TH52382A - Cast film for the production of ceramic raw sheets and the process for producing cast film. - Google Patents

Cast film for the production of ceramic raw sheets and the process for producing cast film.

Info

Publication number
TH52382A
TH52382A TH101000157A TH0101000157A TH52382A TH 52382 A TH52382 A TH 52382A TH 101000157 A TH101000157 A TH 101000157A TH 0101000157 A TH0101000157 A TH 0101000157A TH 52382 A TH52382 A TH 52382A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
polyorganosiloxane
hexenyl
functional
pursuant
photosensitizer
Prior art date
Application number
TH101000157A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH37519B (en
Inventor
ชิบาโนะ นายโตมิชิ
นากามูระ นายโตรุ
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายบุญมา เตชะวณิช
ลินเทค คอร์ปอเรชั่น
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายบุญมา เตชะวณิช, ลินเทค คอร์ปอเรชั่น filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH52382A publication Critical patent/TH52382A/en
Publication of TH37519B publication Critical patent/TH37519B/en

Links

Abstract

DC60 (28/03/44) ฟิล์มหล่อขึ้นรูปจะได้รับการเปิดเผยซึ่งจะได้รับการนำมาใช้งานสำหรับการผลิตแผ่นดิบ เซรามิกและซึ่งจะประกอบรวมด้วยฟิล์มซับสเทรทและชั้นบ่มที่ก่อรูปบนนั้นที่มีสารผสมซิลิโคนชนิดเกิด ปฏิกิริยาแบบรวมตัวที่มีสารเพิ่มความไวแสง ที่ซึ่งชั้นที่ผ่านการบ่มดังกล่าวจะได้รับการก่อรูปขึ้นโดย การปฏิบัติด้วยความร้อนชั้นหนึ่งของสารผสมซิลิโคนชนิดเกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวที่มีสารเพิ่มความ ไวแสงในปริมาณการเคลือบที่แสดงในเงื่อนไขของปริมาณของแข็งในช่วง 0.01 ถึง 0.2 กรัม/ตาราง เมตร ที่อุณหภูมิในช่วง 40 ถึง 120 องศาเซลเซียส ตามด้วยการปฏิบัติด้วยการฉายรัง สีอัลตร้าไวโอเลท ฟิล์มหล่อขึ้นรูปจะมีความยอดเยี่ยมทั้งในความสามารถในการเคลือบด้วยสเลอรี เซรามิกและความสามารถในการปลดปล่อยของแผ่นดิบเซรามิก และจะทำให้ได้ความแบนเรียบสูง ซึ่งก่อนนี้ไม่เคยสามารถทำให้เป็นจริงโดยฟิล์มหล่อขึ้นรูปแบบธรรมดาใด ๆ ฟิล์มหล่อขึ้นรูปจะได้รับการเปิดเผยซึ่งจะได้รับการนำมาใช้งานสำหรับการผลิตแผ่นดิบ เซรามิกและซึ่งจะประกอบรวมด้วยฟิล์มซับสเทรทและชั้นบ่มที่ก่อรูปบนนั้นที่มีสารผสมซิลิโคนชนิด เกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวที่มีสารเพิ่มความไวแสง ที่ซึ่งชั้นที่ผ่านการบ่มดังกล่าวจะได้รับการก่อรูปขึ้น โดยการปฏิบัติด้วยความร้อนชั้นหนึ่งของสารผสมซิลิโคนชนิดเกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวที่มีสารเพิ่ม ความไวแสงในปริมาณการเคลือบที่แสดงในเงื่อนไขของปริมาณของแข็งในช่วง 0.01 ถึง 0.2 กรัม/ ตารางเมตร ที่อุณหภูมิในช่วง 40 ถึง 120 องศาเซลเซียส ตามด้วยการปฏิบัติด้วยการฉายรังสีอัลตร้า ไวโอเลท ฟิล์มหล่อขึ้นรูปจะมีความยอดเยี่ยมทั้งในความสามารถในการเคลือบด้วยสเลอรีเซรามิก และความสามารถในการปลดปล่อยของแผ่นดิบเซรามิก และจะทำให้ได้ความแบนเรียบสูงซึ่งก่อนนี้ ไม่เคยสามารถทำให้เป็นจริงโดยฟิล์มหล่อขึ้นรูปแบบธรรมดาใด ๆDC60 (28/03/44) A cast film is revealed, which will be used for the production of ceramic raw sheets and will consist of a substrate film and a curing layer formed on it with a reactive silicone composite containing a photosensitizer. This curing layer is formed by a heat treatment of the reactive silicone composite with a photosensitizer at a coating volume of 0.01 to 0.2 g/m² at temperatures ranging from 40 to 120 °C, followed by ultraviolet irradiation. The cast film exhibits excellent ceramic slurry coating and ceramic raw sheet release capabilities, achieving high flatness not previously achievable with any conventional cast film. The cast film revealed will be used for the production of ceramic raw sheets and will consist of a substrate film and a curing layer formed on it with a reactive silicone composite containing a photosensitizer, where the curing layer is formed. By first-layer heat treatment of a reactive, photosensitizing silicone composite with a coating volume of 0.01 to 0.2 g/m² at temperatures ranging from 40 to 120 °C, followed by ultraviolet irradiation, the cast film exhibits excellent ceramic slurry coating and ceramic raw sheet release capabilities, achieving high flatness previously impossible with conventional cast films.

Claims (10)

1. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปสำหรับใช้ในการผลิตแผ่นดิบเซรามิก ซึ่งประกอบรวมด้วยฟิล์มซับสเทรท และชั้นที่ผ่านการบ่มของสารผสมซิลิโคนชนิดที่เกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวที่ประกอบรวมด้วย (1) พอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชันหรือของผสมของพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มี หมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน และพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน, (2) สารเพิ่มความ ไวแสง, (3) ตัวกระทำให้เกิดการเชื่อมขวาง และ (4) ตังเร่งปฏิกิริยาที่มีพื้นฐานเป็นแพลทินัม โดยชั้นที่ ผ่านการบ่มดังกล่าวจะได้รับการกับรูปขึ้นโดยการเคลือบสารผสมซิลิโคนชนิดเกิดปฏิกิริยารวมตัวนั้น ให้เป็นชั้นบนฟิมล์ซับสเทรทในรูปของปริมาณของแข็งในช่วง 0.01 ถึง 0.2 กรัม/ตารางเมตร การ ปฏิบัติการทางความร้อนที่อุณหภูมิหนึ่งในช่วง 40 ถึง 120 องศาเซลเซียส และตามด้วยการปฏิบัติ ด้วยการฉายรังสีอัลตร้าไวโอเลทแก่ชั้นที่ได้รับการปฏิบัติการทางความร้อนนั้น1. Cast films for use in the production of ceramic raw sheets, consisting of a substrate film and a cured layer of a reactive silicone compound containing (1) hexenyl functional polyorganosiloxane or a mixture of hexenyl functional polyorganosiloxane and vinyl functional polyorganosiloxane, (2) a photosensitive agent, (3) a crosslinking agent, and (4) a platinum-based catalyst. The cured layer is formed by coating the reactive silicone compound onto the substrate film in a solid concentration of 0.01 to 0.2 g/m², followed by thermal treatment at temperatures ranging from 40 to 120 °C and subsequent ultraviolet irradiation of the heat-treated layer. 2. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งสารผสมซิลิโคนชนิดที่เกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัว ประกอบรวมด้วย (1) 100 ส่วนโดยน้ำหนักของพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน หรือของผสมของพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน และพอลิออร์กาโนไซโลเซน ที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน, (2) 0.1 ถึง 100 ส่วนโดยน้ำหนักของตัวกระทำให้เกิดการเชื่อมขวาง, (3) 0.01 ถึง 30 ส่วนโดยน้ำหนักของสารเพิ่มความไวแสง และ (4) 1 ถึง 1000 พีพีเอ็ม ของตัวเร่ง ปฏฺิกิริยาที่มีพื้นฐานเป็นแพลตินัมในรูปของโลหะ, โดยปริมาณของตัวเพิ่มความไวแสง และตัวเร่ง ปฏิกิริยาที่มีพื้นฐานเป็นแพลตินัมจะขึ้นอยู่กับปริมาณทั้งหมดของพอลิออร์กาโนไซโลเซนกับ ตัวกระทำให้เกิดการเชื่อมขวาง2. Cast films pursuant to claim 1, in which a coagulant silicone compound is composed of (1) 100 p/w of hexenyl functional polyorganosiloxane or a mixture of hexenyl functional polyorganosiloxane and vinyl functional polyorganosiloxane, (2) 0.1 to 100 p/w of crosslinking agent, (3) 0.01 to 30 p/w of photosensitizer, and (4) 1 to 1000 p/m of metal-based platinum catalyst, where the amounts of photosensitizer and platinum-based catalyst depend on the total amounts of polyorganosiloxane and crosslinking agent. 3. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือ 2 ที่ซึ่งตัวกระทำให้เกิดการเชื่อมขวาง คือ พอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีอย่างน้อยที่สุดอะตอมไฮโดรเจนสองอะตอมเกิดพันธะกับอะตอมซิลิกอน ในหนึ่งโมเลกุล3. Molded film pursuant to claim 1 or 2, in which the crosslinking agent is a polyorganosiloxane containing at least two hydrogen atoms bonded to a silicon atom in one molecule. 4. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 3 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งสารเพิ่มความไวแสงนั้นเป็น อย่างน้อยที่สุดสารประกอบที่ถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยเบนโซอิน, เบนโซฟีโนน, อะซิโตฟีโนน, (สูตร)-ไฮดรอกซีคีโทน, (สูตร)-อะมิโนคีโทน, (สูตร)-ไดคีโทน, (สูตร)-ไดดีโทรไดแอลคิลอะซิทอล, แอนทราควิโนน และไธโอแซนโธน4. Molded films pursuant to any one of Reservations 1 through 3, where the photosensitizer is at least one compound selected from a group consisting of benzoin, benzophenone, acetophenone, (formula)-hydroxyketone, (formula)-aminoketone, (formula)-diketone, (formula)-didetrodialkylacetol, anthraquinone and thiosanthone. 5. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งฟิล์มซับสเทรทจะประกอบ รวมด้วยพอลิเอธิลีนเทเรฟธาเลท5. Molded film pursuant to any one of the claims 1 through 4, where the substrate film consists of polyethylene terephthalate. 6. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 5 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มี หมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน คือพอลิไดเมทิลไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน6. Molded films pursuant to any one of the claims 1 through 5, where the hexenyl functional polyorganosiloxane is a hexenyl functional polydimethylsiloxane. 7. ฟิล์มหล่อขึ้นรูปตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 5 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งพอลิออร์กาโนไซโลเซน ที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน คือพอลิไดเมทิลไซโลเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน7. Molded films pursuant to any one of the claims 1 through 5, where the vinyl functional polyorganosiloxane is a vinyl functional polydimethylsiloxane. 8. กระบวนการสำหรับการผลิตฟิล์มหล่อขึ้นรูปสำหรับใช้ในการผลิตแผ่นดิบเซรามิก ที่ประกอบรวมด้วย การเคลือบสารผสมซิลิโคนชนิดที่เกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวให้เป็นชั้นบนฟิล์มซับสเทรท ในปริมาณ 0.01 ถึง 0.2 กรัมต่อตารางเมตร ในรูปของปริมาณของแข็ง การปฏิบัติการทางความร้อนแก่ชั้นนั้นที่ 40 ถึง 120 องศาเซลเซียส และ การฉายแสงชั้นที่ได้รับการปฏิบัติการทางความร้อนนั้นด้วยรังสีอัลตร้าไวโอเลทจึงเป็น การบ่มชั้นดังกล่าว, โดยสารผสมซิลิโคนชนิดที่เกิดปฏิกิริยาแบบรวมตัวนั้นประกอบรวมด้วย (1) พอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน หรือของผสมของพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มี หมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน และพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน (2) สารเพิ่ม ความไวแสง, (3) ตัวกระทำให้เกิดการเชื่อมขวาง และ (4) ตัวเร่งปฏิกิริยาที่มีพื้นฐานเป็นแพลทินัม8. The process for producing cast films for use in ceramic sheet production consists of a layer of a reactive silicone compound on a substrate film in an amount of 0.01 to 0.2 g/m² in solid form, heat treatment of the layer at 40 to 120 °C, and irradiation of the heat-treated layer to cure it. The reactive silicone compound consists of (1) hexenyl functional polyorganosiloxanes or a mixture of hexenyl functional polyorganosiloxanes and vinyl functional polyorganosiloxanes, (2) a photosensitizer, (3) a crosslinking agent, and (4) a platinum-based catalyst. 9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ที่ซึ่งพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ ฟังก์ชัน คือ พอลิไดเมทิลไซโลเซนที่หมู่เฮกซีนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน9. The process under claim 8 where the hexenyl functional group of the polyorganosiloxane is a hexenyl functional group of the polydimethylsiloxane. 10. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ที่ซึ่งพอลิออร์กาโนไซโลเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน คือ พอลิไดเมทิลไซโลเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชัน10. The process pursuant to claim 8 where the vinyl functional polyorganosiloxane is a vinyl functional polydimethylsiloxane.
TH101000157A 2001-01-17 Cast film for the production of ceramic raw sheets and the process for producing cast film. TH37519B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH52382A true TH52382A (en) 2002-08-02
TH37519B TH37519B (en) 2013-10-14

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Ouyang et al. Conversion of some siloxane polymers to silicon oxide by UV/ozone photochemical processes
CN102713684B (en) Methods for fabricating flexible waveguides using alkyl-functional silsesquioxane resins
JP2010258410A (en) Metal film pattern forming method and member
CN102186907A (en) Process for producing silicone molded articles from photocurable silicone mixtures
US6689442B2 (en) Releasing sheet and process for producing the same
JP2018512307A (en) Double cured nanostructure transfer film
MXPA01006556A (en) Casting film for producing ceramic green sheet.
CN104602826B (en) Method for preparing multilayer silicones structure
KR20150037634A (en) Release film and manufacturing method thereof
CN113165343A (en) Adhesive composition for light irradiation peeling, laminate, method for producing laminate, and peeling method
KR20070079299A (en) Release film and its manufacturing method
TW200415013A (en) Heat conductive silicone rubber composite sheet
CN101848915A (en) Epoxy group-containing organosiloxane compound, curable composition for transfer material, and fine pattern forming method using the composition
CN101107568B (en) Composite composition for micropatterned layers
WO2005068569A1 (en) Silicone compositions and their use in controlling the release or transfer of printed or molded patterns and transferring processes therefore
KR20160060876A (en) Coating composition, barrier film comprising the same and manufacturing method of the barrier film
JP4834866B2 (en) Nano-patterning method, cured resist film, and article containing the resist film
JPWO2007086323A1 (en) Photosensitive resin composition
JPS6046826B2 (en) semiconductor equipment
JP2018512273A (en) Method for producing double-cured nanostructure transfer film
JP7452304B2 (en) Composition for heat dissipation member, heat dissipation member, electronic device, and method for producing heat dissipation member
JPH0368670A (en) Radiation-curable coating material
TH37519B (en) Cast film for the production of ceramic raw sheets and the process for producing cast film.
JP6771569B2 (en) Release film and its manufacturing method
KR20220077215A (en) Polysilazane-based coating material, a method of manufacturing a coating thin film using the same, and a coating thin film manufactured through the same