TH36196A - ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมีแบบใหม่ สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็นพวกอนุพันธ์ของซิลิกอน หรือซิลิกอน - Google Patents

ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมีแบบใหม่ สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็นพวกอนุพันธ์ของซิลิกอน หรือซิลิกอน

Info

Publication number
TH36196A
TH36196A TH9701004222A TH9701004222A TH36196A TH 36196 A TH36196 A TH 36196A TH 9701004222 A TH9701004222 A TH 9701004222A TH 9701004222 A TH9701004222 A TH 9701004222A TH 36196 A TH36196 A TH 36196A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
silicon
layer
suspension
abrasive
colloidal silica
Prior art date
Application number
TH9701004222A
Other languages
English (en)
Other versions
TH36196B (th
Inventor
ฌาคกีโนต์ นายเอริค
รีวัวร์ นายโมริซ
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายบุญมา เตชะวณิช
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายบุญมา เตชะวณิช, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH36196B publication Critical patent/TH36196B/th
Publication of TH36196A publication Critical patent/TH36196A/th

Links

Abstract

DC60 (24/06/42) ขบวนการสำหรับการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมี ของชั้นของวัสดุที่แยกออก มาจำพวกซิลิกอน หรืออนุพันธ์ของซิลิกอน ในเรื่องนี้ การขัดถูชั้นของวัสดุที่แยก ออกมา ดำเนินไปโดยการขัดชั้นดังกล่าวด้วยเส้นใย ซึ่งจุ่มในสารขัดถูที่มีสาร ละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรด ของซิลิกาคอลลอยด์ ที่มีอนุภาคซิลิกาคอล ลอยด์ อยู่เดี่ยว ๆ ไม่จับกันด้วยพันธะซิโลเซน และน้ำเป็นสารตัวกลางของสาร แขวนลอย และสารขัดถูชนิดใหม่นี้อยู่ในสารแขวนลอยนี้ ขบวนการสำหรับการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมี ของชั้นของวัสดุที่แยกออกมาจำพวกซิลิกอน หรืออนุพันธ์ของซิลิกอน ในเรื่องนี้ การขัดถูชั้นของวัสดุที่แยกออกมา ดำเนินไปโดย การขัดชั้นดังกล่าวด้วยเส้นใย ซึ่งจุ่มในสารขัดถูที่มีสาร ละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรด ของซิลิกาคอลลอยด์ ที่มีอนุภาคซิลิกาคอลลอยด์ อยู่เดี่ยว ๆ ไม่จับกันด้วยพันธะ ซิโลเซน และน้ำเป็นสารตัวกลางของสารแขวนลอย และสารขัดถูชนิดใหม่นี้อยู่ในสารแขวนลอยนี้

Claims (2)

1. ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมี สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็น จำพวกซิลิกอน หรืออนุพันธ์ของซิลิกอน ในเรื่องนี้ การขัดถูของชั้นของวัสดุที่แยกออกมาดำเนินไป โดยการขัดถูชั้นดังกล่าวด้วยเส้นใยที่มีสารขัดถูคุณลักษณะของ สารขัดถู คือประกอบด้วย สารละลายเอเควียสแขวนลอย ที่เป็นกรดของซิลิกาคอลลอยด์ ที่มีอนุภาคซิลิกาคอลลอยด์ที่อยู่ เดี่ยว ๆ ไม่จับกับด้วยพันธะซิโลเซน และน้ำเป็นตัวกลาง ของสารแขวนลอย
2. ขบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 คุณลักษณะในเรื่องสาร ละลายเอเควียสแขวนลอยที่เป็นกรดของซิลิกาคอลลอยดแท็ก :
TH9701004222A 1997-10-20 ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมีแบบใหม่ สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็นพวกอนุพันธ์ของซิลิกอน หรือซิลิกอน TH36196A (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH36196B TH36196B (th) 1999-12-15
TH36196A true TH36196A (th) 1999-12-15

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU2005274509B2 (en) Cleaning cloth
KR101418232B1 (ko) 혼합 모드 리간드
EA005277B1 (ru) Вспученные перлиты с направленным распределением частиц по размерам
MY121626A (en) Chemical mechanical polishing process for layers of isolating materials based on silicon derivatives or silicon
DE69905441D1 (de) Schleifmittelzusammensetzung zur Verwendung in der Elektronikindustrie
JPS5943520B2 (ja) 乾式掃除剤
FR2789998B1 (fr) Nouvelle composition de polissage mecano-chimique d'une couche en un materiau conducteur d'aluminium ou d'alliage d'aluminium
TH36196A (th) ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมีแบบใหม่ สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็นพวกอนุพันธ์ของซิลิกอน หรือซิลิกอน
CA1084860A (en) Immobilized biologically active proteins
TH36196B (th) ขบวนการขัดทางกลศาสตร์เชิงเคมีแบบใหม่สำหรับชั้นของวัสดุที่แยกออกมาที่เป็นพวกอนุพันธ์ของซิลิกอน หรือซิลิกอน
DK0982766T3 (da) Fremgangsmåde til kemisk-mekanisk polering af et kobberbaseret materialelag
DE60012399D1 (de) Zusammensetzung zum mechanisch-chemischen Polieren von Schichten aus Isoliermaterial auf Basis eines Polymers mit niedriger Dielektrizitätskonstanz
JP2001205554A5 (th)
CN204892344U (zh) 一种具有快速刷洗功能的无机硅筛分装置
JP2000351957A5 (th)
US8197307B1 (en) Surface polishing system
CA2001487A1 (en) Gel producing pad and improved method for surfacing and polishing lenses
KR870000267A (ko) 석재표면 처리방법 및 조성물
JP2004113883A (ja) 光触媒やその他の触媒機能を付与させる方法、およびそれらの触媒機能の付与性を有する洗浄、研磨溶液
WO1998045112A1 (en) Polishing pads and methods relating thereto
JP2007000997A (ja) 柔軟で静電防止性あるナノダイヤモンド研磨物
TH635EX (th) กรรมวิธีผลิตและผลิตภัณฑ์สำหรับขัดผิวที่ประกอบด้วยวัตถุขัดที่กระจายภายในเนื้อยึดที่เป็นเส้นใยไขว้ไปมา
TH635A (th) กรรมวิธีผลิตและผลิตภัณฑ์สำหรับขัดผิวที่ประกอบด้วยวัตถุขัดที่กระจายภายในเนื้อยึดที่เป็นเส้นใยไขว้ไปมา
KR930018477A (ko) 자기 기록 매체용 유리 기판
JP2002241738A (ja) マイクロスフェアー型研磨剤およびそれを用いた研磨体