TH36196A - ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมีแบบใหม่ สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็นพวกอนุพันธ์ของซิลิกอน หรือซิลิกอน - Google Patents
ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมีแบบใหม่ สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็นพวกอนุพันธ์ของซิลิกอน หรือซิลิกอนInfo
- Publication number
- TH36196A TH36196A TH9701004222A TH9701004222A TH36196A TH 36196 A TH36196 A TH 36196A TH 9701004222 A TH9701004222 A TH 9701004222A TH 9701004222 A TH9701004222 A TH 9701004222A TH 36196 A TH36196 A TH 36196A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- silicon
- layer
- suspension
- abrasive
- colloidal silica
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (24/06/42) ขบวนการสำหรับการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมี ของชั้นของวัสดุที่แยกออก มาจำพวกซิลิกอน หรืออนุพันธ์ของซิลิกอน ในเรื่องนี้ การขัดถูชั้นของวัสดุที่แยก ออกมา ดำเนินไปโดยการขัดชั้นดังกล่าวด้วยเส้นใย ซึ่งจุ่มในสารขัดถูที่มีสาร ละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรด ของซิลิกาคอลลอยด์ ที่มีอนุภาคซิลิกาคอล ลอยด์ อยู่เดี่ยว ๆ ไม่จับกันด้วยพันธะซิโลเซน และน้ำเป็นสารตัวกลางของสาร แขวนลอย และสารขัดถูชนิดใหม่นี้อยู่ในสารแขวนลอยนี้ ขบวนการสำหรับการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมี ของชั้นของวัสดุที่แยกออกมาจำพวกซิลิกอน หรืออนุพันธ์ของซิลิกอน ในเรื่องนี้ การขัดถูชั้นของวัสดุที่แยกออกมา ดำเนินไปโดย การขัดชั้นดังกล่าวด้วยเส้นใย ซึ่งจุ่มในสารขัดถูที่มีสาร ละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรด ของซิลิกาคอลลอยด์ ที่มีอนุภาคซิลิกาคอลลอยด์ อยู่เดี่ยว ๆ ไม่จับกันด้วยพันธะ ซิโลเซน และน้ำเป็นสารตัวกลางของสารแขวนลอย และสารขัดถูชนิดใหม่นี้อยู่ในสารแขวนลอยนี้
Claims (2)
1. ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมี สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็น จำพวกซิลิกอน หรืออนุพันธ์ของซิลิกอน ในเรื่องนี้ การขัดถูของชั้นของวัสดุที่แยกออกมาดำเนินไป โดยการขัดถูชั้นดังกล่าวด้วยเส้นใยที่มีสารขัดถูคุณลักษณะของ สารขัดถู คือประกอบด้วย สารละลายเอเควียสแขวนลอย ที่เป็นกรดของซิลิกาคอลลอยด์ ที่มีอนุภาคซิลิกาคอลลอยด์ที่อยู่ เดี่ยว ๆ ไม่จับกับด้วยพันธะซิโลเซน และน้ำเป็นตัวกลาง ของสารแขวนลอย
2. ขบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 คุณลักษณะในเรื่องสาร ละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรดของซิลิกาคอลลอยดแท็ก :
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TH36196B TH36196B (th) | 1999-12-15 |
TH36196A true TH36196A (th) | 1999-12-15 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
AU2005274509B2 (en) | Cleaning cloth | |
KR101418232B1 (ko) | 혼합 모드 리간드 | |
EA005277B1 (ru) | Вспученные перлиты с направленным распределением частиц по размерам | |
MY121626A (en) | Chemical mechanical polishing process for layers of isolating materials based on silicon derivatives or silicon | |
DE69905441D1 (de) | Schleifmittelzusammensetzung zur Verwendung in der Elektronikindustrie | |
JPS5943520B2 (ja) | 乾式掃除剤 | |
FR2789998B1 (fr) | Nouvelle composition de polissage mecano-chimique d'une couche en un materiau conducteur d'aluminium ou d'alliage d'aluminium | |
TH36196A (th) | ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมีแบบใหม่ สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็นพวกอนุพันธ์ของซิลิกอน หรือซิลิกอน | |
CA1084860A (en) | Immobilized biologically active proteins | |
TH36196B (th) | ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมีแบบใหม่สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็นพวกอนุพันธ์ของซิลิกอน หรือซิลิกอน | |
DK0982766T3 (da) | Fremgangsmåde til kemisk-mekanisk polering af et kobberbaseret materialelag | |
DE60012399D1 (de) | Zusammensetzung zum mechanisch-chemischen Polieren von Schichten aus Isoliermaterial auf Basis eines Polymers mit niedriger Dielektrizitätskonstanz | |
JP2001205554A5 (th) | ||
CN204892344U (zh) | 一种具有快速刷洗功能的无机硅筛分装置 | |
JP2000351957A5 (th) | ||
US8197307B1 (en) | Surface polishing system | |
CA2001487A1 (en) | Gel producing pad and improved method for surfacing and polishing lenses | |
KR870000267A (ko) | 석재표면 처리방법 및 조성물 | |
JP2004113883A (ja) | 光触媒やその他の触媒機能を付与させる方法、およびそれらの触媒機能の付与性を有する洗浄、研磨溶液 | |
WO1998045112A1 (en) | Polishing pads and methods relating thereto | |
JP2007000997A (ja) | 柔軟で静電防止性あるナノダイヤモンド研磨物 | |
TH635EX (th) | กรรมวิธีผลิตและผลิตภัณฑ์สำหรับขัดผิวที่ประกอบด้วยวัตถุขัดที่กระจายภายในเนื้อยึดที่เป็นเส้นใยไขว้ไปมา | |
TH635A (th) | กรรมวิธีผลิตและผลิตภัณฑ์สำหรับขัดผิวที่ประกอบด้วยวัตถุขัดที่กระจายภายในเนื้อยึดที่เป็นเส้นใยไขว้ไปมา | |
KR930018477A (ko) | 자기 기록 매체용 유리 기판 | |
JP2002241738A (ja) | マイクロスフェアー型研磨剤およびそれを用いた研磨体 |