TH165753A - - Google Patents

Info

Publication number
TH165753A
TH165753A TH1501004589A TH1501004589A TH165753A TH 165753 A TH165753 A TH 165753A TH 1501004589 A TH1501004589 A TH 1501004589A TH 1501004589 A TH1501004589 A TH 1501004589A TH 165753 A TH165753 A TH 165753A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
ions
ion
charged gas
electron
glass
Prior art date
Application number
TH1501004589A
Other languages
English (en)
Thai (th)
Other versions
TH165753B (th
TH1501004589A (th
Original Assignee
นายมนูญ ช่างชำนิ นายอัครวิทย์ กาญจนโอภาษ นางสาวสุวดี ศิริชีพชัยยันต์
Filing date
Publication date
Application filed by นายมนูญ ช่างชำนิ นายอัครวิทย์ กาญจนโอภาษ นางสาวสุวดี ศิริชีพชัยยันต์ filed Critical นายมนูญ ช่างชำนิ นายอัครวิทย์ กาญจนโอภาษ นางสาวสุวดี ศิริชีพชัยยันต์
Publication of TH165753B publication Critical patent/TH165753B/th
Publication of TH165753A publication Critical patent/TH165753A/th
Publication of TH1501004589A publication Critical patent/TH1501004589A/th

Links

TH1501004589A 2014-02-12 กระบวนการสำหรับปรับสภาพโดยลำแสงของโมโน- หรือมัลติชาร์ตไอออนของก๊าซ เพื่อผลิตวัสดุแก้วแบบกันแสงสะท้อน TH1501004589A (th)

Publications (3)

Publication Number Publication Date
TH165753B TH165753B (th) 2017-08-10
TH165753A true TH165753A (de) 2017-08-10
TH1501004589A TH1501004589A (th) 2017-08-10

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PH12015501621A1 (en) Process for treatment by a beam of mono- or multicharged ions of a gas to produce antireflective glass materials
EA201892238A1 (ru) Поддающаяся термической обработке противоотражающая стеклянная подложка и способ ее изготовления
PH12015501772A1 (en) Ion beam treatment method for producing superhydrophilic glass materials
EA201692408A1 (ru) Способ обработки сапфирового материала пучком одно- и/или многозарядных ионов газа для получения антибликового материала
NZ705667A (en) Negative ion-based neutral beam injector
GB2547120A (en) A multi-reflecting time-of-flight analyzer
TW200608489A (en) Plasma treatment method and plasma etching method
EA201892252A1 (ru) Противоотражающая устойчивая к царапанию стеклянная подложка и способ ее изготовления
MX2016012398A (es) Modificacion de las propiedades opticas de un elemento informatico integrado mediante implantacion de iones.
WO2019122358A3 (en) Ion source
Lee et al. Ar and O2 linear ion beam PET treatments using an anode layer ion source
SG11201811663XA (en) Method for implanting single or multiply charged ions into a surface of a treated object and device for implementation of the method
WO2015187639A3 (en) Method of improving ion beam quality in a non-mass-analyzed ion implantation system
EA201892122A1 (ru) Противоотражающая стеклянная подложка и способ ее изготовления
EA201892197A1 (ru) Стеклянная подложка со сниженным внутренним отражением и способ ее изготовления
RU2014138019A (ru) Способ обработки пучком нейтральных частиц, основанный на технологии обработки пучком газовых кластерных ионов, и полученные таким образом изделия
EA201892126A1 (ru) Синяя отражающая стеклянная подложка и способ ее изготовления
SG11201907049YA (en) Process for treatment with a beam of ions in order to produce a scratch-resistant high-transmittance antireflective sapphire
TH165753A (de)
MX2016012991A (es) Proceso y dispositivo para generar un plasma energizado mediante una energia de microondas en el campo de una resonancia ciclotronica electronica (rce) para ejecutar un tratamiento de superficie o aplicar un recubrimiento alrededor de un componente filiforme.
TH165753B (th) "กระบวนการสำหรับปรับสภาพโดยลำแสงของโมโน- หรือมัลติชาร์ตไอออนของก๊าซ เพื่อผลิตวัสดุแก้วแบบกันแสงสะท้อน
EA201892161A1 (ru) Противоотражающая стеклянная подложка нейтрального цвета и способ ее изготовления
RU2016143114A (ru) Способ модификации наноструктур материалов электронной техники газовыми кластерными ионами
RU2017123189A (ru) Способ изготовления сеток для подсчета биологических микрообъектов на поверхности стеклянной подложки
Kots et al. Mask Formation for Plasmochemical Silicon Etching by the Focused Ion Beam Method