูปแบบธรรมดาใด ๆ

Claims

1. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปสำหรับใช้ในการผลิตแผ่นดิบเซรามิก ซึ่งประกอบรวมด้วยฟิล์มซับสเทรท และชั้นที่ผ่านการบ่มของสารผสมซิลิโคนชนิดที่เกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวที่ประกอบรวมด้วย (1) พอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชันหรือของผสมของพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มี หมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน และพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน, (2) สารเพิ่มความ ไวแสง, (3) ตัวกระทำให้เกิดการเชื่อมขวาง และ (4) ตังเร่งปฏิกิริยาที่มีพื้นฐานเป็นแพลทินัม โดยชั้นที่ ผ่านการบ่มดังกล่าวจะได้รับการกับรูปขึ้นโดยการเคลือบสารผสมซิลิโคนชนิดเกิดปฏิกิริยารวมตัวนั้น ให้เป็นชั้นบนฟิมล์ซับสเทรทในรูปของปริมาณของแข็งในช่วง 0.01 ถึง 0.2 กรัม/ตารางเมตร การ ปฏิบัติการทางความร้อนที่อุณหภูมิหนึ่งในช่วง 40 ถึง 120 องศาเซลเซียส และตามด้วยการปฏิบัติ ด้วยการฉายรังสีอัลตร้าไวโอเลทแก่ชั้นที่ได้รับการปฏิบัติการทางความร้อนนั้น

2. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งสารผสมซิลิโคนชนิดที่เกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัว ประกอบรวมด้วย (1) 100 ส่วนโดยน้ำหนักของพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน หรือของผสมของพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน และพอลิออร์กาโนไซโลเซน ที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน, (2) 0.1 ถึง 100 ส่วนโดยน้ำหนักของตัวกระทำให้เกิดการเชื่อมขวาง, (3) 0.01 ถึง 30 ส่วนโดยน้ำหนักของสารเพิ่มความไวแสง และ (4) 1 ถึง 1000 พีพีเอ็ม ของตัวเร่ง ปฏฺิกิริยาที่มีพื้นฐานเป็นแพลตินัมในรูปของโลหะ, โดยปริมาณของตัวเพิ่มความไวแสง และตัวเร่ง ปฏิกิริยาที่มีพื้นฐานเป็นแพลตินัมจะขึ้นอยู่กับปริมาณทั้งหมดของพอลิออร์กาโนไซโลเซนกับ ตัวกระทำให้เกิดการเชื่อมขวาง

3. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือ 2 ที่ซึ่งตัวกระทำให้เกิดการเชื่อมขวาง คือ พอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีอย่างน้อยที่สุดอะตอมไฮโดรเจนสองอะตอมเกิดพันธะกับอะตอมซิลิกอน ในหนึ่งโมเลกุล

4. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 3 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งสารเพิ่มความไวแสงนั้นเป็น อย่างน้อยที่สุดสารประกอบที่ถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยเบนโซอิน, เบนโซฟีโนน, อะซิโตฟีโนน, (สูตร)-ไฮดรอกซีคีโทน, (สูตร)-อะมิโนคีโทน, (สูตร)-ไดคีโทน, (สูตร)-ไดดีโทรไดแอลคิลอะซิทอล, แอนทราควิโนน และไธโอแซนโธน

5. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งฟิล์มซับสเทรทจะประกอบ รวมด้วยพอลิเอธิลีนเทเรฟธาเลท

6. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 5 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มี หมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน คือพอลิไดเมทิลไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน

7. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 5 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งพอลิออร์กาโนไซโลเซน ที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน คือพอลิไดเมทิลไซโลเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน

8. กระบวนการสำหรับการผลิตฟิล์มหล่อขึ้นรูปสำหรับใช้ในการผลิตแผ่นดิบเซรามิก ที่ประกอบรวมด้วย การเคลือบสารผสมซิลิโคนชนิดที่เกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวให้เป็นชั้นบนฟิล์มซับสเทรท ในปริมาณ 0.01 ถึง 0.2 กรัมต่อตารางเมตร ในรูปของปริมาณของแข็ง การปฏิบัติการทางความร้อนแก่ชั้นนั้นที่ 40 ถึง 120 องศาเซลเซียส และ การฉายแสงชั้นที่ได้รับการปฏิบัติการทางความร้อนนั้นด้วยรังสีอัลตร้าไวโอเลทจึงเป็น การบ่มชั้นดังกล่าว, โดยสารผสมซิลิโคนชนิดที่เกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวนั้นประกอบรวมด้วย (1) พอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน หรือของผสมของพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มี หมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน และพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน (2) สารเพิ่ม ความไวแสง, (3) ตัวกระทำให้เกิดการเชื่อมขวาง และ (4) ตัวเร่งปฏิกิริยาที่มีพื้นฐานเป็นแพลทินัม

9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ที่ซึ่งพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ ฟังก์ชัน คือ พอลิไดเมทิลไซโลเซนที่หมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน

10. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ที่ซึ่งพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน คือ พอลิไดเมทิลไซโลเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน