TH37519B - Cast film for the production of ceramic raw sheets and the process for producing cast film. - Google Patents

Cast film for the production of ceramic raw sheets and the process for producing cast film.

Info

Publication number
TH37519B
TH37519B TH101000157A TH0101000157A TH37519B TH 37519 B TH37519 B TH 37519B TH 101000157 A TH101000157 A TH 101000157A TH 0101000157 A TH0101000157 A TH 0101000157A TH 37519 B TH37519 B TH 37519B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
polyorganosiloxane
hexenyl
functional
pursuant
film
Prior art date
Application number
TH101000157A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH52382A (en
Inventor
ชิบาโนะ นายโตมิชิ
นากามูระ นายโตรุ
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายบุญมา เตชะวณิช
ลินเทค คอร์ปอเรชั่น
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายบุญมา เตชะวณิช, ลินเทค คอร์ปอเรชั่น filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH52382A publication Critical patent/TH52382A/en
Publication of TH37519B publication Critical patent/TH37519B/en

Links

Abstract

DC60 (28/03/44) ฟิล์มหล่อขึ้นรูปจะได้รับการเปิดเผยซึ่งจะได้รับการนำมาใช้งานสำหรับการผลิตแผ่นดิบ เซรามิกและซึ่งจะประกอบรวมด้วยฟิล์มซับสเทรทและชั้นบ่มที่ก่อรูปบนนั้นที่มีสารผสมซิลิโคนชนิดเกิด ปฏิกิริยาแบบรวมตัวที่มีสารเพิ่มความไวแสง ที่ซึ่งชั้นที่ผ่านการบ่มดังกล่าวจะได้รับการก่อรูปขึ้นโดย การปฏิบัติด้วยความร้อนชั้นหนึ่งของสารผสมซิลิโคนชนิดเกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวที่มีสารเพิ่มความ ไวแสงในปริมาณการเคลือบที่แสดงในเงื่อนไขของปริมาณของแข็งในช่วง 0.01 ถึง 0.2 กรัม/ตาราง เมตร ที่อุณหภูมิในช่วง 40 ถึง 120 องศาเซลเซียส ตามด้วยการปฏิบัติด้วยการฉายรัง สีอัลตร้าไวโอเลท ฟิล์มหล่อขึ้นรูปจะมีความยอดเยี่ยมทั้งในความสามารถในการเคลือบด้วยสเลอรี เซรามิกและความสามารถในการปลดปล่อยของแผ่นดิบเซรามิก และจะทำให้ได้ความแบนเรียบสูง ซึ่งก่อนนี้ไม่เคยสามารถทำให้เป็นจริงโดยฟิล์มหล่อขึ้นรูปแบบธรรมดาใด ๆ ฟิล์มหล่อขึ้นรูปจะได้รับการเปิดเผยซึ่งจะได้รับการนำมาใช้งานสำหรับการผลิตแผ่นดิบ เซรามิกและซึ่งจะประกอบรวมด้วยฟิล์มซับสเทรทและชั้นบ่มที่ก่อรูปบนนั้นที่มีสารผสมซิลิโคนชนิด เกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวที่มีสารเพิ่มความไวแสง ที่ซึ่งชั้นที่ผ่านการบ่มดังกล่าวจะได้รับการก่อรูปขึ้น โดยการปฏิบัติด้วยความร้อนชั้นหนึ่งของสารผสมซิลิโคนชนิดเกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวที่มีสารเพิ่ม ความไวแสงในปริมาณการเคลือบที่แสดงในเงื่อนไขของปริมาณของแข็งในช่วง 0.01 ถึง 0.2 กรัม/ ตารางเมตร ที่อุณหภูมิในช่วง 40 ถึง 120 องศาเซลเซียส ตามด้วยการปฏิบัติด้วยการฉายรังสีอัลตร้า ไวโอเลท ฟิล์มหล่อขึ้นรูปจะมีความยอดเยี่ยมทั้งในความสามารถในการเคลือบด้วยสเลอรีเซรามิก และความสามารถในการปลดปล่อยของแผ่นดิบเซรามิก และจะทำให้ได้ความแบนเรียบสูงซึ่งก่อนนี้ ไม่เคยสามารถทำให้เป็นจริงโดยฟิล์มหล่อขึ้นรูปแบบธรรมดาใด ๆ DC60 (28/03/44) The casting film will be exposed which will be used for raw sheet production. ceramic and which will consist of a film substrate and a curing layer formed on it containing a silicone-based admixture. Aggregate reactions with photosensitive agents. where the cured layer is formed by First-class heat treatment of reactive silicone compounds with additives. Photosensitivity in the coating quantities expressed in solids conditions in the range of 0.01 to 0.2 g/m² at temperatures in the range of 40 to 120 °C, followed by irradiation treatment. ultra violet color The molded film is excellent in both slurry coating capability. Ceramic and the release capacity of ceramic raw plate and will result in high flatness which was never possible before by any conventional molded film. The molded film is exposed which is then used for raw sheet production. ceramic and which will consist of a film substrate and a curing layer formed on it containing a type of silicone admixture. A condensation reaction with a photosensitive agent occurs. where such a cured layer is formed. By first-class heat treatment of reactive polymer silicone mixtures with additives. The sensitivity in the coating volume is expressed in solid content conditions in the range of 0.01 to 0.2 g/m2 at temperatures in the range of 40 to 120 °C, followed by treatment with ultra-violet irradiation. The image is excellent both in its ability to be coated with slurry ceramics. and the release capacity of the ceramic raw plate and will result in a high flatness that was previously It could never be realized by any conventional molded film.

Claims (10)

1. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปสำหรับใช้ในการผลิตแผ่นดิบเซรามิก ซึ่งประกอบรวมด้วยฟิล์มซับสเทรท และชั้นที่ผ่านการบ่มของสารผสมซิลิโคนชนิดที่เกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวที่ประกอบรวมด้วย (1) พอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชันหรือของผสมของพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มี หมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน และพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน, (2) สารเพิ่มความ ไวแสง, (3) ตัวกระทำให้เกิดการเชื่อมขวาง และ (4) ตังเร่งปฏิกิริยาที่มีพื้นฐานเป็นแพลทินัม โดยชั้นที่ ผ่านการบ่มดังกล่าวจะได้รับการกับรูปขึ้นโดยการเคลือบสารผสมซิลิโคนชนิดเกิดปฏิกิริยารวมตัวนั้น ให้เป็นชั้นบนฟิมล์ซับสเทรทในรูปของปริมาณของแข็งในช่วง 0.01 ถึง 0.2 กรัม/ตารางเมตร การ ปฏิบัติการทางความร้อนที่อุณหภูมิหนึ่งในช่วง 40 ถึง 120 องศาเซลเซียส และตามด้วยการปฏิบัติ ด้วยการฉายรังสีอัลตร้าไวโอเลทแก่ชั้นที่ได้รับการปฏิบัติการทางความร้อนนั้น1. Cast films for use in the production of ceramic raw sheets, consisting of a substrate film and a cured layer of a reactive silicone compound containing (1) hexenyl functional polyorganosiloxane or a mixture of hexenyl functional polyorganosiloxane and vinyl functional polyorganosiloxane, (2) a photosensitive agent, (3) a crosslinking agent, and (4) a platinum-based catalyst. The cured layer is formed by coating the reactive silicone compound onto the substrate film in a solid concentration of 0.01 to 0.2 g/m², followed by thermal treatment at temperatures ranging from 40 to 120 °C and subsequent ultraviolet irradiation of the heat-treated layer. 2. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งสารผสมซิลิโคนชนิดที่เกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัว ประกอบรวมด้วย (1) 100 ส่วนโดยน้ำหนักของพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน หรือของผสมของพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน และพอลิออร์กาโนไซโลเซน ที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน, (2) 0.1 ถึง 100 ส่วนโดยน้ำหนักของตัวกระทำให้เกิดการเชื่อมขวาง, (3) 0.01 ถึง 30 ส่วนโดยน้ำหนักของสารเพิ่มความไวแสง และ (4) 1 ถึง 1000 พีพีเอ็ม ของตัวเร่ง ปฏฺิกิริยาที่มีพื้นฐานเป็นแพลตินัมในรูปของโลหะ, โดยปริมาณของตัวเพิ่มความไวแสง และตัวเร่ง ปฏิกิริยาที่มีพื้นฐานเป็นแพลตินัมจะขึ้นอยู่กับปริมาณทั้งหมดของพอลิออร์กาโนไซโลเซนกับ ตัวกระทำให้เกิดการเชื่อมขวาง2. Cast films pursuant to claim 1, in which a coagulant silicone compound is composed of (1) 100 p/w of hexenyl functional polyorganosiloxane or a mixture of hexenyl functional polyorganosiloxane and vinyl functional polyorganosiloxane, (2) 0.1 to 100 p/w of crosslinking agent, (3) 0.01 to 30 p/w of photosensitizer, and (4) 1 to 1000 p/m of metal-based platinum catalyst, where the amounts of photosensitizer and platinum-based catalyst depend on the total amounts of polyorganosiloxane and crosslinking agent. 3. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือ 2 ที่ซึ่งตัวกระทำให้เกิดการเชื่อมขวาง คือ พอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีอย่างน้อยที่สุดอะตอมไฮโดรเจนสองอะตอมเกิดพันธะกับอะตอมซิลิกอน ในหนึ่งโมเลกุล3. Molded film pursuant to claim 1 or 2, in which the crosslinking agent is a polyorganosiloxane containing at least two hydrogen atoms bonded to a silicon atom in one molecule. 4. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 3 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งสารเพิ่มความไวแสงนั้นเป็น อย่างน้อยที่สุดสารประกอบที่ถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยเบนโซอิน, เบนโซฟีโนน, อะซิโตฟีโนน, (สูตร)-ไฮดรอกซีคีโทน, (สูตร)-อะมิโนคีโทน, (สูตร)-ไดคีโทน, (สูตร)-ไดดีโทรไดแอลคิลอะซิทอล, แอนทราควิโนน และไธโอแซนโธน4. Molded films pursuant to any one of Reservations 1 through 3, where the photosensitizer is at least one compound selected from a group consisting of benzoin, benzophenone, acetophenone, (formula)-hydroxyketone, (formula)-aminoketone, (formula)-diketone, (formula)-didetrodialkylacetol, anthraquinone and thiosanthone. 5. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งฟิล์มซับสเทรทจะประกอบ รวมด้วยพอลิเอธิลีนเทเรฟธาเลท5. Molded film pursuant to any one of the claims 1 through 4, where the substrate film consists of polyethylene terephthalate. 6. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 5 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มี หมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน คือพอลิไดเมทิลไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน6. Molded films pursuant to any one of the claims 1 through 5, where the hexenyl functional polyorganosiloxane is a hexenyl functional polydimethylsiloxane. 7. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 5 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งพอลิออร์กาโนไซโลเซน ที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน คือพอลิไดเมทิลไซโลเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน7. Molded films pursuant to any one of the claims 1 through 5, where the vinyl functional polyorganosiloxane is a vinyl functional polydimethylsiloxane. 8. กระบวนการสำหรับการผลิตฟิล์มหล่อขึ้นรูปสำหรับใช้ในการผลิตแผ่นดิบเซรามิก ที่ประกอบรวมด้วย การเคลือบสารผสมซิลิโคนชนิดที่เกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวให้เป็นชั้นบนฟิล์มซับสเทรท ในปริมาณ 0.01 ถึง 0.2 กรัมต่อตารางเมตร ในรูปของปริมาณของแข็ง การปฏิบัติการทางความร้อนแก่ชั้นนั้นที่ 40 ถึง 120 องศาเซลเซียส และ การฉายแสงชั้นที่ได้รับการปฏิบัติการทางความร้อนนั้นด้วยรังสีอัลตร้าไวโอเลทจึงเป็น การบ่มชั้นดังกล่าว, โดยสารผสมซิลิโคนชนิดที่เกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวนั้นประกอบรวมด้วย (1) พอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน หรือของผสมของพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มี หมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน และพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน (2) สารเพิ่ม ความไวแสง, (3) ตัวกระทำให้เกิดการเชื่อมขวาง และ (4) ตัวเร่งปฏิกิริยาที่มีพื้นฐานเป็นแพลทินัม8. The process for producing cast films for use in ceramic sheet production consists of a layer of a reactive silicone compound on a substrate film in an amount of 0.01 to 0.2 g/m² in solid form, heat treatment of the layer at 40 to 120 °C, and irradiation of the heat-treated layer to cure it. The reactive silicone compound consists of (1) hexenyl functional polyorganosiloxanes or a mixture of hexenyl functional polyorganosiloxanes and vinyl functional polyorganosiloxanes, (2) a photosensitizer, (3) a crosslinking agent, and (4) a platinum-based catalyst. 9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ที่ซึ่งพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ ฟังก์ชัน คือ พอลิไดเมทิลไซโลเซนที่หมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน9. The process under claim 8 where the hexenyl functional group of the polyorganosiloxane is a hexenyl functional group of the polydimethylsiloxane. 10. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ที่ซึ่งพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน คือ พอลิไดเมทิลไซโลเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน10. The process pursuant to claim 8 where the vinyl functional polyorganosiloxane is a vinyl functional polydimethylsiloxane.
TH101000157A 2001-01-17 Cast film for the production of ceramic raw sheets and the process for producing cast film. TH37519B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH52382A TH52382A (en) 2002-08-02
TH37519B true TH37519B (en) 2013-10-14

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0315954B1 (en) Pattern-forming material and pattern formation method
US5017453A (en) A silicone resist materials containing a polysiloxane and a photo-sensitive agent
US5198520A (en) Polysilanes, polysiloxanes and silicone resist materials containing these compounds
KR100362619B1 (en) Radiation curable compositions
US5238787A (en) Photodelineable coatings from hydrogen silsesquioxane resin
KR20150037634A (en) Release film and manufacturing method thereof
KR20060109960A (en) Uses thereof in controlling peeling or transfer of silicone compositions and printing or molding patterns, and thus transfer methods
CN103788881B (en) Adhesion promoter
JPH09268228A (en) UV curable composition and method for forming cured product pattern using the same
CN101223476B (en) A method of nanopatterning, a cured resist film use therein, and an article including the resist film
JPS5849717A (en) Light- or radiation-curable polyorganosiloxane composition
TW202304710A (en) Release film for use in ceramic green sheet production process
KR100931223B1 (en) Polyester Release Film
TH52382A (en) Cast film for the production of ceramic raw sheets and the process for producing cast film.
JP3347936B2 (en) Photocurable organopolysiloxane composition
JPH0368670A (en) Radiation-curable coating material
TWI728045B (en) Aged polymeric silsesquioxanes
KR100266755B1 (en) Process for preparing polyester film with good releasability
JP3366788B2 (en) Release film
KR20170080515A (en) Release film and manufacturing method thereof
JPH1192666A (en) Photopolymerizable polysilazane composition and method for forming patterned ceramic film
KR20060130372A (en) Organofluorinated silicon fluoride compound for mold production used for pattern replication, organic-inorganic hybrid mold for pattern replication using the same, pattern replication method using the mold and pattern replicated by the method
JP2003122016A (en) Photocurable organopolysiloxane composition
HUP0301636A2 (en) Novel thermosetting elastomer composition based on modified polycyanurate with improved thermal resistance, producing and using them